JPH07121820A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents
複合型磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH07121820A JPH07121820A JP27060693A JP27060693A JPH07121820A JP H07121820 A JPH07121820 A JP H07121820A JP 27060693 A JP27060693 A JP 27060693A JP 27060693 A JP27060693 A JP 27060693A JP H07121820 A JPH07121820 A JP H07121820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- gap
- core base
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 良好な記録能力を有し、記録時のフリンジに
よる記録トラック幅の減少がない、量産性に優れた複合
型磁気ヘッドを提供すること。 【構成】 磁性フェライトよりなるコア基材２Ａ，２Ｂ
と該コア基材の突合せ面側に形成された金属磁性膜３，
３とによってコア半体１Ａ，１Ｂを構成し、対となるコ
ア半体同志をギャップ規制薄膜を介して突合せ・接合し
てなる複合型ヘッドにおいて、磁性フェライトの飽和磁
束密度が０．４８Ｔ以上で、金属磁性膜の飽和磁束密度
が１．０Ｔ以上で、かつ、コア基材の突合せ面側に形成
した突条４の傾斜面の磁気ギャップ近傍部に設けられた
金属磁性膜の膜厚を、トラック幅の略１／１０とした。
よる記録トラック幅の減少がない、量産性に優れた複合
型磁気ヘッドを提供すること。 【構成】 磁性フェライトよりなるコア基材２Ａ，２Ｂ
と該コア基材の突合せ面側に形成された金属磁性膜３，
３とによってコア半体１Ａ，１Ｂを構成し、対となるコ
ア半体同志をギャップ規制薄膜を介して突合せ・接合し
てなる複合型ヘッドにおいて、磁性フェライトの飽和磁
束密度が０．４８Ｔ以上で、金属磁性膜の飽和磁束密度
が１．０Ｔ以上で、かつ、コア基材の突合せ面側に形成
した突条４の傾斜面の磁気ギャップ近傍部に設けられた
金属磁性膜の膜厚を、トラック幅の略１／１０とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複合型磁気ヘッドに係
り、特に、メタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体に
対して良好な記録性能を有し、かつ量産性に優れた複合
型磁気ヘッドに関する。
り、特に、メタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体に
対して良好な記録性能を有し、かつ量産性に優れた複合
型磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い、記録媒体の
高保磁力化が進んでいる。例えば、家庭用のＶＨＳ式Ｖ
ＴＲに使用されている磁気テープの保磁力（Ｈｃ）は、
６００〜７００Ｏｅ（Oersted ）であったが、Ｓ−ＶＨ
Ｓ方式のＶＴＲに使用される磁気テープでは、その保磁
力は８００〜９００Ｏｅとなっており、さらに、８ミリ
ＶＴＲやハイファイ８ミリＶＴＲに使用される磁気テー
プでは、その保磁力は１４００〜１５００Ｏｅとなって
いる。これら高保磁力媒体に信号を記録するには、強い
磁界を発生する磁気ヘッドが必要である。
高保磁力化が進んでいる。例えば、家庭用のＶＨＳ式Ｖ
ＴＲに使用されている磁気テープの保磁力（Ｈｃ）は、
６００〜７００Ｏｅ（Oersted ）であったが、Ｓ−ＶＨ
Ｓ方式のＶＴＲに使用される磁気テープでは、その保磁
力は８００〜９００Ｏｅとなっており、さらに、８ミリ
ＶＴＲやハイファイ８ミリＶＴＲに使用される磁気テー
プでは、その保磁力は１４００〜１５００Ｏｅとなって
いる。これら高保磁力媒体に信号を記録するには、強い
磁界を発生する磁気ヘッドが必要である。
【０００３】高保磁力媒体に対応した複合型磁気ヘッド
の従来技術としては、例えば、特開昭６３−１９１３１
０号公報や特開平３−５８３０７号公報に開示されてい
るような、磁性フェライトよりなるコア基材と該コア基
材上に形成された金属磁性膜とによってコア半体を構成
した複合型磁気ヘッドが挙げられる。上記特開昭６３−
１９１３１０号公報に記載の複合型磁気ヘッドでは、磁
性フェライトよりなるコア基材の突合せ面側上にＦｅ−
Ｇａ−Ｓｉ系の金属磁性膜を形成すると共に、コア基材
の突合せ面側に形成した突条の平坦頂部とＦｅ−Ｇａ−
Ｓｉ系合金薄膜との境界面が、磁気ギャップ（作動ギャ
ップ）と略平行となるような構造としている。このた
め、斯様な構造の複合型磁気ヘッドは、薄膜形成プロセ
スを除くと、従来の磁性フェライトヘッドと略同一の製
造工程で製作することができる。
の従来技術としては、例えば、特開昭６３−１９１３１
０号公報や特開平３−５８３０７号公報に開示されてい
るような、磁性フェライトよりなるコア基材と該コア基
材上に形成された金属磁性膜とによってコア半体を構成
した複合型磁気ヘッドが挙げられる。上記特開昭６３−
１９１３１０号公報に記載の複合型磁気ヘッドでは、磁
性フェライトよりなるコア基材の突合せ面側上にＦｅ−
Ｇａ−Ｓｉ系の金属磁性膜を形成すると共に、コア基材
の突合せ面側に形成した突条の平坦頂部とＦｅ−Ｇａ−
Ｓｉ系合金薄膜との境界面が、磁気ギャップ（作動ギャ
ップ）と略平行となるような構造としている。このた
め、斯様な構造の複合型磁気ヘッドは、薄膜形成プロセ
スを除くと、従来の磁性フェライトヘッドと略同一の製
造工程で製作することができる。
【０００４】また、上記したいま一方の特開平３−５８
３０７号公報に記載の技術では、特開昭６３−１９１３
１０号公報に示された構造の複合型磁気ヘッドにおい
て、磁性フェライトよりなるコア基材の透磁率が大きく
なるような組成と面指数とを選ぶことにより、再生出力
の向上を図るようにしている。
３０７号公報に記載の技術では、特開昭６３−１９１３
１０号公報に示された構造の複合型磁気ヘッドにおい
て、磁性フェライトよりなるコア基材の透磁率が大きく
なるような組成と面指数とを選ぶことにより、再生出力
の向上を図るようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これまでの
複合型磁気ヘッドに関する種々の実験より、本願発明者
等は、飽和磁束密度が高く膜厚の薄い金属磁性膜を、コ
ア基材の突合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャ
ップ近傍に配設した複合型磁気ヘッドを用いて、高保磁
力記録媒体に信号を記録するよりも、飽和磁束密度はそ
れほど高くはなく膜厚の厚い金属磁性膜を、コア基材の
突合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍
に配設した複合型磁気ヘッドを用いて、高保磁力記録媒
体に信号を記録する方が、記録効率が良いという結果を
得ている。この実験結果より本願発明者等は、複合型磁
気ヘッドのギャップ接合部に到達し、高保磁力記録媒体
に信号を充分に記録するのに有効な磁束は、コア基材の
突合せ面側に形成した突条の傾斜面に配設された金属磁
性膜の飽和磁束密度の大きさのみで決定されるされるの
ではなく、この部分の金属磁性膜の膜厚を考慮した実効
的な飽和磁束密度により決定されるという知見を得た。
複合型磁気ヘッドに関する種々の実験より、本願発明者
等は、飽和磁束密度が高く膜厚の薄い金属磁性膜を、コ
ア基材の突合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャ
ップ近傍に配設した複合型磁気ヘッドを用いて、高保磁
力記録媒体に信号を記録するよりも、飽和磁束密度はそ
れほど高くはなく膜厚の厚い金属磁性膜を、コア基材の
突合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍
に配設した複合型磁気ヘッドを用いて、高保磁力記録媒
体に信号を記録する方が、記録効率が良いという結果を
得ている。この実験結果より本願発明者等は、複合型磁
気ヘッドのギャップ接合部に到達し、高保磁力記録媒体
に信号を充分に記録するのに有効な磁束は、コア基材の
突合せ面側に形成した突条の傾斜面に配設された金属磁
性膜の飽和磁束密度の大きさのみで決定されるされるの
ではなく、この部分の金属磁性膜の膜厚を考慮した実効
的な飽和磁束密度により決定されるという知見を得た。
【０００６】また、当然のことながら、上記の如く複合
型磁気ヘッドのギャップ接合部に到達し、高保磁力記録
媒体に信号を充分に記録するのに有効な磁束は、磁性フ
ェライトよりなるコア基材によっても伝搬される。
型磁気ヘッドのギャップ接合部に到達し、高保磁力記録
媒体に信号を充分に記録するのに有効な磁束は、磁性フ
ェライトよりなるコア基材によっても伝搬される。
【０００７】以上のことから、複合型磁気ヘッドの実効
的な飽和磁束密度（Ｂｓeff ）としては、磁性フェライ
トよりなるコア基材によって伝搬される磁束（φfer ）
と、金属磁性膜によって伝搬される磁束（φfilm）との
総和を、ギャップ部接合面積（Ｓgap ）で割った値が、
その性質をよく表しているという結論に達した。また、
磁性フェライトよりなるコア基材が伝搬する磁束より
も、金属磁性膜が伝搬する磁束の方が大きい場合に、フ
リンジ効果によって記録トラック幅が減少することも判
った。
的な飽和磁束密度（Ｂｓeff ）としては、磁性フェライ
トよりなるコア基材によって伝搬される磁束（φfer ）
と、金属磁性膜によって伝搬される磁束（φfilm）との
総和を、ギャップ部接合面積（Ｓgap ）で割った値が、
その性質をよく表しているという結論に達した。また、
磁性フェライトよりなるコア基材が伝搬する磁束より
も、金属磁性膜が伝搬する磁束の方が大きい場合に、フ
リンジ効果によって記録トラック幅が減少することも判
った。
【０００８】しかしながら、従来技術の複合型磁気ヘッ
ドでは、金属磁性膜の種類や磁性フェライトよりなるコ
ア基材の透磁率が高くなるような組成は考慮されていた
が、磁性フェライトよりなるコア基材の飽和磁束密度
や、複合型磁気ヘッドの実効的な飽和磁束密度について
は考慮されていなかった。また、フリンジに対する配慮
は全くなされていなかった。
ドでは、金属磁性膜の種類や磁性フェライトよりなるコ
ア基材の透磁率が高くなるような組成は考慮されていた
が、磁性フェライトよりなるコア基材の飽和磁束密度
や、複合型磁気ヘッドの実効的な飽和磁束密度について
は考慮されていなかった。また、フリンジに対する配慮
は全くなされていなかった。
【０００９】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
その目的とするところは、良好な記録能力を有し、記録
時のフリンジによる記録トラック幅の減少がない、量産
性に優れた複合型磁気ヘッドを提供することにある。
その目的とするところは、良好な記録能力を有し、記録
時のフリンジによる記録トラック幅の減少がない、量産
性に優れた複合型磁気ヘッドを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、磁性フェライトよりなるコア基材と該コ
ア基材の突合せ面側に形成された金属磁性膜とによって
コア半体を構成し、対となるコア半体同志をギャップ規
制薄膜を介して突合せ・接合してなる複合型ヘッドにお
いて、前記磁性フェライトの飽和磁束密度が０．４８Ｔ
（tesla ）以上で、前記金属磁性膜の飽和磁束密度が
１．０Ｔ以上で、かつ、コア基材の突合せ面側に形成し
た突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍に成膜された金属磁
性膜の膜厚が、トラック幅の略１／１０であるように、
構成される。
達成するため、磁性フェライトよりなるコア基材と該コ
ア基材の突合せ面側に形成された金属磁性膜とによって
コア半体を構成し、対となるコア半体同志をギャップ規
制薄膜を介して突合せ・接合してなる複合型ヘッドにお
いて、前記磁性フェライトの飽和磁束密度が０．４８Ｔ
（tesla ）以上で、前記金属磁性膜の飽和磁束密度が
１．０Ｔ以上で、かつ、コア基材の突合せ面側に形成し
た突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍に成膜された金属磁
性膜の膜厚が、トラック幅の略１／１０であるように、
構成される。
【００１１】
【作用】複合型磁気ヘッドにおいて、ギャップ接合部に
到達し、記録媒体に信号を記録するのに有効な磁束は、
磁性フェライトよりなるコア基材および該コア基材上の
金属磁性膜によって伝搬される。従って、コア基材の突
合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍に
成膜された金属磁性膜の膜厚が、トラック幅の略１／１
０であるような複合型磁気ヘッドにおいて、コア基材
（磁性フェライト）の飽和磁束密度を０．４８Ｔ以上、
金属磁性膜の飽和磁束密度を１．０Ｔ以上とすることに
よって、ギャップ部の実効的な飽和磁束密度を略０．７
５Ｔ以上と容易に設定することが可能となり、高保磁力
記録媒体に対しても充分な記録能力を有する磁気ヘッド
を実現できる。また、磁性フェライトの飽和磁束密度を
０．４８Ｔ以上で、かつ金属磁性膜の飽和磁束密度を
１．０Ｔ以上とすることにより、磁性フェライトよりな
るコア基材が伝搬する磁束を、金属磁性膜が伝搬する磁
束よりも大きくすることができるため、記録時のフリン
ジによる記録トラック幅の減少を防止することができ
る。
到達し、記録媒体に信号を記録するのに有効な磁束は、
磁性フェライトよりなるコア基材および該コア基材上の
金属磁性膜によって伝搬される。従って、コア基材の突
合せ面側に形成した突条の傾斜面の磁気ギャップ近傍に
成膜された金属磁性膜の膜厚が、トラック幅の略１／１
０であるような複合型磁気ヘッドにおいて、コア基材
（磁性フェライト）の飽和磁束密度を０．４８Ｔ以上、
金属磁性膜の飽和磁束密度を１．０Ｔ以上とすることに
よって、ギャップ部の実効的な飽和磁束密度を略０．７
５Ｔ以上と容易に設定することが可能となり、高保磁力
記録媒体に対しても充分な記録能力を有する磁気ヘッド
を実現できる。また、磁性フェライトの飽和磁束密度を
０．４８Ｔ以上で、かつ金属磁性膜の飽和磁束密度を
１．０Ｔ以上とすることにより、磁性フェライトよりな
るコア基材が伝搬する磁束を、金属磁性膜が伝搬する磁
束よりも大きくすることができるため、記録時のフリン
ジによる記録トラック幅の減少を防止することができ
る。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の１実施例を図１〜図３を用い
て説明する。図１は本実施例に係る複合型磁気ヘッドの
斜視図、図２は図１の複合型磁気ヘッドのギャップ部近
傍を模式的に示す説明図、図３は複合型磁気ヘッドにお
ける実効飽和磁束密度と起磁力との関係を示すグラフ図
である。
て説明する。図１は本実施例に係る複合型磁気ヘッドの
斜視図、図２は図１の複合型磁気ヘッドのギャップ部近
傍を模式的に示す説明図、図３は複合型磁気ヘッドにお
ける実効飽和磁束密度と起磁力との関係を示すグラフ図
である。
【００１３】図１，図２において、１Ａ，１Ｂは対をな
すコア半体で、各コア半体１Ａ，１Ｂは、磁性フェライ
トよりなるコア基材（コア半体基材）２Ａ，２Ｂと、該
コア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側に形成されたＦｅ系の
金属磁性膜３，３とによって構成されている。上記各コ
ア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側には、その中央部を平坦
頂部とした略山形の突条４，４がそれぞれ形成されてお
り、一方のコア基材２Ａの突条４は一部が切り欠かれ
て、これによって巻線窓５が形成されるようになってい
る。そして、各コア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側に、ス
パッタリングや蒸着等の公知の薄膜形成プロセスによっ
て、Ｆｅ系の金属磁性膜３，３が成膜されている。
すコア半体で、各コア半体１Ａ，１Ｂは、磁性フェライ
トよりなるコア基材（コア半体基材）２Ａ，２Ｂと、該
コア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側に形成されたＦｅ系の
金属磁性膜３，３とによって構成されている。上記各コ
ア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側には、その中央部を平坦
頂部とした略山形の突条４，４がそれぞれ形成されてお
り、一方のコア基材２Ａの突条４は一部が切り欠かれ
て、これによって巻線窓５が形成されるようになってい
る。そして、各コア基材２Ａ，２Ｂの突合せ面側に、ス
パッタリングや蒸着等の公知の薄膜形成プロセスによっ
て、Ｆｅ系の金属磁性膜３，３が成膜されている。
【００１４】上記した構成の各コア半体１Ａ，１Ｂは、
突条４の平坦頂部上の金属磁性膜３同志が、ギャップ長
を規制する図示せぬギャップ規制薄膜（例えば、ＳｉＯ
2 ，Ｃｒ等の非磁性薄膜）を介して突合せ・接合される
と共に、各コア半体１Ａ，１Ｂの突合せ面側同志もＰｂ
Ｏ系，ＺｎＯ系等の低融点ガラス６によって接合・一体
化されており、テープ摺動面側にはトラック幅Ｔｗの作
動ギャップ（磁気ギャップ）７が形成されている。な
お、図１において、８は巻線窓５に巻回されたコイルで
ある。
突条４の平坦頂部上の金属磁性膜３同志が、ギャップ長
を規制する図示せぬギャップ規制薄膜（例えば、ＳｉＯ
2 ，Ｃｒ等の非磁性薄膜）を介して突合せ・接合される
と共に、各コア半体１Ａ，１Ｂの突合せ面側同志もＰｂ
Ｏ系，ＺｎＯ系等の低融点ガラス６によって接合・一体
化されており、テープ摺動面側にはトラック幅Ｔｗの作
動ギャップ（磁気ギャップ）７が形成されている。な
お、図１において、８は巻線窓５に巻回されたコイルで
ある。
【００１５】図２において、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３は、図１
の複合型磁気ヘッドの作動ギャップ（磁気ギャップ）７
廻りの所定部位の面積をそれぞれ表わしており、Ｓ１
は、磁性フェライトよりなるコア基材２Ａのギャップ部
断面積（Ｓfer ；すなわち、コア基材２Ａのギャップ７
最近傍に対応する部位における磁路横断面積）で、ここ
では、コア基材２Ａのフロント側（テープ摺動面側）の
突条４の平坦頂部面積がこれに相当する。また、Ｓ２
は、金属磁性膜３における上記コア基材２Ａのギャップ
断面積Ｓ１部位と略同一断面で見た、金属磁性膜３のギ
ャップ近傍部の全断面積（Ｓfilm）である。なお、Ｓ３
は、金属磁性膜３のギャップ部接合面積（Ｓgap ）であ
る。
の複合型磁気ヘッドの作動ギャップ（磁気ギャップ）７
廻りの所定部位の面積をそれぞれ表わしており、Ｓ１
は、磁性フェライトよりなるコア基材２Ａのギャップ部
断面積（Ｓfer ；すなわち、コア基材２Ａのギャップ７
最近傍に対応する部位における磁路横断面積）で、ここ
では、コア基材２Ａのフロント側（テープ摺動面側）の
突条４の平坦頂部面積がこれに相当する。また、Ｓ２
は、金属磁性膜３における上記コア基材２Ａのギャップ
断面積Ｓ１部位と略同一断面で見た、金属磁性膜３のギ
ャップ近傍部の全断面積（Ｓfilm）である。なお、Ｓ３
は、金属磁性膜３のギャップ部接合面積（Ｓgap ）であ
る。
【００１６】ここで本実施例では、前記作動ギャップ７
のトラック幅Ｔｗを３４μｍとし、ギャップ深さを１５
μｍとしてあり、前記突条４の両斜面のギャップ部近傍
に成膜・形成した金属磁性膜３の膜厚を、それぞれトラ
ック幅Ｔｗ＝３４μｍの略１／１０となるように設定し
てある。したがって、上記した定義の金属磁性膜３のギ
ャップ近傍部の全断面積（Ｓfilm）Ｓ２は、３．４μｍ
×１５μｍ×２＝１０２μｍ2 となっている。
のトラック幅Ｔｗを３４μｍとし、ギャップ深さを１５
μｍとしてあり、前記突条４の両斜面のギャップ部近傍
に成膜・形成した金属磁性膜３の膜厚を、それぞれトラ
ック幅Ｔｗ＝３４μｍの略１／１０となるように設定し
てある。したがって、上記した定義の金属磁性膜３のギ
ャップ近傍部の全断面積（Ｓfilm）Ｓ２は、３．４μｍ
×１５μｍ×２＝１０２μｍ2 となっている。
【００１７】また、磁性フェライト（コア基材２Ａ，２
Ｂ）は、本実施例ではその組成が、Ｆｅ2Ｏ3：５０〜６
０モル％、ＺｎＯ：５〜２０モル％、残部ＭｎＯとなっ
ており、該磁性フェライトの飽和磁束密度（Ｂｓ fer）
は０．４８Ｔ（tesla ）で、磁性フェライト（コア基材
２Ａ）の上記したギャップ部断面積（Ｓfer ）Ｓ１は、
２４０μｍ2 に設定してある。他方、Ｆｅ系（例えば、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金，Ｆｅ−Ｎｉ合金等）の金属磁性
膜３の飽和磁束密度（Ｂｓfilm）は１．０Ｔで、金属磁
性膜３の上記したギャップ部接合面積（Ｓgap ）Ｓ３
は、２７０μｍ2に設定してある。
Ｂ）は、本実施例ではその組成が、Ｆｅ2Ｏ3：５０〜６
０モル％、ＺｎＯ：５〜２０モル％、残部ＭｎＯとなっ
ており、該磁性フェライトの飽和磁束密度（Ｂｓ fer）
は０．４８Ｔ（tesla ）で、磁性フェライト（コア基材
２Ａ）の上記したギャップ部断面積（Ｓfer ）Ｓ１は、
２４０μｍ2 に設定してある。他方、Ｆｅ系（例えば、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金，Ｆｅ−Ｎｉ合金等）の金属磁性
膜３の飽和磁束密度（Ｂｓfilm）は１．０Ｔで、金属磁
性膜３の上記したギャップ部接合面積（Ｓgap ）Ｓ３
は、２７０μｍ2に設定してある。
【００１８】ここで、磁性フェライト（コア基材２Ａ，
２Ｂ）の飽和磁束密度０．４８Ｔと磁性フェライト（コ
ア基材２Ａ）のギャップ部磁路断面積（Ｓfer ）Ｓ１＝
２４０μｍ2 の積と、金属磁性膜３の飽和磁束密度１．
０Ｔと金属磁性膜３のギャップ近傍部の全断面積（Ｓ
film）Ｓ２＝１０２μｍ2 の積との和を、金属磁性膜の
ギャップ部接合面積（Ｓgap ）Ｓ３＝２７０μｍ2 で割
った値で示される、本実施例の複合型磁気ヘッドの実効
飽和磁束密度（Ｂｓeff ）を計算すると、 （０．４８Ｔ×２４０μｍ2＋１．０Ｔ×１０２μｍ2）
／２７０μｍ２ ＝０．８０４ となり、実効飽和磁束密度は（Ｂｓｅｆｆ ）は略０.
８Ｔとなっている。
２Ｂ）の飽和磁束密度０．４８Ｔと磁性フェライト（コ
ア基材２Ａ）のギャップ部磁路断面積（Ｓfer ）Ｓ１＝
２４０μｍ2 の積と、金属磁性膜３の飽和磁束密度１．
０Ｔと金属磁性膜３のギャップ近傍部の全断面積（Ｓ
film）Ｓ２＝１０２μｍ2 の積との和を、金属磁性膜の
ギャップ部接合面積（Ｓgap ）Ｓ３＝２７０μｍ2 で割
った値で示される、本実施例の複合型磁気ヘッドの実効
飽和磁束密度（Ｂｓeff ）を計算すると、 （０．４８Ｔ×２４０μｍ2＋１．０Ｔ×１０２μｍ2）
／２７０μｍ２ ＝０．８０４ となり、実効飽和磁束密度は（Ｂｓｅｆｆ ）は略０.
８Ｔとなっている。
【００１９】本実施例では、上記したように、磁性フェ
ライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）の飽和磁束密度が０．４
８Ｔ（tesla ）以上で、金属磁性膜３の飽和磁束密度が
１．０Ｔ以上で、かつ、突条４の両斜面のギャップ部近
傍に成膜・形成した金属磁性膜３の膜厚が、トラック幅
の略１／１０であるように設定された複合型磁気ヘッド
であるので、前記Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３を適宜に組合せ・設
定することによって、複合型磁気ヘッドの実効飽和磁束
密度（Ｂｓeff ）を、容易に０．７５Ｔ以上に設定する
ことができる。
ライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）の飽和磁束密度が０．４
８Ｔ（tesla ）以上で、金属磁性膜３の飽和磁束密度が
１．０Ｔ以上で、かつ、突条４の両斜面のギャップ部近
傍に成膜・形成した金属磁性膜３の膜厚が、トラック幅
の略１／１０であるように設定された複合型磁気ヘッド
であるので、前記Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３を適宜に組合せ・設
定することによって、複合型磁気ヘッドの実効飽和磁束
密度（Ｂｓeff ）を、容易に０．７５Ｔ以上に設定する
ことができる。
【００２０】上述した本実施例の複合型磁気ヘッドと同
一構造で、磁性フェライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）の飽
和磁束密度が種々異なる複合型磁気ヘッドを記録ヘッド
とし、記録波長が０．７６μｍのときの実効飽和磁束密
度と起磁力の関係を計算で求めた結果が図３である。図
３より明らかなように、実効飽和磁束密度が略０．７５
Ｔ以下になると、記録に必要な起磁力が急激に増加して
いることがわかる。
一構造で、磁性フェライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）の飽
和磁束密度が種々異なる複合型磁気ヘッドを記録ヘッド
とし、記録波長が０．７６μｍのときの実効飽和磁束密
度と起磁力の関係を計算で求めた結果が図３である。図
３より明らかなように、実効飽和磁束密度が略０．７５
Ｔ以下になると、記録に必要な起磁力が急激に増加して
いることがわかる。
【００２１】従って、本発明のように複合型磁気ヘッド
の実効飽和磁束密度が略０．７５Ｔ以上となるように、
磁性フェライトよりなるコア基材および金属磁性膜の飽
和磁束密度を設定しておけば、良好な記録性能を得るこ
とができる。また、上述した実施例の複合型磁気ヘッド
では、磁性フェライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）によって
伝搬される磁束（φfer ）と、金属磁性膜３によって伝
搬される磁束（φfilm）とが、ほぼφfer ＞φfilmとな
るように、磁性フェライトおよび金属磁性膜の飽和磁束
密度を設定してあるので、記録時のフリンジによる記録
トラック幅の減少を防止できるという効果も得られる。
の実効飽和磁束密度が略０．７５Ｔ以上となるように、
磁性フェライトよりなるコア基材および金属磁性膜の飽
和磁束密度を設定しておけば、良好な記録性能を得るこ
とができる。また、上述した実施例の複合型磁気ヘッド
では、磁性フェライト（コア基材２Ａ，２Ｂ）によって
伝搬される磁束（φfer ）と、金属磁性膜３によって伝
搬される磁束（φfilm）とが、ほぼφfer ＞φfilmとな
るように、磁性フェライトおよび金属磁性膜の飽和磁束
密度を設定してあるので、記録時のフリンジによる記録
トラック幅の減少を防止できるという効果も得られる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、良好な記
録能力を有し、記録時のフリンジ効果による記録トラッ
ク幅の減少が小さい、量産性に優れた複合型磁気ヘッド
を提供することができる。
録能力を有し、記録時のフリンジ効果による記録トラッ
ク幅の減少が小さい、量産性に優れた複合型磁気ヘッド
を提供することができる。
【図１】本発明の１実施例に係る複合型磁気ヘッドの斜
視図である。
視図である。
【図２】図１の複合型磁気ヘッドのギャップ部近傍を模
式的に示す説明図である。
式的に示す説明図である。
【図３】複合型磁気ヘッドにおける実効飽和磁束密度と
起磁力との関係を示すグラフ図である。
起磁力との関係を示すグラフ図である。
１Ａ，１Ｂ コア半体 ２Ａ，２Ｂ 磁性フェライトよりなるコア基材 ３ 金属磁性膜 ４ 突条 ６ 低融点ガラス ７ 作動ギャップ（磁気ギャップ）
フロントページの続き (72)発明者 稲田 健吉 茨城県勝田市稲田1410番地 株式会社日立 製作所ＡＶ機器事業部内
Claims (3)
- 【請求項１】 磁性フェライトよりなるコア基材と該コ
ア基材の突合せ面側に形成された金属磁性膜とによって
コア半体を構成し、対となるコア半体同志をギャップ規
制薄膜を介して突合せ・接合してなる複合型ヘッドにお
いて、 前記磁性フェライトの飽和磁束密度が０．４８Ｔ以上
で、前記金属磁性膜の飽和磁束密度が１．０Ｔ以上で、
かつ、前記コア基材の突合せ面側に形成した突条の傾斜
面の磁気ギャップ近傍部に設けられた前記金属磁性膜の
膜厚が、トラック幅の略１／１０であることを特徴とす
る複合型磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１記載において、 前記磁性フェライトの組成が、Ｆｅ2Ｏ3：５０〜６０モ
ル％、ＺｎＯ：５〜２０モル％、残部ＭｎＯであること
を特徴とする複合型磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１記載において、 前記磁性フェライトの飽和磁束密度（Ｂｓfer ）と、該
磁性フェライトよりなる前記コア基材のギャップ最近傍
部における磁路と直交する方向のコア基材のギャップ断
面積（Ｓfer ）との積、および、前記金属磁性膜の飽和
磁束密度（Ｂｓfilm）と、該金属磁性膜における前記コ
ア基材のギャップ断面積部位と略同一断面で見た金属磁
性膜ギャップ近傍部の全断面積（Ｓfilm）の積との和
（Ｂｓfer×Ｓfer ＋Ｂｓfilm×Ｓfilm）を、前記金属
磁性膜のギャップ部接合面積（Ｓga p ）で割った値が、
略０．７５Ｔ以上であることを特徴とする複合型磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27060693A JPH07121820A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 複合型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27060693A JPH07121820A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 複合型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07121820A true JPH07121820A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17488440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27060693A Pending JPH07121820A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 複合型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07121820A (ja) |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP27060693A patent/JPH07121820A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6341127B2 (ja) | ||
| JP2554079B2 (ja) | 磁気変換ヘッド | |
| US4811146A (en) | Composite magnetic head | |
| JP2565250B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH07121820A (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPS58220232A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造法 | |
| KR970008603B1 (ko) | 복합형 자기헤드 | |
| JPS62200508A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0690776B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3147434B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH11213334A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッド | |
| JPH06203320A (ja) | 消去ヘッド | |
| JPH03242809A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06180814A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0482003A (ja) | 回転消去ヘッド | |
| JPS6139907A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH05250616A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0673165B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH087213A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH08273114A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS62285208A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH01220209A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH01185811A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0254408A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS61255506A (ja) | 複合型磁気ヘツド |