JPH07107041B2 - オキシム誘導体およびその製造方法 - Google Patents
オキシム誘導体およびその製造方法Info
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- JPH07107041B2 JPH07107041B2 JP61057926A JP5792686A JPH07107041B2 JP H07107041 B2 JPH07107041 B2 JP H07107041B2 JP 61057926 A JP61057926 A JP 61057926A JP 5792686 A JP5792686 A JP 5792686A JP H07107041 B2 JPH07107041 B2 JP H07107041B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は一般式（Ｉ） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基、もしくはアル
キル置換シリル基を表わす。） で示される新規なオキシム誘導体およびその製造方法に
関するものである。
キル置換シリル基を表わす。） で示される新規なオキシム誘導体およびその製造方法に
関するものである。
〈従来の技術および発明が解決しようとする問題点〉 （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム（上記
（Ｉ）の構造式においてＲが水素に相当する化合物）は
知られている。
（Ｉ）の構造式においてＲが水素に相当する化合物）は
知られている。
例えばJ.Am.Chem.Soc.,76,3719（1954）には（ｐ−トリ
ルメチル）フェニルケトンにヒドロキシルアミンを作用
させて相当するオキシムを得た事が記載されている。
ルメチル）フェニルケトンにヒドロキシルアミンを作用
させて相当するオキシムを得た事が記載されている。
しかしながら一般式（Ｉ）で示されるオキシム誘導体に
ついては全く知られていない。
ついては全く知られていない。
〈問題を解決するための手段〉 本発明者らは（ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキ
シム類について、これを種々合成し、研究を重ねた結
果、新規なオキシム誘導体が光学分割剤である光学活性
１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミン（以下
PTEAと略称する）の重要な製造中間体となり得ることを
見出すとともに種々の検討を加え本発明を完成した。
シム類について、これを種々合成し、研究を重ねた結
果、新規なオキシム誘導体が光学分割剤である光学活性
１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミン（以下
PTEAと略称する）の重要な製造中間体となり得ることを
見出すとともに種々の検討を加え本発明を完成した。
すなわち本発明は一般式（Ｉ） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基もしくはアルキ
ル置換シリル基を表わす。） で示されるオキシム誘導体およびその製造方法を提供す
るものである。
ル置換シリル基を表わす。） で示されるオキシム誘導体およびその製造方法を提供す
るものである。
本発明の対象化合物は上記一般式（Ｉ）で示されるオキ
シム誘導体であるが、具体的には、例えばＲがメチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｎ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、２−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、２
−ヘプチル、３−ヘプチル、シクロヘプチル、ｎ−オク
チル、２−オクチル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ
−デシル等の炭素数１〜10のアルキル基、ベンジル、フ
ェネチル、ナフチルメチル、ナフチルエチル等の炭素数
７〜12のアラルキル基、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリ−ｎ−プロ
ピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリル等の炭素数３〜12
のアルキルシリル基などであるオキシム誘導体が挙げら
れる。
シム誘導体であるが、具体的には、例えばＲがメチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｎ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、２−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、２
−ヘプチル、３−ヘプチル、シクロヘプチル、ｎ−オク
チル、２−オクチル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ
−デシル等の炭素数１〜10のアルキル基、ベンジル、フ
ェネチル、ナフチルメチル、ナフチルエチル等の炭素数
７〜12のアラルキル基、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリ−ｎ−プロ
ピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリル等の炭素数３〜12
のアルキルシリル基などであるオキシム誘導体が挙げら
れる。
また一般式（Ｉ）のオキシム誘導体には、フェニル基と
OR基の関係がシン体、アンチ体の二種の立体異性体が存
在するが、本発明の対象化合物はこれ等の異性体および
これ等異性体の任意の比率の混合物を包含する。
OR基の関係がシン体、アンチ体の二種の立体異性体が存
在するが、本発明の対象化合物はこれ等の異性体および
これ等異性体の任意の比率の混合物を包含する。
かかるオキシム誘導体（Ｉ）は例えば（ｐ−トリルメチ
ル）フェニルケトンオキシムに一般式（II） Ｒ−Ｘ （II） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基もしくはアルキ
ル置換シリル基を表わし、ＸはＲがアルキル基の場合は
ハロゲン原子または硫酸エステル残基を、Ｒがアラルキ
ル基、アルキル置換シリル基の場合はハロゲン原子を表
わす。） で示されるアルキル化剤、アラルキル化剤もしくはシリ
ル化剤を反応させることによって製造することができ
る。
ル）フェニルケトンオキシムに一般式（II） Ｒ−Ｘ （II） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基もしくはアルキ
ル置換シリル基を表わし、ＸはＲがアルキル基の場合は
ハロゲン原子または硫酸エステル残基を、Ｒがアラルキ
ル基、アルキル置換シリル基の場合はハロゲン原子を表
わす。） で示されるアルキル化剤、アラルキル化剤もしくはシリ
ル化剤を反応させることによって製造することができ
る。
ここでアルキル化剤としては、例えばアルキル基とし
て、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、シクロペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ
−ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、シクロヘプ
チル、ｎ−オクチル、２−オクチル、シクロオクチル、
ｎ−ノニル、ｎ−デシル等を有する塩化アルキル、臭化
アルキル、ヨウ化アルキル、アルキル硫酸が挙げられ
る。
て、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、シクロペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ
−ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、シクロヘプ
チル、ｎ−オクチル、２−オクチル、シクロオクチル、
ｎ−ノニル、ｎ−デシル等を有する塩化アルキル、臭化
アルキル、ヨウ化アルキル、アルキル硫酸が挙げられ
る。
アラルキル化剤としては、例えばアラルキル基として、
ベンジル、α−フェネチル、β−フェネチル、１−ナフ
チルメチルなどを有する塩化アラルキル、臭化アラルキ
ル、ヨウ化アラルキル等のハロゲン化アラルキルが挙げ
られる。
ベンジル、α−フェネチル、β−フェネチル、１−ナフ
チルメチルなどを有する塩化アラルキル、臭化アラルキ
ル、ヨウ化アラルキル等のハロゲン化アラルキルが挙げ
られる。
またシリル化剤としては、例えばアルキル置換シリル基
として、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチ
ル−ｔ−ブチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、ト
リ−ｎ−ブチルシリルなどを有する塩化トリアルキルシ
リル、臭化トリアルキルシリル、ヨウ化トリアルキルシ
リル等のハロゲン化トリアルキルシリルが挙げられる。
として、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチ
ル−ｔ−ブチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、ト
リ−ｎ−ブチルシリルなどを有する塩化トリアルキルシ
リル、臭化トリアルキルシリル、ヨウ化トリアルキルシ
リル等のハロゲン化トリアルキルシリルが挙げられる。
かかる一般式（II）で示される化合物に（ｐ−トリルメ
チル）フェニルケトンオキシムを反応させるに当って
は、該オキシムをあらかじめＯ−アルカリ塩とした後反
応させる２段階法を用いても良いし、塩基の存在下に該
オキシムを反応させる１段階法を採用することもでき
る。
チル）フェニルケトンオキシムを反応させるに当って
は、該オキシムをあらかじめＯ−アルカリ塩とした後反
応させる２段階法を用いても良いし、塩基の存在下に該
オキシムを反応させる１段階法を採用することもでき
る。
先ず２段階法について説明する。
２段階法におけるＯ−アルカリ塩は該オキシムに塩基を
作用させることにより、容易に製造することができる。
ここで塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化リ
チウム等の水素化アルカリ金属が挙げられ、その使用量
は該オキシムに対し、通常１〜５当量、好ましくは１〜
２当量である。また溶媒としては該塩基と反応しないも
のであれば良いが、通常N,N−ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンホスホリックトリ
アミド等が用いられる。反応温度は通常−10〜100℃の
範囲であり、好ましくは０〜60℃である。反応時間は通
常10分から５時間程度であり水素の発生量により反応の
進行を確認することもできる。
作用させることにより、容易に製造することができる。
ここで塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化リ
チウム等の水素化アルカリ金属が挙げられ、その使用量
は該オキシムに対し、通常１〜５当量、好ましくは１〜
２当量である。また溶媒としては該塩基と反応しないも
のであれば良いが、通常N,N−ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンホスホリックトリ
アミド等が用いられる。反応温度は通常−10〜100℃の
範囲であり、好ましくは０〜60℃である。反応時間は通
常10分から５時間程度であり水素の発生量により反応の
進行を確認することもできる。
このようにしてＯ−アルカリ塩が製造されるが、これに
一般式（II）の化合物を作用させることにより本発明化
合物（Ｉ）が得られる。一般式（II）の化合物は該オキ
シムに対し通常１〜５当量、好ましくは１〜２当量であ
り、反応温度は通常−10〜100℃の範囲であり、好まし
くは０〜60℃である。反応時間は通常10分から10時間程
度であり、反応の進行はガスクロマトグラフ等により確
認できる。
一般式（II）の化合物を作用させることにより本発明化
合物（Ｉ）が得られる。一般式（II）の化合物は該オキ
シムに対し通常１〜５当量、好ましくは１〜２当量であ
り、反応温度は通常−10〜100℃の範囲であり、好まし
くは０〜60℃である。反応時間は通常10分から10時間程
度であり、反応の進行はガスクロマトグラフ等により確
認できる。
次に、塩基の存在下に（ｐ−トリルメチル）フェニルケ
トンオキシムと一般式（II）の化合物とを反応させる１
段階法について説明する。
トンオキシムと一般式（II）の化合物とを反応させる１
段階法について説明する。
一般式（II）の化合物は該オキシムに対し通常、１〜５
当量、好ましくは１〜２当量用いられる。用いる溶媒と
しては非プロトン溶媒であれば良く、例えばヘキサン、
ヘプタン等の脂肪族炭化水素、トルエン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素、クロロホルム、クロルベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素等が用いられる。また塩基としてはピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の
有機塩基が通常用いられ、その使用量は該オキシムに対
して１〜５当量、好ましくは１〜２当量である。反応温
度は通常−30〜100℃、好ましくは−10〜50℃であり、
反応の進行はガスクロマトグラフ等により確認できる。
当量、好ましくは１〜２当量用いられる。用いる溶媒と
しては非プロトン溶媒であれば良く、例えばヘキサン、
ヘプタン等の脂肪族炭化水素、トルエン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素、クロロホルム、クロルベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素等が用いられる。また塩基としてはピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の
有機塩基が通常用いられ、その使用量は該オキシムに対
して１〜５当量、好ましくは１〜２当量である。反応温
度は通常−30〜100℃、好ましくは−10〜50℃であり、
反応の進行はガスクロマトグラフ等により確認できる。
また本発明のオキシム誘導体は（ｐ−トリメチル）フェ
ニルケトンと一般式（III） H2NOR2 （III） （式中、R2はアルキル基もしくはアラルキル基を表わ
す。） で示されるヒドロキシルアミン誘導体とを反応させるこ
とによっても製造することができる。
ニルケトンと一般式（III） H2NOR2 （III） （式中、R2はアルキル基もしくはアラルキル基を表わ
す。） で示されるヒドロキシルアミン誘導体とを反応させるこ
とによっても製造することができる。
ここで一般式（III）で示されるヒドロキシルアミン誘
導体としては例えばR2がメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペン
チル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、
シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘ
プチル、シクロヘプチル、ｎ−オクチル、２−オクチ
ル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等の炭素
数１〜10のアルキル基、ベンジル、フェネチル、ナフチ
ルメチル、ナフチルエチル等の炭素数７〜12のアラルキ
ル基などであるヒドロキシルアミン誘導体が挙げられ
る。
導体としては例えばR2がメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペン
チル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、
シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘ
プチル、シクロヘプチル、ｎ−オクチル、２−オクチ
ル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等の炭素
数１〜10のアルキル基、ベンジル、フェネチル、ナフチ
ルメチル、ナフチルエチル等の炭素数７〜12のアラルキ
ル基などであるヒドロキシルアミン誘導体が挙げられ
る。
かかるヒドロキシルアミン誘導体は通常、塩酸塩、硫酸
塩等の塩の形で入手できるので、塩基の存在下に前記ケ
トンと反応せしめる。ヒドロキシルアミン誘導体のケト
ンに対する使用量は好ましくは通常１〜10当量、好まし
くは１〜３当量である。
塩等の塩の形で入手できるので、塩基の存在下に前記ケ
トンと反応せしめる。ヒドロキシルアミン誘導体のケト
ンに対する使用量は好ましくは通常１〜10当量、好まし
くは１〜３当量である。
ここで塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ−
メチルモルホリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ソーダ等の無機塩基が例示され、そ
の使用量はヒドロキシルアミン誘導体の塩に対し通常１
当量以上、好ましくは１〜３当量である。
メチルモルホリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ソーダ等の無機塩基が例示され、そ
の使用量はヒドロキシルアミン誘導体の塩に対し通常１
当量以上、好ましくは１〜３当量である。
溶媒はヒドロキシルアミン誘導体と反応しないものであ
れば特に限定されない。例えばトルエン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素、クロロホルム、塩化メチレン、クロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、ピリジン、トリエチルアミン等
のアミン類を挙げることができる。
れば特に限定されない。例えばトルエン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素、クロロホルム、塩化メチレン、クロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、ピリジン、トリエチルアミン等
のアミン類を挙げることができる。
反応温度は通常−20〜150℃で特に限定されないが、室
温付近でも反応は円滑に進行する。
温付近でも反応は円滑に進行する。
本発明化合物（Ｉ）は上記のような方法により生成する
が、反応混合物から、抽出、濃縮、蒸留、結晶化等の通
常用の操作によって分離することができる。また再結
晶、各種クロマトグラフィー等によってさらに精製する
こともできる。またシン体とアンチ体の分離は、公知化
合物（ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシムの場
合は困難であるが、本発明化合物の場合は容易であるの
で必要に応じ分離することもできる。
が、反応混合物から、抽出、濃縮、蒸留、結晶化等の通
常用の操作によって分離することができる。また再結
晶、各種クロマトグラフィー等によってさらに精製する
こともできる。またシン体とアンチ体の分離は、公知化
合物（ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシムの場
合は困難であるが、本発明化合物の場合は容易であるの
で必要に応じ分離することもできる。
〈発明の効果〉 かくして本発明のオキシム誘導体（Ｉ）が得られるが、
該誘導体は光学分割として有用な光学活性PTEAの製造中
間体となり得る。
該誘導体は光学分割として有用な光学活性PTEAの製造中
間体となり得る。
例えば、オキシム誘導体（Ｉ）は触媒の存在下における
水素もしくは水素化リチウムアルミニウム、ジボラン等
の金属ハイドライドなどにより容易に還元され、高純度
のラセミPTEAを極めて高い収率で与える。かかるラセミ
PTEAは公知の方法で光学分割することにより有用な光学
活性PTEAに導びくことができる。
水素もしくは水素化リチウムアルミニウム、ジボラン等
の金属ハイドライドなどにより容易に還元され、高純度
のラセミPTEAを極めて高い収率で与える。かかるラセミ
PTEAは公知の方法で光学分割することにより有用な光学
活性PTEAに導びくことができる。
またシンもしくはアンチのオキシム誘導体（Ｉ）に不斉
源を有する還元剤を作用させることにより、不斉合成反
応が起り、光学活性PTEAが一挙に、しかも極めて高い光
学純度で得られる。
源を有する還元剤を作用させることにより、不斉合成反
応が起り、光学活性PTEAが一挙に、しかも極めて高い光
学純度で得られる。
〈実施例〉 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例１ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム257mgを
N,N−ジメチルホルムアミド5mlに溶解し、室温で53％水
素化ナトリウム66mgを加えて30分撹拌後、ｎ−オクチル
ブロミド332mgを加え、室温で４時間撹拌した。次いで
反応液に希塩酸とトルエンを加え撹拌した後、有機層を
分液し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製して（ｐ−トリルメチル）フェニルケ
トン（Ｏ−オクチルオキシム）のアンチ体336mg（収率8
7％）およびシン体37mg（収率10％）を得た。
N,N−ジメチルホルムアミド5mlに溶解し、室温で53％水
素化ナトリウム66mgを加えて30分撹拌後、ｎ−オクチル
ブロミド332mgを加え、室温で４時間撹拌した。次いで
反応液に希塩酸とトルエンを加え撹拌した後、有機層を
分液し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製して（ｐ−トリルメチル）フェニルケ
トン（Ｏ−オクチルオキシム）のアンチ体336mg（収率8
7％）およびシン体37mg（収率10％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 0.88（t,3H）,1.28（bs,10H）,1.5〜1.8（m,2H）,2.28
（s,3H）,4.09（s,2H）,4.14（t,2H）,7.08（s,4H）,7.
2〜7.8（m,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5348 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.88（t,3H）,1.27（bs,10H）,1.5〜1.8（m,2H）,3.79
（s,3H）,4.08（t,2H）,7.08（s,4H）,7.26（s,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5318 実施例２ 実施例１において（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン
オキシム323mg、53％水素化ナトリウム84mg、ｎ−オク
チルブロミドに代えてシクロヘキシルブロミド360mg使
用する以外は実施例１と同様に行って（ｐ−トリルメチ
ル）フェニルケトン（Ｏ−シクロヘキシルオキシム）の
アンチ体84mg（収率19％）およびシン体7mg（収率２
％）を得た。
（s,3H）,4.09（s,2H）,4.14（t,2H）,7.08（s,4H）,7.
2〜7.8（m,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5348 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.88（t,3H）,1.27（bs,10H）,1.5〜1.8（m,2H）,3.79
（s,3H）,4.08（t,2H）,7.08（s,4H）,7.26（s,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5318 実施例２ 実施例１において（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン
オキシム323mg、53％水素化ナトリウム84mg、ｎ−オク
チルブロミドに代えてシクロヘキシルブロミド360mg使
用する以外は実施例１と同様に行って（ｐ−トリルメチ
ル）フェニルケトン（Ｏ−シクロヘキシルオキシム）の
アンチ体84mg（収率19％）およびシン体7mg（収率２
％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,4.01（s,3H）,4.09（s,2H）,7.07（s,4
H）,7.25〜7.61（m,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5765 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,3.78（s,2H）,3.88（s,3H）,7.03（s,4
H）,7.25（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5700 実施例３ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム453mg
（2.01ミリモル）をトルエン20mlに溶解し、室温でトリ
エチルアミン0.3gを加えた後、トリメチルシリルクロリ
ド0.26gを滴下し、３時間撹拌を続けた。
H）,7.25〜7.61（m,5H） ▲ｎ26 D▼＝1.5765 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,3.78（s,2H）,3.88（s,3H）,7.03（s,4
H）,7.25（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5700 実施例３ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム453mg
（2.01ミリモル）をトルエン20mlに溶解し、室温でトリ
エチルアミン0.3gを加えた後、トリメチルシリルクロリ
ド0.26gを滴下し、３時間撹拌を続けた。
次いで水、10％苛性ソーダ水溶液、２％塩酸、飽和食塩
水で順次洗浄後、有機層を芒硝で乾燥し、次いで減圧下
に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し（ｐ−トリルメチル）フェニルケ
トン（Ｏ−トリメチルシリルオキシム）のアンチ体401m
g（収率77％）およびシン体68mg（収率11％）を得た。
水で順次洗浄後、有機層を芒硝で乾燥し、次いで減圧下
に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し（ｐ−トリルメチル）フェニルケ
トン（Ｏ−トリメチルシリルオキシム）のアンチ体401m
g（収率77％）およびシン体68mg（収率11％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 0.27（s,9H）,2.27（s,3H）,4.15（s,2H）,7.06（s,4
H）， 7.02〜7.78（m,5H） mp＝38〜40℃ （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.23（s,9H）,2.27（s,3H）,3.82（s,2H）,7.03（s,4
H）,7.28（m,5H） 実施例４ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム538mg
（2.39ミリモル）をトルエン20mlに溶解し、室温でトリ
エチルアミン300mgとｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド432mgと触媒量のN,N−ジメチルアミノピリジンを加え
て３日間静置した。
H）， 7.02〜7.78（m,5H） mp＝38〜40℃ （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.23（s,9H）,2.27（s,3H）,3.82（s,2H）,7.03（s,4
H）,7.28（m,5H） 実施例４ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキシム538mg
（2.39ミリモル）をトルエン20mlに溶解し、室温でトリ
エチルアミン300mgとｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド432mgと触媒量のN,N−ジメチルアミノピリジンを加え
て３日間静置した。
次いで実施例３と同様に後処理を行ない（ｐ−トリルメ
チル）フェニルケトン（Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシム）のアンチ体520mg（収率64.1％）とシン体166
mg（収率21％）を得た。
チル）フェニルケトン（Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシム）のアンチ体520mg（収率64.1％）とシン体166
mg（収率21％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 0.23（s,6H）,0.96（s,9H）,2.04（s,3H）,4.15（s,2
H）,7.07（s,4H）,7.20〜7.72（m,5H） ▲ｎ22 D▼＝1.5225 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.18（s,3H）,0.88（s,9H）,2.27（s,3H）,3.82（s,2
H）,7.03（s,4H）,7.28（m,5H） ▲ｎ22 D▼＝1.5277 実施例５ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトン427mgをピリジン2
mlに溶解し、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩200m
gを加え室温で12時間反応させた。
H）,7.07（s,4H）,7.20〜7.72（m,5H） ▲ｎ22 D▼＝1.5225 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 0.18（s,3H）,0.88（s,9H）,2.27（s,3H）,3.82（s,2
H）,7.03（s,4H）,7.28（m,5H） ▲ｎ22 D▼＝1.5277 実施例５ （ｐ−トリルメチル）フェニルケトン427mgをピリジン2
mlに溶解し、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩200m
gを加え室温で12時間反応させた。
次いで、反応液に水を加え、エーテルで抽出し、有機層
を２％塩酸で洗浄後、芒硝で乾燥し、次いで減圧下に溶
媒を留去した。
を２％塩酸で洗浄後、芒硝で乾燥し、次いで減圧下に溶
媒を留去した。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン（Ｏ−メ
チルオキシム）のアンチ体306mg（収率63％）およびシ
ン体157mg（収率32％）を得た。
で精製し（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン（Ｏ−メ
チルオキシム）のアンチ体306mg（収率63％）およびシ
ン体157mg（収率32％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,4.01（s,3H）,4.09（s,2H）,7.07（s,4
H）,7.25〜7.61（m,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5765 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,3.78（s,2H）,3.88（s,3H）,7.03（s,4
H）,7.25（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5700 実施例６ 実施例５において（ｐ−トリメチル）フェニルケトン42
0mg、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩の代りにＯ−ベ
ンジルヒドロキシルアミン335mgを使用する以外は実施
例５と同様にして（ｐ−トリメチル）フェニルケトン
（Ｏ−ベンジルオキシム）のアンチ体334mg（収率53
％）およびシン体207mg（収率32％）を得た。
H）,7.25〜7.61（m,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5765 （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.27（s,3H）,3.78（s,2H）,3.88（s,3H）,7.03（s,4
H）,7.25（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5700 実施例６ 実施例５において（ｐ−トリメチル）フェニルケトン42
0mg、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩の代りにＯ−ベ
ンジルヒドロキシルアミン335mgを使用する以外は実施
例５と同様にして（ｐ−トリメチル）フェニルケトン
（Ｏ−ベンジルオキシム）のアンチ体334mg（収率53
％）およびシン体207mg（収率32％）を得た。
（アンチ体） NMR（CDCl3）δppm 2.26（s,3H）,4.12（2H,s）,5.26（2H,s）,7.04（4H）,
7.23〜7.70（m,10H） mp＝53〜55℃ （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.26（s,3H）,3.77（s,2H）,5.14（s,2H）,6.99（s,4
H）,7.25（s,5H）,7.31（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5932 参考例１ 実施例５で得られたアンチ−（ｐ−トリルメチル）フェ
ニルケトン（Ｏ−メチルオキシム）95mg（0.4ミリモ
ル）をエタノール4mlに溶解し、10％Pd−C 30mgを加
え、水素雰囲気下、常圧常温で６時間撹拌した。次いで
触媒を別後、反応液を濃縮して82mg（0.39ミリモル、
収率97％）のラセミPTEAを得た。
7.23〜7.70（m,10H） mp＝53〜55℃ （シン体） NMR（CDCl3）δppm 2.26（s,3H）,3.77（s,2H）,5.14（s,2H）,6.99（s,4
H）,7.25（s,5H）,7.31（s,5H） ▲ｎ20 D▼＝1.5932 参考例１ 実施例５で得られたアンチ−（ｐ−トリルメチル）フェ
ニルケトン（Ｏ−メチルオキシム）95mg（0.4ミリモ
ル）をエタノール4mlに溶解し、10％Pd−C 30mgを加
え、水素雰囲気下、常圧常温で６時間撹拌した。次いで
触媒を別後、反応液を濃縮して82mg（0.39ミリモル、
収率97％）のラセミPTEAを得た。
参考例２〜４ （−）−ノルエフェドリン126mg（0.83ミリモル）のテ
トラヒドロフラン（THF）溶液を−70℃に冷却し、ボラ
ン1.66ミリモルのTHF溶液を滴下した後、徐々に室温迄
昇温した。
トラヒドロフラン（THF）溶液を−70℃に冷却し、ボラ
ン1.66ミリモルのTHF溶液を滴下した後、徐々に室温迄
昇温した。
次で実施例１で得られたアンチ−（ｐ−トリルメチル）
フェニルケトン（Ｏ−オクチルオキシム）0.27ミリモル
のTHF溶液を滴下し、室温で12時間撹拌した後、60℃に
昇温して同温度で５時間撹拌した。
フェニルケトン（Ｏ−オクチルオキシム）0.27ミリモル
のTHF溶液を滴下し、室温で12時間撹拌した後、60℃に
昇温して同温度で５時間撹拌した。
次いで18％塩酸を加え同温度で１時間撹拌した後、減圧
下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアルカ
リ性にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得られた
有機層を濃縮後、アルミナカラムで精製し、光学活性な
PTEAを得た。光学純度は光学活性カラムを用いた液体ク
ロマトグラフィーで測定した。表１に結果を示した。
下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアルカ
リ性にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得られた
有機層を濃縮後、アルミナカラムで精製し、光学活性な
PTEAを得た。光学純度は光学活性カラムを用いた液体ク
ロマトグラフィーで測定した。表１に結果を示した。
またＯ−オクチルオキシム体の代りに実施例３および５
で得られたＯ−トリメチルシリルオキシム体のアンチ体
およびＯ−メチルオキシム体のアンチ体をそれぞれ用い
た場合の結果も表１に示した。
で得られたＯ−トリメチルシリルオキシム体のアンチ体
およびＯ−メチルオキシム体のアンチ体をそれぞれ用い
た場合の結果も表１に示した。
参考例５ （Ｒ）−２−アミノ−1,1−ジフェニル−４−メチルペ
ンタノール135mg（0.50ミリモル）をTHFに溶解し−78℃
に冷却し、これにボラン１ミリモルのTHF溶液を加えた
後、室温迄昇温した。次いで実施例５で得られたシン−
（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン（Ｏ−メチルオキ
シム）95mg（0.4ミリモル）のTHF溶液を滴下した。次い
で参考例２と同様にして、53mg（収率63％）の光学活性
PTEAを得た。光学純度は93％（Ｓ）であった。
ンタノール135mg（0.50ミリモル）をTHFに溶解し−78℃
に冷却し、これにボラン１ミリモルのTHF溶液を加えた
後、室温迄昇温した。次いで実施例５で得られたシン−
（ｐ−トリルメチル）フェニルケトン（Ｏ−メチルオキ
シム）95mg（0.4ミリモル）のTHF溶液を滴下した。次い
で参考例２と同様にして、53mg（収率63％）の光学活性
PTEAを得た。光学純度は93％（Ｓ）であった。
参考例６ 参考例２において（−）−ノルエフェドリン302mg（２
ミリモル）、ボラン４ミリモルおよびアンチ−Ｏ−オク
チル体の代りに、実施例１で用いたと同じ（ｐ−トリル
メチル）フェニルケトンオキシム158mg（0.7ミリモル、
シン体／アンチ体＝14/86（NMRによる測定））を用いる
以外は参考例２と同様に行ない、31mg（収率21％）の光
学活性PTEAを得た。光学純度は30％（Ｒ）であった。
ミリモル）、ボラン４ミリモルおよびアンチ−Ｏ−オク
チル体の代りに、実施例１で用いたと同じ（ｐ−トリル
メチル）フェニルケトンオキシム158mg（0.7ミリモル、
シン体／アンチ体＝14/86（NMRによる測定））を用いる
以外は参考例２と同様に行ない、31mg（収率21％）の光
学活性PTEAを得た。光学純度は30％（Ｒ）であった。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基もしくはアルキ
ル置換シリル基を表わす。） で示されるオキシム誘導体。 - 【請求項２】（ｐ−トリルメチル）フェニルケトンオキ
シムに一般式（II） Ｒ−Ｘ （II） （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基、もしくはアル
キル置換シリル基を表わし、ＸはＲがアルキル基の場合
はハロゲン原子または硫酸エステル残基を、Ｒがアラル
キル基、アルキル置換シリル基の場合はハロゲン原子を
表わす。） で示されるアルキル化剤、アラルキル化剤もしくはシリ
ル化剤を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を有する） で示されるオキシム誘導体の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61057926A JPH07107041B2 (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | オキシム誘導体およびその製造方法 |
| EP87301992A EP0237305B1 (en) | 1986-03-14 | 1987-03-09 | A method for producing optically active amines |
| DE8787301992T DE3779456T2 (de) | 1986-03-14 | 1987-03-09 | Verfahren zur herstellung von optisch aktiven aminen. |
| CA000531872A CA1276943C (en) | 1986-03-14 | 1987-03-12 | Method for producing optically active amines |
| DK131487A DK171060B1 (da) | 1986-03-14 | 1987-03-13 | Fremgangsmåde til fremstilling af optisk aktive aminer |
| HU871120A HU202822B (en) | 1986-03-14 | 1987-03-13 | Process for producing optically active amines |
| US07/593,384 US5145998A (en) | 1986-03-14 | 1990-10-02 | Method for producing optically active amines |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61057926A JPH07107041B2 (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | オキシム誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62215558A JPS62215558A (ja) | 1987-09-22 |
| JPH07107041B2 true JPH07107041B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=13069607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61057926A Expired - Fee Related JPH07107041B2 (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | オキシム誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07107041B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2782876B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1998-08-06 | 住友化学工業株式会社 | オキシムエーテルの異性化方法 |
| EP2404900B1 (en) | 2009-03-04 | 2014-09-24 | Ube Industries, Ltd. | Method for producing amide compound |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP61057926A patent/JPH07107041B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ＪｏｕｒｎａｌｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎ１１９８５Ｐ．２０３９−４４ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62215558A (ja) | 1987-09-22 |
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