JPH07103147B2 - ベンゾピラノン―β―D―チオキシロシドを含むオシド化合物 - Google Patents
ベンゾピラノン―β―D―チオキシロシドを含むオシド化合物Info
- Publication number
- JPH07103147B2 JPH07103147B2 JP2253983A JP25398390A JPH07103147B2 JP H07103147 B2 JPH07103147 B2 JP H07103147B2 JP 2253983 A JP2253983 A JP 2253983A JP 25398390 A JP25398390 A JP 25398390A JP H07103147 B2 JPH07103147 B2 JP H07103147B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- benzopyran
- atom
- oxo
- xylopyranoside
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P7/00—Drugs for disorders of the blood or the extracellular fluid
- A61P7/02—Antithrombotic agents; Anticoagulants; Platelet aggregation inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/06—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
- C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
- C07D311/12—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring substituted in position 3 and unsubstituted in position 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/06—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
- C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
- C07D311/14—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring substituted in position 6 and unsubstituted in position 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/06—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
- C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
- C07D311/16—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring substituted in position 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/06—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
- C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
- C07D311/18—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring substituted otherwise than in position 3 or 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/22—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/06—Benzopyran radicals
- C07H17/065—Benzo[b]pyrans
- C07H17/07—Benzo[b]pyran-4-ones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/06—Benzopyran radicals
- C07H17/065—Benzo[b]pyrans
- C07H17/075—Benzo[b]pyran-2-ones
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Hematology (AREA)
- Diabetes (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
- Cultivation Of Plants (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 この発明は新規な工業製品としての、下記構造式Iのベ
ンゾピラノン−β−D−チオキシロシド化合物に関する
ものである。さらに、またこの発明はそれらの調製方法
及び静脈性抗血栓剤としての治療への利用に関するもの
である。
ンゾピラノン−β−D−チオキシロシド化合物に関する
ものである。さらに、またこの発明はそれらの調製方法
及び静脈性抗血栓剤としての治療への利用に関するもの
である。
ヨーロッパ特許公報第0 051 023号(EP-B-0051023)で
は、既にベンゾイルフェニルオシドとα−ヒドロキシベ
ンジルフェニルオシド誘導体を潰瘍阻止剤、血小板凝集
抑制剤、抗血栓剤、及び大脳酸素供給剤として開示して
いる。
は、既にベンゾイルフェニルオシドとα−ヒドロキシベ
ンジルフェニルオシド誘導体を潰瘍阻止剤、血小板凝集
抑制剤、抗血栓剤、及び大脳酸素供給剤として開示して
いる。
さらに、ヨーロッパ特許公開公報第0 133 103号(EP-A-
0133103)ではベンジルフェニルオシド類を開示してい
る。これは低コレステロール血薬剤及び低脂肪血薬剤と
して有用であり、なかんずくその実施例1の製品は抗血
栓作用をも有している。
0133103)ではベンジルフェニルオシド類を開示してい
る。これは低コレステロール血薬剤及び低脂肪血薬剤と
して有用であり、なかんずくその実施例1の製品は抗血
栓作用をも有している。
最後に、ヨーロッパ特許公開公報第0 290 321号(EP-A-
0290321)ではベンゾイルフェニルチオキシロシド、α
−ヒドロキシベンジルフェニルチオキシロシド、及びベ
ンジルフェニルチオキシロシド誘導体を抗血栓薬剤とし
て開示している。
0290321)ではベンゾイルフェニルチオキシロシド、α
−ヒドロキシベンジルフェニルチオキシロシド、及びベ
ンジルフェニルチオキシロシド誘導体を抗血栓薬剤とし
て開示している。
従来技術の公知化合物と構造的に異なるこの発明のベン
ゾピラノン−β−D−チオキシロシド化合物は、循環障
害に関連する疾患の予防と治療に有用であり、特に静脈
性抗血栓薬剤として有用であることが判明した。
ゾピラノン−β−D−チオキシロシド化合物は、循環障
害に関連する疾患の予防と治療に有用であり、特に静脈
性抗血栓薬剤として有用であることが判明した。
この発明による新規製品は次の構造式を有するベンゾピ
ラノン−β−D−チオキシロシド類からなる群より選ば
れる。
ラノン−β−D−チオキシロシド類からなる群より選ば
れる。
(ただし、この式中、 ・置換基RまたはR′の一方は酸素原子で、環状炭素原
子と二重結合を成しており、そして他方はR1基であり、 ・記号 は置換基RまたはR′によって作られたCO基と共役した
二重結合を表わし、 ・Xは硫黄原子または酸素原子であり、 ・R1及びR2は同じであっても異なっていてもよいが、そ
れぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基、またはフェニル基であり、R1とR2
は一緒になって、ベンゾピラノン基を有する7,8,9,10−
テトラヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン基また
は1,2,3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン
基を形成することができ、 ・5,6,7及び8位はベンゾピラノン環にX原子が結合で
きる位置であり、 ・Yは水素原子または脂肪族アシル基である) 換言すると、この発明による新規物質は次の構造式の化
合物から成る群より選ばれる。
子と二重結合を成しており、そして他方はR1基であり、 ・記号 は置換基RまたはR′によって作られたCO基と共役した
二重結合を表わし、 ・Xは硫黄原子または酸素原子であり、 ・R1及びR2は同じであっても異なっていてもよいが、そ
れぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基、またはフェニル基であり、R1とR2
は一緒になって、ベンゾピラノン基を有する7,8,9,10−
テトラヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン基また
は1,2,3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン
基を形成することができ、 ・5,6,7及び8位はベンゾピラノン環にX原子が結合で
きる位置であり、 ・Yは水素原子または脂肪族アシル基である) 換言すると、この発明による新規物質は次の構造式の化
合物から成る群より選ばれる。
(ただし、ここで、X、R1、R2及びYは上記に定義した
通りである) この発明による好ましい化合物は、Xがベンゾピラノン
環の7位につき、R1とR2は同じかもしくは異なっている
が、それぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原
子またはフェニル基であるような構造式Iの化合物であ
る。
通りである) この発明による好ましい化合物は、Xがベンゾピラノン
環の7位につき、R1とR2は同じかもしくは異なっている
が、それぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原
子またはフェニル基であるような構造式Iの化合物であ
る。
この発明による適切な脂肪族アシル基としては、合計で
2〜5個の炭素原子を有するものであり、好ましい脂肪
族アシル基はCH3COである。
2〜5個の炭素原子を有するものであり、好ましい脂肪
族アシル基はCH3COである。
C1〜C4アルキル基とはここでは1〜4個の炭素原子を有
する直鎖または分岐した炭化水素基を意味し、好ましい
アルキル基はメチル基である。
する直鎖または分岐した炭化水素基を意味し、好ましい
アルキル基はメチル基である。
ハロゲン原子とはここでは塩素、フッ素、または臭素原
子を意味し、好ましいハロゲン原子は塩素原子である。
子を意味し、好ましいハロゲン原子は塩素原子である。
構造式Iの化合物及びそれらのアシル化された化合物
は、次の工程(i)、(ii)から成るグリコシル化反応
によって調製することができる。すなわち、 (i)次の構造式IIの化合物(X、R、R′及びR2は上
で定義した通り)を 次の(イ)、(ロ)、(ハ)から成る群より選択したチ
オキシローズ誘導体と、 (イ)次の構造式のアシルチオキシロシルハロゲン化
物、 (ロ)次の構造式を有する過アシル化チオキシローズ、 (ハ)次の構造式を有するアシルチオキシロシルトリク
ロロアセチミデート、 〔ただし、ここで、HalはClまたはBrのようなハロゲン
原子(ここでは臭素原子が好ましい)で、Yはアシル
基、特に合計2〜5個の炭素原子を含有する脂肪族アシ
ル基で、アセチル基が好ましい〕 不活性溶媒中で、特に酸アクセプター及び/またはリュ
ーイス酸の存在下、構造式III、IVまたはVの化合物約
0.6〜1.2モルに対し構造式Iの化合物1モルのIの割合
で反応させ、 (ii)もし必要ならば、生成した構造式Iの化合物(Y
がC2〜C5アシル基)を0℃と反応媒質の還流温度の間の
温度で、C1〜C4低級アルコール(メタノールが好まし
い)中で、金属アルコラート(マグネシウムメチラート
またはナトリウムメチラートが望ましい)の存在下、脱
アシル化して、YがHである構造式Iの化合物を得る。
は、次の工程(i)、(ii)から成るグリコシル化反応
によって調製することができる。すなわち、 (i)次の構造式IIの化合物(X、R、R′及びR2は上
で定義した通り)を 次の(イ)、(ロ)、(ハ)から成る群より選択したチ
オキシローズ誘導体と、 (イ)次の構造式のアシルチオキシロシルハロゲン化
物、 (ロ)次の構造式を有する過アシル化チオキシローズ、 (ハ)次の構造式を有するアシルチオキシロシルトリク
ロロアセチミデート、 〔ただし、ここで、HalはClまたはBrのようなハロゲン
原子(ここでは臭素原子が好ましい)で、Yはアシル
基、特に合計2〜5個の炭素原子を含有する脂肪族アシ
ル基で、アセチル基が好ましい〕 不活性溶媒中で、特に酸アクセプター及び/またはリュ
ーイス酸の存在下、構造式III、IVまたはVの化合物約
0.6〜1.2モルに対し構造式Iの化合物1モルのIの割合
で反応させ、 (ii)もし必要ならば、生成した構造式Iの化合物(Y
がC2〜C5アシル基)を0℃と反応媒質の還流温度の間の
温度で、C1〜C4低級アルコール(メタノールが好まし
い)中で、金属アルコラート(マグネシウムメチラート
またはナトリウムメチラートが望ましい)の存在下、脱
アシル化して、YがHである構造式Iの化合物を得る。
構造式III、IV及びVの化合物はαまたはβ立体配置
で、または両立体配置のアノマー混合物の形で存在す
る。
で、または両立体配置のアノマー混合物の形で存在す
る。
構造式IIの化合物のグリコシル化反応は、銀、水銀また
は亜鉛の、塩もしくはそれらの酸化物のような触媒の存
在下で構造式IIIの化合物から出発するか、またはリュ
ーイス酸、特に三フッ化ホウ素エテラートまたは塩化亜
鉛の存在下で、構造式Vの化合物から出発するか、また
はリューイス酸の存在下で、構造式IVの化合物から出発
して行なった。
は亜鉛の、塩もしくはそれらの酸化物のような触媒の存
在下で構造式IIIの化合物から出発するか、またはリュ
ーイス酸、特に三フッ化ホウ素エテラートまたは塩化亜
鉛の存在下で、構造式Vの化合物から出発するか、また
はリューイス酸の存在下で、構造式IVの化合物から出発
して行なった。
この発明を実施する望ましい方法として、構造式IIの化
合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオキシロ
シル約1.1〜1.2モルと、極性または非極性溶媒(例え
ば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、アセトニトリル、ニトロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、及びそれらの混合物)から選ばれた
不活性溶媒中で、シアン化水銀の存在下で、縮合させる
ことを推奨する。
合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオキシロ
シル約1.1〜1.2モルと、極性または非極性溶媒(例え
ば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、アセトニトリル、ニトロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、及びそれらの混合物)から選ばれた
不活性溶媒中で、シアン化水銀の存在下で、縮合させる
ことを推奨する。
臭化2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−D−キシ
ロピラノシルを使用して、ベンゼン/ニトロメタン混合
物(1/1 V/V)またはジクロロエタン中で、シアン化水
銀1.1〜1.3モルの存在下、0℃と反応媒質の還流温度の
間の温度で、望ましくは約40〜50℃で1時間〜4日間反
応させるのが効果的であろう。
ロピラノシルを使用して、ベンゼン/ニトロメタン混合
物(1/1 V/V)またはジクロロエタン中で、シアン化水
銀1.1〜1.3モルの存在下、0℃と反応媒質の還流温度の
間の温度で、望ましくは約40〜50℃で1時間〜4日間反
応させるのが効果的であろう。
この発明を実施する望ましい第2の方法として、構造式
IIの化合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオ
キシロシルと、不活性溶媒(例えば塩化メチレンまたは
アセトニトリル)中で、銀イミダゾラートと塩化亜鉛の
存在下で、縮合させることを推奨する。
IIの化合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオ
キシロシルと、不活性溶媒(例えば塩化メチレンまたは
アセトニトリル)中で、銀イミダゾラートと塩化亜鉛の
存在下で、縮合させることを推奨する。
臭化2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−D−キシ
ロピラノシルを使用して、塩化メチレンまたは塩化メチ
レン/アセトニトリル混合物中で、銀イミダゾラート1.
5〜1.7モル及び塩化亜鉛2〜2.2モルの存在下で、0℃
と反応溶媒の還流温度の間の温度で、望ましくは40〜60
℃で、24〜48時間反応させることが効果的であろう。
ロピラノシルを使用して、塩化メチレンまたは塩化メチ
レン/アセトニトリル混合物中で、銀イミダゾラート1.
5〜1.7モル及び塩化亜鉛2〜2.2モルの存在下で、0℃
と反応溶媒の還流温度の間の温度で、望ましくは40〜60
℃で、24〜48時間反応させることが効果的であろう。
この発明を実施する第3の望ましい方法として、構造式
IIの化合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオ
キシロシル約0.6〜1モルと、不活性溶媒(例えばトル
エン及び/またはアセトニトリル)中で、酸化亜鉛の存
在下で縮合させることを推奨する。
IIの化合物1モルを構造式IIIのハロゲン化アシルチオ
キシロシル約0.6〜1モルと、不活性溶媒(例えばトル
エン及び/またはアセトニトリル)中で、酸化亜鉛の存
在下で縮合させることを推奨する。
臭化2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−D−キシ
ロピラノシルを使用して、トルエン/アセトニトリル混
合物中で酸化亜鉛0.5〜1.2モルの存在下、室温と反応媒
質の還流温度の間の温度で、出来れば約40〜60℃で18〜
48時間反応させると効果的であろう。
ロピラノシルを使用して、トルエン/アセトニトリル混
合物中で酸化亜鉛0.5〜1.2モルの存在下、室温と反応媒
質の還流温度の間の温度で、出来れば約40〜60℃で18〜
48時間反応させると効果的であろう。
この発明を実施する第4の望ましい方法として、構造式
IIの化合物1モルをアシルチオキシロシルトリクロロア
セチミデート約1.1〜1.3モルと、不活性溶媒(例えば塩
化メチレンまたはアセトニトリル)中で、三フッ化ホウ
素エテラートまたは塩化亜鉛の存在下において、縮合さ
せることを推奨する。
IIの化合物1モルをアシルチオキシロシルトリクロロア
セチミデート約1.1〜1.3モルと、不活性溶媒(例えば塩
化メチレンまたはアセトニトリル)中で、三フッ化ホウ
素エテラートまたは塩化亜鉛の存在下において、縮合さ
せることを推奨する。
2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−α−D−キシ
ロピラノシルトリクロロアセチミデートを、塩化メチレ
ン中で、塩化メチレンまたはアセトニトリルに溶解した
三フッ化ホウ素エテラート0.1〜0.4モルの存在下におい
て、または塩化亜鉛の存在下において、−40℃と室温
(15〜25℃)の間の温度、できれば約−20℃〜0℃で、
1〜5時間使用するのが効果的であろう。
ロピラノシルトリクロロアセチミデートを、塩化メチレ
ン中で、塩化メチレンまたはアセトニトリルに溶解した
三フッ化ホウ素エテラート0.1〜0.4モルの存在下におい
て、または塩化亜鉛の存在下において、−40℃と室温
(15〜25℃)の間の温度、できれば約−20℃〜0℃で、
1〜5時間使用するのが効果的であろう。
このグリコシル反応は、いずれの場合も、αとβ立体配
置の異性体の、様々な割合の混合物を生じる。
置の異性体の、様々な割合の混合物を生じる。
β立体配置の異性体は、この分野で周知の方法、例えば
分別結晶、あるいはクロマトグラフィー、特にフラッシ
ュクロマトグラフィー〔即ち、W.C.STILLら(J.Org.Che
m.(1978)42(n°14)2923)著述の方法に従い、加圧
下シリカカラムを使用するクロマトグラフィー〕によっ
て単離される。
分別結晶、あるいはクロマトグラフィー、特にフラッシ
ュクロマトグラフィー〔即ち、W.C.STILLら(J.Org.Che
m.(1978)42(n°14)2923)著述の方法に従い、加圧
下シリカカラムを使用するクロマトグラフィー〕によっ
て単離される。
場合によっては、得られた誘導体を脱アシル化、また特
に脱アセチル化に付す。これは0℃と反応媒質の還流温
度の間の温度で、C1〜C4の低級アルコール中で、対応す
る金属アルコラートの存在下で行なう。低級アルコール
としてはメタノールを、金属アルコラートとしてはナト
リウムまたはマグネシウムメチラートを選ぶのが好まし
い。
に脱アセチル化に付す。これは0℃と反応媒質の還流温
度の間の温度で、C1〜C4の低級アルコール中で、対応す
る金属アルコラートの存在下で行なう。低級アルコール
としてはメタノールを、金属アルコラートとしてはナト
リウムまたはマグネシウムメチラートを選ぶのが好まし
い。
必要であれば、グリコシル化の後、生成した中間のアシ
ル化化合物を単離をせずに、脱アシル化反応を行うこと
もできる。
ル化化合物を単離をせずに、脱アシル化反応を行うこと
もできる。
脱アシル化反応を酵素法(例えばブタ肝臓エステラーゼ
を用いる)で行うこともできる。
を用いる)で行うこともできる。
X=Sである構造式IIの中間体を得るには、次の工程
(i)、(ii)、(iii)を実行することを推奨する。
(i)、(ii)、(iii)を実行することを推奨する。
(i)次の構造式の塩化ジメチルアミノチオカルバモイ
ルを 次式の化合物(R、R′及びR2は上記で定義した通りで
ある)と、強塩基性媒質中で縮合させて、 次式の化合物を生成させ、 (ただし、ここで、R、R′及びR2は上記で定義した通
りである) (ii)生成した構造式VIIの化合物を加熱してニューマ
ン転位(J.Org.Chem.(1966)31、p.3980)に付し、次
の構造式VIIIの化合物を生成させ、 (ただし、ここでR、R′およびR2は上記で定義した通
りである。) (iii)生成した構造式VIIIの化合物を金属アルコラー
ト、好ましくはナトリウムまたはマグネシウムメチラー
トと、C1〜C4低級アルコール、好ましくはメタノール、
ジメチルホルムドアミドまたはジオキサン中で処理し
て、構造式IIの化合物(X=S)を得る。
ルを 次式の化合物(R、R′及びR2は上記で定義した通りで
ある)と、強塩基性媒質中で縮合させて、 次式の化合物を生成させ、 (ただし、ここで、R、R′及びR2は上記で定義した通
りである) (ii)生成した構造式VIIの化合物を加熱してニューマ
ン転位(J.Org.Chem.(1966)31、p.3980)に付し、次
の構造式VIIIの化合物を生成させ、 (ただし、ここでR、R′およびR2は上記で定義した通
りである。) (iii)生成した構造式VIIIの化合物を金属アルコラー
ト、好ましくはナトリウムまたはマグネシウムメチラー
トと、C1〜C4低級アルコール、好ましくはメタノール、
ジメチルホルムドアミドまたはジオキサン中で処理し
て、構造式IIの化合物(X=S)を得る。
構造式IIの中間体(X=S、Rは酸素原子で、対応する
環状炭素原子に二重結合で結合しており、R′はR1基で
あり、記号 は置換基RによってできたCO基と共役した二重結合を表
わしている)は、また、L.TESTAFERRI(Tetrahedron Le
tters,vol.21,p.3099-3100(1980))の方法により適当
なハロゲンベンゾピラン−2−オン化合物の求核置換に
よって得ることもできる。
環状炭素原子に二重結合で結合しており、R′はR1基で
あり、記号 は置換基RによってできたCO基と共役した二重結合を表
わしている)は、また、L.TESTAFERRI(Tetrahedron Le
tters,vol.21,p.3099-3100(1980))の方法により適当
なハロゲンベンゾピラン−2−オン化合物の求核置換に
よって得ることもできる。
中間体2−エチル−7−ヒドロキシ−4H−1−ベンゾピ
ラン−4−オンは新規な化合物で、この発明の主題の1
つを形成している。
ラン−4−オンは新規な化合物で、この発明の主題の1
つを形成している。
構造式IIの中間体(X=S)は、7−メルカプト−3−
フェニル−2H−1−ベンゾピラン−2−オン(英国特許
公開公報第1154272号(GB-A-1154272)に記載)を除い
ては新規化合物である。
フェニル−2H−1−ベンゾピラン−2−オン(英国特許
公開公報第1154272号(GB-A-1154272)に記載)を除い
ては新規化合物である。
次式の化合物 (ただし、この式中、 ・置換基RもしくはR′の一方は酸素原子で環状炭素原
子に二重結合で結合し、他方はR1基であり、 ・記号 は置換基RもしくはR′の一方によって作られたCO基と
共役した二重結合を表わし、 ・R1とR2は同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素
原子、C1〜C4のアルキル基、ハロゲン原子、トリフルオ
ロメチル基またはフェニル基であるが、ただしRが環状
端子原子に二重結合で結合している酸素原子であり、
R′が水素原子であり、SH基が7位に結合し、記号 が置換基Rによって作られたCO基と共役した二重結合を
表わしている場合には3−フェニル基であることはな
く、R1とR2は一緒になって、ベンゾピラン基を有する7,
8,9,10−テトラヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オ
ン基または1,2,3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−
9−オン基を形成することができ、 ・硫黄原子はベンゾピラノン環の5,6,7及び8位に結合
することができる) は、それ故、この発明のもう一つの主題を形成するもの
である。
子に二重結合で結合し、他方はR1基であり、 ・記号 は置換基RもしくはR′の一方によって作られたCO基と
共役した二重結合を表わし、 ・R1とR2は同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素
原子、C1〜C4のアルキル基、ハロゲン原子、トリフルオ
ロメチル基またはフェニル基であるが、ただしRが環状
端子原子に二重結合で結合している酸素原子であり、
R′が水素原子であり、SH基が7位に結合し、記号 が置換基Rによって作られたCO基と共役した二重結合を
表わしている場合には3−フェニル基であることはな
く、R1とR2は一緒になって、ベンゾピラン基を有する7,
8,9,10−テトラヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オ
ン基または1,2,3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−
9−オン基を形成することができ、 ・硫黄原子はベンゾピラノン環の5,6,7及び8位に結合
することができる) は、それ故、この発明のもう一つの主題を形成するもの
である。
構造式VIIIの中間体は新規な化合物である。
次の構造式VIIIの化合物 (ただし、この式中、 ・R1とR2は同じであっても異なっていてもよいが、それ
ぞれ水素原子、C1〜C4のアルキル基、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基またはフェニル基で、R1とR2は一緒
になってベンゾピラノン基を有する7,8,9,10−テトラヒ
ドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン基または1,2,3,4
−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン基を形成す
ることができ、 ・硫黄原子はベンゾピラノン環の5,6,7及び8位に結合
することができる) は、それ故、この発明のもう一つの主題を形成するもの
である。
ぞれ水素原子、C1〜C4のアルキル基、ハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基またはフェニル基で、R1とR2は一緒
になってベンゾピラノン基を有する7,8,9,10−テトラヒ
ドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン基または1,2,3,4
−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン基を形成す
ることができ、 ・硫黄原子はベンゾピラノン環の5,6,7及び8位に結合
することができる) は、それ故、この発明のもう一つの主題を形成するもの
である。
この発明では、構造式Iの物質から成る群より選ばれた
少くとも1つの化合物を、生理学的に容認できる賦形剤
と共に含有する治療用組成物を提案する。勿論このよう
な組成物中には有効成分が治療上有効な量だけ存在して
いる。
少くとも1つの化合物を、生理学的に容認できる賦形剤
と共に含有する治療用組成物を提案する。勿論このよう
な組成物中には有効成分が治療上有効な量だけ存在して
いる。
構造式Iの化合物は抗血栓剤として治療上有用である。
これらは特に静脈血液循環障害の予防と治療に有効であ
る。
これらは特に静脈血液循環障害の予防と治療に有効であ
る。
この発明は、静脈血液循環障害の治療に使用する抗血栓
薬を得る目的で構造式Iの化合物から成る群に属する物
質を使用することを推奨する。
薬を得る目的で構造式Iの化合物から成る群に属する物
質を使用することを推奨する。
この発明の詳細な特徴と有利な点は、次に述べる実施例
と薬理学的テストの結果から、より明瞭に理解されるだ
ろう。ここに述べる実施例は何ら限定的なものではな
く、説明のため掲げられたものである。
と薬理学的テストの結果から、より明瞭に理解されるだ
ろう。ここに述べる実施例は何ら限定的なものではな
く、説明のため掲げられたものである。
下記の実施例中、αまたはβ立体配置は、該立体配置が
わかった場合には、化合物名の中に記入されている。立
体配置が示されていない場合は、その物質は、混合割合
不明のα、β立体配置のアノマー混合物である。
わかった場合には、化合物名の中に記入されている。立
体配置が示されていない場合は、その物質は、混合割合
不明のα、β立体配置のアノマー混合物である。
実施例1 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシドの調製(例1a) 4−エテル−7−ヒドロキシ−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン2.28g(12×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ−
O−アセチル−5−チオ−D−キシロピラノシル4.7g
(13.2×10-3モル)と0.4nmのモレキュラシーブを、ト
ルエン125mlをアセトニトリル120ml中に懸濁した懸濁液
を、塩化亜鉛3.28g(24×10-3モル)と銀イミダゾラー
ト4.2g(14×10-3モル)の存在下で、遮光して、不活性
雰囲気中で撹拌する。55℃で24時間加熱後、反応混合液
を酢酸エチル中CeliteR(即ち、過用珪藻シリカ)で
過する。液を1N塩酸、1N水酸化ナトリウム溶液、さ
らに飽和塩化ナトリウム溶液で洗滌し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。溶離液として酢
酸エチル/トルエン混合液(1/6 V/V)を用いたシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し、エーテル中に沈
澱させて、目的の生成物0.93g(収率:17%)を得た。
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシドの調製(例1a) 4−エテル−7−ヒドロキシ−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン2.28g(12×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ−
O−アセチル−5−チオ−D−キシロピラノシル4.7g
(13.2×10-3モル)と0.4nmのモレキュラシーブを、ト
ルエン125mlをアセトニトリル120ml中に懸濁した懸濁液
を、塩化亜鉛3.28g(24×10-3モル)と銀イミダゾラー
ト4.2g(14×10-3モル)の存在下で、遮光して、不活性
雰囲気中で撹拌する。55℃で24時間加熱後、反応混合液
を酢酸エチル中CeliteR(即ち、過用珪藻シリカ)で
過する。液を1N塩酸、1N水酸化ナトリウム溶液、さ
らに飽和塩化ナトリウム溶液で洗滌し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。溶離液として酢
酸エチル/トルエン混合液(1/6 V/V)を用いたシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し、エーテル中に沈
澱させて、目的の生成物0.93g(収率:17%)を得た。
融点(M.p.)=189℃ 〔α〕D 20=−73.8°(C=0.25;CHCl3) 同様の手順により下記の化合物を調製した。
4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例2a) 融点=179〜184℃ 〔α〕D 20=−47.9°(C=0.33;CHCl3) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例3a) 融点=184℃ 〔α〕D 20=+29.2°(C=0.55;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例4a) 融点=220〜223℃ 〔α〕D 23=−121.9°(C=0.21;CHCl3) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−
D−キシロピラノシド(例5a) 融点=165〜167℃ 〔α〕D 20=−71.2°(C=0.11;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例6a) 融点=167℃ 〔α〕D 22=−81°(C=0.15;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例16a) 融点=193℃ 〔α〕D 20=−72°(C=0.5;CHCl3) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例17a) 融点=227℃ 〔α〕D 20=−50.7°(C=0.27;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5
−チオ−β−D−キシロピラノシド(例18a) 融点=210℃ 〔α〕D 27.5=−56.5°(C=0.1;CHCl3) 4−(1−メチルエチル)−2−オキソ−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5
−チオ−β−D−キシロピラノシド(例19a) 融点=144〜145℃ 〔α〕D 30=−26.4°(C=0.1;CH3OH) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例20a) 融点=188℃ 〔α〕D 23=−77.4°(C=0.47;CHCl3) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例21a) 融点=150〜151℃ 〔α〕D 21=−64°(C=0.54;CHCl3) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β
−D−キシロピラノシド(例22a) 融点=203〜205℃ 〔α〕D 21=−65°(C=0.6;CHCl3) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−6−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例24a) 融点=168〜180℃ 〔α〕D 25=−81.9°(C=0.3;CHCl3) 4−オキソ−2−フェニル−4H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−
D−キシロピラノシド(例25a) 融点=215℃ 〔α〕D 24=−62°(C=0.51;CHCl3) 3−ブロモ−2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例28a) 融点=192〜194℃ 〔α〕D 21=−54°(C=0.54;CHCl3) 実施例II 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例7a)の調製 5−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン420mg(2.2×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ
−O−アセチル−5−チオ−D−キシロピラノシル970m
g(2.7×10-3モル)と、シアン化水銀550mg(2.2×10-3
モル)と0.4nmのモレキュラシーブとをニトロメタン50m
lとベンゼン50ml中に懸濁した液を、45°、不活性雰囲
気中で24時間撹拌する。次いで反応混合液を酢酸エチル
中のCeliteRで過する。液を1N塩酸溶液、1N水酸化
ナトリウム溶液、さらに塩化ナトリウム飽和溶液で洗滌
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下蒸発させる。シ
リカゲル使用のクロマトグラフィーにより酢酸エチル/
トルエン混合液(1/5 V/V)を溶離液として精製を行
い、エーテル中で沈澱させて目的の生成物250mg(収率:
25%)を得る。
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例2a) 融点=179〜184℃ 〔α〕D 20=−47.9°(C=0.33;CHCl3) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例3a) 融点=184℃ 〔α〕D 20=+29.2°(C=0.55;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例4a) 融点=220〜223℃ 〔α〕D 23=−121.9°(C=0.21;CHCl3) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−
D−キシロピラノシド(例5a) 融点=165〜167℃ 〔α〕D 20=−71.2°(C=0.11;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例6a) 融点=167℃ 〔α〕D 22=−81°(C=0.15;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例16a) 融点=193℃ 〔α〕D 20=−72°(C=0.5;CHCl3) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例17a) 融点=227℃ 〔α〕D 20=−50.7°(C=0.27;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5
−チオ−β−D−キシロピラノシド(例18a) 融点=210℃ 〔α〕D 27.5=−56.5°(C=0.1;CHCl3) 4−(1−メチルエチル)−2−オキソ−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5
−チオ−β−D−キシロピラノシド(例19a) 融点=144〜145℃ 〔α〕D 30=−26.4°(C=0.1;CH3OH) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例20a) 融点=188℃ 〔α〕D 23=−77.4°(C=0.47;CHCl3) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例21a) 融点=150〜151℃ 〔α〕D 21=−64°(C=0.54;CHCl3) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β
−D−キシロピラノシド(例22a) 融点=203〜205℃ 〔α〕D 21=−65°(C=0.6;CHCl3) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−6−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド(例24a) 融点=168〜180℃ 〔α〕D 25=−81.9°(C=0.3;CHCl3) 4−オキソ−2−フェニル−4H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−
D−キシロピラノシド(例25a) 融点=215℃ 〔α〕D 24=−62°(C=0.51;CHCl3) 3−ブロモ−2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−
チオ−β−D−キシロピラノシド(例28a) 融点=192〜194℃ 〔α〕D 21=−54°(C=0.54;CHCl3) 実施例II 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例7a)の調製 5−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン420mg(2.2×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ
−O−アセチル−5−チオ−D−キシロピラノシル970m
g(2.7×10-3モル)と、シアン化水銀550mg(2.2×10-3
モル)と0.4nmのモレキュラシーブとをニトロメタン50m
lとベンゼン50ml中に懸濁した液を、45°、不活性雰囲
気中で24時間撹拌する。次いで反応混合液を酢酸エチル
中のCeliteRで過する。液を1N塩酸溶液、1N水酸化
ナトリウム溶液、さらに塩化ナトリウム飽和溶液で洗滌
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下蒸発させる。シ
リカゲル使用のクロマトグラフィーにより酢酸エチル/
トルエン混合液(1/5 V/V)を溶離液として精製を行
い、エーテル中で沈澱させて目的の生成物250mg(収率:
25%)を得る。
融点=187℃ 〔α〕D 22=+34.5°(C=0.11;CHCl3) 同様の方法を使用して下記の生成物を調製した。
4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例9a) 融点=205℃ 〔α〕D 23=+86.25°(C=0.3;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 2,3,4−トリ−アセチル−1,5−ジチオ−β−D−
キシロピラノシド(例10a) 融点=139〜140℃ 〔α〕D 23=−66.13°(C=0.3;CHCl3) 7,8,9,10−テトラヒドロ−6−オキソ−6H−ジベンゾ
〔b,d〕ピラン−3−イル2,3,4−トリ−O−アセチル−
1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例15a) 融点=191℃ 〔α〕D 23=+14.5°(C=0.3;CHCl3) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例23a) 融点=171℃ 〔α〕D 21=+54.3°(C=0.14;CHCl3) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−
β−D−キシロピラノシド(例26a) 融点=169〜173℃ 〔α〕D 23=+55.5°(C=0.38;CHCl3) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例27a) 融点=85〜90℃ 〔α〕D 20=+58°(C=0.5;CHCl3) 実施例III 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシドの調製(例8a) 7−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン8g(41.6×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ−
O−アセチル−5−チオ−α−D−キシロピラノシル1
7.7g(50×10-3モル)と酸化亜鉛3.4g(42×10-3モル)
をトルエン180mlとアセトニトリル180mlに加えた混合物
を、45℃で12時間加熱する。CeliteRで過し、得られ
た残留物を酢酸エチルで洗滌後、有機層を1N塩酸溶液、
次に1N水酸化ナトリウム溶液、最後に塩化ナトリウム飽
和溶液で洗滌する。得られた有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で蒸発する。エチルエーテルの添加に
より沈澱させて、黄色粉末14.2g(収率:73%)を得る。
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例9a) 融点=205℃ 〔α〕D 23=+86.25°(C=0.3;CHCl3) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 2,3,4−トリ−アセチル−1,5−ジチオ−β−D−
キシロピラノシド(例10a) 融点=139〜140℃ 〔α〕D 23=−66.13°(C=0.3;CHCl3) 7,8,9,10−テトラヒドロ−6−オキソ−6H−ジベンゾ
〔b,d〕ピラン−3−イル2,3,4−トリ−O−アセチル−
1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例15a) 融点=191℃ 〔α〕D 23=+14.5°(C=0.3;CHCl3) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例23a) 融点=171℃ 〔α〕D 21=+54.3°(C=0.14;CHCl3) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−
β−D−キシロピラノシド(例26a) 融点=169〜173℃ 〔α〕D 23=+55.5°(C=0.38;CHCl3) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例27a) 融点=85〜90℃ 〔α〕D 20=+58°(C=0.5;CHCl3) 実施例III 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシドの調製(例8a) 7−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン8g(41.6×10-3モル)と、臭化2,3,4−トリ−
O−アセチル−5−チオ−α−D−キシロピラノシル1
7.7g(50×10-3モル)と酸化亜鉛3.4g(42×10-3モル)
をトルエン180mlとアセトニトリル180mlに加えた混合物
を、45℃で12時間加熱する。CeliteRで過し、得られ
た残留物を酢酸エチルで洗滌後、有機層を1N塩酸溶液、
次に1N水酸化ナトリウム溶液、最後に塩化ナトリウム飽
和溶液で洗滌する。得られた有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で蒸発する。エチルエーテルの添加に
より沈澱させて、黄色粉末14.2g(収率:73%)を得る。
融点=168℃ 〔α〕D 22=46.4°(C=0.7;CHCl3) 同様の方法により下記の物質を調製した。
4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−
ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例11a) 融点=184℃ 〔α〕D 23=+80.25°(C=0.5;CHCl3) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−
ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例12a) 融点=160〜162℃ 〔α〕D 23=+70.2°(C=0.5;CHCl3) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例13a) 融点=153℃ 〔α〕D 23=+28.11°(C=0.5;CHCl3) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−ジチオ−β−D
−キシロピラノシド(例14a) 融点=137℃ 〔α〕D 23=+31.17°(C=0.5;CHCl3) 実施例IV 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例1) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド0.45g(0.97×10-3モル)をメタノ
ール5mlに加えた溶液に、ナトリウムメチラート60μl
(メタノール中Na8%(W/V))を加える。室温で24時間
撹拌後、反応媒質にAmberliteRIR 120H+樹脂を加えて
中和し、テトラヒドロフランで可溶化し、過し、獣炭
処理を行う。溶媒を減圧下で留去し、凍結乾燥後、目的
の化合物0.285g(収率:87%)が得られる。
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−
ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例11a) 融点=184℃ 〔α〕D 23=+80.25°(C=0.5;CHCl3) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−
ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例12a) 融点=160〜162℃ 〔α〕D 23=+70.2°(C=0.5;CHCl3) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−1,5−ジチオ−β−
D−キシロピラノシド(例13a) 融点=153℃ 〔α〕D 23=+28.11°(C=0.5;CHCl3) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−ジチオ−β−D
−キシロピラノシド(例14a) 融点=137℃ 〔α〕D 23=+31.17°(C=0.5;CHCl3) 実施例IV 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例1) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 2,3,4−トリ−O−アセチル−5−チオ−β−D
−キシロピラノシド0.45g(0.97×10-3モル)をメタノ
ール5mlに加えた溶液に、ナトリウムメチラート60μl
(メタノール中Na8%(W/V))を加える。室温で24時間
撹拌後、反応媒質にAmberliteRIR 120H+樹脂を加えて
中和し、テトラヒドロフランで可溶化し、過し、獣炭
処理を行う。溶媒を減圧下で留去し、凍結乾燥後、目的
の化合物0.285g(収率:87%)が得られる。
融点=192℃ 〔α〕D 20=−69°(C=0.21;ジメチルスルホキシド) 同様の方法により下記の物質が得られた。
4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例2) 融点=109〜113℃ 〔α〕D 20=−63.3°(C=0.24;ジメチルスルホキシ
ド) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例3) 融点=210〜213℃ 〔α〕D 20=+34.1°(C=0.5;CH3OH) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例4) 融点=120〜125℃ 〔α〕D 20=−16°(C=0.12;ジメチルスルホキシド) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例5) 融点=192℃ 〔α〕D 24=−61.3°(C=0.15;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例6) 融点=184〜188℃ 〔α〕D 23=−85.2°(C=0.11;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
7) 融点=203℃ 〔α〕D 22=+28.3°(C=0.12;CH3OH) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
8) 融点=216℃ 〔α〕D 23=−19.4°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
9) 融点=178℃ 〔α〕D 23=−61.5°(C=0.2;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
0) 融点=182℃ 〔α〕D 20=+6.9°(C=0.6;テトラヒドロフラン) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラ
ノシド(例11) 融点=178〜180℃ 〔α〕D 25=+40.8°(C=0.26;CH3OH) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラ
ノシド(例12) 融点=230℃ 〔α〕D 22=+32.7°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
3) 融点=184℃ 〔α〕D 25=+0.6°(C=0.3;テトラヒドロフラン) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
4) 融点=176〜178℃ 〔α〕D 25=+3.0°(C=0.3;テトラヒドロフラン) 7,8,9,10−テトラヒドロ−6−オキソ−6H−ジベンゾ
〔b,d〕ピラン−3−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシ
ロピラノシド(例15) 融点=182〜183℃ 〔α〕D 22=+20.6°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例16) 融点=190〜206℃ 〔α〕D 20=−72°(C=0.5;ジメチルスルホキシド) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例17) 融点=208〜210℃ 〔α〕D 20=−22.9°(C=0.24;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノ
シド(例18) 融点=188〜200℃ 〔α〕D 22=−59.2°(C=0.12;CH3OH) 4−(1−メチルエチル)−2−オキソ−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノ
シド(例19) 融点=186〜190℃ 〔α〕D 22=−74.3°(C=0.14;CH3OH) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例20) 融点=193〜195℃ 〔α〕D 22=−92°(C=0.5;メタノール) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例21) 融点=130〜137℃ 〔α〕D 21=−84°(C=0.54;メタノール) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例2
2) 融点=177〜194℃ 〔α〕D 21=−88.6°(C=0.45;テトラヒドロフラン) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例2
3) 融点=194〜196℃ 〔α〕D 22=+19.1°(C=0.2;ジメチルスルホキシ
ド) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−6−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例24) 融点=108℃(分解;200〜240℃) 〔α〕D 25=−107.7°(C=0.3;メタノール 4−オキソ−2−フェニル−4H−1−ベンゾピラン−7
−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例25) 融点=222℃ 〔α〕D 20=−90°(C=0.5;テトラヒドロフラン) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド
(例26) 融点=204〜208℃ 〔α〕D 30=+28.3°(C=0.35;メタノール) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例2
7) 融点=155℃ 〔α〕D 20=+26.2°(C=0.53;メタノール) 3−ブロモ−2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例28) 融点=135〜138℃ 〔α〕D 21=−43°(C=0.5;ジメチルスルホキシド) 実施例V ジメチルチオカルバミン酸O−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)の調製 5−ヒドロキシ−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン1g(5.7×10-3モル)を水10mlとアセトン10ml
の混合溶液に加えた懸濁液に、不活性雰囲気中で、水酸
化カリウム410mg(7.3×10-3モル)を加える。室温で10
分経過後、アセトン10mlに塩化ジメチルチオカルバモイ
ル770mg(6.2・10-3モル)を溶解した液を、0℃で加え
る。反応混合物を室温で2時間撹拌し、アセトンを蒸発
させたのち、目的の誘導体を水中に沈澱させて目的化合
物1・35g(収率:90%)を得る。
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例2) 融点=109〜113℃ 〔α〕D 20=−63.3°(C=0.24;ジメチルスルホキシ
ド) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例3) 融点=210〜213℃ 〔α〕D 20=+34.1°(C=0.5;CH3OH) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例4) 融点=120〜125℃ 〔α〕D 20=−16°(C=0.12;ジメチルスルホキシド) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例5) 融点=192℃ 〔α〕D 24=−61.3°(C=0.15;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例6) 融点=184〜188℃ 〔α〕D 23=−85.2°(C=0.11;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
7) 融点=203℃ 〔α〕D 22=+28.3°(C=0.12;CH3OH) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
8) 融点=216℃ 〔α〕D 23=−19.4°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−8−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例
9) 融点=178℃ 〔α〕D 23=−61.5°(C=0.2;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
0) 融点=182℃ 〔α〕D 20=+6.9°(C=0.6;テトラヒドロフラン) 4−トリフルオロメチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラ
ノシド(例11) 融点=178〜180℃ 〔α〕D 25=+40.8°(C=0.26;CH3OH) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラ
ノシド(例12) 融点=230℃ 〔α〕D 22=+32.7°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−エチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
3) 融点=184℃ 〔α〕D 25=+0.6°(C=0.3;テトラヒドロフラン) 2−オキソ−4−プロピル−2H−1−ベンゾピラン−7
−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例1
4) 融点=176〜178℃ 〔α〕D 25=+3.0°(C=0.3;テトラヒドロフラン) 7,8,9,10−テトラヒドロ−6−オキソ−6H−ジベンゾ
〔b,d〕ピラン−3−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシ
ロピラノシド(例15) 融点=182〜183℃ 〔α〕D 22=+20.6°(C=0.3;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例16) 融点=190〜206℃ 〔α〕D 20=−72°(C=0.5;ジメチルスルホキシド) 3−クロロ−4−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例17) 融点=208〜210℃ 〔α〕D 20=−22.9°(C=0.24;ジメチルスルホキシ
ド) 4−メチル−2−オキソ−3−フェニル−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノ
シド(例18) 融点=188〜200℃ 〔α〕D 22=−59.2°(C=0.12;CH3OH) 4−(1−メチルエチル)−2−オキソ−2H−1−ベン
ゾピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノ
シド(例19) 融点=186〜190℃ 〔α〕D 22=−74.3°(C=0.14;CH3OH) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例20) 融点=193〜195℃ 〔α〕D 22=−92°(C=0.5;メタノール) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例21) 融点=130〜137℃ 〔α〕D 21=−84°(C=0.54;メタノール) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例2
2) 融点=177〜194℃ 〔α〕D 21=−88.6°(C=0.45;テトラヒドロフラン) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例2
3) 融点=194〜196℃ 〔α〕D 22=+19.1°(C=0.2;ジメチルスルホキシ
ド) 2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−6−
イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例24) 融点=108℃(分解;200〜240℃) 〔α〕D 25=−107.7°(C=0.3;メタノール 4−オキソ−2−フェニル−4H−1−ベンゾピラン−7
−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシド(例25) 融点=222℃ 〔α〕D 20=−90°(C=0.5;テトラヒドロフラン) 2,3−ジメチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−
7−イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド
(例26) 融点=204〜208℃ 〔α〕D 30=+28.3°(C=0.35;メタノール) 2−エチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾピラン−7−
イル 1,5−ジチオ−β−D−キシロピラノシド(例2
7) 融点=155℃ 〔α〕D 20=+26.2°(C=0.53;メタノール) 3−ブロモ−2−メチル−4−オキソ−4H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル 5−チオ−β−D−キシロピラノシ
ド(例28) 融点=135〜138℃ 〔α〕D 21=−43°(C=0.5;ジメチルスルホキシド) 実施例V ジメチルチオカルバミン酸O−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)の調製 5−ヒドロキシ−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オン1g(5.7×10-3モル)を水10mlとアセトン10ml
の混合溶液に加えた懸濁液に、不活性雰囲気中で、水酸
化カリウム410mg(7.3×10-3モル)を加える。室温で10
分経過後、アセトン10mlに塩化ジメチルチオカルバモイ
ル770mg(6.2・10-3モル)を溶解した液を、0℃で加え
る。反応混合物を室温で2時間撹拌し、アセトンを蒸発
させたのち、目的の誘導体を水中に沈澱させて目的化合
物1・35g(収率:90%)を得る。
融点=166〜168℃ 同様の方法によって下記表IIIとIVの化合物を調製し
た。
た。
実施例VI ジメチルカルバミン酸S−(4−メチル−2−オキソ−
2H−1−ベンゾピラン−5−イル)の調製 ジメチルチオカルバミン酸O−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)3.7g(14×10-3
モル)を1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン50mlに加え
た溶液を、220℃に14時間保つ。冷却後、所期化合物を
エーテル中で沈澱させる。得られた結晶をシクロヘキサ
ンで洗い、所期化合物2.95g(収率:80%)を得た。
2H−1−ベンゾピラン−5−イル)の調製 ジメチルチオカルバミン酸O−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)3.7g(14×10-3
モル)を1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン50mlに加え
た溶液を、220℃に14時間保つ。冷却後、所期化合物を
エーテル中で沈澱させる。得られた結晶をシクロヘキサ
ンで洗い、所期化合物2.95g(収率:80%)を得た。
融点=129℃ 同様の方法により下記の表VとVIの化合物を調製した。
実施例VII メチル−3−(2−ヒドロキシ−6−(ジメチルアミノ
カルボニルチオ)フェニル)ブテ−2−ノエートの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))4.
4mlを、ジメチルチオカルバミン酸S−(4−メチル−
2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)2g(7.
6×10-3モル)のメタノール(20ml)溶液中に、不活性
雰囲気中で加える。室温で4時間経過後、反応媒質を氷
/塩酸混合物中で加水分解し、生じた沈澱を取し、目
的化合物1.7g(収率:76%)を得た 融点=152℃ 実施例VIII 7−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))4m
l)を、メチル 3−(2−ヒドロキシ−6−(ジメチ
ルアミノカルボニルチオ)フェニル)ブテ−2−ノエー
ト1g(3,4×10-3モル)の無水ジメチルホルムアミド(1
0ml)溶液に60℃で加える。60℃で6時間経過後、反応
媒質を塩酸/氷混合物中で加水分解し目的物質0.550g
(収率:85%)を得た。
カルボニルチオ)フェニル)ブテ−2−ノエートの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))4.
4mlを、ジメチルチオカルバミン酸S−(4−メチル−
2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−5−イル)2g(7.
6×10-3モル)のメタノール(20ml)溶液中に、不活性
雰囲気中で加える。室温で4時間経過後、反応媒質を氷
/塩酸混合物中で加水分解し、生じた沈澱を取し、目
的化合物1.7g(収率:76%)を得た 融点=152℃ 実施例VIII 7−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))4m
l)を、メチル 3−(2−ヒドロキシ−6−(ジメチ
ルアミノカルボニルチオ)フェニル)ブテ−2−ノエー
ト1g(3,4×10-3モル)の無水ジメチルホルムアミド(1
0ml)溶液に60℃で加える。60℃で6時間経過後、反応
媒質を塩酸/氷混合物中で加水分解し目的物質0.550g
(収率:85%)を得た。
融点=136℃ 実施例IX 7−メルカプト−4−メチル−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの調製 ジメチルチオカルバミン酸S−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−7−イル)26.3g(0.1モ
ル)を、窒素雰囲気中メタノール300ml中に懸濁する。
ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))0.
2モルを、室温で加え、混合物を4時間45℃で加熱す
る。出発物質の消失を溶離液として酢酸エチル/トルエ
ン混合液(1/4 V/V)を使用した薄層クロマトグラフィ
ーでモニターする。冷却後、反応媒質を氷/濃塩酸混合
物で加水分解し、30分間撹拌した後生じた沈澱を取
し、水洗する。P2O5により乾燥後、目的の化合物19.2g
(収率=100%)を得る。
2−オンの調製 ジメチルチオカルバミン酸S−(4−メチル−2−オキ
ソ−2H−1−ベンゾピラン−7−イル)26.3g(0.1モ
ル)を、窒素雰囲気中メタノール300ml中に懸濁する。
ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))0.
2モルを、室温で加え、混合物を4時間45℃で加熱す
る。出発物質の消失を溶離液として酢酸エチル/トルエ
ン混合液(1/4 V/V)を使用した薄層クロマトグラフィ
ーでモニターする。冷却後、反応媒質を氷/濃塩酸混合
物で加水分解し、30分間撹拌した後生じた沈澱を取
し、水洗する。P2O5により乾燥後、目的の化合物19.2g
(収率=100%)を得る。
融点=132℃ 同様の方法により下記表VIIとVIIIに示した化合物を調
製した。
製した。
実施例X 2−エチル−7−(1−オキソプロポキシ)−3−(1
−オキソプロピル)−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
の調製 1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタノン5g(32.2
×10-3モル)と酢酸ナトリウム4g(48.8×10-3モル)と
のプロピオン酸無水物(40ml)溶液を、不活性雰囲気中
で170℃に20時間保つ。反応混合物を重炭酸ソーダの存
在下で加水分解し、生成物を酢酸エチルで抽出し、つい
で水洗する。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧下で留去する。トルエンを添加した
後、残留溶媒を再び減圧下で留去する。シリカゲルを使
用したクロマトグラフィーでヘキサン/酢酸エチル混合
液(6/1 V/V)により溶離して精製し、目的の生成物2g
(収率:20%)を得る。
−オキソプロピル)−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
の調製 1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)エタノン5g(32.2
×10-3モル)と酢酸ナトリウム4g(48.8×10-3モル)と
のプロピオン酸無水物(40ml)溶液を、不活性雰囲気中
で170℃に20時間保つ。反応混合物を重炭酸ソーダの存
在下で加水分解し、生成物を酢酸エチルで抽出し、つい
で水洗する。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧下で留去する。トルエンを添加した
後、残留溶媒を再び減圧下で留去する。シリカゲルを使
用したクロマトグラフィーでヘキサン/酢酸エチル混合
液(6/1 V/V)により溶離して精製し、目的の生成物2g
(収率:20%)を得る。
融点=84℃ 実施例XI 2−エチル−7−ヒドロキシ−4H−1−ベンゾピラン−
4−オンの調製 2−エチル−7−(1−オキソプロポキシ)−3−(1
−オキソプロピル)−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
6.5g(21.5×10-3モル)と炭酸ナトリウム5g(47×10-3
モル)とを水(65ml)に懸濁させた懸濁液を、150℃に
9時間保つ。反応混合物を1N塩酸で加水分解する。生成
物を酢酸エチルで抽出する。エーテル/塩化メチレン混
合液(1/2 V/V)を溶離液として用いたシリカゲルのク
ロマトグラフィーによる精製で、目的生成物2.45g(収
率:61%)を得る。
4−オンの調製 2−エチル−7−(1−オキソプロポキシ)−3−(1
−オキソプロピル)−4H−1−ベンゾピラン−4−オン
6.5g(21.5×10-3モル)と炭酸ナトリウム5g(47×10-3
モル)とを水(65ml)に懸濁させた懸濁液を、150℃に
9時間保つ。反応混合物を1N塩酸で加水分解する。生成
物を酢酸エチルで抽出する。エーテル/塩化メチレン混
合液(1/2 V/V)を溶離液として用いたシリカゲルのク
ロマトグラフィーによる精製で、目的生成物2.45g(収
率:61%)を得る。
融点=189℃ 実施例XII 7−アセチル−3−ブロモ−2−メチル−4H−1−ベン
ゾピラン−4−オンの調製 臭素の酢酸溶液(10%)77.5mlを、7−アセチル−2−
メチル−4H−1−ベンゾピラン−4−オン8.8g(40×10
-3モル)の酢酸(80ml)溶液に、不活性雰囲気中60℃で
加える。反応混合物を60℃に2時間保ち、その後12時間
放置する。減圧下で濃縮し、次に残留物を重炭酸ソーダ
飽和溶液で中和する。酢酸エチルで抽出後、有機層を洗
滌液のpHが中性になるまで水洗を繰り返し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、乾燥するまで濃縮する。塩化メチレン
/メタノール混合液(12/1 V/V)を溶離液に使用したシ
リカゲルのクロマトグラフィーによる精製後、目的生成
物2.3g(収率:19%)を得る。
ゾピラン−4−オンの調製 臭素の酢酸溶液(10%)77.5mlを、7−アセチル−2−
メチル−4H−1−ベンゾピラン−4−オン8.8g(40×10
-3モル)の酢酸(80ml)溶液に、不活性雰囲気中60℃で
加える。反応混合物を60℃に2時間保ち、その後12時間
放置する。減圧下で濃縮し、次に残留物を重炭酸ソーダ
飽和溶液で中和する。酢酸エチルで抽出後、有機層を洗
滌液のpHが中性になるまで水洗を繰り返し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、乾燥するまで濃縮する。塩化メチレン
/メタノール混合液(12/1 V/V)を溶離液に使用したシ
リカゲルのクロマトグラフィーによる精製後、目的生成
物2.3g(収率:19%)を得る。
融点=124℃ 実施例XIII 3−ブロモ−7−ヒドロキシ−2−メチル−4H−1−ベ
ンゾピラン−4−オンの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))2.
2mlを、7−アセチル−3−ブロモ−2−メチル−4H−
1−ベンゾピラン−4−オン2.3g(7.7×10-3モル)の
メタノール(40ml)懸濁液に不活性雰囲気下で加える。
30分後、反応混合物を氷冷塩酸で加水分解する。生成し
た沈澱を取し、次に洗滌液のpHが中性になるまで洗滌
する。その結果、目的生成物1.9g(収率:96%)を得
る。
ンゾピラン−4−オンの調製 ナトリウムメチラート(メタノール中Na8%(W/V))2.
2mlを、7−アセチル−3−ブロモ−2−メチル−4H−
1−ベンゾピラン−4−オン2.3g(7.7×10-3モル)の
メタノール(40ml)懸濁液に不活性雰囲気下で加える。
30分後、反応混合物を氷冷塩酸で加水分解する。生成し
た沈澱を取し、次に洗滌液のpHが中性になるまで洗滌
する。その結果、目的生成物1.9g(収率:96%)を得
る。
融点=305〜310℃(分解) この発明による化合物を多数下記の表Iと表IIに示した
が、これは何ら限定的なものではない。
が、これは何ら限定的なものではない。
この発明による物質の抗血栓作用は、静脈血栓症に対す
る以下のプロトコルを実行して実証された。
る以下のプロトコルを実行して実証された。
凝血亢進による静脈うっ血は、WESSLERらによる方法
(J.Applied Physiol.1959,p.943-946)に従って作っ
た。J.HAUPMANらによる方法(Thronbosis and Haemosta
sis 43(2),1980.p.118)と同様に、使用した凝固亢
進剤はFlow Laboratoriesによって提供された活性因子
X(Xa)の溶液(等張溶液12.5mlに対し71Knat)であ
る。
(J.Applied Physiol.1959,p.943-946)に従って作っ
た。J.HAUPMANらによる方法(Thronbosis and Haemosta
sis 43(2),1980.p.118)と同様に、使用した凝固亢
進剤はFlow Laboratoriesによって提供された活性因子
X(Xa)の溶液(等張溶液12.5mlに対し71Knat)であ
る。
実験は体重250〜280gの絶食させていない雄のウィスタ
ーラットを、10匹ずつのグループに分けて行った。テス
ト薬剤をPEG400の懸濁液として経口投与した。血栓症は
この処置の4時間後にひき起され、生じた血栓を取り出
して、計量した。
ーラットを、10匹ずつのグループに分けて行った。テス
ト薬剤をPEG400の懸濁液として経口投与した。血栓症は
この処置の4時間後にひき起され、生じた血栓を取り出
して、計量した。
3mg/kgの薬用量で経口投与した結果を表Iと表IIに記載
した。
した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャン ミエ フランス共和国 21910 ソーロン ラ リェ コルセル レ シトー リュ デュ トランブロワ 15 (72)発明者 フランソワ ベラミー フランス共和国 21910 ソーロン ラ シャペル ソーロン ラ リェ リュ バ ッス セデックス 11 (72)発明者 ジェルジー バジグロヴィッツ フランス共和国 21000 ディジョン プ ロムナード デュ ローヌ 2
Claims (4)
- 【請求項1】次式のベンゾピラノン−β−D−チオキシ
ロシド類から成る群より選択されたオシド化合物 (ただし、上記式中、 ・置換基RとR′のどちらか一方は環状の炭素原子と二
重結合で結合した酸素原子であり、他方はR1基であり、 ・記号 は置換基RとR′のどちらか一方により作られるCO基と
共役した二重結合を示し、 ・Xは硫黄原子または酸素原子であり、 ・R1とR2は同じであっても異っていてもよいが、それぞ
れ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基またはフェニル基であり、R1とR2は一緒
になって、ベンゾピラノン基を有する7,8,9,10−テトラ
ヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン基または1,2,
3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン基を形
成することができ、 ・Yは水素原子またはC2〜C5の脂肪族アシル基であ
る)。 - 【請求項2】次式のベンゾピラン−2−オン−β−D−
チオキシロシド類からなる群より選ばれたことを特徴と
する請求項1記載のオシド化合物 (ただし、この式中、 ・Xは硫黄原子または酸素原子であり、 ・R1とR2は同じであっても異なっていてもよいが、それ
ぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原子、トリ
フルオロメチル基、またはフェニル基であり、R1とR2は
一緒になって、ベンゾピラン−2−オン基を有する7,8,
9,10−テトラヒドロジベンゾ〔b,d〕ピラン−6−オン
基を形成することができ、 ・Yは水素原子または脂肪族アシル基である)。 - 【請求項3】次式のベンゾピラン−4−オン−β−D−
チオキシロシド類から成る群より選ばれたことを特徴と
する請求項1記載のオシド化合物 (ただし、この式中、 ・Xは硫黄原子または酸素原子であり、 ・R1とR2は同じであっても異なっていてもよいが、それ
ぞれ水素原子、C1〜C4アルキル基、ハロゲン原子、トリ
フルオロメチル基、またはフェニル基であり、R1とR2は
一緒になって、ベンゾピラン−4−オン基を有する1,2,
3,4−テトラヒドロ−9H−キサンテン−9−オン基をつ
くることができ、 ・Yは水素原子またはC2〜C5脂肪族アシル基である)。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載のオシド化
合物を少なくとも1つ、生理学的に受容しうる賦形剤と
共に含有する抗血栓剤。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8912452 | 1989-09-22 | ||
FR8912452A FR2652353B1 (fr) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | Nouveaux benzopyran-2-one-beta-d-thioxylosides, leur procede de preparation et leur utilisation en therapeutique. |
FR9003401A FR2659659B1 (fr) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Nouveaux benzopyran-4-one-beta-d-thioxylosides, leur procede de preparation et leur utilisation en therapeutique. |
FR9003401 | 1990-03-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03120292A JPH03120292A (ja) | 1991-05-22 |
JPH07103147B2 true JPH07103147B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=26227568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2253983A Expired - Fee Related JPH07103147B2 (ja) | 1989-09-22 | 1990-09-21 | ベンゾピラノン―β―D―チオキシロシドを含むオシド化合物 |
Country Status (24)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5169838A (ja) |
EP (1) | EP0421829B1 (ja) |
JP (1) | JPH07103147B2 (ja) |
KR (1) | KR0142670B1 (ja) |
CN (1) | CN1027268C (ja) |
AT (1) | ATE113956T1 (ja) |
AU (2) | AU631456B2 (ja) |
CA (1) | CA2024476C (ja) |
DE (1) | DE69014064T2 (ja) |
DK (1) | DK0421829T3 (ja) |
ES (1) | ES2066165T3 (ja) |
FI (1) | FI100183B (ja) |
GR (1) | GR3014966T3 (ja) |
HR (1) | HRP920811B1 (ja) |
HU (1) | HU207867B (ja) |
IE (1) | IE65092B1 (ja) |
IL (1) | IL95582A (ja) |
NO (1) | NO172987C (ja) |
NZ (1) | NZ245783A (ja) |
PT (1) | PT95369B (ja) |
RU (1) | RU1838323C (ja) |
SK (1) | SK463890A3 (ja) |
UA (1) | UA13476A (ja) |
YU (1) | YU47867B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2801055B1 (fr) | 1999-11-17 | 2002-02-08 | Fournier Ind & Sante | Derives de beta-d-5-thioxylose, procede de preparation et utilisation en therapeutique |
FR2824559B1 (fr) | 2001-05-11 | 2004-02-13 | Fournier Lab Sa | Nouveaux derives 5-thio-beta-xylopyronasides, procede de preparation, compositions pharmaceutiques les contenant et leur utilisation en therapeutique |
FR2846966A1 (fr) * | 2002-11-07 | 2004-05-14 | Fournier Lab Sa | Derive du 4-methyl-2-oxo-2h-1-benzopyran-7-yl 5-thio-beta-d- xylopyranoside, son procede de preparation et composition pharmaceutique le contenant |
CA2527769A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-16 | Merck Frosst Canada Ltd. | 7- (1, 3-thiazol-2-yl)thio!-coumarin derivatives and their use as leukotriene biosynthesis inhibitors |
FR2860234B1 (fr) * | 2003-09-25 | 2005-12-23 | Fournier Lab Sa | Nouveaux derives 666 du thioxylose |
AR054226A1 (es) * | 2005-02-18 | 2007-06-13 | Smithkline Beecham Corp | Composicion farmaceutica en forma de comprimido que comprende el compuesto 4-metil-2oxo-2h-1-benzopiran-7-il-tio-b-d-xilopiranosido, uso de sulfato de dermatan y de dicho compuesto para prepararla y metodo para su preparacion |
FR2903698B1 (fr) * | 2006-07-13 | 2009-01-30 | Fournier S A Sa Lab | Nouveaux derives de 5-thioxylopyranose. |
FR2906247B1 (fr) | 2006-09-27 | 2008-12-26 | Fournier S A Sa Lab | Nouveaux derives de 5-thioxylopyranose |
FR2906248B1 (fr) | 2006-09-27 | 2008-12-26 | Fournier S A Sa Lab | Nouveaux derives de 5-thioxylopyranose |
US20090075914A1 (en) * | 2007-09-13 | 2009-03-19 | Protia, Llc | Deuterium-enriched odiparcil |
CN101397315B (zh) * | 2007-09-24 | 2013-08-07 | 中国医学科学院药物研究所 | 香豆素苷类化合物、其制法和其药物组合物与用途 |
FR3011468B1 (fr) | 2013-10-04 | 2015-12-04 | Inventiva | Utilisation de l'odiparcil dans le traitement d'une mucopolysaccharidose |
US10092540B2 (en) | 2013-10-04 | 2018-10-09 | Inventiva | Method of treatment of a mucopolysaccharidosis |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2034306A1 (de) * | 1970-07-10 | 1972-01-20 | Boehnnger Mannheim GmbH, 6800 Mann heim Waldhof | 2 (3,4 Dimethyl-cumarin 7 yl) oxy alkylcarbonsaure Derivate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
FR2492830A1 (fr) * | 1980-10-29 | 1982-04-30 | Sori Soc Rech Ind | Nouveaux composes appartenant a la famille des benzoyl- et a-hydroxybenzyl-phenyl-osides, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
JPS6013788A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-24 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 新規なクマリン誘導体 |
FR2549476B1 (fr) * | 1983-07-20 | 1986-04-25 | Rech Ind | Benzyl-phenyl-osides, procede de preparation et utilisation en therapeutique |
US4681954A (en) * | 1985-10-07 | 1987-07-21 | Pennwalt Corporation | 7,8,9,10-tetrahydro-6-oxo-6H-dibenzo(b,d)pyranyloxy-propanes |
FR2614893B1 (fr) * | 1987-05-04 | 1989-12-22 | Fournier Innovation Synergie | Nouveaux b-d-phenyl-thioxylosides, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
-
1990
- 1990-08-31 CA CA002024476A patent/CA2024476C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-31 EP EP90402403A patent/EP0421829B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-31 AT AT90402403T patent/ATE113956T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-08-31 DE DE69014064T patent/DE69014064T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-31 ES ES90402403T patent/ES2066165T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-31 DK DK90402403.1T patent/DK0421829T3/da active
- 1990-09-04 IL IL9558290A patent/IL95582A/en not_active IP Right Cessation
- 1990-09-10 US US07/579,702 patent/US5169838A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-17 AU AU62531/90A patent/AU631456B2/en not_active Ceased
- 1990-09-19 NO NO904088A patent/NO172987C/no unknown
- 1990-09-19 FI FI904614A patent/FI100183B/fi not_active IP Right Cessation
- 1990-09-20 YU YU178790A patent/YU47867B/sh unknown
- 1990-09-20 PT PT95369A patent/PT95369B/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-09-21 HU HU906005A patent/HU207867B/hu not_active IP Right Cessation
- 1990-09-21 CN CN90107856A patent/CN1027268C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-21 RU SU904831306A patent/RU1838323C/ru active
- 1990-09-21 JP JP2253983A patent/JPH07103147B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-21 NZ NZ245783A patent/NZ245783A/xx unknown
- 1990-09-21 IE IE341490A patent/IE65092B1/en not_active IP Right Cessation
- 1990-09-21 KR KR1019900014981A patent/KR0142670B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-09-21 UA UA4831306A patent/UA13476A/uk unknown
- 1990-09-24 SK SK4638-90A patent/SK463890A3/sk unknown
-
1992
- 1992-09-28 AU AU25397/92A patent/AU642829B2/en not_active Ceased
- 1992-10-02 HR HRP-1787/90A patent/HRP920811B1/xx not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-02-07 GR GR950400222T patent/GR3014966T3/el unknown
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0313240B2 (ja) | ||
JPH07103147B2 (ja) | ベンゾピラノン―β―D―チオキシロシドを含むオシド化合物 | |
US4996347A (en) | Novel beta-d-phenylthioxylosides, their method of preparation and their use as therapeutics | |
JPS6345293A (ja) | シアロシルセラミド類及びその製造方法 | |
AU633853B2 (en) | Novel beta-d-phenylthioxylosides, their method of preparation and their use as therapeuticals | |
US4921948A (en) | Sialosyl glyceride and process for producing the same | |
US5100913A (en) | Novel sulfonylphenyl-β-D-thioxylosides, their method of preparation and their use in therapeutics | |
US5246961A (en) | β-d-phenylthioxylosides, and their use as therapeutic agents | |
Srivastava et al. | Synthesis of seven-and eight-carbon sugar derivatives from 2, 3: 5, 6-di-O-isopropylidene-D-gulono-1, 4-lactone and preparation of a new anhydro sugar | |
JP2753353B2 (ja) | シアロシルコレステロールのアナログ体及びその製造方法 | |
CZ286343B6 (cs) | Benzopyranon-beta-D-thioxylosidové sloučeniny, způsob jejich přípravy, farmaceutický prostředek obsahující tyto sloučeniny a jejich použití | |
JPH02178297A (ja) | β―D―フェニルチオキシロシド、その調製方法および薬剤としての使用 | |
PL167042B1 (pl) | Sposób wytwarzania nowej 4’-dezoksy-10,11,12,13-tetrahydrodezmykozyny PL PL PL PL PL PL PL | |
JPS60204796A (ja) | 新規なアントラサイクリノンおよびその製造方法 | |
FR2652353A1 (fr) | Nouveaux benzopyran-2-one-beta-d-thioxylosides, leur procede de preparation et leur utilisation en therapeutique. | |
HRP920788A2 (en) | New-beta-d-phenyl-thioxilosides, the process for obtaining them and therapeutical use thereof | |
JPH0273094A (ja) | 3−フェニルチオ−n−アセチルノイラミン酸誘導体及びその製造方法 | |
JPH05294991A (ja) | 2−ヒドロキシエストロゲン 3−グリコシドの製法 | |
JPH02290894A (ja) | 糖脂質の合成中間体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081108 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |