JPH07101915A - ４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法 - Google Patents
４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法Info
- Publication number
- JPH07101915A JPH07101915A JP24816093A JP24816093A JPH07101915A JP H07101915 A JPH07101915 A JP H07101915A JP 24816093 A JP24816093 A JP 24816093A JP 24816093 A JP24816093 A JP 24816093A JP H07101915 A JPH07101915 A JP H07101915A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reduction
- dimethoxytriphenylamine
- triamino
- producing
- organic solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産性の高い４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法を提供
する。 【構成】 ２，５−ジメトキシ−４，４′，４″−トリ
ニトロトリフェニルアミンを親水性有機溶媒の存在下に
還元する４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメト
キシトリフェニルアミンの製造法。
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法を提供
する。 【構成】 ２，５−ジメトキシ−４，４′，４″−トリ
ニトロトリフェニルアミンを親水性有機溶媒の存在下に
還元する４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメト
キシトリフェニルアミンの製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、染料や、感熱発色剤の
中間体としてあるいは樹脂の中間体として使用される
４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリ
フェニルアミン（以下、ＤＭＴＡと略す。）の製造法に
関するものである。
中間体としてあるいは樹脂の中間体として使用される
４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリ
フェニルアミン（以下、ＤＭＴＡと略す。）の製造法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的にアミン類の、製造法としては、
ニトロ化合物の還元による方法が知られている。還元方
法は多くの方法が知られているが酸性水溶液中で鉄触媒
で還元する方法が安価で工業的によく行われている。し
かしながら、ＤＭＴＡの効率的な製造法は従来知られて
いなかった。
ニトロ化合物の還元による方法が知られている。還元方
法は多くの方法が知られているが酸性水溶液中で鉄触媒
で還元する方法が安価で工業的によく行われている。し
かしながら、ＤＭＴＡの効率的な製造法は従来知られて
いなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は生産性の高い
ＤＭＴＡの製造法を提供することを目的とする。
ＤＭＴＡの製造法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、２，５−
ジメトキシ−４，４′，４″−トリニトロトリフェニル
アミン（以下、ＤＭＴＮと略す。）を親水性有機溶媒の
存在下に還元反応させるとＤＭＴＡが高収率で得られる
ことを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以
下のとおりである。 １． ２，５−ジメトキシ−４，４′，４″−トリニト
ロトリフェニルアミンを親水性有機溶媒の存在下に還元
することを特徴とする４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 ２． 還元を水素化還元、ヒドラジン還元および硫化ソ
ーダ還元から選択される少なくとも一方法で行うことを
特徴とする上記１記載の４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 ３． 親水性有機溶媒がメタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびジオキサンテトラヒドロフランから選択さ
れる少なくとも一種であることを特徴とする上記１又は
２記載の４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメト
キシトリフェニルアミンの製造法。
ジメトキシ−４，４′，４″−トリニトロトリフェニル
アミン（以下、ＤＭＴＮと略す。）を親水性有機溶媒の
存在下に還元反応させるとＤＭＴＡが高収率で得られる
ことを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以
下のとおりである。 １． ２，５−ジメトキシ−４，４′，４″−トリニト
ロトリフェニルアミンを親水性有機溶媒の存在下に還元
することを特徴とする４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 ２． 還元を水素化還元、ヒドラジン還元および硫化ソ
ーダ還元から選択される少なくとも一方法で行うことを
特徴とする上記１記載の４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 ３． 親水性有機溶媒がメタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびジオキサンテトラヒドロフランから選択さ
れる少なくとも一種であることを特徴とする上記１又は
２記載の４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメト
キシトリフェニルアミンの製造法。
【０００５】本発明に用いられるＤＭＴＮは、２，５−
ジメトキシニトロアニリンとハロゲン化ニトロベンゼン
をアルカリ物質の存在下に反応させることにより製造で
きる。ここで用いられるハロゲン化ニトロベンゼンとし
ては、Ｐ−フルオロニトロベンゼン、Ｐ−クロロニトロ
ベンゼン、Ｐ−ブロモニトロベンゼンおよびＰ−ヨード
ニトロベンゼン等があげられる。アルカリ性物質として
は、炭酸カリ、苛性カリ、苛性ソーダあるいは炭酸ソー
ダが使用できる。反応は、無溶媒でも進行するが極性溶
媒中で反応を行う方が好ましく、特にジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等
の溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は８０℃以上で
行うことが必要である。
ジメトキシニトロアニリンとハロゲン化ニトロベンゼン
をアルカリ物質の存在下に反応させることにより製造で
きる。ここで用いられるハロゲン化ニトロベンゼンとし
ては、Ｐ−フルオロニトロベンゼン、Ｐ−クロロニトロ
ベンゼン、Ｐ−ブロモニトロベンゼンおよびＰ−ヨード
ニトロベンゼン等があげられる。アルカリ性物質として
は、炭酸カリ、苛性カリ、苛性ソーダあるいは炭酸ソー
ダが使用できる。反応は、無溶媒でも進行するが極性溶
媒中で反応を行う方が好ましく、特にジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等
の溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は８０℃以上で
行うことが必要である。
【０００６】本発明に用いられる親水性有機溶媒とは水
によく混和する有機溶媒を言い、例えばジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、アセト
ン、メタノール、エタノール、アセトニトリルおよびテ
トラヒドロフラン等が挙げられる。これらは必要に応じ
て水と併用しても良い。収率よく目的物を得るには好ま
しくは、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノー
ル、エタノール、ジメチルホルムアミドおよび／または
ジメチルアセトアミドが用いられる。
によく混和する有機溶媒を言い、例えばジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、アセト
ン、メタノール、エタノール、アセトニトリルおよびテ
トラヒドロフラン等が挙げられる。これらは必要に応じ
て水と併用しても良い。収率よく目的物を得るには好ま
しくは、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノー
ル、エタノール、ジメチルホルムアミドおよび／または
ジメチルアセトアミドが用いられる。
【０００７】親水性有機溶媒の使用量は、ＤＮＴＮに対
し２倍量から１００倍量が用いられ、好ましくは５倍か
ら１０倍量が用いられる。本発明の還元方法は、上記親
水性有機溶媒中で行える還元方法であれば良いが、好ま
しくは水素化還元、ヒドラジン還元、硫化ソーダ還元が
用いられる。水素化還元で還元を行う場合は、常圧また
は加圧系で水素を導入し、必要に応じ、パラジウム、白
金、ニッケル等を主体とした触媒を用いて反応すること
が好ましい。反応温度は常温でも進行するが、必要に応
じ、その溶媒の沸点まで加熱しても良い。
し２倍量から１００倍量が用いられ、好ましくは５倍か
ら１０倍量が用いられる。本発明の還元方法は、上記親
水性有機溶媒中で行える還元方法であれば良いが、好ま
しくは水素化還元、ヒドラジン還元、硫化ソーダ還元が
用いられる。水素化還元で還元を行う場合は、常圧また
は加圧系で水素を導入し、必要に応じ、パラジウム、白
金、ニッケル等を主体とした触媒を用いて反応すること
が好ましい。反応温度は常温でも進行するが、必要に応
じ、その溶媒の沸点まで加熱しても良い。
【０００８】ヒドラジン還元で還元を行う場合は、前記
溶媒の他に、ヒドラジン水溶液を加え、必要に応じパラ
ジウム、白金、ニッケル、鉄を主体とする触媒を用いて
反応させることが好ましい。反応温度は、３０℃以上特
に４０℃から９０℃が好ましい。硫化ソーダ還元で還元
を行う場合は、前記溶媒に硫化ソーダ水溶液を加え、反
応させる事が好ましい。反応温度は３０℃以上特に４０
℃から９０℃が好ましい。
溶媒の他に、ヒドラジン水溶液を加え、必要に応じパラ
ジウム、白金、ニッケル、鉄を主体とする触媒を用いて
反応させることが好ましい。反応温度は、３０℃以上特
に４０℃から９０℃が好ましい。硫化ソーダ還元で還元
を行う場合は、前記溶媒に硫化ソーダ水溶液を加え、反
応させる事が好ましい。反応温度は３０℃以上特に４０
℃から９０℃が好ましい。
【０００９】生成するＤＭＴＡは、水、溶媒等で洗浄す
ることにより高純度で得られ、更に溶媒で再結晶または
塩酸酸性にしてカーボン脱色することにより容易に精製
することができる。
ることにより高純度で得られ、更に溶媒で再結晶または
塩酸酸性にしてカーボン脱色することにより容易に精製
することができる。
【００１０】
〈ＤＭＴＮの合成例〉温度計、撹拌機をそなえた５０ml
の反応器に２，５−ジメトキシアニリン４．９５ｇ、Ｐ
−フルオロニトロベンゼン７．５ｇ、炭酸カリ７．６
ｇ、ジメチルホルムアミド７．３ｇを仕込みトルエンで
共沸脱水を行いながら、１３２℃、１６時間反応を行っ
た。反応後、水およびトルエンを加え、加熱してトルエ
ン中に目的物を溶解して分液を行い、トルエン層を抜き
出した後、冷却して結晶を析出させた。冷却ろ過を行っ
た後、アルコール洗浄を行い乾燥を行ったところ黄色の
ＤＭＴＮの結晶９．４ｇを得た。融点は１７５．５〜１
７９℃であった。
の反応器に２，５−ジメトキシアニリン４．９５ｇ、Ｐ
−フルオロニトロベンゼン７．５ｇ、炭酸カリ７．６
ｇ、ジメチルホルムアミド７．３ｇを仕込みトルエンで
共沸脱水を行いながら、１３２℃、１６時間反応を行っ
た。反応後、水およびトルエンを加え、加熱してトルエ
ン中に目的物を溶解して分液を行い、トルエン層を抜き
出した後、冷却して結晶を析出させた。冷却ろ過を行っ
た後、アルコール洗浄を行い乾燥を行ったところ黄色の
ＤＭＴＮの結晶９．４ｇを得た。融点は１７５．５〜１
７９℃であった。
【００１１】
【実施例１】温度計、撹拌機をそなえた３リットルの反
応器にＤＭＴＮ１５０ｇ、ジオキサン２リットル、５％
パラジウムカーボン３ｇを仕込み、水素ガスを流しなが
ら３０℃で１８時間反応を行った。反応後濾過をして５
％パラジウムカーボンを除去した後、溶媒を濃縮して全
体を４００ｇにしたのち、２７℃に冷却して白紫色のＤ
ＭＴＡ結晶１００．４ｇを得た。
応器にＤＭＴＮ１５０ｇ、ジオキサン２リットル、５％
パラジウムカーボン３ｇを仕込み、水素ガスを流しなが
ら３０℃で１８時間反応を行った。反応後濾過をして５
％パラジウムカーボンを除去した後、溶媒を濃縮して全
体を４００ｇにしたのち、２７℃に冷却して白紫色のＤ
ＭＴＡ結晶１００．４ｇを得た。
【００１２】
【実施例２】温度計、撹拌機をそなえた２リットルの反
応器にＮ2 ガス気流中で１０％パラジウムカーボン１０
ｇ、エタノール１リットルを仕込みＤＭＴＮ４７．５ｇ
を添加溶解後、ヒドラジン水和物（ＮＨ2 ＮＨ2 ・Ｈ2
Ｏ）を４２．５ｍｌを添加すると発熱して５０℃まで上
昇した。そのまま３０分位撹拌後加温してリラックス下
で２時間反応した。反応後熱濾過してパラジウムカーボ
ンを除き、Ｎ2 ガスを封入後一夜放置後、析出してきた
結晶を濾過乾燥して白色のＤＭＴＡ３０ｇを得た。
応器にＮ2 ガス気流中で１０％パラジウムカーボン１０
ｇ、エタノール１リットルを仕込みＤＭＴＮ４７．５ｇ
を添加溶解後、ヒドラジン水和物（ＮＨ2 ＮＨ2 ・Ｈ2
Ｏ）を４２．５ｍｌを添加すると発熱して５０℃まで上
昇した。そのまま３０分位撹拌後加温してリラックス下
で２時間反応した。反応後熱濾過してパラジウムカーボ
ンを除き、Ｎ2 ガスを封入後一夜放置後、析出してきた
結晶を濾過乾燥して白色のＤＭＴＡ３０ｇを得た。
【００１３】
【実施例３】５００ｍｌのオートクレーブ中にＤＭＴＮ
２０ｇ、ジメチルフォルムアミド１００ｇを仕込みラネ
ニッケル１．０ｇを添加後、５０〜６０℃で水素還元を
行った。水素吸収がなくなった後ニッケルを濾過除去し
た。濾液に水を６００ｍｌ注入し、得られた結晶を濾
別、減圧乾燥を行ったところＤＭＴＡ１３ｇが得られ
た。
２０ｇ、ジメチルフォルムアミド１００ｇを仕込みラネ
ニッケル１．０ｇを添加後、５０〜６０℃で水素還元を
行った。水素吸収がなくなった後ニッケルを濾過除去し
た。濾液に水を６００ｍｌ注入し、得られた結晶を濾
別、減圧乾燥を行ったところＤＭＴＡ１３ｇが得られ
た。
【００１４】
【実施例４】温度計、撹拌機をそなえた４００ｍｌの反
応器に４５％Ｎａ2 Ｓ１１７ｇ、水１００ｍｌ、メタノ
ール１００ｍｌを加え７５〜８０℃でＤＭＴＮ２２ｇを
少量づつ加えた。そのまま８時間反応後、水２００ｍｌ
を加えて結晶を濾別し、メタノールおよび水で洗浄した
後、減圧乾燥したところＤＭＴＡの結晶１１．８ｇを得
た。
応器に４５％Ｎａ2 Ｓ１１７ｇ、水１００ｍｌ、メタノ
ール１００ｍｌを加え７５〜８０℃でＤＭＴＮ２２ｇを
少量づつ加えた。そのまま８時間反応後、水２００ｍｌ
を加えて結晶を濾別し、メタノールおよび水で洗浄した
後、減圧乾燥したところＤＭＴＡの結晶１１．８ｇを得
た。
【００１５】
【比較例１】温度計、攪拌機をそなえた１リットルの反
応器にＤＭＴＮ４０ｇ、水３００ｇ、鉄粉３０ｇ、塩化
アンモニウム２ｇを仕込み、７０〜８０℃で５時間反応
を行った。その結果、目的物のＤＭＴＮはほとんど得ら
れなかった。
応器にＤＭＴＮ４０ｇ、水３００ｇ、鉄粉３０ｇ、塩化
アンモニウム２ｇを仕込み、７０〜８０℃で５時間反応
を行った。その結果、目的物のＤＭＴＮはほとんど得ら
れなかった。
【００１６】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ＤＭＴＡを効率
よく製造することができる。
よく製造することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 ２，５−ジメトキシ−４，４′，４″−
トリニトロトリフェニルアミンを親水性有機溶媒の存在
下に還元する事を特徴とする４，４′，４″−トリアミ
ノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 - 【請求項２】 還元を水素化還元、ヒドラジン還元およ
び硫化ソーダ還元から選択される方法で行うことを特徴
とする請求項１記載の４，４′，４″−トリアミノ−
２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。 - 【請求項３】 親水性有機溶媒がメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドおよびジオキサンテトラヒドロフランか
ら選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求
項１又は２記載の４，４′，４″−トリアミノ−２，５
−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24816093A JP3471052B2 (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24816093A JP3471052B2 (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07101915A true JPH07101915A (ja) | 1995-04-18 |
| JP3471052B2 JP3471052B2 (ja) | 2003-11-25 |
Family
ID=17174119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24816093A Expired - Fee Related JP3471052B2 (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | ４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3471052B2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-04 JP JP24816093A patent/JP3471052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3471052B2 (ja) | 2003-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2811555A (en) | Reduction of 2-nitroso-5-diethylaminotoluene | |
| EP0253788B1 (en) | A method of preparing 5-amino salicyclic acid | |
| JP2904038B2 (ja) | ４，６−ジアミノレゾルシノールおよびその前駆体の製造方法 | |
| JPH07101915A (ja) | ４，４′，４″−トリアミノ−２，５−ジメトキシトリフェニルアミンの製造法 | |
| JPS60116656A (ja) | 純粋な３‐アセチルアミノ‐アニリンを製造する方法 | |
| JPS5855485A (ja) | グアニンの精製法 | |
| US4054586A (en) | Process for preparing 1-aminoanthraquinone having high purity | |
| JPH072742A (ja) | ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アニリン硫酸塩の新規製造法 | |
| JPH02193950A (ja) | ４，４’―ジニトロジフエニルアミンの製造方法 | |
| CN101168532B (zh) | 一种n-甲基哌嗪取代苯胺的合成方法 | |
| US5475140A (en) | Process for producing N,N-disubstituted p-phenylenediamine derivative sulfate | |
| CN114890953A (zh) | 一种2-氨甲基嘧啶盐酸盐的制备方法 | |
| JPS6157555A (ja) | ２‐ヒドロキシ‐５，６，７，８‐テトラヒドロカルバゾールの製法、２‐ヒドロキシ‐５，６，７，８‐テトラヒドロカルバゾールのアルカリ‐及びアルカリ土類塩及び該化合物を使用する方法 | |
| EP0745594A1 (en) | Process for producing 6-substituted 2(1h)-quinoxalinone | |
| US5169955A (en) | Process for producing 2-hydroxyquinoxaline derivatives | |
| JPS5832867A (ja) | 新規アリ−ルアゾピリミジン化合物 | |
| JPH1112238A (ja) | １−（β−ヒドロキシエチル）−２，５−ジアミノベンゼン又はその塩の製造法 | |
| JPS6075462A (ja) | Ν−アルキルデカヒドロイソキノリンの製造方法 | |
| JP2872444B2 (ja) | 銅化合物含有ビス（４−アミノフェニル）スルホン系化合物の精製方法 | |
| GB2033382A (en) | Production of N-(4'-Chloro-3- sulphamoyl-benzenesulphonyl)-N- methyl-2-aminomethyl-2-methyl tetrahydrofuran | |
| JPH01221356A (ja) | ３‐アミノ‐４‐トリフルオロメチル安息香酸およびその製造方法 | |
| CN116425642A (zh) | 2-甲氧基-4-氟-5-胺基苯酚的制备方法 | |
| JP3020415B2 (ja) | アミノベンザンスロン類の製造方法 | |
| JPS5831335B2 (ja) | ホゴサレタ ｐ− アミノチカンキガンユウ ｍ−トルイジンノセイホウ | |
| JPH03246266A (ja) | ３―アセチルアミノ―４―（３―メトキシフェノキシ）安息香酸の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030902 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100912 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |