JPH0699696B2 - オレフィンの水素化方法 - Google Patents

オレフィンの水素化方法

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JPH0699696B2
JPH0699696B2 JP62122367A JP12236787A JPH0699696B2 JP H0699696 B2 JPH0699696 B2 JP H0699696B2 JP 62122367 A JP62122367 A JP 62122367A JP 12236787 A JP12236787 A JP 12236787A JP H0699696 B2 JPH0699696 B2 JP H0699696B2
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
    • C10G67/00—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only
    • C10G67/02—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only plural serial stages only
    • C10G67/06—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only plural serial stages only including a sorption process as the refining step in the absence of hydrogen

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明はパラフィン系炭化水素と少量のオレフィン系炭
化水素との混合物からなる吸着分離プロセス用供給原料
を、そのオレフィン系炭化水素濃度が極めて低水準に減
少するよう処理する炭化水素転化方法に関する。特に本
発明はナフサ又はケロシン沸点範囲の炭化水素流を水素
化するための方法に関する。本発明の方法は総合的吸着
分離プロセスの原料予備処理工程で利用される。
［従来技術］ 炭化水素の水素化処理、すなわち水添は、最も基本的な
炭化水素転化プロセスの一つである。この処理は最新の
製油所及び多くの石油化学基地で実施されている。従っ
て、炭化水素の水素化に関しては数多くの文献がある。
適当な水素化触媒の製造と使用を記載したものの一例
は、米国特許第3,480,531号である。米国特許第4,97,90
9号もまた、本発明で使用できる触媒と水素化処理条件
を記載したものである。
水素化帯域への供給原料を水素と混合し、適当な操作条
件に維持された水素化触媒床に供給することは、当業界
で良く知られており、また標準的な操作様式でもある。
この反応器からの流出流は、次いで気−液分離帯域に通
常供給される。この分離帯域で除去された蒸気相流は、
プロセスから排除することもでき、また水素含有リサイ
クルガス流として、一部循環することもできる。気−液
分離帯域からの液相流は、水素化工程中のクラッキング
反応で生成された軽質炭化水素を除去し、同時に液相流
に溶解している水素を除去するために、ストリッピング
塔として操作される分留塔に典型的には供給される。あ
る場合には、この分留塔は必要ないこともある。また、
極めてマイルドな水素化が要求される場合には、供給原
料に化学量論量又はそれ以下の水素を混合し、気−液分
離帯域を必要としないことも知られている。
各種の化合物の吸着分離も、良く発達した商業的に実施
されるプロセスである。そうしたプロセスの代表例は、
米国特許第3,455,815号及び同第4,006,197号に見ること
ができる。これらにはモレキュラーシーブ型吸着化合物
を使用して、イソパラフィンとノルマルパラフィンの混
合物から、直鎖パラフィンを分離する方法が記載されて
いる。そこでの操作方法、条件、吸着剤及び供給物質
は、本発明のそれらと同様である。米国特許第4,436,53
3号も炭化水素混合物からノルマルパラフィンを連続的
に吸着分離する別の方法を教示している。
また、米国特許第3,392,113号は水素と混合状態で水素
精製反応器５を通過した炭化水素ライン２からノルマル
パラフィンを吸着分離することを教示している。反応器
からの流出流は気−液分離帯域８に供給され、この分離
帯域から回収される液相流はストリッピング塔14に供給
される。ストリッピング塔の正味の塔底流は、ライン63
を経て吸着分離工程に付される。
米国特許第4,568,452号は分留塔の中間点から液相の洗
浄油流を取り出し、これを水素精製帯域に供給して触媒
と水素に触媒させることを記載している。
［発明の要約］ 本発明は非常にオレフィン含量が少ない炭化水素流を生
成する水素化処理方法に関する。本発明は処理された生
成物流のオレフィン含量を低下させる現存の水素処理装
置に適用することができる。さらに、本発明は現存の水
素処理装置に於ける反応容器や圧縮機などの比較的高価
な装置の交換を余儀無くさせるような操作圧力の実質的
な増大に頼ることなく、オレフィン濃度を減少させるこ
とができる利点を有している。本発明は水素化処理帯域
のストリッピング塔の底から液体を除去し、これを付加
的な水素化反応器に供給する。全トラップアウトトレー
を利用することにより、液体のすべてを取り出すことが
でき、液体のすべてを処理できるよう第２の水素化反応
器に供給することができる。処理された液体は次いで好
ましくは塔底部に戻され、炭化水素流に水素が残存して
いればその少なくとも一部が分離される。
本発明の一具体例は次のような工程を含む水素化方法と
して特徴付けられる。すなわち、その方法は、C5以上の
パラフィン系炭化水素及びこれと炭素原子数が等しいオ
レフィン系炭化水素からなる供給原料と水素とを、固体
触媒床を含有し、水素化処理条件で操作される第１反応
帯域に供給すして水素とパラフィン系炭化水素と約0.05
モル％以下のオレフィン系炭化水素を含有する水素化処
理帯域流出流を生成させる工程と、水素化処理帯域流出
流をストリッピング塔に供給して水素を含む正味の塔頂
流とパラフィン系炭化水素を含む正味の塔底流とに分離
する工程と、このストリッピング塔内にある最下位の気
−液接触媒体より下位で、塔底部の液保留域より上位の
部位を流下する液相炭化水素の実質的にすべてを集め、
第１プロセス流としてストリッピング塔から取り出す工
程と、この第１プロセス流と水素を、水素化触媒床を有
し、水素化条件で操作される第２反応帯域に供給して水
素とパレフィン系炭化水素を含有する第２プロセス流を
生成させる工程と、この第２プロセス流をストリッピン
グ塔の液保留域に供給する工程と、オレフィン系炭化水
素量が約0.01モル％以下の正味の塔底流を生成物流とし
て取り出す工程を包含する。
［詳しい記述］ 先に引用した公知文献にも示されるように、適当な分留
塔でストリップされた後吸着分離帯域に供給される原料
を調製するために、水素化処理技術は過去に於いてもま
た現在でも利用されている。しかし、ある場合には吸着
分離プロセスに供給される原料のオレフィン含量を、水
素化処理帯域で得られるレベルよりもさらに低下させる
ことが得策であることが明らかになっている。オレフィ
ン濃度を減少させる能力の増大は、オレフィン選択性の
吸着剤を使用するうえで望ましく、最初の供給原料はオ
レフィン濃度が高くてもよい点で望ましい。最初の供給
原料のオレフィン含量をさらに低下させるためには、水
素化処理帯域内の操作条件をより苛酷にする必要があ
る。しかし、その条件は水素化処理装置の設計仕様を越
えるので、この装置に大幅で費用の嵩む改造を施さねば
ならない。
従って、本発明の目的の一つはオレフィン含有炭化水素
流の改良された水素化方法を提供することにある。そし
て本発明の特定な目的は、非ノルマル及びノルマルパラ
フィンの混合物からノルマルパラフィンを分離する吸着
分離プロセスへの供給原料について、そのオレフィン含
量を減少させる方法を提供することにある。本発明の方
法は本質的にC5以上の炭化水素を含有する如何なる原料
にも適用できるが、好ましい供給原料は、従って本発明
の生成物流である正味の塔底流は、比較的重質の炭化水
素である。好ましくは正味の塔底流と供給原料は、C11
〜C15炭化水素の混合物のようなC8以上の炭化水素を含
有する。
添付図面は本発明のプロセスフローダイアグラムを示
し、ここではケロシン沸点範囲の供給流がライン１か
ら、水素がライン３からそれぞれ水素化処理帯域１に供
給され、この帯域からの流出流はライン５を通り、塔５
でストリッピングされる。水素化処理帯域内では、イオ
ウ、窒素又は酸素含有化合物のような様々な汚染物が、
ストリッピングで容易に除去される化合物に分解ないし
は転化される。水素化処理帯域の他の主たる機能は、オ
レフィンを飽和させることである。ライン４のオフガス
流は水素と軽質成分を放出する。塔底の直ぐ上に於い
て、流下する液体はトラップアウトトレー８に集められ
る。このものはライン16に取り出されて水素化反応器19
に供給され、ライン20からストリッピング塔の基底に戻
される。水素化反応器19にはライン22から高純度水素流
も供給される。水素と液相炭化水素の混合物はライン18
を通って反応器に供給される。
水素化反応器はストリッピング塔６より高圧で操作させ
ることが好ましく、この反応器への液相供給物はポンプ
17で加圧される。反応器からの流出物は圧力調整バルブ
21でストリッピング塔の基準に降圧される。この圧力降
下はライン20を流れる流出流に溶解している過剰の水素
を放出させる。流出流から解放された水素はストリッピ
ング塔を上昇し、ライン７の軽質成分流の一部となる。
この軽質成分流はストリッピング塔の正味の塔頂流であ
り、これにはライン５及び20の液相流からの水素と、水
素化処理帯域、すなわち水素化反応器内での分解反応の
結果物たるメタン、エタン又はプロパン塔の軽質炭化水
素が含まれる。
若干の液相炭化水素はストリッピング部の底部の無孔の
トラップアウトトレー８の下に集められる。この収集帯
域に保留された物質はライン10から取り出され、ライン
12及び外部リボイラー９を経てリサイクルされる第１の
部分と、正味の塔底留分として除去される第２の部分と
に分割される。ライン12を流れる物質は塔６内で生起す
る分別蒸留に必要な蒸気を生成させるために一部蒸発せ
しめらるべきである。
ライン11の正味の塔底流は、オレフィン及び水素の含量
が非常に低いケロシン沸点範囲の炭化水素混合物であ
る。この液相流は吸着分離帯域13に供給されるが、この
帯域は好ましくはここの記載に従って操作される。つま
り、ライン11の混合物は、ノルマルパラフィンを優先的
に吸着し、イソパラフィン及び他の非ノルマルパラフィ
ンを排除する固体吸着物質の固定床と好ましくは接触せ
しめられる。次いで、ノルマルパラフィンは脱着剤を使
用して吸着剤から離脱させる。吸着されなかったイソパ
ラフィンと吸着されたノルマルパラフィンは、好ましく
は脱着剤成分から分離され、ライン14に比較的高純度の
ノルマルパラフィン流を、ライン15にイオspaラフィン
を得る。吸着分離帯域13への供給物は炭素数範囲の異な
る炭化水素の混合物であるので、二つの生成物流もそれ
ぞれ幾つかの炭化水素を含有し、ケロシン沸点範囲の供
給混合物と同じ炭素数を有する。好ましくは、ライン２
の供給物とライン11の供給物の沸点範囲は、予め選択し
た炭素数範囲のものだけが生成物流に存在するよう、比
較的狭い範囲に調節される。
ストリッピング塔に入る前の供給原料を処理する水素処
理帯域１は、ストリッピング塔から取り出される液体を
処理する水素化反応器19よりも苛酷な条件で操作され
る。水素化処理帯域は触媒の固定床、移動床又は流動床
等を有する一つ又はそれ以上の反応器を含むことができ
る。好ましくは、触媒の固定床を備えた単一の水素化処
理帯域からなり、触媒床を反応物が垂直に流れる水素化
処理帯域が使用される。水素化処理帯域内の反応帯域
は、約100psig（689kPag）〜約200psig（13790kPag）の
圧力で操作することができる。この反応帯域内の圧力は
1200psig（8266kPag）以下であることが好ましい。反応
帯域は約180℃〜約450℃の範囲の最高触媒床温度で操作
することができるが、好ましくは200〜400℃で操作され
る。反応器内の液空間速度は約0.2hr-1〜約10hr-1で変
更することができ、水素循環比は約200〜約8000標準立
方フィート／バレル（SCFB）（35.6〜1422m3/m3）の範
囲内にある。
「水素化処理帯域」には、所望の原料炭化水素と水素を
加熱昇圧するのに必要な装置と、反応器と、通常は一つ
又はそれ以上の気−液分離帯域である初期生成物分離帯
域と、反応物を加熱し、又は熱を回収するためにこの帯
域に一般に使用される熱交換器が包含される。水素化処
置帯域に採用される正確な操作条件は、供給原料の組
成、使用触媒の活性及び量その他に依存する。この帯域
の典型的な機能は、供給原料中の実質的にすべての硫黄
を硫化水素に転化し、窒素をアンモニアに転化し、オレ
フィン系及びジオレフィン系炭化水素を飽和することで
ある。もし、供給原料にかなりの量の芳香族炭化水素が
含まれている場合には、水素化処理帯域のもう一つの機
能は、これら化合物を非環式化合物に転化することであ
る。もし、本発明の方法が図面に示したような比較的高
純度のイソ及びノルマルパラフィンを生成するために採
用される場合は、芳香族化合物の大部分がライン２の供
給流の前駆体から、液−液抽出又は吸着分離によって除
去される。
水素化処理帯域はストリッピング塔に供給される液相流
出物を通常生成する。しかし、分留塔への供給物は部分
的に蒸発せしめられることも知られており、従って、ス
トリッピング塔に入る供給物も気相と液相の混合物であ
っても差支えない。本発明に必要な液体の取出し及び導
入を実施する上で必要な設計以外のストリッピング塔、
すなわち分留塔の設計及びその操作は、本発明の必須の
要件ではない。従って、通常のそして周知の分別蒸留装
置と蒸留条件が、本発明のストリッピング塔で使用可能
である。二つ又はそれ以上の集積分留塔を含む分留帯域
も採用できるが、好ましくは単一トレーの分留塔が採用
される。
図面に示すように、ストリッピング塔に入る供給物のす
べては、好ましくは正味の塔頂流と正味の塔底流とに分
離される。別法としては、塔の中間部位からサイドカッ
ト流を取り出すこともできる。分留塔は正の大気圧下で
好ましくは操作され、適当な操作圧力は約60kPag〜約14
00kPagの範囲にある。しかし、望むとあらばこの範囲外
の圧力で分留塔を操作することもできる。好ましいケロ
シン沸点範囲の供給原料をストリッピングするには、約
20枚のシーブトレーを有する分留塔の使用が適当であ
る。分留塔の操作温度及び操作圧力は、勿論分離される
物質の組成によって設定される。分留塔は塔底温度約25
0℃以下で操作されるが、約100℃以上の温度であること
が好ましい。
分留塔の最下位部分は、好ましくは液保留域として使用
され、当該部分は本発明方法の実施期間中液相の炭化水
素で満たされる。この液保留域の直ぐ上で、かつ分留塔
の気−液接触部材の下の部分に、図面のトレー８で示さ
れるトラップアウトトレーへの入口が位置している。好
ましくは、このトラップアウトトレーは塔内を下降する
液体を捕捉収集できるよう塔の断面に水平に伸びたメカ
ニカルシールである。トラップアウトトレー、すなわち
液収集手段は、リボイラーで生成した蒸気が分留塔の主
たる部分に上昇できる開口部を設けるために、塔の断面
全体にまで伸びていない。塔内に組入れて上記したよう
に下降液体を収集できる装置が数多くあることは、当業
者には理解できよう。トラップアウトトレーは塔の底部
に下向きに伸びる円筒状であることができる。トラップ
アウト装置、換言すれば液収集装置に液体を満たしてお
けば、これが水素化反応器に入る液体を昇圧するポンプ
のサージドラムとして機能するので好ましいが、液収集
装置への液の充満を確実にするには、一方向バルブを長
い収集装置に付設して塔底部の液体がトラップアウトト
レーに流れるようにすることができる。
液相物質は連続的にトラップアウトトレーからサイドカ
ット流として取り出される。この流れは外部から添加さ
れる水素と混合されて水素化反応器に送られる。好まし
くは、この流れは水素化反応器に送られる前にオンプで
昇圧される。このポンプはまた、固有の圧力降下にもか
かわらず、炭化水素を条件に合った割合で反応器に循環
させる機能をも備えている。昇圧の他の目的は水素化反
応器内での液相条件を確保し、液相炭化水素への水素の
溶解度を増大することにある。水素化反応器の操作圧力
の増大は水素化反応器の能力を増大させる。水素化反応
器で生起する僅かの飽和化は多少の熱を放出し、反応物
を僅かに加熱する。水素化反応器の流出物は、水素化反
応器出口とストリッピング塔の底部を結ぶラインに位置
する圧力調整バルブ又は固定オリフィスのような減圧装
置を好ましくは通過する。圧力降下は水素化反応器流出
物に残存する水素の放出を助長する。塔の底部に戻され
る液体は本当のストリッピングにかからないので、前記
の圧力降下による水素の放出は好ましい。
水素化反応器に供給する液体をストリッピング塔の塔底
からではなく「トラップアウトトレー」から抜出すこと
により、ストリッピング塔の底部に入る物質のすべてを
水素化反応器に供給することができる。もし、塔底液の
一部が水素化反応器に供給されると、塔底部に位置する
部分的に処理された液体の貯留部に、未処理の下降液体
が添加されることになるので、稀釈又はバックミキシン
グが起こる。そのために、水素化が本発明の方法ほど完
全には生起しない。そのようなことがないのが本発明の
利点である。
本発明の他の利点は、水素化反応器流出物に存在する軽
質成分及び水素を少なくとも部分的に除去するために、
ストリッピング塔の底部を利用することにある。このこ
とはストリッピング塔の正味の塔底流の水素含量を最少
にすることが望まれる場合に大いに有益である。この点
について付言すると、ストリッピング塔の正味の塔底流
を単に処理できるよう水素化反応器をライン11等に位置
させるよりも、本発明の方式の方が有利である。
水素化反応器の操作条件は水素化処理の割には一般に比
較的温和である。好ましくは、水素化反応器の操作温度
は、ストリッピング塔からサイドカット流が取り出され
る温度に設定される。好ましい操作温度範囲は120〜200
℃である。水素化反応器は約140〜約2100kPagの範囲の
圧力で操作される。好ましくは水素化反応器は約350〜
約700kPagの圧力で操作される。
上流側の水素化処理帯域と水素化反応器は、共に触媒床
を含有する。この二つの反応器には同種又は異種の触媒
が使用可能である。本発明に好適な触媒は、多くの製造
業者から商業的に入手できる。両方の帯域に使用して適
当な触媒は、水素化活性を有する少なくとも１種の金属
成分を、合成又は天然の適当な耐熱性無機担体物質に担
持させた触媒と記述することができる。担体物質の正確
な組成ないしはその製造法は、本発明にとって重要では
ないと考えられる。好ましい担体物質はアルミナである
が、シリカ、シリカとアルミナの混合物、ゼオライトの
ような多くの合成物等も担体物質として使用することが
できる。触媒の金属成分は、E.H.Sargent and Co.（版
権1964）の元素周期律表の第VIB族及び第VIII族の金属
から通常選ばれる。これらの中で最も普通に使用される
のは、ニッケル、パラジウム、白金、モリブデン及びタ
ングステンである。なかでもニッケルの使用が好まし
く、最終触媒組成物は約0.2〜約2.5wt％ニッケルを含有
する。金属成分は元素状で存在することができ、また酸
化物又は硫化物としても存在することができる。硫化触
媒の使用は金属成分の分割活性を最少にするので、水素
化帯域に使用するのに通常好ましい。水素化触媒及び水
素化処理触媒の調製及び使用に関するさらに詳しい情報
は、米国特許第4,497,909号及び同第4,568,655号から得
ることができる。水素化触媒の調製及び使用に関する米
国特許第3,480,531号は、特に本発明の参照文献とす
る。
本発明の一具体例では、水素化反応器の使用で処理され
たストリッピング塔の正味の塔底流が吸着分離帯域に供
給される。選択的吸着剤を使用して各種の炭化水素系化
合物を分離することは、石油工業、化学工業及び石油化
学工業で広く実施されている。吸着は分留等の他の手段
では同一化合物を分離することが困難である場合、又は
費用がかかる場合によく利用される。そうした吸着分離
プロセスの例としては、キシレン混合物からのエチルベ
ンゼンの分離、C8芳香族混合物からのパラキシレンのよ
うな特定なキシレン異性体の分離、グルコース及びフラ
クトースのような２種以上の糖混合物からのグルコース
のような単一糖の分離、非環式パラフィンからの非環式
オレフィンの分離及びイソパラフィンからのノルマルパ
ラフィンの分離等が含まれる。選択的に吸着される物質
の分子当りに炭素原子数は、非選択的に吸着される物質
のそれと通常同じであり、両物質は非常に近似した沸点
を持つ。これが分別蒸留による分離を非常に困難にして
いる理由である。吸着分離の極めて普通の応用例は、２
種以上の炭化水素を含む沸点範囲の広い混合物から特定
な炭化水素を回収することである。この一例はC10〜C14
イソパラフィンを含有する混合物からC10〜C14ノルマル
パラフィンを分離する例である。
吸着分離プロセスは様々な操作技術を使用して実施する
ことができる。例えば、吸着剤は固定床として保持する
こともできれば、移動床として吸着帯域を移動すること
もできる。さらに、吸着剤床を疑似移動床とする技法を
採用することもできる。この場合、吸着分離帯域は所望
の化合物を収集するために使用する１個以上の吸着剤床
を有する単純なスウィングベット方式からなり、先に使
用された吸着剤床は脱着剤を使用して再生するか、ある
いは昇温、降圧又はこれらを組合せた通常の再生技術で
再生する。吸着分離帯域の操作に関するその他のバリエ
ーションは、吸着剤床を気相又は液相で操作できるか否
かに帰着する。液相法が好ましい。
好ましい疑似移動床方式に於ける吸着分離帯域の好まし
い構成は、先に引用した米国特許第3,392,113号、第3,4
55,815号及び第4,006,197号に詳しく記載されている。
これらを本発明の参考文献とする。これらの文献はノル
マルパラフィンからイソパラフィンと芳香族のような非
ノルマルパラフィンを分離する際に使用して適当な吸着
剤と分離方法と適当な操作条件を記載する。好ましい操
作方法に於ける吸着技術の情報は、米国特許第3,617,50
4号、同第4,133,842号、同じく第4,434,051号から得る
ことができる。ストリッピング塔の塔底流に存在するイ
ソパラフィン又はノルマルパラフィンを回収するのに使
用できる疑似移動床吸着分離の全く別のタイプは、米国
特許第4,402,832号及び米国特許第4,498,991号に記載さ
れている。この方法は好ましい吸着分離技術が吸着剤を
流体の流れに対して疑似向流移動させるものであるの
で、流体の流れに関して吸着剤を連続向流移動するよう
に疑態させたものである。
分離工程で使用される吸着剤含有室の好ましい操作条件
は、25〜約225℃の温度と大気圧〜約4000kPagの圧力を
包含する。圧力は吸着分離プロセスのすべての点で液相
条件を維持できるに充分なよう通常設定される。イソパ
ラフィン系炭化水素からノルマルパラフィン系炭化水素
を分離するのに好ましい吸着剤は、ユニオンカーバイド
のリンデデビィジョンで製造される5Aモレキュラーシー
ブのような比較的均一な約５オングストロームの細孔径
を有している。先に引用した米国特許第4,436,533号
は、タイプ5Aモレキュラーシーブを使用して圧力ほぼ46
9kPg、温度約349℃の気相条件下に、C11〜C14のケロシ
ン流をノルマルパラフィン含有吸着質と非ノルマルパラ
フィン含有ラフィネートとに分離する気相分離を記載す
る。
上流側の水素化処理操作のために、ストリッピング塔に
送られる水素処理帯域流出流は、比較的オレフィン含量
が低い。通常、この流れは0.2モル％以下のオレフィン
を含有する。水素化処理帯域流出流は約0.05モル％以下
のオレフィンを含有することができる。本発明の方法
は、ストリッピング塔への供給流（水素化処理帯域流出
流）の1/5以下にオレフィン含量が低下したストリッピ
ング塔塔底流を与えるものである。ストリッピング塔塔
底流のオレフィン含量が0.05モル％以下であることは好
ましく、これが0.002モル％以下であることはさらに好
ましい。吸着分離帯域に送られるもののオレフィン含量
が低下することは、当該帯域で使用される吸着剤の寿命
を引伸ばす。
従って、本発明の一具体例は、３成分とも炭素数が等し
い第１のC5以上のパラフィン系炭化水素と第２のパラフ
ィン系炭化水素とオレフィン系炭水素を含む供給原料
を、水素と共に、固体触媒床を有し、水素化処理条件に
保持された第１反応帯域に供給して、水素と前記のパラ
フィン系炭化水素と軽質副生炭化水素と約0.02モル％以
下のオレフィン系炭化水素を含む水素化処理帯域流出流
を生成させ；この水素化処理帯域流出流をストリッピン
グ塔に供給して水素を含む正味の塔頂流と、パラフィン
系炭化水素を含む正味の塔底流に分離し；塔内最下位に
ある気−液接触媒体より下位で塔底部にある液保留域よ
り上位の部位より、塔内を流下する液相炭化水素の実質
的にすべてを、第１プロセス流として取り出し；第１プ
ロセス流と水素を、水素化触媒床を有して水素化条件で
運転される第２反応帯域に供給して、水素とパラフィン
系炭化水素を含む第２プロセス流を生成させ；第２プロ
セス流をストリッピング塔の液保留域に供給し；そして
前記の正味の塔底流を吸着分離帯域に供給し、吸着分離
条件下に塔底流を形状選択性の吸着剤床に接触させて、
第１のパラフィン系炭化水素に富んだ第３プロセス流
と、第２のパラフィン系炭化水素に富んだ第４プロセス
流を生成させ、第３及び第４のプロセス流を生成物流と
して取り出す一連の工程からなる方法として記述するこ
とができる。好ましくは、第３プロセス流はイソパラフ
ィン系炭化水素に富み、第４プロセス流はノルマルパラ
フィン系炭化水素に富む。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明方法のプロセスフローダイアグラムであ
る。 1;水素化処理帯域、6;ストリッピング塔 8;トラップアウトトレー、9;リボイラー 13;吸着分離帯域、19;水素化反応器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−79202（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−240792（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−117585（ＪＰ，Ａ)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ） C5以上のパラフィン系炭化水素
    と、同じ炭素数のオレフィン系炭化水素を含む供給原料
    と水素を、689〜13790kPag、180〜450℃で水素化処理条
    件に保持されて固体水素処理触媒床を有する第１反応帯
    域に供給し、前記のパラフィン系炭化水素と0.05モル％
    以下のオレフィン系炭化水素と水素と、前記のパラフィ
    ン系炭化水素より炭素数が少ない軽質の副生炭化水素か
    らなる水素化処理帯域流出流を生成させ、 （ｂ） この水素化処理帯域流出流を分留塔に供給して
    60〜1400kPag、250℃以下で前記のパラフィン系炭化水
    素を含む正味の塔底流と、水素及び前記の副生炭化水素
    を含む正味の塔頂流とに分離し、 （ｃ） 前記分留塔底部にある液保留域の上位の部位か
    ら、前記のパラフィン系炭化水素と0.05モル％以下のオ
    レフィン系炭化水素とを含むサイドカット流を、前記部
    位を流下する実質的にすべての液体と等しい流速で取り
    出し、 （ｄ） このサイドカット流と水素を、水素化触媒床を
    有し、パラフィン系炭化水素と水素を含有する反応帯域
    流出流が生成されるように選択された140〜2100kPag、1
    20〜200℃のオレフィン水素化条件で運転される第２反
    応帯域に供給し、 （ｅ） この反応帯域流出流を分留塔の液保留域に供給
    し、そして （ｆ） 正味の塔底流を生成物流として取り出す、 の各工程を含む前記の供給原料の水素化方法。
  2. 【請求項２】水素化処理帯域流出流のオレフィン系炭化
    水素の濃度が約0.02モル％以下である特許請求の範囲１
    記載の方法。
  3. 【請求項３】供給原料がナフサ沸点範囲の炭化水素混合
    物である特許請求の範囲１記載の方法。
  4. 【請求項４】供給原料がケロシン沸点範囲の炭化水素混
    合物である特許請求の範囲１記載の方法。
  5. 【請求項５】（ａ） ３成分とも炭素数が等しい第１の
    C5以上のパラフィン系炭化水素と第２のパラフィン系炭
    化水素とオレフィン系炭化水素を含む供給原料を、水素
    と共に、固体触媒床を有し、689〜13790kPag、180〜450
    ℃の水素化処理条件に保持された第１反応帯域に供給し
    て、水素と前記のパラフィン系炭化水素と軽質副生炭化
    水素と約0.02モル％以下のオレフィン系炭化水素を含む
    水素化処理帯域流出流を生成させ、 （ｂ） この水素化処理帯域流出流をストリッピング塔
    に供給して60〜1400kPag、250℃以下の条件で軽質副生
    炭化水素と水素を含む正味の塔頂流と、第１及び第２の
    パラフィン系炭化水素を含む正味の塔底流に分離し、 （ｃ） 塔内最下位にある気−液接触媒体より下位で塔
    底部にある液保留域より上位の部位より、塔内を流下す
    る液相炭化水素の実質的にすべてを、第１プロセス流と
    して取り出し、 （ｄ） 第１プロセス流と水素を、水素化触媒床を有し
    て140〜2100kPag、120〜200℃のオレフィン水素化条件
    で運転される第２反応帯域に供給して、水素とパラフィ
    ン系炭化水素を含む第２プロセス流を生成させ、 （ｅ） 第２プロセス流をストリッピング塔の液保留域
    に供給し、そして （ｆ） 前記の正味の塔底流を吸着分離帯域に供給し、
    大気圧〜4000kPag、25〜225℃の吸着分離条件下に塔底
    流を形状選択性でオレフィン選択性の吸着剤床に接触さ
    せて、第１パラフィン系炭化水素に富んだ第３プロセス
    流と、第２のパラフィン系炭化水素に富んだ第４プロセ
    ス流を生成させ、第３及び第４プロセス流を生成物流と
    して取り出す、 の各工程を含む前記の供給原料の分離方法。
  6. 【請求項６】正味の塔底流がC8以上の炭化水素を含む特
    許請求の範囲５記載の方法。
  7. 【請求項７】正味の塔底流がC11〜C15以上の炭化水素混
    合物である特許請求の範囲５記載の方法。
  8. 【請求項８】第１反応帯域が8266KPag以下の圧力で運転
    される特許請求の範囲５記載の方法。
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