JPH0689811A - 薄型インダクタ／トランスおよびその製造方法 - Google Patents
薄型インダクタ／トランスおよびその製造方法Info
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- JPH0689811A JPH0689811A JP4238700A JP23870092A JPH0689811A JP H0689811 A JPH0689811 A JP H0689811A JP 4238700 A JP4238700 A JP 4238700A JP 23870092 A JP23870092 A JP 23870092A JP H0689811 A JPH0689811 A JP H0689811A
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- ceramic
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- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、薄型インダクタ／トランスにおい
て、スパイラル状コイルを施したセラミックス基板と軟
質磁性酸化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物
複合体層を設けることにより、焼成時に、軟質磁性酸化
物膜が剥離せず、クラックの発生のない薄型インダクタ
／トランスおよびその製造方法を提供する。 【構成】 薄型インダクタ／トランスにおいて、セラミ
ックス基板上に、スパイラル状平面コイル、セラミック
ス・軟質磁性酸化物複合体、軟質磁性酸化物体を積層す
ることから成る。セラミックス・軟質磁性酸化物複合体
は、セラミックス／軟質磁性酸化物の混合比が重量比で
４０〜６０％とするのがよい。 【効果】 本発明では、焼成時に生じるセラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の間の収縮率の差による剥離やク
ラックを防止することができ、歩留まりを向上できる。
て、スパイラル状コイルを施したセラミックス基板と軟
質磁性酸化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物
複合体層を設けることにより、焼成時に、軟質磁性酸化
物膜が剥離せず、クラックの発生のない薄型インダクタ
／トランスおよびその製造方法を提供する。 【構成】 薄型インダクタ／トランスにおいて、セラミ
ックス基板上に、スパイラル状平面コイル、セラミック
ス・軟質磁性酸化物複合体、軟質磁性酸化物体を積層す
ることから成る。セラミックス・軟質磁性酸化物複合体
は、セラミックス／軟質磁性酸化物の混合比が重量比で
４０〜６０％とするのがよい。 【効果】 本発明では、焼成時に生じるセラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の間の収縮率の差による剥離やク
ラックを防止することができ、歩留まりを向上できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電源や信号処理用回路
の部品として使用される薄型インダクタ／トランスおよ
びその製造方法に関するものである。
の部品として使用される薄型インダクタ／トランスおよ
びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子機器の小型，薄型化要求に伴い、電
源や信号処理に用いるインダクタ、トランス等の磁性部
品の小型，薄型化も進められている。焼結フェライトコ
アの巻線を施した巻線方式のインダクタ／トランスは小
型化に限界があるため、巻線の代わりに平面コイルを用
いる方式の研究が進められており、平面コイルと磁性膜
を組み合わせてなる種々の薄型のインダクタやトランス
が提案されている。例えば、スパイラル状の平面コイル
を軟質磁性酸化物膜で挟んだ構造のインダクタが知られ
ている。ここで、スパイラル状の平面コイルは、セラミ
ックス基板の両面に設けられ、スルーホールを介して電
気的に接続されている。平面コイルを複数設けることに
より、トランスが作製できる。前記薄型インダクタ／ト
ランスは、セラミックスのグリーンシートにスパイラル
状のコイルをスクリーン印刷し、軟質磁性酸化物のグリ
ーンシートをのせて、焼成することにより作製される。
源や信号処理に用いるインダクタ、トランス等の磁性部
品の小型，薄型化も進められている。焼結フェライトコ
アの巻線を施した巻線方式のインダクタ／トランスは小
型化に限界があるため、巻線の代わりに平面コイルを用
いる方式の研究が進められており、平面コイルと磁性膜
を組み合わせてなる種々の薄型のインダクタやトランス
が提案されている。例えば、スパイラル状の平面コイル
を軟質磁性酸化物膜で挟んだ構造のインダクタが知られ
ている。ここで、スパイラル状の平面コイルは、セラミ
ックス基板の両面に設けられ、スルーホールを介して電
気的に接続されている。平面コイルを複数設けることに
より、トランスが作製できる。前記薄型インダクタ／ト
ランスは、セラミックスのグリーンシートにスパイラル
状のコイルをスクリーン印刷し、軟質磁性酸化物のグリ
ーンシートをのせて、焼成することにより作製される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の薄型インダクタ
／トランスでは、スパイラル状コイルを設けたセラミッ
クス基板に直接軟質磁性酸化物膜を積層した構造であっ
た。このような構造では、セラミックスのグリーンシー
トと軟質磁性酸化物膜のグリーンシートの収縮率が大き
く異なるため、焼成時に、セラミックス基板から軟質磁
性酸化物膜が剥離したり、膜にクラックが発生した。
／トランスでは、スパイラル状コイルを設けたセラミッ
クス基板に直接軟質磁性酸化物膜を積層した構造であっ
た。このような構造では、セラミックスのグリーンシー
トと軟質磁性酸化物膜のグリーンシートの収縮率が大き
く異なるため、焼成時に、セラミックス基板から軟質磁
性酸化物膜が剥離したり、膜にクラックが発生した。
【０００４】本発明は、上記課題を解決するために創案
されたものであり、焼成時に、軟質磁性酸化物膜が剥離
せず、クラックの発生のない薄型インダクタ／トランス
およびその製造方法を提供することを目的とする。
されたものであり、焼成時に、軟質磁性酸化物膜が剥離
せず、クラックの発生のない薄型インダクタ／トランス
およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の薄型インダクタ／トランスでは、スパイラ
ル状平面コイルを施したセラミックス基板と軟質磁性酸
化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層
を設ける。セラミックス・軟質磁性酸化物複合体におい
ては、セラミックス／軟質磁性酸化物の混合比が重量比
で４０〜６０％とするのがよく、また、セラミックス・
軟質磁性酸化物複合体に用いるセラミックスと軟質磁性
酸化物は、それぞれ、薄型インダクタを構成するセラミ
ックス基板と軟質磁性酸化物膜の組成系と同じ組成系を
用いるのが好ましい。
に、本発明の薄型インダクタ／トランスでは、スパイラ
ル状平面コイルを施したセラミックス基板と軟質磁性酸
化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層
を設ける。セラミックス・軟質磁性酸化物複合体におい
ては、セラミックス／軟質磁性酸化物の混合比が重量比
で４０〜６０％とするのがよく、また、セラミックス・
軟質磁性酸化物複合体に用いるセラミックスと軟質磁性
酸化物は、それぞれ、薄型インダクタを構成するセラミ
ックス基板と軟質磁性酸化物膜の組成系と同じ組成系を
用いるのが好ましい。
【０００６】軟質磁性酸化物膜およびセラミックス・軟
質磁性酸化物複合体に用いられる軟質磁性酸化物として
は、例えば、Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｎｉ−Ｃｕ
系、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系等のスピネル系フェライト、Ａ
ｌ置換ガーネット、Ｇｄ−置換ガーネット等のガーネッ
ト系フェライトが挙げられる。
質磁性酸化物複合体に用いられる軟質磁性酸化物として
は、例えば、Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｎｉ−Ｃｕ
系、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系等のスピネル系フェライト、Ａ
ｌ置換ガーネット、Ｇｄ−置換ガーネット等のガーネッ
ト系フェライトが挙げられる。
【０００７】セラミックス基板およびセラミックス・軟
質磁性酸化物複合体に用いられるセラミックスとして
は、例えば、アルミナ系、シリカ系、ガラスセラミック
ス系、ジルコニア系、コーディエライト系、窒化アルミ
系等のセラミックスが挙げられる。
質磁性酸化物複合体に用いられるセラミックスとして
は、例えば、アルミナ系、シリカ系、ガラスセラミック
ス系、ジルコニア系、コーディエライト系、窒化アルミ
系等のセラミックスが挙げられる。
【０００８】スパイラル状コイルを施したセラミックス
基板と軟質磁性酸化物膜の間に設けるセラミックス・軟
質磁性酸化物複合体においては、セラミックス／軟質磁
性酸化物の混合比が重量比で４０〜６０％の範囲が望ま
しい。４０％未満では、焼成時において、軟質磁性酸化
物体のグリーンシートとセラミックス・軟質磁性酸化物
複合体のグリーンシートの収縮率の差が大きくなり、剥
がれやクラック等が発生する。６０％を超えると、焼成
時において、セラミックス基板のグリーンシートとセラ
ミックス・軟質磁性酸化物複合体のグリーンシートの収
縮率の差が大きくなり、剥がれやクラック等が発生す
る。
基板と軟質磁性酸化物膜の間に設けるセラミックス・軟
質磁性酸化物複合体においては、セラミックス／軟質磁
性酸化物の混合比が重量比で４０〜６０％の範囲が望ま
しい。４０％未満では、焼成時において、軟質磁性酸化
物体のグリーンシートとセラミックス・軟質磁性酸化物
複合体のグリーンシートの収縮率の差が大きくなり、剥
がれやクラック等が発生する。６０％を超えると、焼成
時において、セラミックス基板のグリーンシートとセラ
ミックス・軟質磁性酸化物複合体のグリーンシートの収
縮率の差が大きくなり、剥がれやクラック等が発生す
る。
【０００９】本発明の薄型インダクタの基本構造の一例
を、図１に示した。図において１はセラミックス基板、
２ａ，２ｂはスパイラル状コイル、３はスルーホール、
４ａ，４ｂはセラミックス・軟質磁性酸化物複合体層、
５ａ，５ｂは軟質磁性酸化物層、６ａ，６ｂは端子であ
る。スパイラル状平面コイル２ａ，２ｂは、インダクタ
ンス、直流重畳特性、サイズ等に応じて、電気的に直列
に、縦および横に、配置することが可能である。スパイ
ラル状平面コイルを並列的に複数設けることにより、ト
ランスを作製できる。
を、図１に示した。図において１はセラミックス基板、
２ａ，２ｂはスパイラル状コイル、３はスルーホール、
４ａ，４ｂはセラミックス・軟質磁性酸化物複合体層、
５ａ，５ｂは軟質磁性酸化物層、６ａ，６ｂは端子であ
る。スパイラル状平面コイル２ａ，２ｂは、インダクタ
ンス、直流重畳特性、サイズ等に応じて、電気的に直列
に、縦および横に、配置することが可能である。スパイ
ラル状平面コイルを並列的に複数設けることにより、ト
ランスを作製できる。
【００１０】本発明の薄型インダクタ／トランスは、ス
パイラル状コイルをセラミックス基板用グリーンシート
上にスクリーン印刷した後、セラミックス粒子と軟質磁
性酸化物粒子から成るゾルを用いてセラミックス・軟質
磁性酸化物複合体層をスクリーン印刷し、この上に軟質
磁性酸化物体のグリーンシートを積層し、焼成して製造
できる。または、スパイラル状コイルをセラミックス基
板用グリーンシートにスクリーン印刷し、この上にセラ
ミックス・軟質磁性酸化物複合体のグリーンシートおよ
び軟質磁性酸化物体のグリーンシートを積層し、焼成し
て製造できる。
パイラル状コイルをセラミックス基板用グリーンシート
上にスクリーン印刷した後、セラミックス粒子と軟質磁
性酸化物粒子から成るゾルを用いてセラミックス・軟質
磁性酸化物複合体層をスクリーン印刷し、この上に軟質
磁性酸化物体のグリーンシートを積層し、焼成して製造
できる。または、スパイラル状コイルをセラミックス基
板用グリーンシートにスクリーン印刷し、この上にセラ
ミックス・軟質磁性酸化物複合体のグリーンシートおよ
び軟質磁性酸化物体のグリーンシートを積層し、焼成し
て製造できる。
【００１１】本発明で使用されるグリーンシートは、無
機粉末（セラミックス粉末、軟質磁性酸化物粉末、セラ
ミックスと軟質磁性酸化物の混合粉末）を有機結合剤、
溶剤、可塑剤、湿潤剤等とともに混練して調製したスラ
リーを、ドクターブレード法等によってシート状に成形
し、乾燥して作製される。本発明で使用されるセラミッ
クス粒子と軟質磁性酸化物粒子から成るゾルは、金属ア
ルコキシド、アセチルアセトナート、硝酸塩、有機酸塩
等の加水分解によるゾル・ゲル法で作製される。
機粉末（セラミックス粉末、軟質磁性酸化物粉末、セラ
ミックスと軟質磁性酸化物の混合粉末）を有機結合剤、
溶剤、可塑剤、湿潤剤等とともに混練して調製したスラ
リーを、ドクターブレード法等によってシート状に成形
し、乾燥して作製される。本発明で使用されるセラミッ
クス粒子と軟質磁性酸化物粒子から成るゾルは、金属ア
ルコキシド、アセチルアセトナート、硝酸塩、有機酸塩
等の加水分解によるゾル・ゲル法で作製される。
【００１２】
【作用】本発明の薄型インダクタ／トランスによれば、
スパイラル状コイルを施したセラミックス基板と軟質磁
性酸化物膜の間にセラミックス・軟質磁性酸化物複合体
層を設けることにより、焼成時におけるセラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の大きな収縮率差で生じる剥がれ
やクラックを防ぐことができる。これは、セラミックス
・軟質磁性酸化物複合体層の収縮率が、セラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の収縮率の中間であるためによる
ものである。
スパイラル状コイルを施したセラミックス基板と軟質磁
性酸化物膜の間にセラミックス・軟質磁性酸化物複合体
層を設けることにより、焼成時におけるセラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の大きな収縮率差で生じる剥がれ
やクラックを防ぐことができる。これは、セラミックス
・軟質磁性酸化物複合体層の収縮率が、セラミックス基
板と軟質磁性酸化物膜の収縮率の中間であるためによる
ものである。
【００１３】
【実施例】本発明における薄型インダクタ／トランスお
よびその製造方法を以下の実施例によって具体的に説明
する。ただし、本発明は、これらの実施例のみに限定さ
れるものではない。
よびその製造方法を以下の実施例によって具体的に説明
する。ただし、本発明は、これらの実施例のみに限定さ
れるものではない。
【００１４】〔実施例１〕ガラスセラミックスのグリー
ンシートにスルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐ
ｄペーストを用いてスパイラル状の平面コイルをスクリ
ーン印刷した。スパイラル状の平面コイル構造は、スパ
イラル数３８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５
μｍ、コイル厚さ１０μｍである。前記グリーンシート
の上に、Ｓｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ａｌのアルコキシドを加水分
解して調製したセラミックス粒子およびＮｉ−Ｃｕ−Ｚ
ｎ系フェライト粒子の混合粒子（セラミックス／フェラ
イトの重量比：４０％）から成るゾルを１３mm×１３mm
の正方形状に厚さ１０μｍでスクリーン印刷した。前記
セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層を施した上に、
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系フェライトのグリーンシートを積層
し、焼成した。
ンシートにスルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐ
ｄペーストを用いてスパイラル状の平面コイルをスクリ
ーン印刷した。スパイラル状の平面コイル構造は、スパ
イラル数３８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５
μｍ、コイル厚さ１０μｍである。前記グリーンシート
の上に、Ｓｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ａｌのアルコキシドを加水分
解して調製したセラミックス粒子およびＮｉ−Ｃｕ−Ｚ
ｎ系フェライト粒子の混合粒子（セラミックス／フェラ
イトの重量比：４０％）から成るゾルを１３mm×１３mm
の正方形状に厚さ１０μｍでスクリーン印刷した。前記
セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層を施した上に、
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系フェライトのグリーンシートを積層
し、焼成した。
【００１５】得られたインダクタには、剥離やクラック
は見られず、以下のようなインダクタ特性を示した。 インダクタンス測定値：４５０〜５００μＨ（５００kH
z) 〔実施例２〕ガラスセラミックスのグリーンシートにス
ルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐｄペーストを
用いてスパイラル状の平面コイルをスクリーン印刷し
た。スパイラル状の平面コイル構造は、スパイラル数３
８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５μｍ、コイ
ル厚さ１０μｍである。前記グリーンシートの上に、ガ
ラスセラミックス粒子とＮｉ−Ｚｎ系フェライト粒子か
ら成るグリーンシート（セラミックス／フェライトの重
量比：６０％）を積層し、さらに、Ｎｉ−Ｚｎ系フェラ
イトのグリーンシートを積層し、焼成した。
は見られず、以下のようなインダクタ特性を示した。 インダクタンス測定値：４５０〜５００μＨ（５００kH
z) 〔実施例２〕ガラスセラミックスのグリーンシートにス
ルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐｄペーストを
用いてスパイラル状の平面コイルをスクリーン印刷し
た。スパイラル状の平面コイル構造は、スパイラル数３
８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５μｍ、コイ
ル厚さ１０μｍである。前記グリーンシートの上に、ガ
ラスセラミックス粒子とＮｉ−Ｚｎ系フェライト粒子か
ら成るグリーンシート（セラミックス／フェライトの重
量比：６０％）を積層し、さらに、Ｎｉ−Ｚｎ系フェラ
イトのグリーンシートを積層し、焼成した。
【００１６】得られたインダクタには、剥離やクラック
は見られず、以下のようなインダクタ特性を示した。 インダクタンス測定値：４００〜４５０μＨ（５００kH
z) 〔比較例１〕ガラスセラミックスのグリーンシートにス
ルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐｄペーストを
用いてスパイラル状の平面コイルをスクリーン印刷し
た。スパイラル状の平面コイル構造は、スパイラル数３
８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５μｍ、コイ
ル厚さ１０μｍである。前記グリーンシートの上に、Ｎ
ｉ−Ｚｎ系フェライトのグリーンシートを積層し、焼成
した。焼成後、セラミックス基板とフェライト膜の間で
剥離がみられ、フェライト膜にクラックが生じた。これ
によって、コイルが断線し、インダクタ特性は測定でき
なかった。
は見られず、以下のようなインダクタ特性を示した。 インダクタンス測定値：４００〜４５０μＨ（５００kH
z) 〔比較例１〕ガラスセラミックスのグリーンシートにス
ルーホールを設け、この両面に、Ａｇ／Ｐｄペーストを
用いてスパイラル状の平面コイルをスクリーン印刷し
た。スパイラル状の平面コイル構造は、スパイラル数３
８、コイル辺長１２mm、コイル幅・間隔７５μｍ、コイ
ル厚さ１０μｍである。前記グリーンシートの上に、Ｎ
ｉ−Ｚｎ系フェライトのグリーンシートを積層し、焼成
した。焼成後、セラミックス基板とフェライト膜の間で
剥離がみられ、フェライト膜にクラックが生じた。これ
によって、コイルが断線し、インダクタ特性は測定でき
なかった。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、薄型イン
ダクタ／トランスにおいて、スパイラル状コイルを施し
たセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間に、セラミ
ックス・軟質磁性酸化物複合体層を設けることにより、
焼成時に生じるセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の
間の収縮率の差による剥離やクラックを防止することが
でき、歩留まりを向上できる。
ダクタ／トランスにおいて、スパイラル状コイルを施し
たセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間に、セラミ
ックス・軟質磁性酸化物複合体層を設けることにより、
焼成時に生じるセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の
間の収縮率の差による剥離やクラックを防止することが
でき、歩留まりを向上できる。
【図１】本発明の薄型インダクタ／トランスの構造例で
あって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）図のＡ−Ａ断
面図である。
あって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）図のＡ−Ａ断
面図である。
１ セラミックス基板 ２ａ，２ｂ スパイラル状コイル ３ スルーホール ４ａ，４ｂ セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層 ５ａ，５ｂ 軟質磁性酸化物層 ６ａ，６ｂ 端子
Claims (4)
- 【請求項１】 セラミックス基板上に、スパイラル状平
面コイル、軟質磁性酸化物体を積層することから成る薄
型インダクタ／トランスにおいて、スパイラル状平面コ
イルを施したセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間
に、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層を設けたこ
とを特徴とする薄型インダクタ／トランス。 - 【請求項２】 セラミックス・軟質磁性酸化物複合体に
おいて、セラミックス／軟質磁性酸化物の混合比が重量
比で４０〜６０％であることを特徴とする薄型インダク
タ／トランス。 - 【請求項３】 セラミックス基板用グリーンシート上に
スパイラル状コイルをスクリーン印刷した後、このグリ
ーンシートにセラミックス粒子と軟質磁性酸化物粒子か
ら成るゾルを用いてセラミックス・軟質磁性酸化物複合
体層をスクリーン印刷し、この上に軟質磁性酸化物体の
グリーンシートを積層して焼成することを特徴とする薄
型インダクタ／トランスの製造方法。 - 【請求項４】 セラミックス基板用グリーンシート上に
スパイラル状コイルをスクリーン印刷し、この上にセラ
ミックス・軟質磁性酸化物複合体のグリーンシートおよ
び軟質磁性酸化物体のグリーンシートを積層し、焼成す
ることを特徴とする薄型インダクタ／トランスの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238700A JPH0689811A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 薄型インダクタ／トランスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238700A JPH0689811A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 薄型インダクタ／トランスおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0689811A true JPH0689811A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17033996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4238700A Withdrawn JPH0689811A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 薄型インダクタ／トランスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0689811A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0701262A1 (en) * | 1994-09-12 | 1996-03-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US5647966A (en) * | 1994-10-04 | 1997-07-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a conductive pattern and method for producing a greensheet lamination body including the same |
| JP2005093547A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波コイル及びその製造方法 |
| US6909350B2 (en) | 1994-09-12 | 2005-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US6948230B2 (en) | 1999-07-09 | 2005-09-27 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| WO2014137902A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-12 | Qualcomm Incorporated | Coupled discrete inductor with flux concentration using high permeable material |
| CN106050560A (zh) * | 2016-06-20 | 2016-10-26 | 大唐（赤峰）新能源有限公司 | 一种薄片电感及风电机组超速保护系统的检测装置 |
| JP2019212791A (ja) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板およびその製造方法 |
-
1992
- 1992-09-07 JP JP4238700A patent/JPH0689811A/ja not_active Withdrawn
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6914510B2 (en) | 1994-09-12 | 2005-07-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US6909350B2 (en) | 1994-09-12 | 2005-06-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US7078999B2 (en) | 1994-09-12 | 2006-07-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| EP1148521A1 (en) * | 1994-09-12 | 2001-10-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| EP1152439A1 (en) * | 1994-09-12 | 2001-11-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US6631545B1 (en) | 1994-09-12 | 2003-10-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a lamination ceramic chi |
| US6911888B2 (en) | 1994-09-12 | 2005-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US6293001B1 (en) | 1994-09-12 | 2001-09-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing an inductor |
| EP0701262A1 (en) * | 1994-09-12 | 1996-03-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US6911887B1 (en) | 1994-09-12 | 2005-06-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inductor and method for producing the same |
| US5647966A (en) * | 1994-10-04 | 1997-07-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a conductive pattern and method for producing a greensheet lamination body including the same |
| US6976300B2 (en) | 1999-07-09 | 2005-12-20 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| US7388462B2 (en) * | 1999-07-09 | 2008-06-17 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| US6948230B2 (en) | 1999-07-09 | 2005-09-27 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| US7158004B2 (en) | 1999-07-09 | 2007-01-02 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| JP2005093547A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波コイル及びその製造方法 |
| WO2014137902A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-12 | Qualcomm Incorporated | Coupled discrete inductor with flux concentration using high permeable material |
| CN106050560A (zh) * | 2016-06-20 | 2016-10-26 | 大唐（赤峰）新能源有限公司 | 一种薄片电感及风电机组超速保护系统的检测装置 |
| JP2019212791A (ja) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板およびその製造方法 |
| WO2019235132A1 (ja) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板およびその製造方法 |
| CN112237052A (zh) * | 2018-06-06 | 2021-01-15 | 日东电工株式会社 | 布线电路基板及其制造方法 |
| TWI843728B (zh) * | 2018-06-06 | 2024-06-01 | 日商日東電工股份有限公司 | 配線電路基板及其製造方法 |
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