JPH0685411B2 - ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法 - Google Patents
ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法Info
- Publication number
- JPH0685411B2 JPH0685411B2 JP11096485A JP11096485A JPH0685411B2 JP H0685411 B2 JPH0685411 B2 JP H0685411B2 JP 11096485 A JP11096485 A JP 11096485A JP 11096485 A JP11096485 A JP 11096485A JP H0685411 B2 JPH0685411 B2 JP H0685411B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- orientation flat
- angle
- detection point
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、オリエンテーションフラットを有するウエ
ハの当該オリエンテーションフラットを所定位置に位置
決めする方法に関する。
ハの当該オリエンテーションフラットを所定位置に位置
決めする方法に関する。
オリエンテーションフラットは、円板状のウエハ（半導
体基板）の一部分を平らに切欠いている部分のことであ
り、当該ウエハの結晶方向を示している。そしてウエハ
の処理（例えば所定のパターンを描く場合等）に際して
は、当該オリエンテーションフラットが基準にされる。
従ってウエハの処理に際しては、オリエンテーションフ
ラットの位置を所定位置に正確に位置決めすることが重
要となる。
体基板）の一部分を平らに切欠いている部分のことであ
り、当該ウエハの結晶方向を示している。そしてウエハ
の処理（例えば所定のパターンを描く場合等）に際して
は、当該オリエンテーションフラットが基準にされる。
従ってウエハの処理に際しては、オリエンテーションフ
ラットの位置を所定位置に正確に位置決めすることが重
要となる。
第５図は従来の位置決め方法を説明するためのウエハ部
分の平面図であり、第６図はその側面図である。従来
は、複数個の、例えば２個のフォトセンサ10a、10bを用
い、その検出点（即ち光軸）6a及び6bが、ウエハ２を回
転させた場合のオリエンテーションフラット４のほぼ線
上かその僅かに外側に揃うようにしておき、ウエハ２の
中心に真空チャック12の中心を合わせた後（即ちセンタ
リングした後）、ウエハ２を真空チャック12で吸着して
（チャッキングして）矢印のように回転させ、フォトセ
ンサ10a及び10bの出力の論理積を取ることによって、オ
リエンテーションフラット４の検知および位置決めをし
ていた。尚、第６図中の8a、8bは、フォトセンサ10a、1
0bを構成する発光素子であり、9a、9bは受光素子であ
る。
分の平面図であり、第６図はその側面図である。従来
は、複数個の、例えば２個のフォトセンサ10a、10bを用
い、その検出点（即ち光軸）6a及び6bが、ウエハ２を回
転させた場合のオリエンテーションフラット４のほぼ線
上かその僅かに外側に揃うようにしておき、ウエハ２の
中心に真空チャック12の中心を合わせた後（即ちセンタ
リングした後）、ウエハ２を真空チャック12で吸着して
（チャッキングして）矢印のように回転させ、フォトセ
ンサ10a及び10bの出力の論理積を取ることによって、オ
リエンテーションフラット４の検知および位置決めをし
ていた。尚、第６図中の8a、8bは、フォトセンサ10a、1
0bを構成する発光素子であり、9a、9bは受光素子であ
る。
ところで、ウエハ２の直径やオリエンテーションフラッ
ト４の長さＬにはばらつきがあり、これを一定範囲とす
るために、その公差が規格で定められているが、前述の
方法で寸法公差内にあるウエハ全てについてオリエンテ
ーションフラット４の位置を検出するには、前記公差内
でその直径が最大でかつオリエンテーションフラット４
の長さが最小のウエハ２′（第７図参照）が検出できる
ようにフォトセンサを配設する必要があり、これにより
その直径が最小でかつオリエンテーションフラット４の
長さが最大のウエハ２″（第７図参照）を検出すると、
位置検出は角度δ分ずれることとなり、これに基づく位
置決めにも誤差が生じる。
ト４の長さＬにはばらつきがあり、これを一定範囲とす
るために、その公差が規格で定められているが、前述の
方法で寸法公差内にあるウエハ全てについてオリエンテ
ーションフラット４の位置を検出するには、前記公差内
でその直径が最大でかつオリエンテーションフラット４
の長さが最小のウエハ２′（第７図参照）が検出できる
ようにフォトセンサを配設する必要があり、これにより
その直径が最小でかつオリエンテーションフラット４の
長さが最大のウエハ２″（第７図参照）を検出すると、
位置検出は角度δ分ずれることとなり、これに基づく位
置決めにも誤差が生じる。
更に、真空チャック12によるウエハ２のチャッキング精
度が悪い場合にも、ウエハ２が偏心して回転させられる
ため、オリエンテーションフラット４の検知および位置
決めに誤差が生じる。
度が悪い場合にも、ウエハ２が偏心して回転させられる
ため、オリエンテーションフラット４の検知および位置
決めに誤差が生じる。
従ってこの発明は、上述のような問題点を解決して、オ
リエンテーションフラットの位置検知およびそれに基づ
くオリエンテーションフラットの位置決めを正確に行う
ことができる方法を提供することを目的とする。
リエンテーションフラットの位置検知およびそれに基づ
くオリエンテーションフラットの位置決めを正確に行う
ことができる方法を提供することを目的とする。
この発明の第１の位置決め方法は、ウエハを回転させた
場合の当該ウエハのオリエンテーションフラットの通過
領域内に検出点を有していて、そこをオリエンテーショ
ンフラットが通過したことを検出するセンサを用い、当
該検出点をオリエンテーションフラットが２回通過する
ようにウエハを回転させ、同検出点をオリエンテーショ
ンフラットが１回目と２回目に通過した時の同オリエン
テーションフラットにウエハの回転中心から下ろした垂
線間の劣角γを求め、かつ、ウエハの回転中心と前記検
出点とを結ぶ線と、同回転中心から予め設定された位置
決め位置におけるオリエンテーションフラットに下ろし
た垂線との間の角度θ（θ≧γ/2）と、前記劣角γとを
用いて、角度R1＝θ＋γ/2と角度R2＝θ−γ/2の少なく
とも一方を求め、角度R1を求めた場合は前記検出点をオ
リエンテーションフラットが１回目に通過した時点から
角度R1だけ、角度R2を求めた場合は前記検出点をオリエ
ンテーションフラットが２回目に通過した時点から角度
R2だけウエハを回転させることを特徴とする。
場合の当該ウエハのオリエンテーションフラットの通過
領域内に検出点を有していて、そこをオリエンテーショ
ンフラットが通過したことを検出するセンサを用い、当
該検出点をオリエンテーションフラットが２回通過する
ようにウエハを回転させ、同検出点をオリエンテーショ
ンフラットが１回目と２回目に通過した時の同オリエン
テーションフラットにウエハの回転中心から下ろした垂
線間の劣角γを求め、かつ、ウエハの回転中心と前記検
出点とを結ぶ線と、同回転中心から予め設定された位置
決め位置におけるオリエンテーションフラットに下ろし
た垂線との間の角度θ（θ≧γ/2）と、前記劣角γとを
用いて、角度R1＝θ＋γ/2と角度R2＝θ−γ/2の少なく
とも一方を求め、角度R1を求めた場合は前記検出点をオ
リエンテーションフラットが１回目に通過した時点から
角度R1だけ、角度R2を求めた場合は前記検出点をオリエ
ンテーションフラットが２回目に通過した時点から角度
R2だけウエハを回転させることを特徴とする。
また、この発明の第２の位置決め方法は、ウエハを回転
させた場合の当該ウエハのオリエンテーションフラット
の通過領域内に検出点を有していて、そこをオリエンテ
ーションフラットが通過したことを検出するセンサを用
い、予め、基準となるウエハを用いて、前記検出点をオ
リエンテーションフラットが２回通過するようにウエハ
を回転させ、ウエハの回転中心と前記検出点とを結ぶ線
と、同検出点をオリエンテーションフラットが１回目お
よび２回目に通過した時の同オリエンテーションフラッ
トにウエハの回転中心から下ろした垂線との間の角度α
およびβをそれぞれ求めて補正値Ｋ＝（α−β）/2を求
めておき、その後実際に位置決めしようとするウエハに
ついて、前記検出点をオリエンテーションフラットが２
回通過するようにウエハを回転させ、同検出点をオリエ
ンテーションフラットが１回目と２回目に通過した時の
同オリエンテーションフラットにウエハの回転中心から
下ろした垂線間の劣角γを求め、かつ、ウエハの回転中
心と前記検出点とを結ぶ線と、同回転中心から予め設定
された位置決め位置におけるオリエンテーションフラッ
トに下ろした垂線との間の角度θ（θ≧γ/2）と、前記
劣角γと、前記補正値Ｋとを用いて、角度R3＝θ＋γ/2
＋Ｋと角度R4＝θ−γ/2＋Ｋの少なくとも一方を求め、
角度R3を求めた場合は前記検出点をオリエンテーション
フラットが１回目に通過した時点から角度R3だけ、角度
R4を求めた場合は前記検出点をオリエンテーションフラ
ットが２回目に通過した時点から角度R4だけウエハを回
転させることを特徴とする。
させた場合の当該ウエハのオリエンテーションフラット
の通過領域内に検出点を有していて、そこをオリエンテ
ーションフラットが通過したことを検出するセンサを用
い、予め、基準となるウエハを用いて、前記検出点をオ
リエンテーションフラットが２回通過するようにウエハ
を回転させ、ウエハの回転中心と前記検出点とを結ぶ線
と、同検出点をオリエンテーションフラットが１回目お
よび２回目に通過した時の同オリエンテーションフラッ
トにウエハの回転中心から下ろした垂線との間の角度α
およびβをそれぞれ求めて補正値Ｋ＝（α−β）/2を求
めておき、その後実際に位置決めしようとするウエハに
ついて、前記検出点をオリエンテーションフラットが２
回通過するようにウエハを回転させ、同検出点をオリエ
ンテーションフラットが１回目と２回目に通過した時の
同オリエンテーションフラットにウエハの回転中心から
下ろした垂線間の劣角γを求め、かつ、ウエハの回転中
心と前記検出点とを結ぶ線と、同回転中心から予め設定
された位置決め位置におけるオリエンテーションフラッ
トに下ろした垂線との間の角度θ（θ≧γ/2）と、前記
劣角γと、前記補正値Ｋとを用いて、角度R3＝θ＋γ/2
＋Ｋと角度R4＝θ−γ/2＋Ｋの少なくとも一方を求め、
角度R3を求めた場合は前記検出点をオリエンテーション
フラットが１回目に通過した時点から角度R3だけ、角度
R4を求めた場合は前記検出点をオリエンテーションフラ
ットが２回目に通過した時点から角度R4だけウエハを回
転させることを特徴とする。
この方法においては、ウエハの回転中心からオリエンテ
ーションフラットに下ろした垂線の位置を求めることに
よってオリエンテーションフラットの位置検知がなさ
れ、更にそれに基づいてオリエンテーションフラットの
位置決めがなされる。これによって、ウエハの直径やオ
リエンテーションフラットの長さのばらつき、更にチャ
ッキング精度に影響されることなく、オリエンテーショ
ンフラットを所定位置に正確に位置決めすることができ
る。
ーションフラットに下ろした垂線の位置を求めることに
よってオリエンテーションフラットの位置検知がなさ
れ、更にそれに基づいてオリエンテーションフラットの
位置決めがなされる。これによって、ウエハの直径やオ
リエンテーションフラットの長さのばらつき、更にチャ
ッキング精度に影響されることなく、オリエンテーショ
ンフラットを所定位置に正確に位置決めすることができ
る。
第１図〜第３図は、それぞれ、この発明に係る位置決め
方法を説明するためのウエハ部分の平面図である。まず
第１図を参照して、この実施例においては、ウエハ２を
回転させた場合のオリエンテーションフラット４の通過
領域内に１つの検出点６を有していて、そこをオリエン
テーションフラット４が通過したことを検出するセン
サ、例えばフォトセンサ10（第４図参照）を１個用い
る。そして例えばキャリアから取り出したウエハ２を、
従来と同様にセンタリングした後に真空チャック12（第
４図参照）で吸着して矢印のように回転させる。この場
合、オリエンテーションフラット４の位置を、ウエハ２
の回転中心Ｏからそれに下ろした垂線３の位置で表すも
のとすると、回転前のオリエンテーションフラット４
は、例えば第１図の位置Ａにあるものとする。又ここで
はチャッキング誤差は無いものとし、ウエハ２の中心と
その回転中心Ｏとは一致しているものとする。
方法を説明するためのウエハ部分の平面図である。まず
第１図を参照して、この実施例においては、ウエハ２を
回転させた場合のオリエンテーションフラット４の通過
領域内に１つの検出点６を有していて、そこをオリエン
テーションフラット４が通過したことを検出するセン
サ、例えばフォトセンサ10（第４図参照）を１個用い
る。そして例えばキャリアから取り出したウエハ２を、
従来と同様にセンタリングした後に真空チャック12（第
４図参照）で吸着して矢印のように回転させる。この場
合、オリエンテーションフラット４の位置を、ウエハ２
の回転中心Ｏからそれに下ろした垂線３の位置で表すも
のとすると、回転前のオリエンテーションフラット４
は、例えば第１図の位置Ａにあるものとする。又ここで
はチャッキング誤差は無いものとし、ウエハ２の中心と
その回転中心Ｏとは一致しているものとする。
ウエハ２の回転につれて、オリエンテーションフラット
４はまず位置Ｂで検出点６を通過し、次に位置Ｃで再び
検出点６を通過する。その間にウエハ２の回転角度をγ
とすると、角度γ/2は、回転中心Ｏと検出点６とを結ぶ
線５に対する位置Ｂ又はＣの垂線３の角度を示してお
り、これは取りも直さず、検出点６をオリエンテーショ
ンフラット４が通過した時点の当該オリエンテーション
フラット４の位置を表している。
４はまず位置Ｂで検出点６を通過し、次に位置Ｃで再び
検出点６を通過する。その間にウエハ２の回転角度をγ
とすると、角度γ/2は、回転中心Ｏと検出点６とを結ぶ
線５に対する位置Ｂ又はＣの垂線３の角度を示してお
り、これは取りも直さず、検出点６をオリエンテーショ
ンフラット４が通過した時点の当該オリエンテーション
フラット４の位置を表している。
そして位置Ｄを、オリエンテーションフラット４を位置
決めすべき予め設定された位置とし、その位置における
垂線３と上記線５との間の角度をθとすると、位置Ｄに
オリエンテーションフラット４を位置決めするために
は、位置Ｂから、即ちこの例では検出点６をオリエンテ
ーションフラット４が最初に通過した時点から、ウエハ
２を次式で示す角度Ｒだけ回転させれば良い。
決めすべき予め設定された位置とし、その位置における
垂線３と上記線５との間の角度をθとすると、位置Ｄに
オリエンテーションフラット４を位置決めするために
は、位置Ｂから、即ちこの例では検出点６をオリエンテ
ーションフラット４が最初に通過した時点から、ウエハ
２を次式で示す角度Ｒだけ回転させれば良い。
Ｒ＝θ＋γ/2 ……（１） この場合、角度θはθ≧γ/2を満たす任意の角度とする
ことができる。
ことができる。
あるいは位置Ｃを、即ちこの例では検出点６をオリエン
テーションフラット４が２回目に通過した時点を基準と
するならば、ウエハ２は次式で示す角度Ｒだけ回転させ
れば良い。
テーションフラット４が２回目に通過した時点を基準と
するならば、ウエハ２は次式で示す角度Ｒだけ回転させ
れば良い。
Ｒ＝θ−γ/2 ……（２） 尚、以上においては主に（１）式について更に説明する
けれども、以下に説明する事項が（２）式についても適
用できることは勿論である。
けれども、以下に説明する事項が（２）式についても適
用できることは勿論である。
上述のような方法においては、オリエンテーションフラ
ット４に対する垂線３の位置を求めることによってオリ
エンテーションフラット４の位置検知をし、更にそれに
基づいてオリエンテーションフラット４の位置決めをす
るため、位置決めの精度は、ウエハ２の直径やオリエン
テーションフラット４の長さＬのばらつきに全く影響さ
れない。即ち、ウエハ２の直径やオリエンテーションフ
ラット４の長さＬが正規のものからずれていても、前述
した角度γが角度γ′になるだけであり、当該角度γ′
に基づいて（１）式と同様に、 Ｒ＝θ＋γ′/2 ……（３） で表される角度Ｒだけ、検出点６をオリエンテーション
フラット４が最初に通過した時点からウエハ２を回転さ
せれば、オリエンテーションフラット４は正確に所定の
位置Ｄに来る。従って上述のような方法を用いれば、多
数のウエハ２のオリエンテーションフラット４を全て同
一方向に精度良く揃えることもできる。これによって、
キャリア等の中に複数枚のウエハ２をそのオリエンテー
ションフラット４が全て同一方向に揃った状態で収納す
ることも可能となる。
ット４に対する垂線３の位置を求めることによってオリ
エンテーションフラット４の位置検知をし、更にそれに
基づいてオリエンテーションフラット４の位置決めをす
るため、位置決めの精度は、ウエハ２の直径やオリエン
テーションフラット４の長さＬのばらつきに全く影響さ
れない。即ち、ウエハ２の直径やオリエンテーションフ
ラット４の長さＬが正規のものからずれていても、前述
した角度γが角度γ′になるだけであり、当該角度γ′
に基づいて（１）式と同様に、 Ｒ＝θ＋γ′/2 ……（３） で表される角度Ｒだけ、検出点６をオリエンテーション
フラット４が最初に通過した時点からウエハ２を回転さ
せれば、オリエンテーションフラット４は正確に所定の
位置Ｄに来る。従って上述のような方法を用いれば、多
数のウエハ２のオリエンテーションフラット４を全て同
一方向に精度良く揃えることもできる。これによって、
キャリア等の中に複数枚のウエハ２をそのオリエンテー
ションフラット４が全て同一方向に揃った状態で収納す
ることも可能となる。
上記の場合、線５に対する位置Ｂ、Ｃの垂線３の角度
は、理想的にγ/2ずつとしたが、実際は、用いるセンサ
の取付け精度、特性等から、オリエンテーションフラッ
ト４の検出の対称性が悪く、第２図に示すようにそれぞ
れ角度α、β（α≠β）となり、これによって位置決め
に誤差が生じる場合が考えられる。しかしながら、セン
サが変わらない限り両角度の差は一定であるから、補正
値Ｋ＝（α−β）/2を用いて、（１）式を次のように補
正することにより、上記誤差を簡単に解消することがで
きる。
は、理想的にγ/2ずつとしたが、実際は、用いるセンサ
の取付け精度、特性等から、オリエンテーションフラッ
ト４の検出の対称性が悪く、第２図に示すようにそれぞ
れ角度α、β（α≠β）となり、これによって位置決め
に誤差が生じる場合が考えられる。しかしながら、セン
サが変わらない限り両角度の差は一定であるから、補正
値Ｋ＝（α−β）/2を用いて、（１）式を次のように補
正することにより、上記誤差を簡単に解消することがで
きる。
Ｒ＝θ＋γ/2＋Ｋ ……（４） この場合、γ＝α＋βであることは言うまでもない。
この（４）式は前記（１）式に対応するものであり、前
記（２）式に対応するものは次の式となる。
記（２）式に対応するものは次の式となる。
Ｒ＝θ−γ/2＋Ｋ …（４′） 第４図は、上述した位置決め方法を実施する装置の一例
を示す概略図である。この例においては、上述したセン
サとして、発光素子８及び受光素子９の組合わせから成
るフォトセンサ10を用い、その光軸が上述した検出点６
に来るようにしている。そしてパルスモータ14に結合さ
れた真空チャック12でウエハ２を吸着し、パルス発振回
路16からのパルス信号PSをパルスモータ14に与えること
によってウエハ２を正確に回転させるようにしている。
このパルス信号PSはカウンタ18及び制御回路20にも入力
され、カウンタ18は、受光素子９からの信号DSに応答し
て、しゃ光状態にあった受光素子９が受光状態になった
時点、即ち第１図の位置Ｂから、受光素子９が再びしゃ
光状態になった時点、即ち第１図の位置Ｃまでのパルス
数をカウントすることによって、その間のウエハ２の回
転角度γを検出し、これを制御回路20に与える。制御回
路20においては、当該角度γと予め設定されていた前記
角度θとを元に、次の演算を行われ、受光素子９が受光
状態になった時点からオリエンテーションフラット４が
所定位置Ｄに来るまでにパルスモータに与えるべきパル
ス信号PSのパルス数Ｐが求められる。
を示す概略図である。この例においては、上述したセン
サとして、発光素子８及び受光素子９の組合わせから成
るフォトセンサ10を用い、その光軸が上述した検出点６
に来るようにしている。そしてパルスモータ14に結合さ
れた真空チャック12でウエハ２を吸着し、パルス発振回
路16からのパルス信号PSをパルスモータ14に与えること
によってウエハ２を正確に回転させるようにしている。
このパルス信号PSはカウンタ18及び制御回路20にも入力
され、カウンタ18は、受光素子９からの信号DSに応答し
て、しゃ光状態にあった受光素子９が受光状態になった
時点、即ち第１図の位置Ｂから、受光素子９が再びしゃ
光状態になった時点、即ち第１図の位置Ｃまでのパルス
数をカウントすることによって、その間のウエハ２の回
転角度γを検出し、これを制御回路20に与える。制御回
路20においては、当該角度γと予め設定されていた前記
角度θとを元に、次の演算を行われ、受光素子９が受光
状態になった時点からオリエンテーションフラット４が
所定位置Ｄに来るまでにパルスモータに与えるべきパル
ス信号PSのパルス数Ｐが求められる。
Ｐ＝θ／ω＋γ/2ω＋K/ω ……（５） ここでωは、パルスモータ14のステップ角である。この
（５）式は、前述した（４）式を角度の代わりにパルス
数で表したものである。この場合、カウンタ18からの出
力は、角度γをパルス数で表したものとしても良い。そ
して制御回路20は、パルス発振回路16から出力されるパ
ルス数Ｐが（５）式で求めたものに達した時、パルス発
振回路16からのパルス信号PSを停止させてパルスモータ
14を停止させる。このような装置によれば、簡単な構成
で高精度にオリエンテーションフラット４の位置決めが
可能である。
（５）式は、前述した（４）式を角度の代わりにパルス
数で表したものである。この場合、カウンタ18からの出
力は、角度γをパルス数で表したものとしても良い。そ
して制御回路20は、パルス発振回路16から出力されるパ
ルス数Ｐが（５）式で求めたものに達した時、パルス発
振回路16からのパルス信号PSを停止させてパルスモータ
14を停止させる。このような装置によれば、簡単な構成
で高精度にオリエンテーションフラット４の位置決めが
可能である。
もっとも、ウエハ２の回転は、パルスモータ14以外のモ
ータ、例えばサーボモータによって行っても良い。その
場合は、ウエハ２の回転角度を例えばエンコーダ等によ
って検出し、それに基づいて（４）式に示した制御を行
えば良い。
ータ、例えばサーボモータによって行っても良い。その
場合は、ウエハ２の回転角度を例えばエンコーダ等によ
って検出し、それに基づいて（４）式に示した制御を行
えば良い。
次に、真空チャック12によるウエハ２のチャッキング精
度の影響につき第３図を参照して説明する。チャッキン
グ精度が悪くてこの図のように、ウエハ２の中心Ｏ′と
回転中心（即ち真空チャック12の中心軸）Ｏとがずれた
場合、ウエハ２は偏心して回転させられるけれども、こ
の場合も前述したウエハ２の直径やオリエンテーション
フラット４の長さＬが正規のものからずれていた場合と
同様であって、前述したγが角度γ′になるだけであ
り、角度γの代わりに当該角度γ′を前述した（４）、
（５）式等において用いれば、オリエンテーションフラ
ット４は正確に所定の位置、例えば位置Ｄに位置決めさ
れる。
度の影響につき第３図を参照して説明する。チャッキン
グ精度が悪くてこの図のように、ウエハ２の中心Ｏ′と
回転中心（即ち真空チャック12の中心軸）Ｏとがずれた
場合、ウエハ２は偏心して回転させられるけれども、こ
の場合も前述したウエハ２の直径やオリエンテーション
フラット４の長さＬが正規のものからずれていた場合と
同様であって、前述したγが角度γ′になるだけであ
り、角度γの代わりに当該角度γ′を前述した（４）、
（５）式等において用いれば、オリエンテーションフラ
ット４は正確に所定の位置、例えば位置Ｄに位置決めさ
れる。
尚、センサの検出点６の位置は、上述した各種誤差を考
慮すれば、次の範囲に設定するのが好ましい。これによ
って、検出点６をオリエンテーションフラット４が必ず
通過するようになる。
慮すれば、次の範囲に設定するのが好ましい。これによ
って、検出点６をオリエンテーションフラット４が必ず
通過するようになる。
L1＝(L2+R1)〜（R2-R1） ……（６） ここでL1は回転中心Ｏから検出点６までの距離であり、
L2は回転中心Ｏからオリエンテーションフラット４間の
最大距離であり、R1は真空チャック12のチャッキング誤
差領域半径であり、R2はウエハ２の最小半径である。
L2は回転中心Ｏからオリエンテーションフラット４間の
最大距離であり、R1は真空チャック12のチャッキング誤
差領域半径であり、R2はウエハ２の最小半径である。
また、上述した方法は、しゃ光状態にあったフォトセン
サ10が受光状態になった時点から再びしゃ光状態になる
時点までのウエハ２の回転角度γを検出するものであ
り、したがって、最初からフォトセンサ10が受光状態で
あった場合には、これは無視してウエハ２を回転してフ
ォトセンサ10をしゃ光状態となし、以後前記同様の方法
によって回転角度を検出する。
サ10が受光状態になった時点から再びしゃ光状態になる
時点までのウエハ２の回転角度γを検出するものであ
り、したがって、最初からフォトセンサ10が受光状態で
あった場合には、これは無視してウエハ２を回転してフ
ォトセンサ10をしゃ光状態となし、以後前記同様の方法
によって回転角度を検出する。
また、このような方法に代えて受光状態にあったフォト
センサ10がしゃ光状態になった時点から再び受光状態に
なる時点までのウエハ２の回転角度φ（第１図参照）を
検出するようにしても良い。その場合、γ＝360−φを
一旦求めてこれを上述した各式に用いれば良い。即ち、
要は、上述した各式の角度γを、検出点６をオリエンテ
ーションフラット４が１回目と２回目に通過した時の同
オリエンテーションフラット４にウエハ２の回転中心Ｏ
から下ろした垂線間の劣角とすれば良い。
センサ10がしゃ光状態になった時点から再び受光状態に
なる時点までのウエハ２の回転角度φ（第１図参照）を
検出するようにしても良い。その場合、γ＝360−φを
一旦求めてこれを上述した各式に用いれば良い。即ち、
要は、上述した各式の角度γを、検出点６をオリエンテ
ーションフラット４が１回目と２回目に通過した時の同
オリエンテーションフラット４にウエハ２の回転中心Ｏ
から下ろした垂線間の劣角とすれば良い。
以上のようにこの発明によれば、ウエハの直径やオリエ
ンテーションフラットの長さのばらつき、更にはウエハ
のキャッチング精度に影響されることなく、オリエンテ
ーションフラットを所定位置に正確に位置決めすること
ができる。
ンテーションフラットの長さのばらつき、更にはウエハ
のキャッチング精度に影響されることなく、オリエンテ
ーションフラットを所定位置に正確に位置決めすること
ができる。
第１図〜第３図は、それぞれ、この発明に係る位置決め
方法を説明するためのウエハ部分の平面図である。第４
図は、この発明に係る位置決め方法を実施する装置の一
例を示す概略図である。第５図は従来の位置決め方法を
説明するのためのウエハ部分の平面図であり、第６図は
その側面図である。第７図は、従来の位置決め方法にお
ける誤差を説明するためのウエハ部分の平面図である。 ２…ウエハ、３…垂線、４…オリエンテーションフラッ
ト、６…検出点、10…フォトセンサ、12…真空チャック
方法を説明するためのウエハ部分の平面図である。第４
図は、この発明に係る位置決め方法を実施する装置の一
例を示す概略図である。第５図は従来の位置決め方法を
説明するのためのウエハ部分の平面図であり、第６図は
その側面図である。第７図は、従来の位置決め方法にお
ける誤差を説明するためのウエハ部分の平面図である。 ２…ウエハ、３…垂線、４…オリエンテーションフラッ
ト、６…検出点、10…フォトセンサ、12…真空チャック
Claims (2)
- 【請求項１】ウエハを回転させた場合の当該ウエハのオ
リエンテーションフラットの通過領域内に検出点を有し
ていて、そこをオリエンテーションフラットが通過した
ことを検出するセンサを用い、当該検出点をオリエンテ
ーションフラットが２回通過するようにウエハを回転さ
せ、同検出点をオリエンテーションフラットが１回目と
２回目に通過した時の同オリエンテーションフラットに
ウエハの回転中心から下ろした垂線間の劣角γを求め、
かつ、ウエハの回転中心と前記検出点とを結ぶ線と、同
回転中心から予め設定された位置決め位置におけるオリ
エンテーションフラットに下ろした垂線との間の角度θ
（θ≧γ/2）と、前記劣角γとを用いて、角度R1＝θ＋
γ/2と角度R2＝θ−γ/2の少なくとも一方を求め、角度
R1を求めた場合は前記検出点をオリエンテーションフラ
ットが１回目に通過した時点から角度R1だけ、角度R2を
求めた場合は前記検出点をオリエンテーションフラット
が２回目に通過した時点から角度R2だけウエハを回転さ
せることを特徴とするウエハのオリエンテーションフラ
ット位置決め方法。 - 【請求項２】ウエハを回転させた場合の当該ウエハのオ
リエンテーションフラットの通過領域内に検出点を有し
ていて、そこをオリエンテーションフラットが通過した
ことを検出するセンサを用い、予め、基準となるウエハ
を用いて、前記検出点をオリエンテーションフラットが
２回通過するようにウエハを回転させ、ウエハの回転中
心と前記検出点とを結ぶ線と、同検出点をオリエンテー
ションフラットが１回目および２回目に通過した時の同
オリエンテーションフラットにウエハの回転中心から下
ろした垂線との間の角度αおよびβをそれぞれ求めて補
正値Ｋ＝（α−β）/2を求めておき、その後実際に位置
決めしようとするウエハについて、前記検出点をオリエ
ンテーションフラットが２回通過するようにウエハを回
転させ、同検出点をオリエンテーションフラットが１回
目と２回目に通過した時の同オリエンテーションフラッ
トにウエハの回転中心から下ろした垂線間の劣角γを求
め、かつ、ウエハの回転中心と前記検出点とを結ぶ線
と、同回転中心から予め設定された位置決め位置におけ
るオリエンテーションフラットに下ろした垂線との間の
角度θ（θ≧γ/2）と、前記劣角γと、前記補正値Ｋと
を用いて、角度R3＝θ＋γ/2＋Ｋと角度R4＝θ−γ/2＋
Ｋの少なくとも一方を求め、角度R3を求めた場合は前記
検出点をオリエンテーションフラットが１回目に通過し
た時点から角度R3だけ、角度R4を求めた場合は前記検出
点をオリエンテーションフラットが２回目に通過した時
点から角度R4だけウエハを回転させることを特徴とする
ウエハのオリエンテーションフラット位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11096485A JPH0685411B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11096485A JPH0685411B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61268035A JPS61268035A (ja) | 1986-11-27 |
| JPH0685411B2 true JPH0685411B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=14548976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11096485A Expired - Fee Related JPH0685411B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685411B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62274739A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-28 | バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテッド | ウエファ方向づけ装置および方法 |
| JPH0713998B2 (ja) * | 1989-08-14 | 1995-02-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウエハの位置検出装置 |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP11096485A patent/JPH0685411B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61268035A (ja) | 1986-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2949528B2 (ja) | ウエハの中心位置検出方法及びその装置 | |
| US3544801A (en) | Mask design for optical alignment systems | |
| JP3137307B2 (ja) | 全方位距離検出装置 | |
| JPH0685411B2 (ja) | ウエハのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め方法 | |
| JPS5822914A (ja) | 光電型エンコ−ダの零点検出装置 | |
| US3453441A (en) | Radiation sensitive digital measuring apparatus | |
| US3357298A (en) | Star tracker including angularly disposed photoelectric strip surfaces | |
| JP2874795B2 (ja) | オリエンテーションフラット検出装置 | |
| EP0263685B1 (en) | Extra magnetic field positioning apparatus | |
| JPS6166117A (ja) | 太陽角検出装置 | |
| JPS6156912A (ja) | 光電式ロ−タリ−エンコ−ダ | |
| JPH03159255A (ja) | 円形基板の位置決め装置 | |
| JPH0422262Y2 (ja) | ||
| JP2513697B2 (ja) | プリアラインメント装置 | |
| JPH04249340A (ja) | 半導体ウェハの位置合わせ方法 | |
| JPH09159422A (ja) | ウエハの周縁形状検出装置 | |
| JPH03108353A (ja) | 円板状物の周縁の特異点の検出装置 | |
| JP3236643B2 (ja) | 水晶板の方向判別方法 | |
| JPH0312946A (ja) | ウエハのプリアライメント方法 | |
| JPH074989A (ja) | リング磁石の着磁装置 | |
| JPS61234544A (ja) | ウエハ−の位置決め装置 | |
| JPH07884Y2 (ja) | 電子式セオドライトの原点検出装置 | |
| JPH0234564Y2 (ja) | ||
| JPH06252248A (ja) | ウエハのプリアライメント方法及びプリアライメント装置 | |
| JPS60152929A (ja) | 多面鏡の分割角度誤差測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |