JPH0684871A - 半導体基板薬液処理装置 - Google Patents
半導体基板薬液処理装置Info
- Publication number
- JPH0684871A JPH0684871A JP23446892A JP23446892A JPH0684871A JP H0684871 A JPH0684871 A JP H0684871A JP 23446892 A JP23446892 A JP 23446892A JP 23446892 A JP23446892 A JP 23446892A JP H0684871 A JPH0684871 A JP H0684871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor substrate
- chemical
- chemical liquid
- chemical treatment
- liquid processing
- Prior art date
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- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体基板薬液処理装置で、薬液処理槽の液面
上において一方向に平行移動できるフィルターにて薬液
表面をろ過することにより塵埃を除去し、表面の清浄な
半導体基板を得る。 【構成】循環ポンプ１で薬液処理槽４中の薬液３を循環
させ、薬液処理槽４の薬液３面上のフィルター７を一方
向に平行移動させ、薬液３が清浄化された薬液処理槽４
中に半導体基板５の入った半導体基板収納箱６を浸漬し
て薬液処理する。
上において一方向に平行移動できるフィルターにて薬液
表面をろ過することにより塵埃を除去し、表面の清浄な
半導体基板を得る。 【構成】循環ポンプ１で薬液処理槽４中の薬液３を循環
させ、薬液処理槽４の薬液３面上のフィルター７を一方
向に平行移動させ、薬液３が清浄化された薬液処理槽４
中に半導体基板５の入った半導体基板収納箱６を浸漬し
て薬液処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体基板薬液処理装置
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の半導体基板薬液処理装置
は、図２に示すように、循環ポンプ１によりオーバフロ
ーさせた薬液処理槽４の薬液３中に半導体基板５が収納
された半導体基板収納箱６を浸漬して薬液処理を行う機
構を有している。
は、図２に示すように、循環ポンプ１によりオーバフロ
ーさせた薬液処理槽４の薬液３中に半導体基板５が収納
された半導体基板収納箱６を浸漬して薬液処理を行う機
構を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体基板
薬液処理装置では、薬液処理槽中の薬液に浮遊している
塵埃がポンプによる薬液の循環だけでは、薬液処理槽外
へオーバフローしないので塵埃が浮遊したままの薬液中
に半導体基板収納箱が入り半導体基板が浸漬され、処理
後、半導体基板を取り出す際に塵埃が表面に付着し、半
導体基板が汚染されるという問題点があった。
薬液処理装置では、薬液処理槽中の薬液に浮遊している
塵埃がポンプによる薬液の循環だけでは、薬液処理槽外
へオーバフローしないので塵埃が浮遊したままの薬液中
に半導体基板収納箱が入り半導体基板が浸漬され、処理
後、半導体基板を取り出す際に塵埃が表面に付着し、半
導体基板が汚染されるという問題点があった。
【０００４】本発明の目的は、塵埃の付着がなく清浄な
表面を有する半導体基板が得られる半導体基板薬液処理
装置を提供することにある。
表面を有する半導体基板が得られる半導体基板薬液処理
装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、薬液処理槽
と、該薬液処理槽内をオーバフロー循環する薬液と、半
導体基板が収納され該半導体基板を前記薬液中に浸漬し
薬液処理を行う半導体基板収納箱とを有する半導体基板
薬液処理装置において、前記薬液処理槽内の前記薬液中
に一定方向に移動する移動型フィルターを設ける。
と、該薬液処理槽内をオーバフロー循環する薬液と、半
導体基板が収納され該半導体基板を前記薬液中に浸漬し
薬液処理を行う半導体基板収納箱とを有する半導体基板
薬液処理装置において、前記薬液処理槽内の前記薬液中
に一定方向に移動する移動型フィルターを設ける。
【０００６】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【０００７】図１は本発明の一実施例の概略の構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【０００８】図１に示すように、機能的には図２に示す
従来の半導体基板薬液処理装置の薬液処理槽４にフィル
ター搬送機８を設置し、薬液３の清浄化作用を持たせた
ものである。
従来の半導体基板薬液処理装置の薬液処理槽４にフィル
ター搬送機８を設置し、薬液３の清浄化作用を持たせた
ものである。
【０００９】まず、循環ポンプ１を運転し、薬液処理槽
４中の薬液３をオーバフロー槽２内にオーバフローさせ
ながら循環させる。次に、フィルター搬送機８を稼働
し、薬液処理槽４中の薬液３液面上のフィルター７を一
方向に移動させ塵埃をろ過して薬液３面を清浄化する。
次に、清浄化された薬液３の入った薬液処理槽４内に半
導体基板５が収納された半導体基板収納箱６を浸漬して
半導体基板５の薬液処理を行う。
４中の薬液３をオーバフロー槽２内にオーバフローさせ
ながら循環させる。次に、フィルター搬送機８を稼働
し、薬液処理槽４中の薬液３液面上のフィルター７を一
方向に移動させ塵埃をろ過して薬液３面を清浄化する。
次に、清浄化された薬液３の入った薬液処理槽４内に半
導体基板５が収納された半導体基板収納箱６を浸漬して
半導体基板５の薬液処理を行う。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、薬液処理
槽の薬液面上のフィルターを一方向に平行移動させるこ
とにより薬液表面の塵埃をろ過して除去できるので清浄
な表面を有する半導体基板が得られるという効果を有す
る。
槽の薬液面上のフィルターを一方向に平行移動させるこ
とにより薬液表面の塵埃をろ過して除去できるので清浄
な表面を有する半導体基板が得られるという効果を有す
る。
【図１】本発明の一実施例の概略の構成を示す斜視図で
ある。
ある。
【図２】従来の半導体基板薬液処理装置の一例の概略の
構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
１ 循環ポンプ ２ オーバフロー槽 ３ 薬液 ４ 薬液処理槽 ５ 半導体基板 ６ 半導体基板収納箱 ７ フィルター ８ フィルター搬送機
Claims (1)
- 【請求項１】 薬液処理槽と、該薬液処理槽内をオーバ
フロー循環する薬液と、半導体基板が収納され該半導体
基板を前記薬液中に浸漬し薬液処理を行う半導体基板収
納箱とを有する半導体基板薬液処理装置において、前記
薬液処理槽内の前記薬液中に一定方向に移動する移動型
フィルターを設けたことを特徴とする半導体基板薬液処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23446892A JPH0684871A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体基板薬液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23446892A JPH0684871A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体基板薬液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684871A true JPH0684871A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=16971485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23446892A Withdrawn JPH0684871A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 半導体基板薬液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0684871A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100363754B1 (ko) * | 1996-10-24 | 2002-12-06 | 매트슨 웨트 프로덕츠 게엠베하 | 기판 처리용 장치 |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP23446892A patent/JPH0684871A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100363754B1 (ko) * | 1996-10-24 | 2002-12-06 | 매트슨 웨트 프로덕츠 게엠베하 | 기판 처리용 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991102 |