JPH0684363B2 - １、２、３―チアジアゾール誘導体、その製造法及び除草剤 - Google Patents
１、２、３―チアジアゾール誘導体、その製造法及び除草剤Info
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- JPH0684363B2 JPH0684363B2 JP1216398A JP21639889A JPH0684363B2 JP H0684363 B2 JPH0684363 B2 JP H0684363B2 JP 1216398 A JP1216398 A JP 1216398A JP 21639889 A JP21639889 A JP 21639889A JP H0684363 B2 JPH0684363 B2 JP H0684363B2
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- heterocyclic group
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な１、２、３−チアジアゾール誘導体、
その製造法及び１、２、３−チアジアゾール誘導体を有
効成分とする除草剤に関する。
その製造法及び１、２、３−チアジアゾール誘導体を有
効成分とする除草剤に関する。
［従来の技術］ 従来から、種々のアゾール誘導体が除草剤として提案さ
れており、例えば、 特開昭54-154762号公報には、 一般式（VI） で示される置換カルボン酸アミド及びその除草剤として
の使用が、 特開昭55−147267号公報には、 一般式（VII） で示されるアゾリルオキシカルボン酸アミド及びその除
草剤としての使用が開示されている。
れており、例えば、 特開昭54-154762号公報には、 一般式（VI） で示される置換カルボン酸アミド及びその除草剤として
の使用が、 特開昭55−147267号公報には、 一般式（VII） で示されるアゾリルオキシカルボン酸アミド及びその除
草剤としての使用が開示されている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、これらの化合物においてもその除草活性
並びに薬害の点において必ずしも十分に満足しうるもの
ではなく、 更に高度な活性、より低い薬害、幅広い有用作物への適
応等が望まれていた。
並びに薬害の点において必ずしも十分に満足しうるもの
ではなく、 更に高度な活性、より低い薬害、幅広い有用作物への適
応等が望まれていた。
本発明者らは、従来にない種々の新規なアゾール誘導体
について、その除草活性を検討していたところ、特定の
１、２、３−チアジアゾール誘導体が各種植物に対する
除草活性、選択性等においてすぐれた物性を持つ事を見
出し、種々検討を重ねた結果、本発明を完成するに至っ
た。
について、その除草活性を検討していたところ、特定の
１、２、３−チアジアゾール誘導体が各種植物に対する
除草活性、選択性等においてすぐれた物性を持つ事を見
出し、種々検討を重ねた結果、本発明を完成するに至っ
た。
本発明は、一般式（Ｉ）で示される特定の化合物または
その塩、その製造法およびそれを有効成分として含有す
る除草剤を提供することを目的とする。
その塩、その製造法およびそれを有効成分として含有す
る除草剤を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、種々の１、２、３−チアジア
ゾール誘導体を合成し、その除草効果等を試験した結果 一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルま
たは低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、フェニルアルキル、アリールまた
は窒素含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4
はそれらが結合している窒素原子と一緒になって、その
他にヘテロ原子も含有できる任意に置換されていてもよ
い飽和もしくは不飽和の複素環式基を表わし、Ｘは酸素
または硫黄を表わす。］ で示される新規な１、２、３−チアジアゾール誘導体が
すぐれた有用性がある物質であることを見出した。
ゾール誘導体を合成し、その除草効果等を試験した結果 一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルま
たは低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、フェニルアルキル、アリールまた
は窒素含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4
はそれらが結合している窒素原子と一緒になって、その
他にヘテロ原子も含有できる任意に置換されていてもよ
い飽和もしくは不飽和の複素環式基を表わし、Ｘは酸素
または硫黄を表わす。］ で示される新規な１、２、３−チアジアゾール誘導体が
すぐれた有用性がある物質であることを見出した。
一般式（Ｉ）中、R1で示される低級アルキルとしては、
例えばメチル、エチル、プロピルなどが挙げられ、置換
基を有していてもよいフェニルとしては、例えばフェニ
ル、４−メチルフェニル、４−クロルフェニル、４−メ
トキシフェニル、４−ターシャーリーブチルフェニル、
４−ジフェニル、４−エチルフェニルなどが挙げられ、
複素環式基としては、例えばフラニル、チエニル、ピリ
ジルなどが挙げられ、R2で示される低級アルキルとして
は、例えばメチル、エチル、プロピルなどが挙げられ、
R3で示される低級アルキルとしては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどが挙げら
れ、アルケニルとしては、例えばアリル、プロペニルな
どが挙げられ、R4で示されるアルキルとしては、例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、、ヘキシル、イソ
プロピル、イソブチル、ターシャリーブチル、トリフル
オロエチルなどが挙げられ、アルケニルとしては、例え
ばアリルなどが挙げられ、アルキニルとしては、例えば
プロパギルなどが挙げられ、シクロアルキルとしては、
例えばシクロヘキシル、シクロペンチルなどが挙げら
れ、フェニルアルキルとしては、例えばベンジル、フェ
ネチルなどが挙げられ、アリールとしては、例えばフェ
ニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−
メチルフェニル、３−エチルフェニル、４−ブロムフェ
ニル、２−シアノフェニル、３−クロルフェニル、４−
クロルフェニル、２−ニトロフェニル、３−ニトロフェ
ニル、４−ニトロフェニル、２−トリフルオロメチルフ
ェニル、３−トリフルオロメチル、３−フルオロメチ
ル、４−フルオロメチル、２−メトキシフェニル、３−
メトキシフェニル、２、３−ジメチルフェニル、３、５
−ジメチルフェニル、３、５−ジクロルフェニル、２、
３−ジクロルフェニルなどが挙げられ、窒素含有複素環
式基としては、例えばピリジル、５−クロルピリジル、
４、６−ジメチルピリジル、４、６−ジメチルピリミジ
ニルなどが挙げられ、R3及びR4はそれらが結合している
窒素原子と一緒になって、その他にヘテロ原子も含有で
きる任意に置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の
複素環式基としては、例えばピペリジノ、２−メチルピ
ペリジノ、３−メチルピペリジノ、２−エチルピペリジ
ノ、３、５−ジメチルピペリジノ、４−アセトキシピペ
リジノ、４−エトキシカルボニルピペリジノ、４−ベン
ジルピペリジノ、テトラメチレンイミノ、ヘキサメチレ
ンイミノ、モルホリノ、２、６−ジメチルモルホリノ、
４−ホルミルピペラジノ、４−シクロペンタンピペラジ
ノ、４−ピリジルピペラジノあるいは次の式で表わされ
る化合物 などが挙げられる。
例えばメチル、エチル、プロピルなどが挙げられ、置換
基を有していてもよいフェニルとしては、例えばフェニ
ル、４−メチルフェニル、４−クロルフェニル、４−メ
トキシフェニル、４−ターシャーリーブチルフェニル、
４−ジフェニル、４−エチルフェニルなどが挙げられ、
複素環式基としては、例えばフラニル、チエニル、ピリ
ジルなどが挙げられ、R2で示される低級アルキルとして
は、例えばメチル、エチル、プロピルなどが挙げられ、
R3で示される低級アルキルとしては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどが挙げら
れ、アルケニルとしては、例えばアリル、プロペニルな
どが挙げられ、R4で示されるアルキルとしては、例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、、ヘキシル、イソ
プロピル、イソブチル、ターシャリーブチル、トリフル
オロエチルなどが挙げられ、アルケニルとしては、例え
ばアリルなどが挙げられ、アルキニルとしては、例えば
プロパギルなどが挙げられ、シクロアルキルとしては、
例えばシクロヘキシル、シクロペンチルなどが挙げら
れ、フェニルアルキルとしては、例えばベンジル、フェ
ネチルなどが挙げられ、アリールとしては、例えばフェ
ニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−
メチルフェニル、３−エチルフェニル、４−ブロムフェ
ニル、２−シアノフェニル、３−クロルフェニル、４−
クロルフェニル、２−ニトロフェニル、３−ニトロフェ
ニル、４−ニトロフェニル、２−トリフルオロメチルフ
ェニル、３−トリフルオロメチル、３−フルオロメチ
ル、４−フルオロメチル、２−メトキシフェニル、３−
メトキシフェニル、２、３−ジメチルフェニル、３、５
−ジメチルフェニル、３、５−ジクロルフェニル、２、
３−ジクロルフェニルなどが挙げられ、窒素含有複素環
式基としては、例えばピリジル、５−クロルピリジル、
４、６−ジメチルピリジル、４、６−ジメチルピリミジ
ニルなどが挙げられ、R3及びR4はそれらが結合している
窒素原子と一緒になって、その他にヘテロ原子も含有で
きる任意に置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の
複素環式基としては、例えばピペリジノ、２−メチルピ
ペリジノ、３−メチルピペリジノ、２−エチルピペリジ
ノ、３、５−ジメチルピペリジノ、４−アセトキシピペ
リジノ、４−エトキシカルボニルピペリジノ、４−ベン
ジルピペリジノ、テトラメチレンイミノ、ヘキサメチレ
ンイミノ、モルホリノ、２、６−ジメチルモルホリノ、
４−ホルミルピペラジノ、４−シクロペンタンピペラジ
ノ、４−ピリジルピペラジノあるいは次の式で表わされ
る化合物 などが挙げられる。
本発明の１、２、３−チアジアゾール誘導体は、以下の
方法により製造できる。
方法により製造できる。
一般式（II） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、Ｘは酸素または硫黄を表わ
す。］で示される化合物と 一般式（III） ［式中、R3は水素、低級アルキルまたは低級アルケニル
を表わし、R4は各場合とも任意に置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
フェニルアルキル、アリールまたは窒素含有複素環式基
を表わすか、あるいはR3及びR4はそれらが結合している
窒素原子と一緒になって、その他にヘテロ原子も含有で
きる任意に置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の
複素環式基を表わす。］で示される化合物を必要であれ
ば溶媒中例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ベン
ゼン、トルエン中、縮合剤例えばDCC、ポリリン酸など
の存在下、０〜100℃、0.5〜48時間反応させ、得られた
生成物を常法に従って処理することにより製造できる。
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、Ｘは酸素または硫黄を表わ
す。］で示される化合物と 一般式（III） ［式中、R3は水素、低級アルキルまたは低級アルケニル
を表わし、R4は各場合とも任意に置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
フェニルアルキル、アリールまたは窒素含有複素環式基
を表わすか、あるいはR3及びR4はそれらが結合している
窒素原子と一緒になって、その他にヘテロ原子も含有で
きる任意に置換されていてもよい飽和もしくは不飽和の
複素環式基を表わす。］で示される化合物を必要であれ
ば溶媒中例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ベン
ゼン、トルエン中、縮合剤例えばDCC、ポリリン酸など
の存在下、０〜100℃、0.5〜48時間反応させ、得られた
生成物を常法に従って処理することにより製造できる。
更に、一般式（II）で示される化合物の反応性誘導体、
例えば、酸クロライド、酸ブロマイド、酸無水物などと
一般式（III）で示される化合物を、必要であれば、溶
媒中例えばテトラヒドロフラン、ベンゼン、ジオキサン
中、塩基例えばトリエチルアミン、ピリジンの存在下、
０〜100℃、0.1〜48時間反応させ、得られた生成物を常
法に従って処理することにより製造できる。
例えば、酸クロライド、酸ブロマイド、酸無水物などと
一般式（III）で示される化合物を、必要であれば、溶
媒中例えばテトラヒドロフラン、ベンゼン、ジオキサン
中、塩基例えばトリエチルアミン、ピリジンの存在下、
０〜100℃、0.1〜48時間反応させ、得られた生成物を常
法に従って処理することにより製造できる。
又、一般式（IV） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、Halはハロ
ゲンを表わす。］ で示される化合物と一般式（Ｖ） ［式中、Ｘは酸素または硫黄を表わし、R2は水素または
低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルまたは
低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シ
クロアルキル、フェニルアルキル、アリールまたは窒素
含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4はそれ
らが結合している窒素原子と一緒になって、その他にヘ
テロ原子も含有できる任意に置換されていてもよい飽和
もしくは不飽和の複素環式基を表わす。］ で示される化合物を、必要とすれば、溶媒中例えば、タ
ーシャリーブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼン中、塩基例えば、カリウムターシャリーブ
トキシド、水素化ナトリウムなどの存在下、０〜100
℃、１〜48時間反応させ、得られた生成物を常法に従っ
て処理することにより製造できる。ここでHalで示され
るハロゲンとしては、クロル、ブロムなどが挙げられ
る。
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、Halはハロ
ゲンを表わす。］ で示される化合物と一般式（Ｖ） ［式中、Ｘは酸素または硫黄を表わし、R2は水素または
低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルまたは
低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シ
クロアルキル、フェニルアルキル、アリールまたは窒素
含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4はそれ
らが結合している窒素原子と一緒になって、その他にヘ
テロ原子も含有できる任意に置換されていてもよい飽和
もしくは不飽和の複素環式基を表わす。］ で示される化合物を、必要とすれば、溶媒中例えば、タ
ーシャリーブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼン中、塩基例えば、カリウムターシャリーブ
トキシド、水素化ナトリウムなどの存在下、０〜100
℃、１〜48時間反応させ、得られた生成物を常法に従っ
て処理することにより製造できる。ここでHalで示され
るハロゲンとしては、クロル、ブロムなどが挙げられ
る。
原料として用いられる一般式（III）（IV）および
（Ｖ）化合物は公知であるか、公知の方法により製造す
ることができる。一般式（II）の化合物の製造例は後述
する参考例１に示す。
（Ｖ）化合物は公知であるか、公知の方法により製造す
ることができる。一般式（II）の化合物の製造例は後述
する参考例１に示す。
本発明化合物（Ｉ）を除草剤の有効成分として用いる場
合、その施用量は使用目的、対象の雑草使用時期などに
より異なるが、通常10アールあたり１〜500g、好ましく
は５〜300gであり、希釈し、または希釈することなく用
いる。
合、その施用量は使用目的、対象の雑草使用時期などに
より異なるが、通常10アールあたり１〜500g、好ましく
は５〜300gであり、希釈し、または希釈することなく用
いる。
本発明化合物（Ｉ）は除草剤として使用する時は、必要
に応じて固体担体、液体担体、固体と液体の組み合わせ
担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、
粉剤、粒剤、乳剤、水和剤、懸濁剤などに製剤して用い
る。
に応じて固体担体、液体担体、固体と液体の組み合わせ
担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、
粉剤、粒剤、乳剤、水和剤、懸濁剤などに製剤して用い
る。
これらの製剤における本発明化合物（Ｉ）の有効量は重
量比で１〜80％、好ましくは、１〜50％である。
量比で１〜80％、好ましくは、１〜50％である。
前記の固体担体としてはクレー（カオリングレー、アタ
パルジャイトクレー等）、ベントナイト、酸性白土、バ
イロフィライト、タルク、珪藻土、ケイ酸土、方解石、
クルミ粉、尿素、硫酸アンモニウム、含水無晶系酸化ケ
イ素などの微粉末あるいは粒状物が挙げられ、 液体担体としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パノール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等の
ケトン類、大豆類、綿実油等の植物油、ジロチルスルホ
キシド、アセトニトリル、シクロヘキサンなどが挙げら
れる。
パルジャイトクレー等）、ベントナイト、酸性白土、バ
イロフィライト、タルク、珪藻土、ケイ酸土、方解石、
クルミ粉、尿素、硫酸アンモニウム、含水無晶系酸化ケ
イ素などの微粉末あるいは粒状物が挙げられ、 液体担体としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パノール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等の
ケトン類、大豆類、綿実油等の植物油、ジロチルスルホ
キシド、アセトニトリル、シクロヘキサンなどが挙げら
れる。
界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル、アルキル
（アリール）スルホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン
酸エステル等の陰イオン界面活性剤およびポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロ
ピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン
界面活性剤等が挙げられる。
（アリール）スルホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン
酸エステル等の陰イオン界面活性剤およびポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロ
ピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン
界面活性剤等が挙げられる。
界面活性剤は、乳化、分散、湿潤などの作用がある。
その他の製剤用補助剤として、乳化剤、安定剤、分散
剤、懸濁化剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤等を加えること
もでき、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビ
ニルアルコール、アラビアゴム、CMC（カルボキシメチ
ルセルロース）、PAP（酸性リン酸イソプロピル）ポリ
オキシエチレン樹脂酸（エステル）、アビエチン酸塩、
ジナフチルメタンジスルホン酸塩などを施用目的に応じ
て用いればよい。
剤、懸濁化剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤等を加えること
もでき、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビ
ニルアルコール、アラビアゴム、CMC（カルボキシメチ
ルセルロース）、PAP（酸性リン酸イソプロピル）ポリ
オキシエチレン樹脂酸（エステル）、アビエチン酸塩、
ジナフチルメタンジスルホン酸塩などを施用目的に応じ
て用いればよい。
これらの製剤は、茎葉処理あるいは土壌処理にて使用す
るのが一般的であり、土壌処理の場合は製剤を土壌表面
に散布する（必要に応じて、散布後土壌と混和す
る。）。
るのが一般的であり、土壌処理の場合は製剤を土壌表面
に散布する（必要に応じて、散布後土壌と混和す
る。）。
対象とする土壌は、砂壌土、壌土等の通常の土壌、植
土、砂土、などである。
土、砂土、などである。
また他の除草剤と混和して用いることにより除草効力と
除草スペクトルの拡大を期待できる。
除草スペクトルの拡大を期待できる。
さらに殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長
調節剤、肥料、土壌改良剤などと混合して用いることが
できる。
調節剤、肥料、土壌改良剤などと混合して用いることが
できる。
［実施例］ 次に実施例、製剤例を挙げて本発明を更に詳しく説明す
る。
る。
（実施例１） ２−（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５
−イルオキシ）−Ｎ−メチルアセトアニリドの製造 ターシャリーブトキシカリウム0.84gを溶解したターシ
ャリーブタノール30mlにＮ−メチル−Ｎ−フェニル−２
−ヒドロキシアセトアミド0.83gを加えた。
−イルオキシ）−Ｎ−メチルアセトアニリドの製造 ターシャリーブトキシカリウム0.84gを溶解したターシ
ャリーブタノール30mlにＮ−メチル−Ｎ−フェニル−２
−ヒドロキシアセトアミド0.83gを加えた。
これにターシャリーブタノール10mlに溶解した４−フェ
ニル−５−クロル−１、２、３−チアジアゾール1.0gを
加えた。
ニル−５−クロル−１、２、３−チアジアゾール1.0gを
加えた。
室温で２時間反応後、溶媒を減圧留去し、クロロホルム
40mlで抽出し、それを水で２回洗った後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
40mlで抽出し、それを水で２回洗った後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
クロロホルムを減圧留去した後、残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（トルエンおよびクロロホルム）で精
製し、２−（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾー
ル−５−イルオキシ）−Ｎ−メチルアセトアニリド0.91
g（収率56％）を得た。油状粘稠物。
ロマトグラフィー（トルエンおよびクロロホルム）で精
製し、２−（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾー
ル−５−イルオキシ）−Ｎ−メチルアセトアニリド0.91
g（収率56％）を得た。油状粘稠物。
（実施例２） ２−（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５
−イルオキシ）−Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトアミドの製造 ヒドロキシ酢酸ジエチルアミド0.66gをテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解し、氷冷下、ターシャリーブトキシカリ
ウム0.84gを加え、30分間攪拌した。
−イルオキシ）−Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトアミドの製造 ヒドロキシ酢酸ジエチルアミド0.66gをテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解し、氷冷下、ターシャリーブトキシカリ
ウム0.84gを加え、30分間攪拌した。
これに４−フェニル−５−クロル−１、２、３−チアジ
アゾール1.0gを加え、16時間加熱還流した。
アゾール1.0gを加え、16時間加熱還流した。
反応終了後、溶媒を減圧留去した後、クロロホルム40ml
を加え、７％塩酸および水で洗浄した。
を加え、７％塩酸および水で洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、クロロホルム減圧留去
し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン
およびクロロホルム）で精製し、２−（４−フェニル−
１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキシ）−Ｎ、
Ｎ−ジエチルアセトアミド0.62g（収率42％）を得た。
油状粘稠物 （実施例３） ２−［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、
２、３−チアジアゾール、５−イルオキシ］−アセトピ
ペリジドの製造 ２−［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、
２、３−チアジアゾール、５−イルオキシ］−アセチル
クロリド0.78gおよびピペリジン0.26gをテトラヒドロフ
ラン15mlに溶解し、そこに氷冷下トリエチルアミン0.38
gを滴下した。滴下終了後一晩放置し、次いで溶媒を減
圧留去した。残留物を酢酸エチル50mlに溶解した後、
水、７％塩酸、飽和NaHCO3水および水で洗浄した。
し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン
およびクロロホルム）で精製し、２−（４−フェニル−
１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキシ）−Ｎ、
Ｎ−ジエチルアセトアミド0.62g（収率42％）を得た。
油状粘稠物 （実施例３） ２−［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、
２、３−チアジアゾール、５−イルオキシ］−アセトピ
ペリジドの製造 ２−［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、
２、３−チアジアゾール、５−イルオキシ］−アセチル
クロリド0.78gおよびピペリジン0.26gをテトラヒドロフ
ラン15mlに溶解し、そこに氷冷下トリエチルアミン0.38
gを滴下した。滴下終了後一晩放置し、次いで溶媒を減
圧留去した。残留物を酢酸エチル50mlに溶解した後、
水、７％塩酸、飽和NaHCO3水および水で洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルクロマトグラ
フィー（トルエンおよびクロロホルム）で精製し、２−
［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、２、
３−チアジアゾール−５−イルオキシ］−アセトピペリ
ジド0.47g（収率51％）を得た。
フィー（トルエンおよびクロロホルム）で精製し、２−
［４−（４−ターシャリーブチルフェニル）−１、２、
３−チアジアゾール−５−イルオキシ］−アセトピペリ
ジド0.47g（収率51％）を得た。
融点130〜132℃ （実施例４〜169） 前記実施例１〜３と同様に行ない、以下の化合物を製造
した。
した。
結果を第１表に示す。
（参考例１） ２−（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５
−イルオキシ）アセチルクロリドの製造 ４−フェニル−５−クロル−１、２、３−チアジアゾー
ル11.6g及びグリコール酸8.9gをターシャリーブタノー
ル150mlに溶解し、そこに室温攪拌下ターシャリーブト
キシカリウム27.8gを少量ずつ添加した。
−イルオキシ）アセチルクロリドの製造 ４−フェニル−５−クロル−１、２、３−チアジアゾー
ル11.6g及びグリコール酸8.9gをターシャリーブタノー
ル150mlに溶解し、そこに室温攪拌下ターシャリーブト
キシカリウム27.8gを少量ずつ添加した。
添加終了後室温で一晩反応させた後、溶媒を減圧留去し
た。残留物に水約500mlを加え、不溶物をろ別した後、
ジクロルメタンで２回洗浄し、次いで水を約半量になる
まで減圧濃縮した。
た。残留物に水約500mlを加え、不溶物をろ別した後、
ジクロルメタンで２回洗浄し、次いで水を約半量になる
まで減圧濃縮した。
濃縮液を濃塩酸で酸性にし、析出した２−（４−フェニ
ル−１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキシ）酢
酸9.1gを得た。収量65％、融点121−122℃。２−（４−
フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキ
シ）酢酸0.8gを0.5N水酸化カリウム水溶液6.8mlに溶解
した後、凍結乾燥した。これにベンゼン25mlとピリジン
３滴を加え、氷冷攪拌下オキサリルクロリド0.92gを滴
下した。
ル−１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキシ）酢
酸9.1gを得た。収量65％、融点121−122℃。２−（４−
フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５−イルオキ
シ）酢酸0.8gを0.5N水酸化カリウム水溶液6.8mlに溶解
した後、凍結乾燥した。これにベンゼン25mlとピリジン
３滴を加え、氷冷攪拌下オキサリルクロリド0.92gを滴
下した。
30分攪拌した後、溶媒を35℃以下で減圧濃縮し、２−
（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５−イ
ルオキシ）アセチルクロリド0.86gを得た。このものは
そのまま、次の反応に使用した。
（４−フェニル−１、２、３−チアジアゾール−５−イ
ルオキシ）アセチルクロリド0.86gを得た。このものは
そのまま、次の反応に使用した。
次に示す製剤例中、部は全て重量部を意味する。
（製剤例１） 本発明化合物（Ｉ）10部、ナフタレンスルホン酸ホルマ
リン縮合物１部、ポリオキシエチレンアルキルフェノー
ルエーテル0.5部、ホワイトカーボン0.5部および焼成珪
藻土88部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
リン縮合物１部、ポリオキシエチレンアルキルフェノー
ルエーテル0.5部、ホワイトカーボン0.5部および焼成珪
藻土88部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
（製剤例２） 本発明化合物（Ｉ）20部、ホワイトカーボン20部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム３部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル２部およびクレー55部を粉砕混合
機で均一に混合して水和剤を得た。
ニンスルホン酸カルシウム３部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル２部およびクレー55部を粉砕混合
機で均一に混合して水和剤を得た。
（製剤例３） 本発明化合物（Ｉ）20部、ソルボール700HD乳化剤（東
邦化学工業株式会社製品）15部、シクロヘキサノン20部
およびキシレン45部を混合溶解して乳剤を得た。
邦化学工業株式会社製品）15部、シクロヘキサノン20部
およびキシレン45部を混合溶解して乳剤を得た。
（製剤例４） 本発明化合物（Ｉ）３部、ラウリルサルフュート１部、
リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト30部
およびクレー64部に水15部を加え混練機で混練した後、
造粒機で造粒し流動乾燥機で乾燥して粒剤を得た。
リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト30部
およびクレー64部に水15部を加え混練機で混練した後、
造粒機で造粒し流動乾燥機で乾燥して粒剤を得た。
［発明の効果］ 本発明化合物（Ｉ）は単子葉および双子葉雑草、例えば
水田雑草ではタイヌビエ等のイネ科雑草、コナギ、キカ
シグサ等の広葉雑草、イヌホタルイ、ミズガヤツリ等の
カヤツリグサ科雑草、また畑雑草ではメヒシバ、スズメ
ノカタビラ等に対してすぐれた除草効果を示す。
水田雑草ではタイヌビエ等のイネ科雑草、コナギ、キカ
シグサ等の広葉雑草、イヌホタルイ、ミズガヤツリ等の
カヤツリグサ科雑草、また畑雑草ではメヒシバ、スズメ
ノカタビラ等に対してすぐれた除草効果を示す。
また、除草用量ではイネ、コムギ、ダイズ、ワタ等の有
用植物に対して全くまたはほとんど薬害を示さず、たと
え薬害のある場合でも容易に回復可能である。
用植物に対して全くまたはほとんど薬害を示さず、たと
え薬害のある場合でも容易に回復可能である。
従って、本発明化合物（Ｉ）は、水田、畑地、牧草地、
果樹園、茶園等の農耕地および鉄道、道路、河川敷、芝
地、空地、造成地、駐車場、公園等の非農耕地において
発生前および発生後処理除草剤として使用できる。
果樹園、茶園等の農耕地および鉄道、道路、河川敷、芝
地、空地、造成地、駐車場、公園等の非農耕地において
発生前および発生後処理除草剤として使用できる。
また、本発明化合物（Ｉ）は人、家畜、家禽等に対して
無害であり、魚毒性も低いので安全性にすぐれ、残留毒
性の問題もない。
無害であり、魚毒性も低いので安全性にすぐれ、残留毒
性の問題もない。
以下に試験例を示し、本発明化合物（Ｉ）の除草剤とし
ての有用性を明らかにする。
ての有用性を明らかにする。
試験例1:水田除草活性試験 OPS苗パック300g用（13×９×5cm）に水田土壌をつめ、
湛水して水田状態とした後、2.5葉期のイネ苗を移植し
た。
湛水して水田状態とした後、2.5葉期のイネ苗を移植し
た。
更に、タイヌビエ、イヌホタルイ、コナギ、ミズガヤツ
リ、オモダカおよびキカシグサを播種した。
リ、オモダカおよびキカシグサを播種した。
イネ移植翌日（雑草播種１日後：発生前）に所定用量の
被験化合物のポット当り5mlの水で希釈し、ピペットで
ポット水面に滴下処理した。処理後、３週間温室内で管
理し、除草効果および薬害の程度を調査し、以下の基準
に従って評価した。
被験化合物のポット当り5mlの水で希釈し、ピペットで
ポット水面に滴下処理した。処理後、３週間温室内で管
理し、除草効果および薬害の程度を調査し、以下の基準
に従って評価した。
（評価方法） 5:完全枯死、4:大害、3:中害、2:小害 1:微害、0:無害 結果を第２表に示す。
試験例2:畑地除草活性試験 （１）発生前処理 OPS苗パック300g用に畑土壌をつめ、雑草として、メヒ
シバ、スズメノカタビラ、ナタネ、シロザ、ハコベ、イ
ヌビユを播種し覆土を行なった。
シバ、スズメノカタビラ、ナタネ、シロザ、ハコベ、イ
ヌビユを播種し覆土を行なった。
その後直ちに所定容量の被験化合物を１アール当り30l
の水に希釈し、クロマト用ガラススプレーを用いて土壌
表面に均一に散布した。以後、ガラス温室で管理を行な
い、処理３週間後に各雑草に対する除草効果を調査し、
以下の基準に従って評価した。
の水に希釈し、クロマト用ガラススプレーを用いて土壌
表面に均一に散布した。以後、ガラス温室で管理を行な
い、処理３週間後に各雑草に対する除草効果を調査し、
以下の基準に従って評価した。
（評価方法） 5:完全枯死、4:大害、3:中害、2:小害 1:微害、0:無害 結果を第３表に示す。
（２）発生後処理 塩化ビニール製４号深鉢に畑土壌をつめ、雑草としてイ
ヌビユ、ルーサン、時なしダイコン、コセンダングサ、
ノビエを播種し、覆土を行ない、温室で育成した。７日
後、ノビエの２葉期、イヌビユ２葉期、ルーサン１葉
期、時なしダイコン２葉期、およびコセンダングサ２葉
期に本発明化合物の所定量を10l/aの水に希釈し展着剤
としてTween−20、100ppm相当量添加して、植物体の茎
葉によく付着するよう散布処理した。
ヌビユ、ルーサン、時なしダイコン、コセンダングサ、
ノビエを播種し、覆土を行ない、温室で育成した。７日
後、ノビエの２葉期、イヌビユ２葉期、ルーサン１葉
期、時なしダイコン２葉期、およびコセンダングサ２葉
期に本発明化合物の所定量を10l/aの水に希釈し展着剤
としてTween−20、100ppm相当量添加して、植物体の茎
葉によく付着するよう散布処理した。
以後ガラス温室で管理を行ない、処理２週間後に各雑草
に対する除草効果を調査し、以下の基準に従って評価し
た。
に対する除草効果を調査し、以下の基準に従って評価し
た。
（評価方法） 5:完全枯死、4:大害、3:中害、2:小害 1:微害、0:無害 結果を第４表に示す。
対象化合物（Ｉ） （特開昭56-140985号公報記載化合物）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 417/12 ２０９ 9051−4Ｃ ２１１ 9051−4Ｃ ２１３ 9051−4Ｃ ２１５ 9051−4Ｃ ２６５ 9051−4Ｃ
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルま
たは低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、フェニルアルキル、アリールまた
は窒素含有複素環式基を表わすか、あるいはR3及びR4は
それらが結合している窒素原子と一緒になって、その他
にヘテロ原子も含有できる任意に置換されていてもよい
飽和もしくは不飽和の複素環式基を表わし、Ｘは酸素ま
たは硫黄を表わす。］で示される１、２、３−チアジア
ゾール誘導体。 - 【請求項２】一般式（II） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、Ｘは酸素または硫黄を表わ
す。］で示される化合物もしくはそれの酸誘導体と 一般式（III） ［式中、R3は水素、低級アルキルまたは低級アルケニル
を表わし、R4は各場合とも任意に置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、
フェニルアルキル、アリールまたは窒素含有複素環式基
を表わすか、あるいはR3およびR4はそれらが結合してい
る窒素原子と一緒になって、その他にヘテロ原子も含有
できる任意に置換されていてもよい飽和もしくは不飽和
の複素環式基を表わす。］で示される化合物とを反応さ
せるか、または 一般式（IV） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、Halはハロ
ゲンを表わす。］で示される化合物と一般式（Ｖ） ［式中、Ｘは酸素または硫黄を表わし、R2は水素または
低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルまたは
低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シ
クロアルキル、フェニルアルキル、アリールまたは窒素
含有複素環式基を表わすか、あるいはR3及びR4はそれら
が結合している窒素原子と一緒になって、その他にヘテ
ロ原子も含有できる任意に置換されていてもよい飽和も
しくは不飽和の複素環式基を表わす。］ で示される化合物を反応させることを特徴とする 一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルま
たは低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、フェニルアルキル、アリールまた
は窒素含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4
はそれらが結合している窒素原子と一緒になって、その
他にヘテロ原子も含有できる任意に置換されていてもよ
い飽和もしくは不飽和の複素環式基を表わし、Ｘは酸素
または硫黄を表わす。］で示される１、２、３−チアジ
アゾール誘導体の製造法。 - 【請求項３】一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素、低級アルキル、置換基を有していて
もよいフェニルまたは複素環式基を表わし、R2は水素ま
たは低級アルキルを表わし、R3は水素、低級アルキルま
たは低級アルケニルを表わし、R4は各場合とも任意に置
換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、フェニルアルキル、アリールまた
は窒素含有複素環式基を表わすか、あるいはR3およびR4
はそれらが結合している窒素原子と一緒になって、その
他にヘテロ原子も含有できる任意に置換されていてもよ
い飽和もしくは不飽和の複素環式基を表わし、Ｘは酸素
または硫黄を表わす。］で示される１、２、３−チアジ
アゾール誘導体を有効成分として含有する除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1216398A JPH0684363B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | １、２、３―チアジアゾール誘導体、その製造法及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1216398A JPH0684363B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | １、２、３―チアジアゾール誘導体、その製造法及び除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0381269A JPH0381269A (ja) | 1991-04-05 |
| JPH0684363B2 true JPH0684363B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16687941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1216398A Expired - Fee Related JPH0684363B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | １、２、３―チアジアゾール誘導体、その製造法及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0684363B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4420337A1 (de) * | 1994-06-10 | 1995-12-14 | Bayer Ag | N-Heterocyclyl-heteroaryloxyacetamide |
| DE4438178A1 (de) * | 1994-10-26 | 1996-05-02 | Bayer Ag | N-Methyl-N-isopropyl-heteroaryloxyacetamide |
-
1989
- 1989-08-23 JP JP1216398A patent/JPH0684363B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0381269A (ja) | 1991-04-05 |
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