JPH0684312A - 磁気ヘッド・スライダのクラウンとキャンバとを個別に制御することができる磁気ヘッド・スライダの製作方法 - Google Patents
磁気ヘッド・スライダのクラウンとキャンバとを個別に制御することができる磁気ヘッド・スライダの製作方法Info
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- JPH0684312A JPH0684312A JP5002674A JP267493A JPH0684312A JP H0684312 A JPH0684312 A JP H0684312A JP 5002674 A JP5002674 A JP 5002674A JP 267493 A JP267493 A JP 267493A JP H0684312 A JPH0684312 A JP H0684312A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッド・スライダのクラウン及びキャン
バの値とそれら値の許容誤差とを、必要とされている値
及び許容誤差にすることができる、磁気ヘッド・スライ
ダの製作方法を提供する。 【構成】 磁気ヘッド・スライダの製作方法は、スライ
ダにラッピング加工を施してエアー・ベアリング面３４
を形成するラッピング・ステップと、エアー・ベアリン
グ面に選択したパターンのレール部を形成するレール部
形成ステップと、スライダの背面側の面３６に、選択し
たパターンの応力を発生させることによって、ラッピン
グ・ステップとレール部形成ステップとにおいてスライ
ダに生じたゆがみを除去するステップとを含んでいる。
発生させる応力のパターンを適宜選択することにより、
スライダのクラウン及びキャンバの値を所望の範囲内の
ものとすることができる。
バの値とそれら値の許容誤差とを、必要とされている値
及び許容誤差にすることができる、磁気ヘッド・スライ
ダの製作方法を提供する。 【構成】 磁気ヘッド・スライダの製作方法は、スライ
ダにラッピング加工を施してエアー・ベアリング面３４
を形成するラッピング・ステップと、エアー・ベアリン
グ面に選択したパターンのレール部を形成するレール部
形成ステップと、スライダの背面側の面３６に、選択し
たパターンの応力を発生させることによって、ラッピン
グ・ステップとレール部形成ステップとにおいてスライ
ダに生じたゆがみを除去するステップとを含んでいる。
発生させる応力のパターンを適宜選択することにより、
スライダのクラウン及びキャンバの値を所望の範囲内の
ものとすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド・スライダに
関し、より詳しくは、磁気ヘッド・スライダのクラウン
とキャンバとを個別に制御することができる磁気ヘッド
・スライダの製作方法に関する。
関し、より詳しくは、磁気ヘッド・スライダのクラウン
とキャンバとを個別に制御することができる磁気ヘッド
・スライダの製作方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気媒体に対して浮上して相対的に走行
する形式の磁気ヘッド・アセンブリが広く使用されてお
り、この種の磁気ヘッド・アセンブリは一般的に、磁気
ヘッド・スライダと呼ばれている。この種の磁気ヘッド
・アセンブリは、磁気トランスデューサと磁気記録媒体
（例えば回転する磁気ディスク等）との間に、非接触の
トランスデューシング可能な位置関係を確立するもので
あり、即ち、そのトランスデューサとディスクとの間
に、一定の間隙が、安定して維持されるようにするもの
である。磁気記録の技術分野においては、その面密度ま
でならば情報の記録及び読取りを充分な信頼性をもって
行なうことができるという限界面密度を、更に高めると
いうことが絶えず要望されている。この限界面密度を高
めたいという要望のために、磁気記録トラックの線密度
であるビット密度は上昇の一途をたどっており、またト
ラック幅も更に細いものとなりつつある。これらに加え
て、通常求められているもう１つの変化として、磁気ヘ
ッド・スライダの浮上高さを更に低くしたいということ
がある。ところが、浮上高さを更に低くした場合には、
その低い浮上高さを、より高いトランスデューシング速
度で充分な信頼性をもってデータの記録及び読取りを行
なえる程度に一定に維持するということが、一層困難に
なる。
する形式の磁気ヘッド・アセンブリが広く使用されてお
り、この種の磁気ヘッド・アセンブリは一般的に、磁気
ヘッド・スライダと呼ばれている。この種の磁気ヘッド
・アセンブリは、磁気トランスデューサと磁気記録媒体
（例えば回転する磁気ディスク等）との間に、非接触の
トランスデューシング可能な位置関係を確立するもので
あり、即ち、そのトランスデューサとディスクとの間
に、一定の間隙が、安定して維持されるようにするもの
である。磁気記録の技術分野においては、その面密度ま
でならば情報の記録及び読取りを充分な信頼性をもって
行なうことができるという限界面密度を、更に高めると
いうことが絶えず要望されている。この限界面密度を高
めたいという要望のために、磁気記録トラックの線密度
であるビット密度は上昇の一途をたどっており、またト
ラック幅も更に細いものとなりつつある。これらに加え
て、通常求められているもう１つの変化として、磁気ヘ
ッド・スライダの浮上高さを更に低くしたいということ
がある。ところが、浮上高さを更に低くした場合には、
その低い浮上高さを、より高いトランスデューシング速
度で充分な信頼性をもってデータの記録及び読取りを行
なえる程度に一定に維持するということが、一層困難に
なる。
【０００３】従来の磁気ヘッド・スライダの製作工程
は、エアー・ベアリング面（air bearing surface:以
下、ＡＢＳという）を形成するためのラッピング工程
と、このラッピング工程に続く、そのＡＢＳ上に所定パ
ターンのレール部を形成する工程とを含んでいる。例え
ば、米国特許第４９１２８８３号には、誘導型の読み書
きヘッドを含んでいる磁気ヘッド・アセンブリのため
の、ラッピング・システムが記載されており、米国特許
第４９１４８６８号には、磁気抵抗型の書込みヘッドを
含んでいる磁気ヘッド・アセンブリのための、ラッピン
グ・システムが記載されている。また、所定パターンの
レール部を形成するための加工技法としては、エッチン
グ加工や、イオンビーム加工をはじめとする種々の機械
加工技法、それにレーザビーム加工等があり、これらに
ついては米国特許第４３０１３５３号に記載されてい
る。
は、エアー・ベアリング面（air bearing surface:以
下、ＡＢＳという）を形成するためのラッピング工程
と、このラッピング工程に続く、そのＡＢＳ上に所定パ
ターンのレール部を形成する工程とを含んでいる。例え
ば、米国特許第４９１２８８３号には、誘導型の読み書
きヘッドを含んでいる磁気ヘッド・アセンブリのため
の、ラッピング・システムが記載されており、米国特許
第４９１４８６８号には、磁気抵抗型の書込みヘッドを
含んでいる磁気ヘッド・アセンブリのための、ラッピン
グ・システムが記載されている。また、所定パターンの
レール部を形成するための加工技法としては、エッチン
グ加工や、イオンビーム加工をはじめとする種々の機械
加工技法、それにレーザビーム加工等があり、これらに
ついては米国特許第４３０１３５３号に記載されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の磁気ヘッド・ス
ライダの製作工程では、そのスライダにかなりの大きさ
の応力（残留応力）が残る。その結果として生じるスラ
イダのゆがみのために、ラッピング加工後のＡＢＳ面は
凹面になり、即ち、そのＡＢＳ面のクラウン及びキャン
バが負のクラウン及び負のキャンバになる。磁気ヘッド
・スライダの浮上高さは、クラウン及びキャンバの値に
強く影響されるため、このようにクラウン及びキャンバ
が負クラウン及び負のキャンバになると、所望の設計条
件を満たすことが困難になる。
ライダの製作工程では、そのスライダにかなりの大きさ
の応力（残留応力）が残る。その結果として生じるスラ
イダのゆがみのために、ラッピング加工後のＡＢＳ面は
凹面になり、即ち、そのＡＢＳ面のクラウン及びキャン
バが負のクラウン及び負のキャンバになる。磁気ヘッド
・スライダの浮上高さは、クラウン及びキャンバの値に
強く影響されるため、このようにクラウン及びキャンバ
が負クラウン及び負のキャンバになると、所望の設計条
件を満たすことが困難になる。
【０００５】従って本発明の主たる目的は、磁気ヘッド
・スライダの製作方法であって、磁気ヘッド・スライダ
に、選択したパターンの応力（残留応力）を発生させる
ことによって、クラウン及びキャンバの値とそれら値の
許容誤差とを、必要とされている値及び許容誤差にする
ことができる、磁気ヘッド・スライダの製作方法を提供
することにある。
・スライダの製作方法であって、磁気ヘッド・スライダ
に、選択したパターンの応力（残留応力）を発生させる
ことによって、クラウン及びキャンバの値とそれら値の
許容誤差とを、必要とされている値及び許容誤差にする
ことができる、磁気ヘッド・スライダの製作方法を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気ヘ
ッド・スライダの製作方法は、前記スライダの第１面に
対して所定寸法になるまでラッピング加工を施して、エ
アー・ベアリング面を形成する、ラッピング・ステップ
と、前記スライダの前記第１面に、選択したパターンの
レール部を形成する、レール部形成ステップと、前記ス
ライダの前記第１面とは反対側の面に、選択したパター
ンの応力を発生させることにより、前記スライダのクラ
ウン及びキャンバの特性を、選択した特性にする、応力
発生ステップとを含んでいる。
ッド・スライダの製作方法は、前記スライダの第１面に
対して所定寸法になるまでラッピング加工を施して、エ
アー・ベアリング面を形成する、ラッピング・ステップ
と、前記スライダの前記第１面に、選択したパターンの
レール部を形成する、レール部形成ステップと、前記ス
ライダの前記第１面とは反対側の面に、選択したパター
ンの応力を発生させることにより、前記スライダのクラ
ウン及びキャンバの特性を、選択した特性にする、応力
発生ステップとを含んでいる。
【０００７】これらステップのうち、ラッピング・ステ
ップと、エアー・ベアリング面に選択したパターンのレ
ール部を形成するレール部形成ステップとにおいては、
応力（残留応力）が発生し、その応力のためにクラウン
及びキャンバが負のクラウン及び負のキャンバになる
が、これは好ましいことではない。そこで、スライダの
背面側の面に発生させる、上記の選択したパターンの応
力（残留応力）を、それらラッピング・ステップとレー
ル部形成ステップとで発生するスライダのゆがみを除去
して、そのスライダのクラウン及びキャンバを所望のク
ラウン及びキャンバとすることができるような、然るべ
きパターンの応力としているのである。
ップと、エアー・ベアリング面に選択したパターンのレ
ール部を形成するレール部形成ステップとにおいては、
応力（残留応力）が発生し、その応力のためにクラウン
及びキャンバが負のクラウン及び負のキャンバになる
が、これは好ましいことではない。そこで、スライダの
背面側の面に発生させる、上記の選択したパターンの応
力（残留応力）を、それらラッピング・ステップとレー
ル部形成ステップとで発生するスライダのゆがみを除去
して、そのスライダのクラウン及びキャンバを所望のク
ラウン及びキャンバとすることができるような、然るべ
きパターンの応力としているのである。
【０００８】具体的な１つの実施例においては、スライ
ダの背面側の面に、高い応力（残留応力）が加わった材
料を新たに発生させることなく、その背面側の面から材
料を選択的に除去することによって、選択した局部的な
応力（残留応力）の変化を生じさせるようにしている。
そのための適当な技法のうちの１つは、レーザ加工によ
って、スライダの背面側の面から、応力（残留応力）が
加わっている材料を選択的に摩滅除去するというもので
あり、また、そのための適当な技法のうちの別の１つ
は、マイクロ・サンドブラスト加工によって、応力（残
留応力）の変化を生じさせるというものである。
ダの背面側の面に、高い応力（残留応力）が加わった材
料を新たに発生させることなく、その背面側の面から材
料を選択的に除去することによって、選択した局部的な
応力（残留応力）の変化を生じさせるようにしている。
そのための適当な技法のうちの１つは、レーザ加工によ
って、スライダの背面側の面から、応力（残留応力）が
加わっている材料を選択的に摩滅除去するというもので
あり、また、そのための適当な技法のうちの別の１つ
は、マイクロ・サンドブラスト加工によって、応力（残
留応力）の変化を生じさせるというものである。
【０００９】
【実施例】従来の磁気ヘッド・スライダの製作工程で
は、その製作工程において応力（残留応力）が発生し、
その残留応力のために、スライダのクラウン特性ないし
キャンバ特性が不都合な特性となることがあった。本発
明は、この製作工程を改良して、スライダに選択したパ
ターンの応力（残留応力）を発生させる得るようにする
ことによって、クラウン及びキャンバの値とそれら値の
許容誤差とを、必要とされている値及び許容誤差にし得
るようにしたものである。
は、その製作工程において応力（残留応力）が発生し、
その残留応力のために、スライダのクラウン特性ないし
キャンバ特性が不都合な特性となることがあった。本発
明は、この製作工程を改良して、スライダに選択したパ
ターンの応力（残留応力）を発生させる得るようにする
ことによって、クラウン及びキャンバの値とそれら値の
許容誤差とを、必要とされている値及び許容誤差にし得
るようにしたものである。
【００１０】本発明の詳細な説明に先立ち、典型的な磁
気ヘッド・スライダと、その磁気ヘッド・スライダを製
作する際の、従来の製作工程とについて、簡単に説明し
ておく。先ず、スライダ本体の主面、即ち、そのスライ
ダの、ディスク等の記録媒体の表面に正対する側の面に
は、エアー・ベアリング面（ＡＢＳ）が形成されてい
る。このＡＢＳは、正圧面から成るものであることもあ
れば、正圧面と負圧面との組合せから成るものであるこ
ともある。
気ヘッド・スライダと、その磁気ヘッド・スライダを製
作する際の、従来の製作工程とについて、簡単に説明し
ておく。先ず、スライダ本体の主面、即ち、そのスライ
ダの、ディスク等の記録媒体の表面に正対する側の面に
は、エアー・ベアリング面（ＡＢＳ）が形成されてい
る。このＡＢＳは、正圧面から成るものであることもあ
れば、正圧面と負圧面との組合せから成るものであるこ
ともある。
【００１１】図１、図２、及び図３に示した具体例で
は、スライダ１０のＡＢＳ１２に、２つの側部レール部
１４、１６が形成されている。それら側部レール部１
４、１６は、その各々が、先端にテーパ部１８を備えて
いる。それら２つの側部レール部１４、１６の夫々の内
側の側面は、くぼみ部２０の境界を画成しており、この
くぼみ部２０は、エッチング加工、イオンビーム加工、
或いは、その他の機械加工技術によって形成されるもの
である。また、このくぼみ部２０は、スライダ１０の先
端部２２から後端部２４までに亙って延在している。そ
して、スライダ１０の後端部２４には、少なくとも１つ
の、そして好ましくは薄膜型の、磁気トランスデューサ
２６が形成されている。
は、スライダ１０のＡＢＳ１２に、２つの側部レール部
１４、１６が形成されている。それら側部レール部１
４、１６は、その各々が、先端にテーパ部１８を備えて
いる。それら２つの側部レール部１４、１６の夫々の内
側の側面は、くぼみ部２０の境界を画成しており、この
くぼみ部２０は、エッチング加工、イオンビーム加工、
或いは、その他の機械加工技術によって形成されるもの
である。また、このくぼみ部２０は、スライダ１０の先
端部２２から後端部２４までに亙って延在している。そ
して、スライダ１０の後端部２４には、少なくとも１つ
の、そして好ましくは薄膜型の、磁気トランスデューサ
２６が形成されている。
【００１２】スライダ１０が、矢印３０の向きに運動し
ている磁気ディスク表面２８の近傍にあるときには、そ
の側部レール部１４、１６とテーパ部１８とに夫々に異
なった圧力成分が発生している。それら圧力成分の各々
が、スライダ１０に夫々の荷重担持力を付与しており、
それら荷重担持力がバランスすることによって、このス
ライダの浮上特性が、所望の特性として得られるように
なっている。即ち、それら圧力成分が組み合わさること
によって、運動している磁気ディスク表面２８に対する
相対的角度であるピッチ角θが所望の大きさの角度とな
り、また、そのときのスライダ１０の姿勢が、そのスラ
イダ１０の各部のうち、トランスデューサ２４が取り付
けられているスライダ１０の後端部２４が、最も磁気デ
ィスク表面２８に近くなるような姿勢になる。
ている磁気ディスク表面２８の近傍にあるときには、そ
の側部レール部１４、１６とテーパ部１８とに夫々に異
なった圧力成分が発生している。それら圧力成分の各々
が、スライダ１０に夫々の荷重担持力を付与しており、
それら荷重担持力がバランスすることによって、このス
ライダの浮上特性が、所望の特性として得られるように
なっている。即ち、それら圧力成分が組み合わさること
によって、運動している磁気ディスク表面２８に対する
相対的角度であるピッチ角θが所望の大きさの角度とな
り、また、そのときのスライダ１０の姿勢が、そのスラ
イダ１０の各部のうち、トランスデューサ２４が取り付
けられているスライダ１０の後端部２４が、最も磁気デ
ィスク表面２８に近くなるような姿勢になる。
【００１３】スライダ１０の望ましい浮上特性として要
求されることは、１つは、そのスライダ１０が発生する
エアー・ベアリングが、磁気トランスデューサ２６と記
録面２８との間に非常に小さな空隙ｈを維持できるもの
であること、そしてもう１つは、その空隙ｈが、スライ
ダ１０が記録面２８上のトラックからトラックへとアク
セスする間と、そのアクセスの後とに亙って、略々一定
の大きさに維持されることである。
求されることは、１つは、そのスライダ１０が発生する
エアー・ベアリングが、磁気トランスデューサ２６と記
録面２８との間に非常に小さな空隙ｈを維持できるもの
であること、そしてもう１つは、その空隙ｈが、スライ
ダ１０が記録面２８上のトラックからトラックへとアク
セスする間と、そのアクセスの後とに亙って、略々一定
の大きさに維持されることである。
【００１４】スライダの望ましい浮上特性を達成し且つ
維持するために重要な２つの特性値が存在していること
が知られており、それらは、クラウンの値とキャンバの
値とである。クラウンは、空気の流れの方向において、
そのスライダの面が完全な平面からどの程度逸脱してい
るかを示すものであり、そのスライダの面が凹面形状の
場合を負のクラウン、凸面形状の場合を正のクラウンと
定義している。キャンバは、空気の流れの方向に対して
直角の方向において、そのスライダの面が完全な平面か
らどの程度逸脱しているかを示すものであり、そのスラ
イダの面が凹面形状の場合を負のキャンバ、凸面形状の
場合を正のキャンバと定義している。スライダにとっ
て、負のクラウンと負のキャンバとは、いずれも好まし
いものではなく、なぜならば、それらによって、浮上高
さが一定しなくなることに加えて、スライダの稜部が記
録媒体に接触してしまった場合には、その稜部によって
記録媒体が損傷するおそれも増大するからである。
維持するために重要な２つの特性値が存在していること
が知られており、それらは、クラウンの値とキャンバの
値とである。クラウンは、空気の流れの方向において、
そのスライダの面が完全な平面からどの程度逸脱してい
るかを示すものであり、そのスライダの面が凹面形状の
場合を負のクラウン、凸面形状の場合を正のクラウンと
定義している。キャンバは、空気の流れの方向に対して
直角の方向において、そのスライダの面が完全な平面か
らどの程度逸脱しているかを示すものであり、そのスラ
イダの面が凹面形状の場合を負のキャンバ、凸面形状の
場合を正のキャンバと定義している。スライダにとっ
て、負のクラウンと負のキャンバとは、いずれも好まし
いものではなく、なぜならば、それらによって、浮上高
さが一定しなくなることに加えて、スライダの稜部が記
録媒体に接触してしまった場合には、その稜部によって
記録媒体が損傷するおそれも増大するからである。
【００１５】本発明に係る磁気ヘッド・スライダの製作
方法は、例えば次のような技法に関係したものである。
その技法とは、先ず１枚のウェーハ上に、多数のトラン
スデューサを縦横に行列状に並べた形で製作し、続い
て、その行列を機械的な切断加工によって各列ごとに分
離し、それによって、複数個のトランスデューサが一列
に並んで形成されている列片を作成する。続いて、その
列片にラッピング加工を施し、このラッピング加工は、
磁気トランスデューサの磁気特性が所望の特性となる寸
法にまで研磨するようにして行なうものであり、また、
その列片の、ラッピング加工を施す面は、その列片を切
断して個々のスライダとしたときに、それらスライダの
ＡＢＳとなる面である。続いて、列片のＡＢＳに、所望
のパターンのレール部を形成する。これらのレール部形
成工程とラッピング工程とのいずれによっても、その列
片には応力（残留応力）が発生され、しかもその応力
は、通常、その列片をラッピング・ツールから取り外し
たときに、その列片に負のクラウンと負のキャンバとの
両方を発生させるような応力である。
方法は、例えば次のような技法に関係したものである。
その技法とは、先ず１枚のウェーハ上に、多数のトラン
スデューサを縦横に行列状に並べた形で製作し、続い
て、その行列を機械的な切断加工によって各列ごとに分
離し、それによって、複数個のトランスデューサが一列
に並んで形成されている列片を作成する。続いて、その
列片にラッピング加工を施し、このラッピング加工は、
磁気トランスデューサの磁気特性が所望の特性となる寸
法にまで研磨するようにして行なうものであり、また、
その列片の、ラッピング加工を施す面は、その列片を切
断して個々のスライダとしたときに、それらスライダの
ＡＢＳとなる面である。続いて、列片のＡＢＳに、所望
のパターンのレール部を形成する。これらのレール部形
成工程とラッピング工程とのいずれによっても、その列
片には応力（残留応力）が発生され、しかもその応力
は、通常、その列片をラッピング・ツールから取り外し
たときに、その列片に負のクラウンと負のキャンバとの
両方を発生させるような応力である。
【００１６】本発明においては、列片にラッピング加工
を施すステップは、例えば米国特許第４９１２８８３号
（この米国特許は本願の出願人に譲渡されている）に記
載されているように、ラッピング工程を制御するための
特性値として誘導型ヘッドの飽和電流の値を使用するよ
うにしたステップとしても良い。また、別法として、列
片にラッピング加工を施すこのステップは、例えば米国
特許第４９１４８６８号（この米国特許は本願の出願人
に譲渡されている）に記載されているように、ラッピン
グ工程を制御するための特性値として、磁気抵抗型素子
の磁気抵抗値を使用するようにしたステップとしても良
い。また、ＡＢＳ上に、選択したパターンのレール部を
形成するステップは、エッチング加工、イオンビーム加
工、或いはその他の機械加工技法を用いて、実行するス
テップとすることができる。
を施すステップは、例えば米国特許第４９１２８８３号
（この米国特許は本願の出願人に譲渡されている）に記
載されているように、ラッピング工程を制御するための
特性値として誘導型ヘッドの飽和電流の値を使用するよ
うにしたステップとしても良い。また、別法として、列
片にラッピング加工を施すこのステップは、例えば米国
特許第４９１４８６８号（この米国特許は本願の出願人
に譲渡されている）に記載されているように、ラッピン
グ工程を制御するための特性値として、磁気抵抗型素子
の磁気抵抗値を使用するようにしたステップとしても良
い。また、ＡＢＳ上に、選択したパターンのレール部を
形成するステップは、エッチング加工、イオンビーム加
工、或いはその他の機械加工技法を用いて、実行するス
テップとすることができる。
【００１７】図４は、ラッピング・ツールから取り外し
た直後の、典型的な列片３２の形状を示している。この
列片３２のＡＢＳ側の面３４は非常に滑らかな表面仕上
げとなるようにラッピングされており、一方、この列片
３２の背面側の面３６は、かなり粗いラッピングでも構
わないため、ＡＢＳ側の面３４と背面側の面３６とで
は、発生した応力（残留応力）の大きさが異なってお
り、そのためこの列片３２はゆがみを生じている。そし
てこのゆがみのために、負のクラウンと負のキャンバと
が発生している。
た直後の、典型的な列片３２の形状を示している。この
列片３２のＡＢＳ側の面３４は非常に滑らかな表面仕上
げとなるようにラッピングされており、一方、この列片
３２の背面側の面３６は、かなり粗いラッピングでも構
わないため、ＡＢＳ側の面３４と背面側の面３６とで
は、発生した応力（残留応力）の大きさが異なってお
り、そのためこの列片３２はゆがみを生じている。そし
てこのゆがみのために、負のクラウンと負のキャンバと
が発生している。
【００１８】本発明では、スライダから選択的に応力
（残留応力）を除去することによってクラウンとキャン
バとを個別に制御することができ、即ち、スライダから
選択的に応力（残留応力）を除去することによって、所
望のクラウンとキャンバとを発生させることのできる制
御された応力パターンを生成するようにしているのであ
る。応力（残留応力）を変化させるには、１つの具体的
な実施例では、スライダの背面側の応力（残留応力）
を、制御されたパターンで（例えば、線列ないしは点列
等のパターンで）選択的に除去するという方法を採用し
ている。
（残留応力）を除去することによってクラウンとキャン
バとを個別に制御することができ、即ち、スライダから
選択的に応力（残留応力）を除去することによって、所
望のクラウンとキャンバとを発生させることのできる制
御された応力パターンを生成するようにしているのであ
る。応力（残留応力）を変化させるには、１つの具体的
な実施例では、スライダの背面側の応力（残留応力）
を、制御されたパターンで（例えば、線列ないしは点列
等のパターンで）選択的に除去するという方法を採用し
ている。
【００１９】図５は、列片３２の長手方向に沿って延在
する複数本の線から成る線列パターンを用いて、クラウ
ンに関するゆがみを除去した例を示している。ただし、
クラウンに関するゆがみを除去するためのパターンはこ
れに限られず、その他のパターンを使用することも可能
である。また、図示例では、クラウンに関するゆがみを
矯正して、ゼロ・クラウンにしているが、同じ図示の技
法を用いて、クラウンの値を、選択した正の値ないし負
の値にするような矯正の仕方も可能であることはいうま
でもない。
する複数本の線から成る線列パターンを用いて、クラウ
ンに関するゆがみを除去した例を示している。ただし、
クラウンに関するゆがみを除去するためのパターンはこ
れに限られず、その他のパターンを使用することも可能
である。また、図示例では、クラウンに関するゆがみを
矯正して、ゼロ・クラウンにしているが、同じ図示の技
法を用いて、クラウンの値を、選択した正の値ないし負
の値にするような矯正の仕方も可能であることはいうま
でもない。
【００２０】図６は、列片３２の長手方向に対して略々
直角に延在する複数本の線から成る線列パターンを用い
て、この列片３２のキャンバに関するゆがみを除去した
例を示している。パターンの種類を適宜に選択すること
によって、クラウンに関するゆがみとキャンバに関する
ゆがみとを同時に矯正することも可能であり、また、列
片３２のゆがみを完全に除去して平坦にすることもでき
れば、クラウン及びキャンバの値が、選択した正ないし
負の値となるような列片を作成することも可能である。
尚、列片３２に発生したゆがみの矯正を行なうのは、図
示したように複数個のスライダがつながって１本の列片
３２を形成しているときにその列片３２のゆがみを矯正
するようにしても良く、また、列片３２の中のスライダ
を分離して個々のスライダとした後に、その個々のスラ
イダのゆがみを矯正するようにしても良い。
直角に延在する複数本の線から成る線列パターンを用い
て、この列片３２のキャンバに関するゆがみを除去した
例を示している。パターンの種類を適宜に選択すること
によって、クラウンに関するゆがみとキャンバに関する
ゆがみとを同時に矯正することも可能であり、また、列
片３２のゆがみを完全に除去して平坦にすることもでき
れば、クラウン及びキャンバの値が、選択した正ないし
負の値となるような列片を作成することも可能である。
尚、列片３２に発生したゆがみの矯正を行なうのは、図
示したように複数個のスライダがつながって１本の列片
３２を形成しているときにその列片３２のゆがみを矯正
するようにしても良く、また、列片３２の中のスライダ
を分離して個々のスライダとした後に、その個々のスラ
イダのゆがみを矯正するようにしても良い。
【００２１】応力（残留応力）を除去するための技法と
しては、応力（残留応力）の局部的な変化を、選択した
変化として生じさせることができる技法でありさえすれ
ば、任意の技法を採用することができる。適当な技法の
一例は、スライダの背面側の面に、応力が加わった材料
を新たに発生させることなく、その背面側の面から、既
に応力が加わっている材料を選択的に除去することによ
って、クラウンないしキャンバを補償することのできる
所望の応力場が生成されるようにする技法である。
しては、応力（残留応力）の局部的な変化を、選択した
変化として生じさせることができる技法でありさえすれ
ば、任意の技法を採用することができる。適当な技法の
一例は、スライダの背面側の面に、応力が加わった材料
を新たに発生させることなく、その背面側の面から、既
に応力が加わっている材料を選択的に除去することによ
って、クラウンないしキャンバを補償することのできる
所望の応力場が生成されるようにする技法である。
【００２２】このように応力の変化を生じさせるための
適当な技法の１つに、レーザ装置を用いて、スライダの
背面側の表面から、応力が加わっている材料を選択的に
研磨除去し、それによって圧縮応力を低下させて、クラ
ウンないしキャンバを補償することのできる所望の応力
場が生成されるようにする技法がある。
適当な技法の１つに、レーザ装置を用いて、スライダの
背面側の表面から、応力が加わっている材料を選択的に
研磨除去し、それによって圧縮応力を低下させて、クラ
ウンないしキャンバを補償することのできる所望の応力
場が生成されるようにする技法がある。
【００２３】同じく上記のごとく応力の変化を生じさせ
るための適当な技法の別の１つに、マイクロ・サンドブ
ラスト加工を施すことにより、スライダの裏面側の表面
３６の材料の圧縮応力を選択的に増大させて、クラウン
ないしキャンバを補償することのできる所望の応力場が
生成されるようにする技法がある。
るための適当な技法の別の１つに、マイクロ・サンドブ
ラスト加工を施すことにより、スライダの裏面側の表面
３６の材料の圧縮応力を選択的に増大させて、クラウン
ないしキャンバを補償することのできる所望の応力場が
生成されるようにする技法がある。
【００２４】以上に開示した２種類の技法は、スライダ
の裏面側に加わっている応力（残留応力）の大きさを変
化させるための技法である。技法の種類とその技法によ
る加工処理の程度とを適当に選択することによって、ス
ライダの背面側の応力（残留応力）の大きさを、選択し
た変化量だけ変化させることができ、それによって、そ
のスライダのＡＢＳ側の応力（残留応力）に対抗して、
所望のクラウンないしキャンバを得ることができるので
ある。
の裏面側に加わっている応力（残留応力）の大きさを変
化させるための技法である。技法の種類とその技法によ
る加工処理の程度とを適当に選択することによって、ス
ライダの背面側の応力（残留応力）の大きさを、選択し
た変化量だけ変化させることができ、それによって、そ
のスライダのＡＢＳ側の応力（残留応力）に対抗して、
所望のクラウンないしキャンバを得ることができるので
ある。
【００２５】応力（残留応力）の変化量を制御する方式
としては、予め測定してある測定値に基づいて予め相関
させておいたパターン決定法に従って、クラウンないし
キャンバに、予測した変化量を生じさせるようにすると
いう制御方式が可能である。この制御方式に適した装置
の一例を示したのが、図７である。この装置は、コリメ
ーションを施したレーザ・ビーム４０を使用するもので
あり、このレーザ・ビーム４０は、可動ミラー４２によ
って、列片３２の所定位置へ照準を合わせることがで
き、また、適当なレンズ４４によって、列片３２上に合
焦させることができるようにしてある。レーザ・ビーム
４０を発生させるレーザ装置には、適当なものを使用す
れば良く、その一例を挙げるならば、例えばＹＡＧレー
ザ装置等を使用することができる。いかなるレーザ装置
を選択すべきかは、スライダの材質と、所望の応力場を
発生させるために必要な、そのスライダからの材料の除
去量とに応じて決められるべきものである。例えばスラ
イダの材質を、炭化チタンとアルミナとの混合物からな
るセラミック材料とした、１つの具体例においては、適
当なレーザ装置は、ビームのスポット径が３０ミクロン
で、レーザ出力が応力除去領域の深さを約１０ミクロン
とすることができる充分な出力であるものであることが
判明している。この制御方式では、列片３２が平坦状態
からどれほど逸脱しているのかを予め測定して、その測
定値をデータとして記憶しておくようにしている。そし
て、マイクロプロセッサを含んでいる制御装置４８が、
（例えばルックアップ・テーブルの形で記憶してある）
その記憶データにアクセスして、レーザ・ビーム４０の
照射強度を制御すると共に、Ｘ−Ｙスキャナ装置４６を
介してレーザ・ビーム４０の列片３２上における照射位
置を制御するようにしている。Ｘ−Ｙスキャナ装置４６
は、ミラー４２及びレンズ４４の動きを制御することに
よって、列片３２の背面側の面３６の選択した部分が、
合焦状態のレーザ・ビームによって走査されるようにし
ている。半導体工業において抵抗体のトリミングを実行
するために広く用いられているツール（例えばＥＳＩ抵
抗体トリミング・ツール等）は、そのままこの目的に使
用することができる。
としては、予め測定してある測定値に基づいて予め相関
させておいたパターン決定法に従って、クラウンないし
キャンバに、予測した変化量を生じさせるようにすると
いう制御方式が可能である。この制御方式に適した装置
の一例を示したのが、図７である。この装置は、コリメ
ーションを施したレーザ・ビーム４０を使用するもので
あり、このレーザ・ビーム４０は、可動ミラー４２によ
って、列片３２の所定位置へ照準を合わせることがで
き、また、適当なレンズ４４によって、列片３２上に合
焦させることができるようにしてある。レーザ・ビーム
４０を発生させるレーザ装置には、適当なものを使用す
れば良く、その一例を挙げるならば、例えばＹＡＧレー
ザ装置等を使用することができる。いかなるレーザ装置
を選択すべきかは、スライダの材質と、所望の応力場を
発生させるために必要な、そのスライダからの材料の除
去量とに応じて決められるべきものである。例えばスラ
イダの材質を、炭化チタンとアルミナとの混合物からな
るセラミック材料とした、１つの具体例においては、適
当なレーザ装置は、ビームのスポット径が３０ミクロン
で、レーザ出力が応力除去領域の深さを約１０ミクロン
とすることができる充分な出力であるものであることが
判明している。この制御方式では、列片３２が平坦状態
からどれほど逸脱しているのかを予め測定して、その測
定値をデータとして記憶しておくようにしている。そし
て、マイクロプロセッサを含んでいる制御装置４８が、
（例えばルックアップ・テーブルの形で記憶してある）
その記憶データにアクセスして、レーザ・ビーム４０の
照射強度を制御すると共に、Ｘ−Ｙスキャナ装置４６を
介してレーザ・ビーム４０の列片３２上における照射位
置を制御するようにしている。Ｘ−Ｙスキャナ装置４６
は、ミラー４２及びレンズ４４の動きを制御することに
よって、列片３２の背面側の面３６の選択した部分が、
合焦状態のレーザ・ビームによって走査されるようにし
ている。半導体工業において抵抗体のトリミングを実行
するために広く用いられているツール（例えばＥＳＩ抵
抗体トリミング・ツール等）は、そのままこの目的に使
用することができる。
【００２６】図８は、以上に説明した製作工程に適した
更に別の種類の装置を示した図である。この装置は、マ
イクロ・サンドブラスト・ツールを使用して、補償のた
めの応力場を生成するようにしている。この装置は、ア
ルミナの破砕粉（粒径約５０ミクロン）を、３０〜１０
０ｐｓｉ（約２．１〜７．０ kg/cm2 ）の圧力下で、小
さなノズルから噴出させてワークピースへ噴き付け、そ
れによって、所定パターンで応力（残留応力）を増大さ
せるようにしたものである。適当な具体例としては、ス
ワン・テクノロジー社（Swan Technologies Corp. ）
の、空気研磨処理装置（Air Abrasive Processing Equi
pment ）がある。図８に示した装置では、制御装置５０
が、アルミナ粉の噴出デューレーションと噴出圧力とを
制御すると共に、スキャナ装置５４を介して、列片３２
に対するノズル５２の相対的な位置を制御している。
更に別の種類の装置を示した図である。この装置は、マ
イクロ・サンドブラスト・ツールを使用して、補償のた
めの応力場を生成するようにしている。この装置は、ア
ルミナの破砕粉（粒径約５０ミクロン）を、３０〜１０
０ｐｓｉ（約２．１〜７．０ kg/cm2 ）の圧力下で、小
さなノズルから噴出させてワークピースへ噴き付け、そ
れによって、所定パターンで応力（残留応力）を増大さ
せるようにしたものである。適当な具体例としては、ス
ワン・テクノロジー社（Swan Technologies Corp. ）
の、空気研磨処理装置（Air Abrasive Processing Equi
pment ）がある。図８に示した装置では、制御装置５０
が、アルミナ粉の噴出デューレーションと噴出圧力とを
制御すると共に、スキャナ装置５４を介して、列片３２
に対するノズル５２の相対的な位置を制御している。
【００２７】以上の制御方式とは別の制御方式として、
応力（残留応力）が加わっている材料の除去を実行して
いる間に、それと並行してＡＢＳのクラウン及びキャン
バの状態をモニタし、そのモニタの結果に基づいて、応
力（残留応力）の変化量の制御を行なう制御方式とする
ことも可能である。この制御方式では、応力（残留応
力）の大きさを、所望のクラウン特性ないしキャンバ特
性が得られるまで、連続して変化させて行くようにす
る。この制御方式は、図９に示した装置を使用して実行
することができる。図９の装置は、列片３２を支持する
ための適当な支持部材５６を含んでおり、列片３２をこ
の支持部材５６に支持させる際には、その列片３２のＡ
ＢＳ側の面３４がこの支持部材５６に接するようにす
る。平坦度測定ツール５８が、列片３２のＡＢＳ側の面
３４を対象として測定を行ない、それによって得られた
平坦度情報を制御装置６０へ供給するようにしている。
この平坦度情報は、制御装置６０において平坦度目標値
と比較される。この比較の結果、測定して得られた平坦
度が、尚、仕様条件から逸脱していることが判明したな
らば、制御装置６０がレーザ装置６２とスキャナ装置６
４とへ向けて制御信号を送出して、列片３２の背面側の
面３６の応力（残留応力）の変化量を更に増大させるよ
うにする。平坦度測定ツール５８としては、例えば接触
型の形状測定器等を使用することができ、その場合に
は、支持部材５６に開口を形成しておき、その開口を介
して、形状測定器が列片３２のＡＢＳ側の面３４に接触
できるようにしておけば良い。或いはまた、平坦度測定
ツール５８として、光学式の装置（例えば光学式干渉計
等）を使用することもでき、その場合には、支持部材５
６を、透明領域を備えたものとして、この透明領域を介
して列片３２のＡＢＳ側の面３４を光学的にアクセスで
きるようにしておけば良い。
応力（残留応力）が加わっている材料の除去を実行して
いる間に、それと並行してＡＢＳのクラウン及びキャン
バの状態をモニタし、そのモニタの結果に基づいて、応
力（残留応力）の変化量の制御を行なう制御方式とする
ことも可能である。この制御方式では、応力（残留応
力）の大きさを、所望のクラウン特性ないしキャンバ特
性が得られるまで、連続して変化させて行くようにす
る。この制御方式は、図９に示した装置を使用して実行
することができる。図９の装置は、列片３２を支持する
ための適当な支持部材５６を含んでおり、列片３２をこ
の支持部材５６に支持させる際には、その列片３２のＡ
ＢＳ側の面３４がこの支持部材５６に接するようにす
る。平坦度測定ツール５８が、列片３２のＡＢＳ側の面
３４を対象として測定を行ない、それによって得られた
平坦度情報を制御装置６０へ供給するようにしている。
この平坦度情報は、制御装置６０において平坦度目標値
と比較される。この比較の結果、測定して得られた平坦
度が、尚、仕様条件から逸脱していることが判明したな
らば、制御装置６０がレーザ装置６２とスキャナ装置６
４とへ向けて制御信号を送出して、列片３２の背面側の
面３６の応力（残留応力）の変化量を更に増大させるよ
うにする。平坦度測定ツール５８としては、例えば接触
型の形状測定器等を使用することができ、その場合に
は、支持部材５６に開口を形成しておき、その開口を介
して、形状測定器が列片３２のＡＢＳ側の面３４に接触
できるようにしておけば良い。或いはまた、平坦度測定
ツール５８として、光学式の装置（例えば光学式干渉計
等）を使用することもでき、その場合には、支持部材５
６を、透明領域を備えたものとして、この透明領域を介
して列片３２のＡＢＳ側の面３４を光学的にアクセスで
きるようにしておけば良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気ヘッド・スライダの側面図である。
【図２】図１の磁気ヘッド・スライダの底面図である。
【図３】図１の磁気ヘッド・スライダの後端部の端面図
である。
である。
【図４】複数個の磁気ヘッド・スライダから成る列片
の、ラッピング加工後のゆがみを生じた形状を示した斜
視図である。
の、ラッピング加工後のゆがみを生じた形状を示した斜
視図である。
【図５】図４の列片の、クラウンゆがみを除去した後の
形状を示した斜視図である。
形状を示した斜視図である。
【図６】図４の列片の、キャンバゆがみを除去した後の
形状を示した斜視図である。
形状を示した斜視図である。
【図７】第１の制御方式でクラウン及びキャンバを制御
するようにした装置の模式図である。
するようにした装置の模式図である。
【図８】第１の制御方式でクラウン及びキャンバを制御
するようにした別実施例の装置の模式図である。
するようにした別実施例の装置の模式図である。
【図９】第２の制御方式でクラウン及びキャンバを制御
するようにした装置の模式図である。
するようにした装置の模式図である。
１０ 磁気ヘッド・スライダ １２ エアー・ベアリング面（ＡＢＳ） １４、１６ レール部 ３２ 列片 ３４ 列片のＡＢＳ側の面 ３６ 列片の背面側の面 ４０ レーザ・ビーム ４６ スキャナ装置 ４８ 制御装置 ５０ 制御装置 ５２ ノズル ５４ スキャナ装置 ５６ 支持部材 ５８ 平坦度測定ツール ６０ 制御装置 ６２ レーザ装置 ６４ スキャナ装置
フロントページの続き (72)発明者 アンナイヤ・プラルハドラオ・デシュパン デ アメリカ合衆国95120、カリフォルニア州 サン・ノゼ、マク・アビー・ロード 6199番地 (72)発明者 ランダル・トーマス・カース アメリカ合衆国95136、カリフォルニア州 サン・ノゼ、ノーミントン・ウェイ 1039番地 (72)発明者 ヘンリ・モーリス・ニアー アメリカ合衆国95123、カリフォルニア州 サン・ノゼ、フェルダー・ドライブ 6369番地
Claims (12)
- 【請求項１】 磁気ヘッド・スライダを製作する方法に
おいて、 前記スライダの第１面に対して所定寸法になるまでラッ
ピング加工を施して、エアー・ベアリング面を形成す
る、ラッピング・ステップと、 前記スライダの前記第１面に、選択したパターンのレー
ル部を形成する、レール部形成ステップと、 前記スライダの前記第１面とは反対側の面に、選択した
パターンの応力を発生させることにより、前記スライダ
のクラウン及びキャンバの特性を、選択した特性にす
る、応力発生ステップと、を含んでいることを特徴とす
る磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項２】 前記スライダの前記第１面とは反対側の
前記面から材料を選択的に摩滅除去することによって、
前記選択したパターンの応力を発生させることを特徴と
する請求項１記載の磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項３】 材料を選択的に摩滅除去する前記摩滅除
去を、レーザ加工またはマイクロ・サンドブラスト加工
によって行なうことを特徴とする請求項２記載の磁気ヘ
ッド・スライダの製作方法。 - 【請求項４】 予め測定しておいたクラウン変化量及び
キャンバ変化量の測定値に応じて、前記選択したパター
ンの応力を発生させることを特徴とする請求項１記載の
磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項５】 当該応力を発生させているときのクラウ
ン変化量及びキャンバ変化量の測定値に応じて、前記選
択したパターンの応力を発生させることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項６】 前記選択したパターンの応力が圧縮応力
であることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッド・ス
ライダの製作方法。 - 【請求項７】 複数個の磁気ヘッド・スライダを製作す
る方法において、複数個の磁気ヘッド・スライダを、そ
れら複数個の磁気ヘッド・スライダが一列に並んだ１本
の列片の形で製作するステップと、 前記複数個のスライダの第１面に対して所定寸法になる
までラッピング加工を施して、それら複数個のスライダ
の各々のエアー・ベアリング面を形成する、ラッピング
・ステップと、 前記複数個のスライダの各々の前記第１面に、選択した
パターンのレール部を形成する、レール部形成ステップ
と、 前記複数個のスライダの各々の前記第１面とは反対側の
面に、選択したパターンの応力を発生させることによ
り、それら複数個のスライダの各々のクラウン及びキャ
ンバの特性を、選択した特性にする、応力発生ステップ
と、を含んでいることを特徴とする、複数個の磁気ヘッ
ド・スライダの製作方法。 - 【請求項８】 前記複数個のスライダの各々の前記第１
面とは反対側の前記面から材料を選択的に摩滅除去する
ことによって、前記選択したパターンの応力を発生させ
ることを特徴とする請求項７記載の複数個の磁気ヘッド
・スライダの製作方法。 - 【請求項９】 材料を選択的に摩滅除去する前記摩滅除
去を、レーザ加工またはマイクロ・サンドブラスト加工
によって行なうことを特徴とする請求項８記載の複数個
の磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項１０】 予め測定しておいたクラウン変化量及
びキャンバ変化量の測定値に応じて、前記選択したパタ
ーンの応力を発生させることを特徴とする請求項７記載
の複数個の磁気ヘッド・スライダの製作方法。 - 【請求項１１】 当該応力を発生させているときのクラ
ウン変化量及びキャンバ変化量の測定値に応じて、前記
選択したパターンの応力を発生させることを特徴とする
請求項７記載の複数個の磁気ヘッド・スライダの製作方
法。 - 【請求項１２】 前記選択したパターンの応力が圧縮応
力であることを特徴とする請求項１１記載の複数個の磁
気ヘッド・スライダの製作方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US841934 | 1992-02-25 | ||
| US07/841,934 US5266769A (en) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | Process for independent control of crown and camber for magnetic head slider |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684312A true JPH0684312A (ja) | 1994-03-25 |
| JP2552068B2 JP2552068B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=25286102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5002674A Expired - Lifetime JP2552068B2 (ja) | 1992-02-25 | 1993-01-11 | 磁気ヘッド・スライダの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5266769A (ja) |
| EP (1) | EP0558202A1 (ja) |
| JP (1) | JP2552068B2 (ja) |
| KR (1) | KR930018475A (ja) |
| MY (1) | MY109348A (ja) |
| TW (1) | TW226461B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07334828A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Yamaha Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
| KR20020024773A (ko) * | 2000-09-26 | 2002-04-01 | 가나이 쓰토무 | 자성 헤드 슬라이더 및 헤드 짐벌 조립체의 제조 방법 및제조장치 |
| US6546355B2 (en) | 2000-06-20 | 2003-04-08 | Fujitsu Limited | ABS shape correction method for slider of magnetic head, and ABS shape correction apparatus for slider of magnetic head |
| US6552302B2 (en) | 1999-04-02 | 2003-04-22 | Fujitsu Limited | Method for correcting surface shape of magnetic head slider and magnetic head slider |
| US7392580B2 (en) | 2005-08-26 | 2008-07-01 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method for manufacturing a slider using electromagnetic wave |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0724096B2 (ja) * | 1992-05-29 | 1995-03-15 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘッドの加工方法 |
| US5442850A (en) * | 1993-11-01 | 1995-08-22 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider process |
| TW345659B (en) | 1994-11-03 | 1998-11-21 | Ibm | Slider/suspension design for improved crown sensitivity |
| US5632669A (en) * | 1995-05-26 | 1997-05-27 | Censtor Corporation | Interactive method for lapping transducers |
| US6501048B1 (en) | 1996-06-12 | 2002-12-31 | Seagate Technology Llc | Slider having thermally applied tensile stress for curvature control and method of applying tensile stress |
| US6073337A (en) | 1996-06-12 | 2000-06-13 | Seagate Technology, Inc. | Compressive stress treatment method for controlling curvature of a hydrodynamic bearing slider |
| US6548009B1 (en) | 1996-06-12 | 2003-04-15 | Seagate Technology Llc | Method for controlling twist curvature of a disc head slider |
| US5967878A (en) * | 1997-04-25 | 1999-10-19 | International Business Machines Corporation | Lapping method and system for compensating for substrate bow |
| KR100268582B1 (ko) * | 1997-07-25 | 2000-10-16 | 구자홍 | 회전 방지를 위한 자기 헤드 슬라이더 및 그 제조 방법 |
| KR100268584B1 (ko) * | 1997-07-25 | 2000-10-16 | 구자홍 | 이물질 배출 기능을 갖는 자기 헤드 슬라이더 |
| US6333836B1 (en) | 1997-12-04 | 2001-12-25 | Seagate Technology Llc | Head suspension assembly for a data storage device |
| US6321440B1 (en) | 1998-11-10 | 2001-11-27 | International Business Machines Corporation | Method for adjusting curvature of magnetic read/write head sliders |
| US6075604A (en) * | 1998-11-10 | 2000-06-13 | International Business Machines Corporation | Apparatus for measuring curvature of magnetic read/write head sliders |
| US6108170A (en) * | 1998-11-10 | 2000-08-22 | International Business Machines Corporation | Slider row with segmented scribe lines for individual control curvature of sliders in the row |
| US6663817B1 (en) | 1999-03-26 | 2003-12-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Method for manufacture of sliders |
| US6312313B1 (en) | 1999-10-06 | 2001-11-06 | Intenational Business Machines Corporation | Non-linear transducer lay-out of thin film head wafer for fabrication of high camber and crown sliders |
| US6531084B1 (en) * | 1999-12-02 | 2003-03-11 | Seagate Technology Llc | Laser edge treatment of sliders |
| US6662069B1 (en) * | 2000-04-06 | 2003-12-09 | Seagate Technology Llc | Slider having independently controlled crown and cross curvature and method of controlling curvature |
| US6441385B1 (en) | 2000-04-06 | 2002-08-27 | Seagate Technology, Llc. | Method and apparatus for optimizing adjustment of disc head slider curvature |
| US6589436B1 (en) | 2000-06-14 | 2003-07-08 | International Business Machines Corporation | Method of adjusting the flatness of a slider using selective plasma etching |
| US6710295B1 (en) * | 2000-06-15 | 2004-03-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Slider curvature modification by substrate melting effect produced with a pulsed laser beam |
| AU2001279053A1 (en) * | 2000-07-28 | 2002-02-13 | Seagate Technology Llc | Disk head slider having cavities for increasing contact stiffness and controlling suction center movement |
| US6651299B2 (en) * | 2000-10-13 | 2003-11-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for manufacturing endless metallic belt, and the endless metallic belt manufactured by the method |
| JP4042347B2 (ja) * | 2001-05-18 | 2008-02-06 | 新科實業有限公司 | 磁気ヘッドスライダの浮上面形状加工方法及び磁気ヘッドスライダの製造方法 |
| US6888701B2 (en) | 2001-07-27 | 2005-05-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Enhanced twist adjust range with scribed lines for slider curvature adjust |
| US6631548B2 (en) | 2001-07-27 | 2003-10-14 | International Business Machines Corporation | Simultaneous slider crown and camber adjust by scribe line control |
| US20030021067A1 (en) * | 2001-07-27 | 2003-01-30 | Ping-Wei Chang | Control of twist, crown and camber for sliders using location sensitive scribing |
| US20030174444A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Youping Mei | Method and apparatus for controlling shape of a bearing surface of a slider |
| US7212381B2 (en) * | 2003-08-14 | 2007-05-01 | Seagate Technology Llc | Slider having adjusted transducer recession and method of adjusting recession |
| US7124497B1 (en) | 2003-08-18 | 2006-10-24 | Seagate Technology Llc | Method of controlling localized shape of a data head and for characterizing the shape |
| JP4605700B2 (ja) * | 2004-07-28 | 2011-01-05 | 武蔵精密工業株式会社 | 歯車の歯面における歯すじの修正方法 |
| JP4252059B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2009-04-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気ヘッド装置 |
| US9202495B2 (en) | 2007-05-01 | 2015-12-01 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for detecting proximity contact between a transducer and a medium |
| EP2424706B2 (en) * | 2009-04-28 | 2022-02-09 | BAE Systems PLC | Additive layer fabrication method |
| US20170301954A1 (en) | 2016-04-14 | 2017-10-19 | Applied Materials, Inc. | Thin film battery device and method of formation |
| US9881639B2 (en) * | 2016-06-23 | 2018-01-30 | Western Digital Technologies, Inc. | Within-row wedge angle control for magnetic recording read-write heads |
| US10702969B2 (en) | 2016-06-23 | 2020-07-07 | Western Digital Technologies, Inc. | Actuator tilt interposer for within-row lapping mount tool for magnetic recording read-write heads |
| US10850364B2 (en) | 2016-06-23 | 2020-12-01 | Western Digital Technologies, Inc. | Within-row stripe height and wedge angle control for magnetic recording read-write heads |
| CN109848570A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-06-07 | 沈阳造币有限公司 | 应用于贵金属纪念币的激光喷砂方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01267822A (ja) * | 1988-04-18 | 1989-10-25 | Tdk Corp | 磁気ヘッド |
| JPH0335409A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Yamaha Corp | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0341616A (ja) * | 1989-07-10 | 1991-02-22 | Alps Electric Co Ltd | 浮動式磁気ヘッドのスライダーの製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2701408A (en) * | 1951-11-19 | 1955-02-08 | Lockheed Aircraft Corp | Method of cold forming sheets |
| US3000425A (en) * | 1957-04-24 | 1961-09-19 | Eastman Kodak Co | Method and apparatus for forming sheet metal |
| JPS55117726A (en) * | 1979-03-05 | 1980-09-10 | Hitachi Ltd | Manufacture of magnetic head |
| US4329862A (en) * | 1980-01-21 | 1982-05-18 | The Boeing Company | Shot peen forming of compound contours |
| US4517041A (en) * | 1982-09-30 | 1985-05-14 | Magnetic Peripherals Inc. | Method for attaching a workpiece to a workpiece carrier |
| JPS6234777A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-14 | Kawasaki Steel Corp | 厚鋼板の反り防止方法 |
| US4835361A (en) * | 1986-07-21 | 1989-05-30 | Magnetic Peripherals Inc. | Laser machining for producing very small parts |
| JPH0719347B2 (ja) * | 1988-09-24 | 1995-03-06 | 日本碍子株式会社 | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
| US4914868A (en) * | 1988-09-28 | 1990-04-10 | International Business Machines Corporation | Lapping control system for magnetic transducers |
| US4912883A (en) * | 1989-02-13 | 1990-04-03 | International Business Machines Corporation | Lapping control system for magnetic transducers |
| US5117589A (en) * | 1990-03-19 | 1992-06-02 | Read-Rite Corporation | Adjustable transfer tool for lapping magnetic head sliders |
| US5142778A (en) * | 1991-03-13 | 1992-09-01 | United Technologies Corporation | Gas turbine engine component repair |
-
1992
- 1992-02-25 US US07/841,934 patent/US5266769A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-01-11 JP JP5002674A patent/JP2552068B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-26 MY MYPI93000116A patent/MY109348A/en unknown
- 1993-02-02 TW TW082100659A patent/TW226461B/zh active
- 1993-02-09 EP EP93300932A patent/EP0558202A1/en not_active Withdrawn
- 1993-02-23 KR KR1019930002513A patent/KR930018475A/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01267822A (ja) * | 1988-04-18 | 1989-10-25 | Tdk Corp | 磁気ヘッド |
| JPH0335409A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Yamaha Corp | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0341616A (ja) * | 1989-07-10 | 1991-02-22 | Alps Electric Co Ltd | 浮動式磁気ヘッドのスライダーの製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07334828A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Yamaha Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
| US6552302B2 (en) | 1999-04-02 | 2003-04-22 | Fujitsu Limited | Method for correcting surface shape of magnetic head slider and magnetic head slider |
| US6546355B2 (en) | 2000-06-20 | 2003-04-08 | Fujitsu Limited | ABS shape correction method for slider of magnetic head, and ABS shape correction apparatus for slider of magnetic head |
| KR20020024773A (ko) * | 2000-09-26 | 2002-04-01 | 가나이 쓰토무 | 자성 헤드 슬라이더 및 헤드 짐벌 조립체의 제조 방법 및제조장치 |
| US7392580B2 (en) | 2005-08-26 | 2008-07-01 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Method for manufacturing a slider using electromagnetic wave |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2552068B2 (ja) | 1996-11-06 |
| TW226461B (ja) | 1994-07-11 |
| US5266769A (en) | 1993-11-30 |
| MY109348A (en) | 1997-01-31 |
| EP0558202A1 (en) | 1993-09-01 |
| KR930018475A (ko) | 1993-09-22 |
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