JPH0773425A - 浮上型磁気ヘッド装置の製造方法 - Google Patents

浮上型磁気ヘッド装置の製造方法

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JPH0773425A
JPH0773425A JP5216760A JP21676093A JPH0773425A JP H0773425 A JPH0773425 A JP H0773425A JP 5216760 A JP5216760 A JP 5216760A JP 21676093 A JP21676093 A JP 21676093A JP H0773425 A JPH0773425 A JP H0773425A
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Naoto Kojima
直人 小島
Takashi Watanabe
隆 渡辺
Hiroyuki Takahashi
浩幸 高橋
Akio Mishima
彰生 三島
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 任意の形状のスライダーレールを有するスラ
イダーの加工を容易に行い、その量産を可能とし、特性
の良好な浮上型磁気ヘッド装置を製造する。 【構成】 複数の磁気ヘッド素子が搭載される複数のブ
ロック１１を、異なるブロック１１の磁気ヘッド素子の
磁気ギャップが略一直線上に配列され、これらが等間隔
で平行となるように位置合わせし、基板上に接着してワ
ーク１４を形成し、ブロック１１上にスライダー表面形
状を有するレジストマスク２０を形成し、レジストマス
ク２０形成面に遊離微細砥粒２１とガスとの固気２相流
を噴射ノズルによって噴射してスライダー表面形状加工
を行い、所定のスライダーの大きさに分離切断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクドライ
ブ装置，フロッピーディスクドライブ装置等に用いられ
る浮上型磁気ヘッド装置の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ハードディスクに対して情報の
記録或いは再生を行うハードディスクドライブ装置等に
用いられる浮上型磁気ヘッド装置は、情報の記録再生を
行う磁気ヘッド素子をスライダーに搭載し、上記スライ
ダーを板バネよりなるサスペンションによって支持し、
さらにこれらをハードディスク径方向に回動するアクチ
ュエータアームに取り付けて構成されたものである。
【０００３】すなわち、上記スライダーは、ハードディ
スクの回転が停止している時はサスペンションからの下
向きのバネ荷重によってハードディスク表面に接し、ハ
ードディスクが回転すると、その回転によって発生する
空気流による上向きの揚力を受け浮上する。この際、ス
ライダーにはサスペンションからの下向きのバネ荷重も
印加されているため、これらの力のバランスによって決
定されるスライダー浮上距離を有して磁気ヘッド素子の
搭載されたスライダーは浮上走行する。また、スライダ
ーは、起動動作直後，停止動作直後にハードディスクと
摺動することとなる。
【０００４】そこで、上記のような浮上型磁気ヘッド装
置においては、スライダーのハードディスク対向面に突
状部や溝部を設けて、ハードディスクとの摺動時間を短
縮し、耐久性を向上させるとともに、スライダーの受け
る上向きの揚力を調整し、スライダー浮上距離を調整す
るようにしている。例えば、スライダーのハードディス
ク対向面側にレール加工を行って略長方形の突状部であ
るスライダーレールを突出形成し、スライダーレールの
ハードディスク対向面をハードディスク表面に発生する
空気流を受ける面であるエア・ベアリング・サーフェス
とし、上記スライダーレール間に空気流が流入するエア
グルーブと称される溝部を設け、スライダー浮上距離を
調整している。なお、このような突状部や溝部の形成は
機械加工によって行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、近年では、
ハードディスクドライブ装置等の小型化が要求されてお
り、これに伴い、浮上型磁気ヘッド装置を構成するスラ
イダーの小型化も要求されている。従って、上記のよう
にスライダーの加工を機械加工によって行うことは、精
度上の理由から困難となってきている。
【０００６】また、近年では、ハードディスクドライブ
装置等の高記録密度化も要求されており、浮上型磁気ヘ
ッド装置のスライダー浮上距離の低浮上距離化，安定化
が要求されている。しかしながら、上記のような、ハー
ドディスク対向面に略長方形の突状部であるスライダー
レールが設けられるスライダーを用いた浮上型磁気ヘッ
ド装置においては、スライダー浮上距離の低浮上距離
化，安定化は難しい。
【０００７】そこで、スライダーレールの形状を工夫
し、エア・ベアリング・サーフェスの形状に改良を施し
た様々なスライダーを用いた浮上型磁気ヘッド装置が提
案されている。ところが、このようなスライダーにおい
ては、スライダーレールが従来のような単純な形状とさ
れておらず、機械加工によって加工することは更に困難
となってきている。そこで、このようなスライダーを加
工する方法として、イオンミリング等の真空エッチング
や、特開平３−１４９１８４号公報に記載されるような
微細砥粒を用いたパウダービーム加工が挙げられてい
る。しかしながら、上記のようなイオンミリングやパウ
ダービーム加工によって加工されるスライダーは量産が
難しく、これを用いた浮上型磁気ヘッド装置は実用的で
ないとされていた。
【０００８】そこで、本発明は従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、任意の形状のスライダーレールを有
するスライダーの加工を容易に行い、その量産を容易に
達成し、かつ特性の良好な浮上型磁気ヘッド装置の製造
を可能とする浮上型磁気ヘッド装置の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法は、複
数の磁気ヘッド素子が搭載される複数のブロックを、異
なるブロックの磁気ヘッド素子の磁気ギャップが略一直
線上に配列され、上記複数のブロックが等間隔で平行と
なるように位置合わせし、基板上に接着してワークを形
成する工程と、上記ワークのブロック上に所定のスライ
ダー表面形状を有するレジストマスクを形成する工程
と、上記ワークのレジストマスク形成面に遊離砥粒とガ
スとの固気２相流を噴射ノズルによって噴射する工程
と、上記ワークを所定のスライダーの大きさに分離切断
する工程を有することを特徴とするものである。
【００１０】また、本発明は、上記の浮上型磁気ヘッド
装置の製造方法において、異なるブロックの磁気ヘッド
素子の磁気ギャップを略一直線上に配列した時の位置精
度が±１０μｍとなるように、複数のブロックを基板上
に接着してワークを形成することを特徴とするものであ
る。
【００１１】さらに、本発明は、上記の浮上型磁気ヘッ
ド装置の製造方法において、複数のブロックをブロック
同士が接することのないように基板上に接着してワーク
を形成することを特徴とするものである。
【００１２】また、本発明は、上記の浮上型磁気ヘッド
装置の製造方法において、遊離砥粒の平均粒径が１０μ
ｍ以下であること、遊離砥粒の噴射によってワーク表面
のエッジを丸くするブレンド加工を行うようにしたこ
と、横長の矩形断面の噴射口を有する噴射ノズルによっ
て遊離砥粒とガスとの固気２相流を噴射するようにした
こと、噴射ノズルの噴射口の矩形断面の両側が絞られて
丸くされたことを特徴とするものである。
【００１３】
【作用】本発明の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法は、
複数の磁気ヘッド素子が搭載される複数のブロックを、
異なるブロックの磁気ヘッド素子の磁気ギャップが略一
直線上に配列され、上記複数のブロックが等間隔で平行
となるように位置合わせし、基板上に接着してワークを
形成する工程と、上記ワークのブロック上に所定のスラ
イダー表面形状を有するレジストマスクを形成する工程
と、上記ワークのレジストマスク形成面に遊離砥粒とガ
スとの固気２相流を噴射ノズルによって噴射する工程
と、上記ワークを所定のスライダーの大きさに分離切断
する工程を有するため、上記ワークのレジストマスクの
形成されない部分のみが加工されることとなり、任意の
スライダー表面形状が容易に形成される。また、複数の
ブロックの位置合わせを正確に行っていることからワー
クの加工精度は良好である。さらに、従来の製造方法に
おいては、複数の磁気ヘッド素子が搭載されたブロック
を１個ずつ加工しており、ブロック毎に加工精度が異な
るといった不都合が生じていたが、本発明においては複
数のブロックを一度に加工するため、ブロック間に加工
精度のバラツキが生じない。また、複数のブロックの加
工を行うことから、量産性もおのずと向上される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。先ず、本実施
例の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法により製造される
浮上型磁気ヘッド装置について説明する。
【００１５】上記浮上型磁気ヘッド装置は、図１に示す
ように、スライダー１と磁気ヘッド素子８によって構成
される。上記スライダー１は、ハードディスク対向面１
ａ側のハードディスク対向面１ａ中心線上に二等辺三角
形状の突状部であるスライダーレール２が形成され、こ
のスライダーレール２の両側に長方形状の突状部である
サイドレール３，４が形成されたものであり、スライダ
ーレール２とサイドレール３，４間にはエア・グルーブ
５が形成されている。なお、上記スライダーレール２
は、空気流出端側に二等辺三角形の底辺が位置するよう
に形成され、一方のサイドレール３，４は、空気流入端
側に角度１゜以下のごく緩やかな斜面であるテーパー
６，７を有し、空気流入端側からスライダー１の長手方
向中途部まで形成されている。また、上記スライダー１
は、アルチック材（Ａｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣ）等の高硬度セ
ラミック材やチタン酸カリウム材等のこの種のスライダ
ーに一般的に用いられる材料によって構成される。一
方、前記磁気ヘッド素子８はスライダーレール２のエア
・ベアリング・サーフェス２ａと直交し、空気流出端側
となる一側面２ｂに設けられ、磁気ギャップが上記エア
・ベアリング・サーフェス２ａに臨むようになされてい
る。なお、上記磁気ヘッド素子８としては、薄膜ヘッド
及びＭＩＧヘッド等のバルクヘッドの何れも使用可能で
ある。
【００１６】次に、本実施例の浮上型磁気ヘッド装置の
製造方法を工程順に説明する。先ず、板状のブロックの
一主面に等間隔に磁気ヘッド素子を搭載したブロックを
複数用意する。上記ブロックを構成する材料としては、
上述のような材料が挙げられ、磁気ヘッド素子としても
上述のようなものが挙げられる。
【００１７】次に、図２及び図３に示すように、上記複
数のブロック１１（本実施例においては、１１ａ，１１
ｂ，１１ｃ，１１ｄ，１１ｅ，１１ｆの６個とする。）
を、各ブロック１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ，１１
ｅ，１１ｆの磁気ヘッド素子１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，
１２ｄ，１２ｅ，１２ｆの磁気ギャップが略一直線上に
配列され、上記複数のブロック１１が等間隔で平行とな
るように位置合わせし、基板１３上に瞬間接着剤や感光
性接着剤によって接着してワーク１４を形成する。この
際、複数のブロック１１を各ブロック１１同士が接触し
ないように位置合わせするが、これは各ブロック１１に
搭載される磁気ヘッド素子１２の金メッキが剥離するの
を防止するためである。また、各ブロック１１にたわみ
等が生じ、基準線Ｈに対して各ブロック１１が平行に形
成されていない場合に、そのまま各ブロック１１を積層
すると、各ブロックの位置誤差が累積されてしまうた
め、上記のように各ブロック１１同士が接触しないよう
に位置合わせを行って、上記問題を回避する。
【００１８】ところで、上記ワーク１４には、後工程に
おいて、上述のようなスライダーレールとサイドレール
を有するスライダー表面形状加工を一括して行い、所定
のスライダーの大きさに分離切断を行い、上述のような
浮上型磁気ヘッド装置を得ることとなる。従って、スラ
イダー表面形状及びスライダー外形寸法の精度は、ワー
ク１４の複数のブロック１１の位置合わせ精度によって
決定されることとなる。上述したような浮上型磁気ヘッ
ド装置においては、特に、スライダーレール２の位置精
度として磁気ヘッド素子８の磁気ギャップに対して±１
０〜２０μｍ程度が要求され、スライダー１の外形寸法
精度としては磁気ヘッド素子８の磁気ギャップに対して
±５０〜１００μｍ程度が要求されている。従って、こ
のような精度を保証するためには、前記のようにワーク
１４を形成する際の複数のブロック１１の位置合わせ精
度を±１０μｍ以内とする必要がある。すなわち、図３
に示す複数のブロック１１間のピッチＰの精度を±１０
μｍ以内とし、ブロック１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１
ｄ，１１ｅ，１１ｆの磁気ヘッド素子１２ａ，１２ｂ，
１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆの各磁気ギャップの基
準線ＣからのずれＬ（位置精度）を±１０μｍ以内とし
て複数のブロック１１を位置合わせする必要がある。
【００１９】なお、複数のブロック１１の磁気ヘッド素
子１２の磁気ギャップを上記のような位置合わせ精度で
位置合わせする方法としては、以下のような方法が挙げ
られる。第１の方法としては、複数のブロック１１自体
の磁気ヘッド素子８の搭載位置精度を向上させ、ブロッ
ク１１を突き当て治具により位置合わせする方法が挙げ
られる。この方法によれば、磁気ヘッド素子搭載位置精
度の向上により磁気ヘッド素子８搭載時の磁気ギャップ
のブロック１１の突き当て面に対する位置精度を±５μ
ｍ以下とすることが可能であることから、突き当て治具
に突き当てる際の突き当て誤差を考慮しても上記位置精
度の達成が可能である。第２の方法としては、複数のブ
ロック１１の磁気ヘッド素子１２の磁気ギャップの位置
を画像処理によって読みとり、位置合わせする方法が挙
げられ、この方法によれば位置精度を更に向上させるこ
とができる。
【００２０】次に、上記のように複数のブロック１１の
位置合わせを行って基板１３上に接着して形成したワー
ク１４に前記のようなスライダー表面形状を有するレジ
ストマスクを形成する。すなわち、先ず、図４に示すよ
うに、ワーク１４のブロック１１上に、ベースフィルム
１５，フォトレジスト１６，保護フィルム１７よりなる
シートレジスト１８をベースフィルム１５を剥しながら
フォトレジスト１６がブロック１１に接するように配し
ながら、これらをローラー１９によって挟み込んで熱圧
着して貼り付ける。上記フォトレジスト１６としては、
ネガ型感光性樹脂等が使用され、シートレジスト１８と
しては、例えば東京応化社製オーディルタイプ等を用い
れば良い。そして、上記のようなスライダー表面形状を
有する金属製のフォトマスクをフォトレジスト１６上に
配し、露光によりフォトレジスト１６にスライダー表面
形状を転写する。なお、上記フォトマスクが、ワーク１
４の複数のブロック１１のスライダー形成位置に合わせ
た位置にスライダー表面形状を有し、複数のブロック１
１に一括してスライダー表面形状を転写できることは言
うまでもない。次いで、例えばＮａ2 ＣＯ3 水溶液のよ
うな弱アルカリ水溶液をフォトレジスト１６上に噴霧
し、現像し、図５に示すようなスライダー形状を有する
レジストマスク２０をワーク１４上に形成する。
【００２１】次に、図６に示すように、ワーク１４のレ
ジストマスク２０形成面に、遊離微細砥粒２１と図示し
ないガスの固気２相流を図示しない噴射ノズルによって
噴射し、ワーク１４を所定の形状に加工する。なお、こ
のような加工方法をパウダービーム加工と称することが
多い。
【００２２】上記遊離微細砥粒２１としては、ＳｉＣ，
Ｂ4 Ｃ，ＣＢＮ，ダイヤモンド粉等の高硬度砥粒で、し
かも平均粒径が１０μｍ以下のものが使用され、該遊離
微細砥粒２１は乾燥したキャリアガス（ガス圧１〜１０
ｋｇ／ｃｍ2 ）によって搬送され、ワーク１４上に噴射
される。このとき、ワーク１４上にはスライダー形状を
有するレジストマスク２０が形成されており、ブロック
１１の加工する箇所だけが露出しているため、露出面に
遊離微細砥粒２１が高速でぶつかり、ブロック１１の表
面を削っていくこととなる。その結果、ブロック１１の
表面は、スライダー表面形状を有する面に加工される。
【００２３】なお、上記パウダービーム加工において
は、加工速度及び加工面の表面粗度は、遊離微細砥粒の
粒径やキャリアガスの動圧によってコントロールされ
る。加工速度は、遊離微細砥粒の粒径とキャリアガスの
動圧のどちらが増えても増加する。これに対して表面性
は、粒径が小さくなり、動圧が下がるほど改善される。
従って遊離微細砥粒の平均粒径は１０μｍ以下とするこ
とが好ましい。また、上記のようなことを利用して、荒
加工と仕上げ加工とを同一装置内で行うことも可能であ
る。
【００２４】さらに、上記遊離微細砥粒とキャリアガス
を噴射する噴射ノズルとしては、加工深さを均一とする
ために、ノズルより噴射される噴射圧力がノズル噴射口
全体において均一なものが好ましく、例えば、噴射口が
横長の矩形断面を有し、さらに両側が絞られて丸くなっ
ている形状のものが好ましい。
【００２５】ところで、これまで述べてきたような浮上
型磁気ヘッド装置においては、スライダーのエッジ部を
丸く加工するブレンド加工を行い、該エッジ部によるハ
ードディスクの破損を防止している。従来においては、
このブレンド加工も機械加工によって行っていたが、先
に述べたようにスライダーの小型化が進んでいるために
ブレンド加工を機械加工によって行うことは困難となっ
てきている。そこで、上記パウダービーム加工によって
ブレンド加工を行っても良く、上記のようにスライダー
表面形状加工を行った後に、ブレンド加工を行えば良
い。
【００２６】最後に、図７に示すように、ワーク１４の
複数のブロック１１をダイヤモンド等よりなる回転砥石
２２によって所定の大きさに分離切断し、図１に示すよ
うなスライダー１と磁気ヘッド素子８よりなる浮上型磁
気ヘッド装置を得る。
【００２７】本実施例の浮上型磁気ヘッド装置の製造方
法においては、ワーク表面をパウダービーム加工によっ
て加工するため、ワークのブロックに任意の形状のスラ
イダーレールを容易に形成することができる。また、パ
ウダービーム加工は、イオンミリング法に比べ加工速度
が向上する。さらに加工の開始前に真空排気等の準備段
階を要することがなく、イオンミリング法に比べ、加工
の全工程の時間が大幅に短縮され、量産性に優れること
になる。しかも装置が比較的簡単であり、量産機として
の価格もイオンミリング機に比べて安くすることができ
る。従って、本実施例の浮上型磁気ヘッド装置の製造方
法は量産に適している。
【００２８】また、本実施例の浮上型磁気ヘッド装置の
製造方法においては、複数のブロックの位置合わせを正
確に行ってワークを形成し、上記ワークにスライダー表
面形状加工を一括して行い、その後、所定の大きさに分
離切断するため、ブロック毎の加工精度が異なるといっ
たことはなく、また、位置合わせを正確に行っているこ
とから加工精度は非常に良好であり、特性の良好な浮上
型磁気ヘッド装置が安定して得られる。
【００２９】さらに、従来の浮上型磁気ヘッド装置の製
造方法においては、複数の磁気ヘッド素子が搭載された
ブロックを１個ずつ加工していたが、本実施例において
は複数のブロックを一度に加工するため、量産性が著し
く向上される。なお、従来においては、１個のブロック
をスライダー表面形状加工用の加工治具に固定して加工
を行った後、複数のブロックを分離切断用の加工治具に
位置合わせをして固定し直し、分離切断を行っていた。
上記位置合わせ工程は、非常に煩雑である上、各ブロッ
クの位置精度が低下するといった不都合があった。ま
た、該工程によりブロックの表面曲率が変化し、形成さ
れる浮上型磁気ヘッド装置のスライダーの浮上特性がば
らつくといった不都合も生じていた。しかしながら、本
実施例の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法においては、
複数のブロックをワークとしたまま製造工程全てを実施
するため、煩雑な操作がなく、製造工程中にブロックの
特性が変化することもない。
【００３０】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法は、複数の磁気ヘ
ッド素子が搭載される複数のブロックを、異なるブロッ
クの磁気ヘッド素子の磁気ギャップが略一直線上に配列
され、上記複数のブロックが等間隔で平行となるように
位置合わせし、基板上に接着してワークを形成する工程
と、上記ワークのブロック上に所定のスライダー表面形
状を有するレジストマスクを形成する工程と、上記ワー
クのレジストマスク形成面に遊離砥粒とガスとの固気２
相流を噴射ノズルによって噴射する工程と、上記ワーク
を所定のスライダーの大きさに分離切断する工程を有す
るため、上記ワークのレジストマスクの形成されない部
分のみが加工されることとなり、任意のスライダー表面
形状が容易に形成される。
【００３１】また、ブロックの位置合わせを正確に行っ
ていることからワークの加工精度は良好である。さら
に、従来の製造方法においては、複数の磁気ヘッド素子
が搭載されたブロックを１個ずつ加工しており、ブロッ
ク毎に加工精度が異なるといった不都合が生じていた
が、本発明においては複数ブロックを一度に加工するた
め、ブロック間に加工精度のバラツキが生じない。従っ
て、特性の良好な浮上型磁気ヘッド装置が安定して得ら
れる。さらに、複数のブロックの加工を行うことから、
量産性もおのずと向上される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した浮上型磁気ヘッド装置の製造
方法の実施例によって製造される浮上型磁気ヘッド装置
を示す斜視図である。
【図２】本発明を適用した浮上型磁気ヘッド装置の製造
方法の実施例を工程順に示すものであり、ワークを形成
する工程を示す斜視図である。
【図３】ワークを形成する工程におけるワークの各ブロ
ック及び各磁気ヘッド素子の位置関係を示す模式図であ
る。
【図４】ワークのブロック上にシートレジストを貼り付
ける工程を示す側面図である。
【図５】ワーク上にレジストマスクを形成する工程を示
す側面図である。
【図６】ワークにパウダービーム加工を行う工程を示す
側面図である。
【図７】ワークを分離切断する工程を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
１１・・・ブロック １２・・・磁気ヘッド素子 １３・・・基板 １４・・・ワーク １６・・・フォトレジスト １８・・・シートレジスト ２０・・・レジストマスク ２１・・・遊離微細砥粒 ２２・・・回転砥石 Ｃ，Ｈ・・・基準線 Ｌ・・・ずれ Ｐ・・・ピッチ
フロントページの続き (72)発明者 三島 彰生 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の磁気ヘッド素子が搭載される複数
    のブロックを、異なるブロックの磁気ヘッド素子の磁気
    ギャップが略一直線上に配列され、上記複数のブロック
    が等間隔で平行となるように位置合わせし、基板上に接
    着してワークを形成する工程と、 上記ワークのブロック上に所定のスライダー表面形状を
    有するレジストマスクを形成する工程と、 上記ワークのレジストマスク形成面に遊離砥粒とガスと
    の固気２相流を噴射ノズルによって噴射する工程と、 上記ワークを所定のスライダーの大きさに分離切断する
    工程を有することを特徴とする浮上型磁気ヘッド装置の
    製造方法。
  2. 【請求項２】 異なるブロックの磁気ヘッド素子の磁気
    ギャップを略一直線上に配列した時の位置精度が±１０
    μｍとなるように、複数のブロックを基板上に接着して
    ワークを形成することを特徴とする請求項１記載の浮上
    型磁気ヘッド装置の製造方法。
  3. 【請求項３】 複数のブロックをブロック同士が接する
    ことのないように基板上に接着してワークを形成するこ
    とを特徴とする請求項１記載の浮上型磁気ヘッド装置の
    製造方法。
  4. 【請求項４】 遊離砥粒の平均粒径が１０μｍ以下であ
    ることを特徴とする請求項１記載の浮上型磁気ヘッド装
    置の製造方法。
  5. 【請求項５】 遊離砥粒の噴射によってワーク表面のエ
    ッジを丸くするブレンド加工を行うようにしたことを特
    徴とする請求項１記載の浮上型磁気ヘッド装置の製造方
    法。
  6. 【請求項６】 横長の矩形断面の噴射口を有する噴射ノ
    ズルによって遊離砥粒とガスとの固気２相流を噴射する
    ようにしたことを特徴とする請求項１記載の浮上型磁気
    ヘッド装置の製造方法。
  7. 【請求項７】 噴射ノズルの噴射口の矩形断面の両側が
    絞られて丸くなっていることを特徴とする請求項６記載
    の浮上型磁気ヘッド装置の製造方法。
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