JPH0681752B2 - カルボスチリル誘導体 - Google Patents
カルボスチリル誘導体Info
- Publication number
- JPH0681752B2 JPH0681752B2 JP62060770A JP6077087A JPH0681752B2 JP H0681752 B2 JPH0681752 B2 JP H0681752B2 JP 62060770 A JP62060770 A JP 62060770A JP 6077087 A JP6077087 A JP 6077087A JP H0681752 B2 JPH0681752 B2 JP H0681752B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- phenyl
- lower alkyl
- alkyl group
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なカルボスチリル誘導体に関する。
発明の開示 一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フエ
ニル基；フエニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフエニル基；シク
ロアルキル基；フエニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフエニル低級アルキル基；フエ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフエニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フエニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。R1は水素
原子、低級アルキル基又はフエニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基示す。Ｚは
酸素原子、硫黄原子、 （R3は水素原子又は低級アルキル基）又は基−NH−を示
す。Ａは低級アルキレン基を示す。Ｘは酸素原子、硫黄
原子、基−SO−又は基−SO2−を示す。ｎは０又は１を
示す。カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
は一重結合又は二重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩は、血小
板粘着抑制作用を有し、例えば動脈硬化症、虚血性心疾
患、慢性動脈閉塞症、急性又は慢性の腎炎等の治療及び
予防薬として、或は人工透析時や人工臓器埋め込み時等
に使用し得る。
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フエ
ニル基；フエニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフエニル基；シク
ロアルキル基；フエニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフエニル低級アルキル基；フエ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフエニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フエニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。R1は水素
原子、低級アルキル基又はフエニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基示す。Ｚは
酸素原子、硫黄原子、 （R3は水素原子又は低級アルキル基）又は基−NH−を示
す。Ａは低級アルキレン基を示す。Ｘは酸素原子、硫黄
原子、基−SO−又は基−SO2−を示す。ｎは０又は１を
示す。カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合
は一重結合又は二重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩は、血小
板粘着抑制作用を有し、例えば動脈硬化症、虚血性心疾
患、慢性動脈閉塞症、急性又は慢性の腎炎等の治療及び
予防薬として、或は人工透析時や人工臓器埋め込み時等
に使用し得る。
上記一般式（１）において示される各基は、各々次の通
りである。
りである。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキ
シル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
を例示できる。
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキ
シル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
を例示できる。
ハロ低級アルキル基としては、クロロメチル、ブロモメ
チル、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２−フルオ
ロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオ
ロエチル、３−クロロプロピル、４−クロロブチル、3,
4−ジクロロブチル、３−フルオロペンチル、2,3,4−ト
リフルオロペンチル、2,3−ジクロロヘキシル、6,6−ジ
ブロモヘキシル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜
３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
を例示できる。
チル、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２−フルオ
ロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオ
ロエチル、３−クロロプロピル、４−クロロブチル、3,
4−ジクロロブチル、３−フルオロペンチル、2,3,4−ト
リフルオロペンチル、2,3−ジクロロヘキシル、6,6−ジ
ブロモヘキシル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜
３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
を例示できる。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
及び沃素原子を例示できる。
及び沃素原子を例示できる。
低級アルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチル
アミノ、プロピルアミノ、tert−ブチルアミノ、ペンチ
ルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジ−ｎ−プロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミ
ノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、Ｎ−メチル
−Ｎ-ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルア
ミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基等の置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又
は２個有するアミノ基を例示できる。
アミノ、プロピルアミノ、tert−ブチルアミノ、ペンチ
ルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジ−ｎ−プロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミ
ノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、Ｎ−メチル
−Ｎ-ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルア
ミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基等の置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又
は２個有するアミノ基を例示できる。
低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロアルキ
ル基を例示できる。
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロアルキ
ル基を例示できる。
アミノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基な
る群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル
基としては、アミノメチル、２−メチルアミノエチル、
１−エチルアミノエチル、３−プロピルアミノプロピ
ル、４-tert−ブチルアミノブチル、1,1−ジメチル−２
−ペンチルアミノエチル、５−ヘキシルアミノペンチ
ル、６−ジメチルアミノヘキシル、ジメチルアミノメチ
ル、２−ジエチルアミノエチル、１−ジ−ｎ−プロピル
アミノエチル、３−ジ−ｎ−ブチルアミノプロピル、４
−ジペンチルアミノブチル、1,1−ジメチル−２−ジヘ
キシルアミノエチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチ
ルアミノ）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチル
アミノ）ヘキシル、２−メチル−３−（Ｎ−エチル−Ｎ
−ヘキシルアミノ）プロピル、カルボキシメチル、２−
カルボキシエチル、１−カルボキシエチル、３−カルボ
キシプロピル、４−カルボキシブチル、1,1−ジメチル
−２−カルボキシエチル、５−カルボキシペンチル、６
−カルボキシヘキシル、２−メチル−３−カルボキシプ
ロピル、２−アミノ−２−カルボキシエチル、１−ジメ
チルアミノ−１−カルボキシメチル、３−アミノ−２−
カルボキシプロピル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選
ばれた置換基を１〜２個有する炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を例示できる。
る群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル
基としては、アミノメチル、２−メチルアミノエチル、
１−エチルアミノエチル、３−プロピルアミノプロピ
ル、４-tert−ブチルアミノブチル、1,1−ジメチル−２
−ペンチルアミノエチル、５−ヘキシルアミノペンチ
ル、６−ジメチルアミノヘキシル、ジメチルアミノメチ
ル、２−ジエチルアミノエチル、１−ジ−ｎ−プロピル
アミノエチル、３−ジ−ｎ−ブチルアミノプロピル、４
−ジペンチルアミノブチル、1,1−ジメチル−２−ジヘ
キシルアミノエチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチ
ルアミノ）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチル
アミノ）ヘキシル、２−メチル−３−（Ｎ−エチル−Ｎ
−ヘキシルアミノ）プロピル、カルボキシメチル、２−
カルボキシエチル、１−カルボキシエチル、３−カルボ
キシプロピル、４−カルボキシブチル、1,1−ジメチル
−２−カルボキシエチル、５−カルボキシペンチル、６
−カルボキシヘキシル、２−メチル−３−カルボキシプ
ロピル、２−アミノ−２−カルボキシエチル、１−ジメ
チルアミノ−１−カルボキシメチル、３−アミノ−２−
カルボキシプロピル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選
ばれた置換基を１〜２個有する炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を例示できる。
低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル
基を例示できる。
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル
基を例示できる。
フエニル低級アルキル基としては、ベンジル、２−フエ
ニルエチル、１−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル、４−フエニルブチル、1,1−ジメチル−２−フエニ
ルエチル、５−フエニルペンチル、６−フエニルヘキシ
ル、２−メチル−３−フエニルプロピル基等のアルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフエニルアルキル基を例示できる。
ニルエチル、１−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル、４−フエニルブチル、1,1−ジメチル−２−フエニ
ルエチル、５−フエニルペンチル、６−フエニルヘキシ
ル、２−メチル−３−フエニルプロピル基等のアルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフエニルアルキル基を例示できる。
低級アルコキシ置換フエニル低級アルキル基としては、
３−メトキシベンジル、２−（3,4−ジメトキシフエニ
ル）エチル、１−（４−エトキシフエニル）エチル、３
−（２−プロポキシフエニル）プロピル、４−（３−ブ
トキシフエニル）ブチル、1,1−ジメチル−２−（４−
ペンチルオキシフエニル）エチル、５−（４−ヘキシル
オキシフエニル）ペンチル、６−（3,4,5−トリメトキ
シフエニル）ヘキシル、２−メチル−３−（2,5−ジメ
トキシフエニル）プロピル基等のフエニル環上に炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個置換
基として有し且つアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるフエニルアルキル基を例示
できる。
３−メトキシベンジル、２−（3,4−ジメトキシフエニ
ル）エチル、１−（４−エトキシフエニル）エチル、３
−（２−プロポキシフエニル）プロピル、４−（３−ブ
トキシフエニル）ブチル、1,1−ジメチル−２−（４−
ペンチルオキシフエニル）エチル、５−（４−ヘキシル
オキシフエニル）ペンチル、６−（3,4,5−トリメトキ
シフエニル）ヘキシル、２−メチル−３−（2,5−ジメ
トキシフエニル）プロピル基等のフエニル環上に炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個置換
基として有し且つアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるフエニルアルキル基を例示
できる。
低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、te
rt−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を例示で
きる。
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、te
rt−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を例示で
きる。
低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−ヘキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルケニル基を例示できる。
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−ヘキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルケニル基を例示できる。
フエニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ
基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１
〜３個有するフエニル基としては、２−クロロフエニ
ル、３−クロロフエニル、４−クロロフエニル、２−フ
ルオロフエニル、３−フルオロフエニル、４−フルオロ
フエニル、２−ブロモフエニル、３−ブロモフエニル、
４−ブロモフエニル、２−ヨードフエニル、３−ヨード
フエニル、４−ヨードフエニル、3,5−ジクロロフエニ
ル、2,6−ジクロロフエニル、3,4−ジクロロフエニル、
3,4−ジフルオロフエニル、3,5−ジブロモフエニル、3,
4,5−トリクロロフエニル、２−メチルフエニル、３−
メチルフエニル、４−メチルフエニル、２−エチルフエ
ニル、３−エチルフエニル、４−エチルフエニル、３−
イソプロピルフエニル、４−ヘキルシルフエニル、3,4
−ジメチルフエニル、2,5−ジメチルフエニル、3,4,5−
トリメチルフエニル、２−メトキシフエニル、３−メト
キシフエニル、４−メトキシフエニル、２−エトキシフ
エニル、３−エトキシフエニル、４−エトキシフエニ
ル、４−イソプロポキシフエニル、４−ヘキシルオキシ
フエニル、3,4−ジメトキシフエニル、3,4−ジエトキシ
フエニル、3,4,5−トリメトキシフエニル、2,5−ジメト
キシフエニル、３−メチル−４−クロロフエニル、２−
クロロ−６−メチルフエニル、２−メトキシ−３−クロ
ロフエニル、２−ヒドロキシフエニル、３−ヒドロキシ
フエニル、４−ヒドロキシフエニル、3,4−ジヒドロキ
シフエニル、3,4,5−トリヒドロキシフエニル、２−ア
ミノフエニル、３−アミノフエニル、４−アミノフエニ
ル、2,4−ジアミノフエニル、２−メチルアミノフエニ
ル、３−メチルアミノフエニル、４−メチルアミノフエ
ニル、２−エチルアミノフエニル、３−エチルアミノフ
エニル、４−エチルアミノフエニル、４−イソプロピル
アミノフエニル、４−ヘキシルアミノフエニル、3,4−
ジメチルアミノフエニル、２−（ジメチルアミノ）フエ
ニル、３−（ジメチルアミノ）フエニル、４−（ジメチ
ルアミノ）フエニル、２−（ジエチルアミノ）フエニ
ル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）フエニル、
４−（Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアミノ）フエニ
ル、４−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フ
エニル、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フエニル、２−
トリフルオロメチルフエニル、３−（３−クロロプロピ
ル）フエニル、４−（２−フルオロエチル）フエニル、
２−（４−クロロブチル）フエニル、３−（３−ブロモ
ペンチル）フエニル、２−（ヨードメチル）フエニル、
４−（2,3−ジクロロヘキシル）フエニル、３−（2,2,2
−トリフルオロエチル）フエニル基等のフエニル環上に
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハロゲン
原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有す
るアミノ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフエ
ニル基を例示できる。
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ
基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１
〜３個有するフエニル基としては、２−クロロフエニ
ル、３−クロロフエニル、４−クロロフエニル、２−フ
ルオロフエニル、３−フルオロフエニル、４−フルオロ
フエニル、２−ブロモフエニル、３−ブロモフエニル、
４−ブロモフエニル、２−ヨードフエニル、３−ヨード
フエニル、４−ヨードフエニル、3,5−ジクロロフエニ
ル、2,6−ジクロロフエニル、3,4−ジクロロフエニル、
3,4−ジフルオロフエニル、3,5−ジブロモフエニル、3,
4,5−トリクロロフエニル、２−メチルフエニル、３−
メチルフエニル、４−メチルフエニル、２−エチルフエ
ニル、３−エチルフエニル、４−エチルフエニル、３−
イソプロピルフエニル、４−ヘキルシルフエニル、3,4
−ジメチルフエニル、2,5−ジメチルフエニル、3,4,5−
トリメチルフエニル、２−メトキシフエニル、３−メト
キシフエニル、４−メトキシフエニル、２−エトキシフ
エニル、３−エトキシフエニル、４−エトキシフエニ
ル、４−イソプロポキシフエニル、４−ヘキシルオキシ
フエニル、3,4−ジメトキシフエニル、3,4−ジエトキシ
フエニル、3,4,5−トリメトキシフエニル、2,5−ジメト
キシフエニル、３−メチル−４−クロロフエニル、２−
クロロ−６−メチルフエニル、２−メトキシ−３−クロ
ロフエニル、２−ヒドロキシフエニル、３−ヒドロキシ
フエニル、４−ヒドロキシフエニル、3,4−ジヒドロキ
シフエニル、3,4,5−トリヒドロキシフエニル、２−ア
ミノフエニル、３−アミノフエニル、４−アミノフエニ
ル、2,4−ジアミノフエニル、２−メチルアミノフエニ
ル、３−メチルアミノフエニル、４−メチルアミノフエ
ニル、２−エチルアミノフエニル、３−エチルアミノフ
エニル、４−エチルアミノフエニル、４−イソプロピル
アミノフエニル、４−ヘキシルアミノフエニル、3,4−
ジメチルアミノフエニル、２−（ジメチルアミノ）フエ
ニル、３−（ジメチルアミノ）フエニル、４−（ジメチ
ルアミノ）フエニル、２−（ジエチルアミノ）フエニ
ル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）フエニル、
４−（Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアミノ）フエニ
ル、４−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フ
エニル、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フエニル、２−
トリフルオロメチルフエニル、３−（３−クロロプロピ
ル）フエニル、４−（２−フルオロエチル）フエニル、
２−（４−クロロブチル）フエニル、３−（３−ブロモ
ペンチル）フエニル、２−（ヨードメチル）フエニル、
４−（2,3−ジクロロヘキシル）フエニル、３−（2,2,2
−トリフルオロエチル）フエニル基等のフエニル環上に
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハロゲン
原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有す
るアミノ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフエ
ニル基を例示できる。
窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれ
たヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環残基として
は、1,2,4−トリアゾリル、イミダゾリル、1,2,3,5−テ
トラゾリル、1,2,3,4−テトラゾリル、ピロリル、ベン
ズイミダゾリル、1,3,4−トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ピリジル、ピリミジニル、ピラゾリル、ピラゾリニ
ル、チアゾリル、チアゾリニル、1,3,4−オキサジアゾ
リル、1,3,4−チアジアゾリル、チエニル、フリル、ピ
ラニル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリル、3H−
インドリル、インドリジニル、インダゾリル、キノリ
ル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キ
ノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、ピロリニ
ル、ピラゾリニル、インドリニル、イソインドリニル基
等を例示できる。
たヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環残基として
は、1,2,4−トリアゾリル、イミダゾリル、1,2,3,5−テ
トラゾリル、1,2,3,4−テトラゾリル、ピロリル、ベン
ズイミダゾリル、1,3,4−トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ピリジル、ピリミジニル、ピラゾリル、ピラゾリニ
ル、チアゾリル、チアゾリニル、1,3,4−オキサジアゾ
リル、1,3,4−チアジアゾリル、チエニル、フリル、ピ
ラニル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリル、3H−
インドリル、インドリジニル、インダゾリル、キノリ
ル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キ
ノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、ピロリニ
ル、ピラゾリニル、インドリニル、イソインドリニル基
等を例示できる。
複素環上にオキソ基、チオ基、フエニル基、フエニル環
上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボ
キシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基
を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、フエ
ニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、カルボキシ基及びカルボキシル基なる群から
選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、フエニル環上に置換基として水酸基
を有することのあるフエニル低級アルキル基、フエニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
フエニルスルホニル基、低級アルコキシ置換フエニル低
級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
基、低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から選
ばれた置換基を１〜３個有する上記複素環残基として
は、２−フエニルチオピロリル、２−メチルイミダゾリ
ル、２−エチルイミダゾリル、２−プロピルイミダゾリ
ル、４−ｎ−ブチルイミダゾリル、４−ペンチルイミダ
ゾリル、４−ヘキシルイミダゾリル、２−フエニルイミ
ダゾリル、２−フエニルチオイミダゾリル、２−フエニ
ルチオ−1,3,5−トリアゾリル、３−フエニルチオ−1,
2,4−トリアゾリル、１−フエニルイミダゾリル、１−
エチルイミダゾリル、５−メチルイミダゾリル、５−メ
トキシベンズイミダゾリル、１−エチルベンズイミダゾ
リル、６−エトキシベンズイミダゾリル、７−プロポキ
シベンズイミダゾリル、４−ｎ−ブトキシベンズイミダ
ゾリル、５−ペンチルオキシベンズイミダゾリル、６−
ヘキシルオキシベンズイミダゾリル、１−フエニル−1,
3,4−トリアゾリル、１−フエニル−1,2,3,4−テトラゾ
リル、１−（３−ピリジル）イミダゾリル、１−（２−
メチルフエニル）イミダゾリル、１−（２−メトキシフ
エニル）イミダゾリル、１−（４−メチルフエニル）イ
ミダゾリル、１−（３−エチルフエニル）イミダゾリ
ル、１−（４−プロピルフエニル）イミダゾリル、１−
（２−ｎ−ブチルフエニル）イミダゾリル、１−（３−
ペンチルフエニル）イミダゾリル、１−（４−ヘキシル
フエニル）イミダゾリル、１−（３−エトキシフエニ
ル）イミダゾリル、１−（４−メトキシフエニル）イミ
ダゾリル、１−（４−プロポキシフエニル）イミダゾリ
ル、１−（２−ｎ−ブトキシフエニル）イミダゾリル、
１−（３−ペンチルオキシフエニル）イミダゾリル、１
−（４−ヘキシルオキシフエニル）イミダゾリル、１−
アリルイミダゾリル、１−（２−ブテニル）イミダゾリ
ル、１−（３−ブテニル）イミダゾリル、１−（１−メ
チルアリル）イミダゾリル、１−（２−ペンテニル）イ
ミダゾリル、１−（２−ヘキセニル）イミダゾリル、１
−ベンジルイミダゾリル、１−（２−フエニルエチル）
イミダゾリル、１−（１−フエニルエチル）イミダゾリ
ル、１−（３−フエニルプロピル）イミダゾリル、１−
（４−フエニルブチル）イミダゾリル、１−（６−フエ
ニルヘキシル）イミダゾリル、１−（５−フエニルペン
チル）イミダゾリル、１−エチル−1,3,4−トリアゾリ
ル、４−エチル−1,3,4−トリアゾリル、１−メチル−
1,3,4−トリアゾリル、４−プロピル、1,3,4−トリアゾ
リル、１−ベンジル−1,3,4−トリアゾリル、４−ベン
ジル−1,3,4−トリアゾリル、１−（２−フエニルエチ
ル）−1,3,4−トリアゾリル、３−メチルピラゾリル、
４−エチルピラゾリル、３−プロピルピラゾリル、３−
ｎ−ブチルピラゾリル、１−エチルピロリル、１−メチ
ルピロリル、１−プロピルピロリル、１−ｎ−ブチルピ
ロリル、１−アリルベンズイミダゾリル、１−（２−ブ
テニル）ベンズイミダゾリル、１−（３−ブテニル）ベ
ンズイミダゾリル、１−（１−メチルアリル）ベンズイ
ミダゾリル、１−（２−ペンテニル）ベンズイミダゾリ
ル、１−（２−ヘキセニル）ベンズイミダゾリル、１−
（２−トリフルオロメチルフエニル）イミダゾリル、１
−（４−クロロフエニル）イミダゾリル、１−（４−ヒ
ドロキシフエニル）イミダゾリル、１−（４−ジメチル
アミノフエニル）イミダゾリル、１−（3,4−ジフルオ
ロフエニル）イミダゾリル、１−（3,4,5−トリクロロ
フエニル）イミダゾリル、１−〔４−（２−フルオロエ
チル）フエニル〕イミダゾリル、１−〔４−（2,3−ジ
クロロヘキシル）フエニル〕イミダゾリル、１−〔３−
（３−クロロプロピル）フエニル〕イミダゾリル、１−
（２−アミノフエニル）イミダゾリル、１−（２−エチ
ルアミノフエニル）イミダゾリル、１−（４−イソプロ
ピルアミノフエニル）イミダゾリル、１−〔４−（Ｎ−
メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フエニル〕イミダゾリ
ル、２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサジアゾリル、
２−シクロプロピル−1,3,4−オキサジアゾリル、２−
シクロヘプチル−1,3,4−オキサジアゾリル、２−シク
ロオクチル−1,3,4−オキサジアゾリル、１−シクロヘ
キシルイミダゾリル、１−シクロペンチル−1,3,4−ト
リアゾリル、１−シクロプロピル−ベンズイミダゾリ
ル、２−メチルチオイミダゾリル、４−エチルチオイミ
ダゾリル、２−プロピオチオイミダゾリル、４−ｎ−ブ
チルチオイミダゾリル、４−ペンチルチオイミダゾリ
ル、２−ヘキシルチオイミダゾリル、１−エチル−5,6
−ジメトキシ−ベンズイミダゾリル、２−フエニル−3,
4−ジメチルピロリル、1,2,3−トリメチルイミダソリ
ル、2,4−ジクロロ−1,2,4−トリアゾリル、2,4,5−ト
リクロロピリジル、3,4,5−トリメトキシピリジル、２
−（２−アミノ−２−カルボキシエチル）イミダゾリ
ル、２−メチル−３−ジメチルアミノメチルイミダゾリ
ル、２−カルボキシメチル−３−メチルイミダゾリル、
３−メチル−５−ピラゾロニル、３−メチル−４−ヒド
ロキシピラゾリル、４−アミノ−５−シアノイミダゾリ
ル、４−メチル−５−エトキシカルボニルイミダゾリ
ル、４−メチル−５−カルボキシイミダゾリル、１−
〔２−（3,4−ジヒドロフエニル）エチル〕−1,2,3,4−
テトラゾリル、１−（３−ピリジル）−５−チオ−1,2,
3,4−テトラゾリル、１−フエニル−５−チオ−1,2,3,4
−テトラゾリル、１−（４−フエニルスルホニル）ピロ
リル、１−（４−カルボキシフエニル）イミダゾリル基
等の複素環上にオキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に上記低級アルキル基、上記ハロ低級アルキル
基、上記ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、上記低級ア
ルキルアミノ基、カルボキシ基及び上記低級アルコキシ
基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフエニル
基、上記シクロアルキル基、フエニルチオ基、上記低級
アルキル基、アミノ基、上記低級アルキルアミノ基及び
カルボキシル基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有
する上記低級アルキル基、アミノ基、水酸基、シアノ
基、カルボキシル基、上記低級アルコキシカルボニル
基、上記フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、上記フエニル環上に
置換基として低級アルキル基を有することのあるフエニ
ルスルホニル基、上記低級アルコキシ置換フエニル低級
アルキル基、上記低級アルキルチオ基、上記低級アルケ
ニル基、上記低級アルコキシ基及びピリジル基からなる
群から選ばれた置換基を１〜３個有する上記複素環残基
を例示できる。
上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボ
キシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基
を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、フエ
ニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、カルボキシ基及びカルボキシル基なる群から
選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、フエニル環上に置換基として水酸基
を有することのあるフエニル低級アルキル基、フエニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
フエニルスルホニル基、低級アルコキシ置換フエニル低
級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル
基、低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から選
ばれた置換基を１〜３個有する上記複素環残基として
は、２−フエニルチオピロリル、２−メチルイミダゾリ
ル、２−エチルイミダゾリル、２−プロピルイミダゾリ
ル、４−ｎ−ブチルイミダゾリル、４−ペンチルイミダ
ゾリル、４−ヘキシルイミダゾリル、２−フエニルイミ
ダゾリル、２−フエニルチオイミダゾリル、２−フエニ
ルチオ−1,3,5−トリアゾリル、３−フエニルチオ−1,
2,4−トリアゾリル、１−フエニルイミダゾリル、１−
エチルイミダゾリル、５−メチルイミダゾリル、５−メ
トキシベンズイミダゾリル、１−エチルベンズイミダゾ
リル、６−エトキシベンズイミダゾリル、７−プロポキ
シベンズイミダゾリル、４−ｎ−ブトキシベンズイミダ
ゾリル、５−ペンチルオキシベンズイミダゾリル、６−
ヘキシルオキシベンズイミダゾリル、１−フエニル−1,
3,4−トリアゾリル、１−フエニル−1,2,3,4−テトラゾ
リル、１−（３−ピリジル）イミダゾリル、１−（２−
メチルフエニル）イミダゾリル、１−（２−メトキシフ
エニル）イミダゾリル、１−（４−メチルフエニル）イ
ミダゾリル、１−（３−エチルフエニル）イミダゾリ
ル、１−（４−プロピルフエニル）イミダゾリル、１−
（２−ｎ−ブチルフエニル）イミダゾリル、１−（３−
ペンチルフエニル）イミダゾリル、１−（４−ヘキシル
フエニル）イミダゾリル、１−（３−エトキシフエニ
ル）イミダゾリル、１−（４−メトキシフエニル）イミ
ダゾリル、１−（４−プロポキシフエニル）イミダゾリ
ル、１−（２−ｎ−ブトキシフエニル）イミダゾリル、
１−（３−ペンチルオキシフエニル）イミダゾリル、１
−（４−ヘキシルオキシフエニル）イミダゾリル、１−
アリルイミダゾリル、１−（２−ブテニル）イミダゾリ
ル、１−（３−ブテニル）イミダゾリル、１−（１−メ
チルアリル）イミダゾリル、１−（２−ペンテニル）イ
ミダゾリル、１−（２−ヘキセニル）イミダゾリル、１
−ベンジルイミダゾリル、１−（２−フエニルエチル）
イミダゾリル、１−（１−フエニルエチル）イミダゾリ
ル、１−（３−フエニルプロピル）イミダゾリル、１−
（４−フエニルブチル）イミダゾリル、１−（６−フエ
ニルヘキシル）イミダゾリル、１−（５−フエニルペン
チル）イミダゾリル、１−エチル−1,3,4−トリアゾリ
ル、４−エチル−1,3,4−トリアゾリル、１−メチル−
1,3,4−トリアゾリル、４−プロピル、1,3,4−トリアゾ
リル、１−ベンジル−1,3,4−トリアゾリル、４−ベン
ジル−1,3,4−トリアゾリル、１−（２−フエニルエチ
ル）−1,3,4−トリアゾリル、３−メチルピラゾリル、
４−エチルピラゾリル、３−プロピルピラゾリル、３−
ｎ−ブチルピラゾリル、１−エチルピロリル、１−メチ
ルピロリル、１−プロピルピロリル、１−ｎ−ブチルピ
ロリル、１−アリルベンズイミダゾリル、１−（２−ブ
テニル）ベンズイミダゾリル、１−（３−ブテニル）ベ
ンズイミダゾリル、１−（１−メチルアリル）ベンズイ
ミダゾリル、１−（２−ペンテニル）ベンズイミダゾリ
ル、１−（２−ヘキセニル）ベンズイミダゾリル、１−
（２−トリフルオロメチルフエニル）イミダゾリル、１
−（４−クロロフエニル）イミダゾリル、１−（４−ヒ
ドロキシフエニル）イミダゾリル、１−（４−ジメチル
アミノフエニル）イミダゾリル、１−（3,4−ジフルオ
ロフエニル）イミダゾリル、１−（3,4,5−トリクロロ
フエニル）イミダゾリル、１−〔４−（２−フルオロエ
チル）フエニル〕イミダゾリル、１−〔４−（2,3−ジ
クロロヘキシル）フエニル〕イミダゾリル、１−〔３−
（３−クロロプロピル）フエニル〕イミダゾリル、１−
（２−アミノフエニル）イミダゾリル、１−（２−エチ
ルアミノフエニル）イミダゾリル、１−（４−イソプロ
ピルアミノフエニル）イミダゾリル、１−〔４−（Ｎ−
メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フエニル〕イミダゾリ
ル、２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサジアゾリル、
２−シクロプロピル−1,3,4−オキサジアゾリル、２−
シクロヘプチル−1,3,4−オキサジアゾリル、２−シク
ロオクチル−1,3,4−オキサジアゾリル、１−シクロヘ
キシルイミダゾリル、１−シクロペンチル−1,3,4−ト
リアゾリル、１−シクロプロピル−ベンズイミダゾリ
ル、２−メチルチオイミダゾリル、４−エチルチオイミ
ダゾリル、２−プロピオチオイミダゾリル、４−ｎ−ブ
チルチオイミダゾリル、４−ペンチルチオイミダゾリ
ル、２−ヘキシルチオイミダゾリル、１−エチル−5,6
−ジメトキシ−ベンズイミダゾリル、２−フエニル−3,
4−ジメチルピロリル、1,2,3−トリメチルイミダソリ
ル、2,4−ジクロロ−1,2,4−トリアゾリル、2,4,5−ト
リクロロピリジル、3,4,5−トリメトキシピリジル、２
−（２−アミノ−２−カルボキシエチル）イミダゾリ
ル、２−メチル−３−ジメチルアミノメチルイミダゾリ
ル、２−カルボキシメチル−３−メチルイミダゾリル、
３−メチル−５−ピラゾロニル、３−メチル−４−ヒド
ロキシピラゾリル、４−アミノ−５−シアノイミダゾリ
ル、４−メチル−５−エトキシカルボニルイミダゾリ
ル、４−メチル−５−カルボキシイミダゾリル、１−
〔２−（3,4−ジヒドロフエニル）エチル〕−1,2,3,4−
テトラゾリル、１−（３−ピリジル）−５−チオ−1,2,
3,4−テトラゾリル、１−フエニル−５−チオ−1,2,3,4
−テトラゾリル、１−（４−フエニルスルホニル）ピロ
リル、１−（４−カルボキシフエニル）イミダゾリル基
等の複素環上にオキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に上記低級アルキル基、上記ハロ低級アルキル
基、上記ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、上記低級ア
ルキルアミノ基、カルボキシ基及び上記低級アルコキシ
基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフエニル
基、上記シクロアルキル基、フエニルチオ基、上記低級
アルキル基、アミノ基、上記低級アルキルアミノ基及び
カルボキシル基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有
する上記低級アルキル基、アミノ基、水酸基、シアノ
基、カルボキシル基、上記低級アルコキシカルボニル
基、上記フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、上記フエニル環上に
置換基として低級アルキル基を有することのあるフエニ
ルスルホニル基、上記低級アルコキシ置換フエニル低級
アルキル基、上記低級アルキルチオ基、上記低級アルケ
ニル基、上記低級アルコキシ基及びピリジル基からなる
群から選ばれた置換基を１〜３個有する上記複素環残基
を例示できる。
低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、2,2−ジメチルト
リメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキレン基を例示できる。
メチレン、２−メチルトリメチレン、2,2−ジメチルト
リメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキレン基を例示できる。
フエニル環上に置換基として水酸基を有することのある
フエニル低級アルキル基としては、前記フエニル低級ア
ルキル基に加えて、３−ヒドロキシベンジル、２−（3,
4−ジヒドロキシフエニル）エチル、１−（４−ヒドロ
キシフエニル）エチル、３−（２−ヒドロキシフエニ
ル）プロピル、４−（３−ヒドロキシフエニル）ブチ
ル、1,1−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフエニル）
エチル、５−（４−ヒドロキシフエニル）ペンチル、６
−（3,4,5−トリヒドロキシフエニル）ヘキシル、２−
メチル−３−（2,5−ジヒドロキシフエニル）プロピル
基等のフエニル環上に水酸基を１〜３個有することのあ
る且つアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基であるフエニルアルキル基を例示できる。
フエニル低級アルキル基としては、前記フエニル低級ア
ルキル基に加えて、３−ヒドロキシベンジル、２−（3,
4−ジヒドロキシフエニル）エチル、１−（４−ヒドロ
キシフエニル）エチル、３−（２−ヒドロキシフエニ
ル）プロピル、４−（３−ヒドロキシフエニル）ブチ
ル、1,1−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフエニル）
エチル、５−（４−ヒドロキシフエニル）ペンチル、６
−（3,4,5−トリヒドロキシフエニル）ヘキシル、２−
メチル−３−（2,5−ジヒドロキシフエニル）プロピル
基等のフエニル環上に水酸基を１〜３個有することのあ
る且つアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基であるフエニルアルキル基を例示できる。
フエニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフエニルスルホニル基としては、２−メチルフ
エニルスルホニル、３−メチルフエニルスルホニル、４
−メチルフエニルスルホニル、２−エチルフエニルスル
ホニル、３−イソプロピルフエニルスルホニル、４−ヘ
キシルフエニルスルホニル、２−ペンチルフエニルスル
ホニル、3,4−ジメチルフエニルスルホニル、2,5−ジメ
チルフエニルスルホニル、3,4,5−トリメチルフエニル
スルホニル等のフエニル環上に置換基として炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有すること
のあるフエニルスルホニル基を例示できる。
とのあるフエニルスルホニル基としては、２−メチルフ
エニルスルホニル、３−メチルフエニルスルホニル、４
−メチルフエニルスルホニル、２−エチルフエニルスル
ホニル、３−イソプロピルフエニルスルホニル、４−ヘ
キシルフエニルスルホニル、２−ペンチルフエニルスル
ホニル、3,4−ジメチルフエニルスルホニル、2,5−ジメ
チルフエニルスルホニル、3,4,5−トリメチルフエニル
スルホニル等のフエニル環上に置換基として炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有すること
のあるフエニルスルホニル基を例示できる。
低級アルキルスルホニルオキシ基としては、メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスル
ホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチル
スルホニルオキシ、tert−ブチルスルホニルオキシ、ペ
ンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキシ基
等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニ
ルオキシ基を例示できる。
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスル
ホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチル
スルホニルオキシ、tert−ブチルスルホニルオキシ、ペ
ンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキシ基
等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニ
ルオキシ基を例示できる。
また側鎖−Ｚ-Ａ−（Ｘ）ｎ-Ｒは、カルボスチリル骨格
の３位、４位、５位、６位、７位及び８位のいずれに置
換していてもよい。
の３位、４位、５位、６位、７位及び８位のいずれに置
換していてもよい。
上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体
は、種々の方法により製造され得るが、その好ましい一
例を挙げれば例えば下記に反応式に示す方法に従い製造
される。
は、種々の方法により製造され得るが、その好ましい一
例を挙げれば例えば下記に反応式に示す方法に従い製造
される。
反応式−１ 〔式中Ｒ、R1、R2、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Zaは酸
素原子、硫黄原子又は基−NH−を示す。X1はハロゲン原
子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホ
ニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示
す。〕 X1で示される低級アルカンスルホニルオキシ基として
は、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、イソプロパン
スルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブ
タンスルホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ、ヘ
キサンスルホニルオキシ基等を例示でき、アリールスル
ホニルオキシ基としては、具体的にはフエニルスルホニ
ルオキシ、４−メチルフエニルスルホニルオキシ、２−
メチルフエニルスルホニルオキシ、４−ニトロフエニル
スルホニルオキシ、４−メトキシフエニルスルホニルオ
キシ、３−クロロフエニルスルホニルオキシ、α−ナフ
チルスルホニルオキシ基等を例示でき、またアラルキル
スルホニルオキシ基としては、具体的にはベンジルスル
ホニルオキシ、２−フエニルエチルスルホニルオキシ、
４−フエニルブチルスルホニルオキシ、４−メチルベン
ジルスルホニルオキシ、２−メチルベンジルスルホニル
オキシ、４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、４−メ
トキシベンジルスルホニルオキシ、３−クロロベンジル
スルホニルオキシ、α−ナフチルメチルスルホニルオキ
シ基等を例示できる。
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Zaは酸
素原子、硫黄原子又は基−NH−を示す。X1はハロゲン原
子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホ
ニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示
す。〕 X1で示される低級アルカンスルホニルオキシ基として
は、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、イソプロパン
スルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブ
タンスルホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ、ヘ
キサンスルホニルオキシ基等を例示でき、アリールスル
ホニルオキシ基としては、具体的にはフエニルスルホニ
ルオキシ、４−メチルフエニルスルホニルオキシ、２−
メチルフエニルスルホニルオキシ、４−ニトロフエニル
スルホニルオキシ、４−メトキシフエニルスルホニルオ
キシ、３−クロロフエニルスルホニルオキシ、α−ナフ
チルスルホニルオキシ基等を例示でき、またアラルキル
スルホニルオキシ基としては、具体的にはベンジルスル
ホニルオキシ、２−フエニルエチルスルホニルオキシ、
４−フエニルブチルスルホニルオキシ、４−メチルベン
ジルスルホニルオキシ、２−メチルベンジルスルホニル
オキシ、４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、４−メ
トキシベンジルスルホニルオキシ、３−クロロベンジル
スルホニルオキシ、α−ナフチルメチルスルホニルオキ
シ基等を例示できる。
一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との反応
は、適当な溶媒中又は無溶媒下、塩基性化合物の存在下
に行なうことができる。塩基性化合物としては、従来公
知のものを広く使用でき、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩
基、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラー
ト、トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジ
ン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノネン−５（DB
N）、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−７（D
BU）、1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン（DABC
O）等の有機塩基を挙げることができる。また溶媒とし
ては、反応に悪影響を与えない不活性のものをいずれも
使用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール
類、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド
（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド（HMPA）等の非プロトン性極性溶媒
等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム、沃化
カリウム等の金属沃化物の存在下に行なってもよい。上
記反応における化合物（２）と化合物（３）との使用割
合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し
得るが、通常前者に対して後者を等モル〜５倍モル程
度、好ましくは等モル〜２倍モル程度使用するのがよ
い。上記反応の反応温度も特に限定されないが、通常室
温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度で行なわれ、
一般に５分〜30時間程度にて該反応は完結する。
は、適当な溶媒中又は無溶媒下、塩基性化合物の存在下
に行なうことができる。塩基性化合物としては、従来公
知のものを広く使用でき、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩
基、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラー
ト、トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジ
ン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノネン−５（DB
N）、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−７（D
BU）、1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン（DABC
O）等の有機塩基を挙げることができる。また溶媒とし
ては、反応に悪影響を与えない不活性のものをいずれも
使用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール
類、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド
（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド（HMPA）等の非プロトン性極性溶媒
等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム、沃化
カリウム等の金属沃化物の存在下に行なってもよい。上
記反応における化合物（２）と化合物（３）との使用割
合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し
得るが、通常前者に対して後者を等モル〜５倍モル程
度、好ましくは等モル〜２倍モル程度使用するのがよ
い。上記反応の反応温度も特に限定されないが、通常室
温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度で行なわれ、
一般に５分〜30時間程度にて該反応は完結する。
反応式−２ 〔式中Ｒ、R1、R2、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。X2及びX3は
夫々X1又は基−YHを示す。ここでX1は前記に同じであ
り、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示す。但しX2がX1であ
る場合には、X3は基−YHを、X2が基−YHである場合には
X3はX1を示すものとする。〕 一般式（４）の化合物と一般式（５）の化合物との反応
は、前記一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。X2及びX3は
夫々X1又は基−YHを示す。ここでX1は前記に同じであ
り、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示す。但しX2がX1であ
る場合には、X3は基−YHを、X2が基−YHである場合には
X3はX1を示すものとする。〕 一般式（４）の化合物と一般式（５）の化合物との反応
は、前記一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。
反応式−３ 〔式中R1、R2、Ｚ、Ａ、X1、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。
はそれぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個
有する不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少な
くとも１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、
フエニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、フエニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフエニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換フエニル低級アルキル
基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アル
コキシ基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基
を１〜３個有していてもよい。上記 を示す。〕 一般式（６）の化合物と一般式（７）の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、好ましくは塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行なわれる。塩基
性化合物としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート、カリウムメチラート、カリウムエチラート等のア
ルカリ金属アルコラート、ナトリウムアミド、カリウム
アミド等のアルカリ金属アミド、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属の水素化物、DBU等を挙げることがで
きる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、特に限定
されず広い範囲内で適宜選択し得るが、通常化合物
（６）に対して等モル〜過剰量、好ましくは等モル〜３
倍モル量程度使用するのがよい。また溶媒としては、慣
用の不活性溶媒を広く使用でき、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等の低級アルコール類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、アセトフエノン等のケトン類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル類、DMF、HMPA、アセトニトリ
ル等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム、沃
化カリウム等の金属沃化物の存在下に行なつてもよい。
上記反応における化合物（６）と化合物（７）との使用
割合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜選択
し得るが、通常前者に対して後者を等モル〜過剰量、好
ましくは等モル〜２倍モル程度使用するのがよい。上記
反応は、通常０〜200℃程度、好ましくは室温〜150℃程
度で好適に進行し、一般に10分〜24時間程度で該反応は
終了する。
有する不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少な
くとも１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、
フエニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、フエニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフエニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換フエニル低級アルキル
基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アル
コキシ基及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基
を１〜３個有していてもよい。上記 を示す。〕 一般式（６）の化合物と一般式（７）の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、好ましくは塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行なわれる。塩基
性化合物としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート、カリウムメチラート、カリウムエチラート等のア
ルカリ金属アルコラート、ナトリウムアミド、カリウム
アミド等のアルカリ金属アミド、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属の水素化物、DBU等を挙げることがで
きる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、特に限定
されず広い範囲内で適宜選択し得るが、通常化合物
（６）に対して等モル〜過剰量、好ましくは等モル〜３
倍モル量程度使用するのがよい。また溶媒としては、慣
用の不活性溶媒を広く使用でき、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等の低級アルコール類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、アセトフエノン等のケトン類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル類、DMF、HMPA、アセトニトリ
ル等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム、沃
化カリウム等の金属沃化物の存在下に行なつてもよい。
上記反応における化合物（６）と化合物（７）との使用
割合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜選択
し得るが、通常前者に対して後者を等モル〜過剰量、好
ましくは等モル〜２倍モル程度使用するのがよい。上記
反応は、通常０〜200℃程度、好ましくは室温〜150℃程
度で好適に進行し、一般に10分〜24時間程度で該反応は
終了する。
上記反応において、Ｚが を示す化合物（６）を使用する場合には、まず化合物
（６）をエチレングリコール、プロピレングリコール等
のジヒドロキシ低級アルキレン類と反応させてＺを （Ｗは低級アルキレン基を示す。）に変換させて保護し
た後、次に化合物（７）と反応させ、続いて脱保護基化
することによりＺが を示す一般式（1c）の化合物を製造し得る。
（６）をエチレングリコール、プロピレングリコール等
のジヒドロキシ低級アルキレン類と反応させてＺを （Ｗは低級アルキレン基を示す。）に変換させて保護し
た後、次に化合物（７）と反応させ、続いて脱保護基化
することによりＺが を示す一般式（1c）の化合物を製造し得る。
ここで上記保護化反応は、酸の存在下適当な溶媒中で行
なわれる。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジン、ｐ−ト
ルエンスルホネート、酢酸、プロピオン酸等の有機酸等
を例示できる。また溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール等の低級アルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、アセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ｎ−オ
クタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸プロピオン酸等のア
ルカン酸類、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒等を
挙げることができる。ジヒドロキシ低級アルキレン類の
使用量としては、通常化合物（６）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量程度とするの
がよい。該反応は、通常０〜150℃程度、好ましくは０
〜100℃にて好適に進行し、一般に0.5〜10時間程度で該
反応は完了する。
なわれる。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジン、ｐ−ト
ルエンスルホネート、酢酸、プロピオン酸等の有機酸等
を例示できる。また溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール等の低級アルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、アセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ｎ−オ
クタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸プロピオン酸等のア
ルカン酸類、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒等を
挙げることができる。ジヒドロキシ低級アルキレン類の
使用量としては、通常化合物（６）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量程度とするの
がよい。該反応は、通常０〜150℃程度、好ましくは０
〜100℃にて好適に進行し、一般に0.5〜10時間程度で該
反応は完了する。
また脱保護基化反応は、酸の存在下適当な溶媒中又は無
溶媒下で行なわれる。酸としては、上記保護化反応に使
用される酸をいずれも使用することができる。酸の使用
量としては、原料化合物に対して通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは大過剰量とするのがよい。また溶媒
としては、上記保護化反応に使用される溶媒に加えて、
水、DMF、DMSO等を挙げることができる。該反応は、通
常−30〜200℃程度、好ましくは−30〜100℃にて好適に
進行し、一般に0.5〜12時間程度で該反応は完了する。
溶媒下で行なわれる。酸としては、上記保護化反応に使
用される酸をいずれも使用することができる。酸の使用
量としては、原料化合物に対して通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは大過剰量とするのがよい。また溶媒
としては、上記保護化反応に使用される溶媒に加えて、
水、DMF、DMSO等を挙げることができる。該反応は、通
常−30〜200℃程度、好ましくは−30〜100℃にて好適に
進行し、一般に0.5〜12時間程度で該反応は完了する。
反応式−４ 〔式中Ｒ、R1、R2、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1d）の化合物の還元は、水素化還元剤を用いる
還元法、接触還元法等の方法により行なわれる。
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1d）の化合物の還元は、水素化還元剤を用いる
還元法、接触還元法等の方法により行なわれる。
水素化還元剤を用いる還元法を採用する場合、水素化還
元剤としては例えば水素化硼素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウム等、好ましくは水素化硼素ナトリウム
が用いられる。水素化還元剤は、通常化合物（1d）に対
して少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜３倍
モル量程度用いるのがよい。水素化還元剤による還元反
応は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル等のエーテル類、DMF等やこれらの混合
溶媒中、通常−60〜100℃程度、好ましくは−30〜70℃
程度にて行なわれ、一般に該反応は10分〜３時間程度で
終了する。尚、水素化アルミニウムリチウムを還元剤と
して用いる場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等の無水溶媒を用いるのがよい。
元剤としては例えば水素化硼素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウム等、好ましくは水素化硼素ナトリウム
が用いられる。水素化還元剤は、通常化合物（1d）に対
して少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜３倍
モル量程度用いるのがよい。水素化還元剤による還元反
応は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル等のエーテル類、DMF等やこれらの混合
溶媒中、通常−60〜100℃程度、好ましくは−30〜70℃
程度にて行なわれ、一般に該反応は10分〜３時間程度で
終了する。尚、水素化アルミニウムリチウムを還元剤と
して用いる場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等の無水溶媒を用いるのがよい。
また接触還元法を採用する場合、還元触媒として例えば
酸化白金、パラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニツ
ケル等の通常用いられる接触還元用触媒が用いられる。
使用される触媒の量は、化合物（1d）に対して通常約0.
2〜0.5倍重量とするのがよい。この接触還元は、例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低
級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類等の溶媒中、通常１〜10気圧、好まし
くは１〜３気圧の水素雰囲気中でよく振り混ぜることに
より行なわれる。該還元は、通常−30℃〜溶媒の沸点範
囲、好ましくは０℃〜室温付近にて行なわれる。
酸化白金、パラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニツ
ケル等の通常用いられる接触還元用触媒が用いられる。
使用される触媒の量は、化合物（1d）に対して通常約0.
2〜0.5倍重量とするのがよい。この接触還元は、例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低
級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類等の溶媒中、通常１〜10気圧、好まし
くは１〜３気圧の水素雰囲気中でよく振り混ぜることに
より行なわれる。該還元は、通常−30℃〜溶媒の沸点範
囲、好ましくは０℃〜室温付近にて行なわれる。
反応式−５ 〔式中、R1、R2、Ｚ、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリ
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。X4は
ハロゲン原子を示す。
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。X4は
ハロゲン原子を示す。
はそれぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個
有する不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少な
くとも１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、
フエニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、フエニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフエニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３
個有していてもよい。上記−Bb−は−NH−を、−Bc−は を示す。ここでR4はフエニル基、フエニル環上に低級ア
ルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基、
及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜
３個有するフエニル基、シクロアルキル基、フエニルチ
オ基、低級アルキル基、フエニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフエニル低級アルキル基、フエ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフエニルスルホニル基、低級アルケニル基、置換基
として低級アルキルアミノ基及びカルボキシ基からなる
群から選ばれた基を１〜２個有する低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ置換フエニ
ル低級アルキル基又はピリジル基を示す。〕 一般式（1f）の化合物と一般式（８）の化合物との反応
は、例えば塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行な
われる。塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリウ
ム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウ
ムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げ
ることができる。また溶媒としては、例えばジオキサ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、DM
F、DMSO、HMPA等を挙げることができる。該反応の反応
系内には、必要に応じて沃化銅等のハロゲン化銅、沃化
ナトリウム、沃化カリウム等の金属沃化物、銅粉等を添
加してもよい。化合物（1f）と化合物（８）との使用割
合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宣選択し
得るが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル程度
量、好ましくは等モル〜３倍モル量程度使用するのがよ
い。該反応は、通常０〜100℃程度、好ましくは０〜70
℃付近にて好適に進行し、一般に該反応は５分〜12時間
程度で完結する。
有する不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少な
くとも１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フエニル基、フエニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフエニル基、シクロアルキル基、
フエニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フエニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基、フエニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフエニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３
個有していてもよい。上記−Bb−は−NH−を、−Bc−は を示す。ここでR4はフエニル基、フエニル環上に低級ア
ルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基、
及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜
３個有するフエニル基、シクロアルキル基、フエニルチ
オ基、低級アルキル基、フエニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフエニル低級アルキル基、フエ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフエニルスルホニル基、低級アルケニル基、置換基
として低級アルキルアミノ基及びカルボキシ基からなる
群から選ばれた基を１〜２個有する低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ置換フエニ
ル低級アルキル基又はピリジル基を示す。〕 一般式（1f）の化合物と一般式（８）の化合物との反応
は、例えば塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行な
われる。塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリウ
ム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウ
ムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げ
ることができる。また溶媒としては、例えばジオキサ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、DM
F、DMSO、HMPA等を挙げることができる。該反応の反応
系内には、必要に応じて沃化銅等のハロゲン化銅、沃化
ナトリウム、沃化カリウム等の金属沃化物、銅粉等を添
加してもよい。化合物（1f）と化合物（８）との使用割
合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宣選択し
得るが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル程度
量、好ましくは等モル〜３倍モル量程度使用するのがよ
い。該反応は、通常０〜100℃程度、好ましくは０〜70
℃付近にて好適に進行し、一般に該反応は５分〜12時間
程度で完結する。
反応式−６ 〔式中R1、R2、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R5は基−COR6又
は基−CSR6（R6はフエニル基、フエニル環上に低級アル
キル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、
アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及び低
級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有
するフエニル基、シクロアルキル基、フエニルチオ基、
低級アルキル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基及び
カルボキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有す
る低級アルキル基、アミノ基、シアノ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル環上に置換
基として水酸基を有することのあるフエニル低級アルキ
ル基、フエニル環上に置換基として低級アルキル基を有
することのあるフエニルスルホニル基、低級アルコキシ
置換フエニル低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基又はピリジル基を示
す。Bdは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕 一般式（９）の化合物と一般式（10）の化合物との反応
には、公知のアミド結合生成反応条件を容易に適用する
ことができる。本発明では化合物（９）に代えて、その
カルボキシル基が活性化された化合物を使用してもよ
い。代表的な方法としては、例えば（イ）混合酸無水物
法、即ちカルボン酸（９）にアルキルハロカルボン酸を
反応させて混合酸無水物とし、これにヒドラジン誘導体
（10）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即ち
カルボン酸（９）をｐ−ニトロフエニルエステル、Ｎ−
ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールエステル等の活性エステルとし、これ
にヒドラジン誘導体（10）を反応させる方法、（ハ）カ
ルボジイミド法、即ちカルボン酸（９）にヒドラジン誘
導体（10）をジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボ
ニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合させる
方法、（ニ）その他の方法として、カルボン酸（９）を
無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これ
にヒドラジン誘導体（10）を反応させる方法、カルボン
酸（９）と低級アルコールとのエステルにヒドラジン誘
導体（10）を高温高圧下に反応させる方法、カルボン酸
（９）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハライドにヒ
ドラジン誘導体（10）を反応させる方法等を挙げること
ができる。これらの中で混合酸無水物法が好ましい。
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R5は基−COR6又
は基−CSR6（R6はフエニル基、フエニル環上に低級アル
キル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、
アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及び低
級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有
するフエニル基、シクロアルキル基、フエニルチオ基、
低級アルキル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基及び
カルボキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有す
る低級アルキル基、アミノ基、シアノ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル環上に置換
基として水酸基を有することのあるフエニル低級アルキ
ル基、フエニル環上に置換基として低級アルキル基を有
することのあるフエニルスルホニル基、低級アルコキシ
置換フエニル低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基又はピリジル基を示
す。Bdは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕 一般式（９）の化合物と一般式（10）の化合物との反応
には、公知のアミド結合生成反応条件を容易に適用する
ことができる。本発明では化合物（９）に代えて、その
カルボキシル基が活性化された化合物を使用してもよ
い。代表的な方法としては、例えば（イ）混合酸無水物
法、即ちカルボン酸（９）にアルキルハロカルボン酸を
反応させて混合酸無水物とし、これにヒドラジン誘導体
（10）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即ち
カルボン酸（９）をｐ−ニトロフエニルエステル、Ｎ−
ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールエステル等の活性エステルとし、これ
にヒドラジン誘導体（10）を反応させる方法、（ハ）カ
ルボジイミド法、即ちカルボン酸（９）にヒドラジン誘
導体（10）をジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボ
ニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合させる
方法、（ニ）その他の方法として、カルボン酸（９）を
無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これ
にヒドラジン誘導体（10）を反応させる方法、カルボン
酸（９）と低級アルコールとのエステルにヒドラジン誘
導体（10）を高温高圧下に反応させる方法、カルボン酸
（９）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハライドにヒ
ドラジン誘導体（10）を反応させる方法等を挙げること
ができる。これらの中で混合酸無水物法が好ましい。
混合酸無水物法において、使用されるアルキルハロカル
ボン酸としては例えばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メ
チル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻
酸イソブチル等が挙げられる。混合酸無水物は通常のシ
ヨツテンーバウマン反応により得られ、これを通常単離
することなく、ヒドラジン誘導体（10）と反応させるこ
とにより一般式（11）の化合物が製造される。
ボン酸としては例えばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メ
チル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻
酸イソブチル等が挙げられる。混合酸無水物は通常のシ
ヨツテンーバウマン反応により得られ、これを通常単離
することなく、ヒドラジン誘導体（10）と反応させるこ
とにより一般式（11）の化合物が製造される。
シヨツテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に
行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、シヨツ
テン−バウマン反応に慣用の化合物をいずれも使用で
き、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、DB
N、DBU、DABCO等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基等が挙げられる。該シヨツテン−バウマン反応
は、通常−20〜100℃、好ましくは０〜50℃において行
なわれ、反応時間に一般に５分〜10時間程度である。
行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、シヨツ
テン−バウマン反応に慣用の化合物をいずれも使用で
き、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、DB
N、DBU、DABCO等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基等が挙げられる。該シヨツテン−バウマン反応
は、通常−20〜100℃、好ましくは０〜50℃において行
なわれ、反応時間に一般に５分〜10時間程度である。
上記で得られる混合酸無水物と化合物（10）との反応
は、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒として
は、混合酸無水物法に慣用の溶媒をいずれも使用でき、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類、DMF、DMSO、HMPA等
の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。該反
応は、通常−20〜150℃、好ましくは10〜50℃において
行なわれ、反応時間に一般に５分〜10時間程度である。
は、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒として
は、混合酸無水物法に慣用の溶媒をいずれも使用でき、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類、DMF、DMSO、HMPA等
の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。該反
応は、通常−20〜150℃、好ましくは10〜50℃において
行なわれ、反応時間に一般に５分〜10時間程度である。
上記反応における化合物（９）、アルキルハロカルボン
酸及び化合物（10）の使用割合としては、通常当モルず
つ使用されるが、化合物（９）に対してアルキルハロカ
ルボン酸及び化合物（10）を１〜1.5倍モル使用しても
よい。
酸及び化合物（10）の使用割合としては、通常当モルず
つ使用されるが、化合物（９）に対してアルキルハロカ
ルボン酸及び化合物（10）を１〜1.5倍モル使用しても
よい。
一般式（11）の化合物を環化して一般式（1h）の化合物
を得る反応は、従来公知の各種環化反応に準じて行ない
得る。例えば加熱による方法、オキシ塩化リン、五塩化
リン、三塩化リン、塩化アセチル、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、チオニルクロライド、濃硫
酸、塩酸、無水酢酸、ポリリン酸等の脱水剤を用いる環
化法等を例示できる。加熱による環化法を採用する場合
には、高沸点炭化水素類及び高沸点エーテル類、例えば
テトラリン酸ジフエニルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、デカリン、テトラリン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ブロモベ
ンゼン等の溶媒を用い、通常100〜250℃程度、好ましく
は150〜200℃の加熱条件を採用できる。また、脱水剤を
用いる環化法を採用する場合には、脱水剤としてポリリ
ン酸を使用するのが特に好ましい。ポリリン酸は、化合
物（11）に対して通常等モル〜大過剰量、好ましくは10
〜20倍量用いるのがよく、また該反応は、通常100〜250
℃程度で行なわれ、一般に５分〜６時間程度で終了す
る。
を得る反応は、従来公知の各種環化反応に準じて行ない
得る。例えば加熱による方法、オキシ塩化リン、五塩化
リン、三塩化リン、塩化アセチル、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、チオニルクロライド、濃硫
酸、塩酸、無水酢酸、ポリリン酸等の脱水剤を用いる環
化法等を例示できる。加熱による環化法を採用する場合
には、高沸点炭化水素類及び高沸点エーテル類、例えば
テトラリン酸ジフエニルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、デカリン、テトラリン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ブロモベ
ンゼン等の溶媒を用い、通常100〜250℃程度、好ましく
は150〜200℃の加熱条件を採用できる。また、脱水剤を
用いる環化法を採用する場合には、脱水剤としてポリリ
ン酸を使用するのが特に好ましい。ポリリン酸は、化合
物（11）に対して通常等モル〜大過剰量、好ましくは10
〜20倍量用いるのがよく、また該反応は、通常100〜250
℃程度で行なわれ、一般に５分〜６時間程度で終了す
る。
上記反応式−６において出発原料として用いられる化合
物（９）は公知の化合物であり、また化合物（10）の一
部は公知の化合物であるが新規化合物も含み、それら新
規化合物は公知のものと同様に製造され、例えば下記反
応式−７に示す方法により製造される。
物（９）は公知の化合物であり、また化合物（10）の一
部は公知の化合物であるが新規化合物も含み、それら新
規化合物は公知のものと同様に製造され、例えば下記反
応式−７に示す方法により製造される。
反応式−７ 〔式中R5は前記に同じ。〕 一般式（12）の化合物と一般式（13）の化合物との反応
は、前記反応式−６における化合物（９）と化合物（1
0）との反応と同様の反応条件下にて製造される。
は、前記反応式−６における化合物（９）と化合物（1
0）との反応と同様の反応条件下にて製造される。
反応式−８ 〔式中R1、R2、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R7は低級アルキ
ル基を示す。〕 一般式（14）の化合物と一般式（15）の化合物との反応
は、無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる。使用さ
れる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメトキシエタン、ジフエニ
ルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の高沸点溶媒
等を挙げることができる。化合物（14）と化合物（15）
との使用割合としては、通常前者に対して後者を等モル
〜大過剰量、好ましくは２〜50倍モル程度とするのがよ
い。上記反応は、通常50〜250℃、好ましくは80〜200℃
で好適に進行し、一般に１〜40時間程度で完了する。
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R7は低級アルキ
ル基を示す。〕 一般式（14）の化合物と一般式（15）の化合物との反応
は、無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる。使用さ
れる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメトキシエタン、ジフエニ
ルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の高沸点溶媒
等を挙げることができる。化合物（14）と化合物（15）
との使用割合としては、通常前者に対して後者を等モル
〜大過剰量、好ましくは２〜50倍モル程度とするのがよ
い。上記反応は、通常50〜250℃、好ましくは80〜200℃
で好適に進行し、一般に１〜40時間程度で完了する。
反応式−９ 〔式中Ｒ、R1、R2、Ｚ、Ａ、Ｘ及びｎは前記に同じ。〕 一般式（1j）の化合物の脱水素反応は、常法により、適
当な溶媒中酸化剤を用いて脱水素反応に付すことにより
行なわれる。用いられる酸化剤としては、例えば2,3−
ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン（DDQ）、クロラ
ニル（2,3,5,6−テトラクロロベンゾキノン）等のベン
ゾキノン類、二酸化セレン、パラジウム炭素等の金属触
媒、Ｎ−ブロモサクシンイミド、臭素等のブロム化剤等
が挙げられる。酸化剤の使用量としては、例えば酸化剤
としてベンゾキノン類又はブロム化剤を使用する場合に
は、化合物（1j）に対して通常等モル〜５倍モル程度、
好ましくは等モル〜２倍モル程度の酸化剤を使用するの
がよい。また溶媒としては、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、２−メトキシエタノール、ジメトキシエ
タン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノール等の
アルコール類、DMF、DMSO、HMPA等の非プロトン性極性
溶媒等を挙げることができる。上記反応は、通常室温〜
300℃程度、好ましくは50〜200℃程度で好適に進行し、
一般に１〜48時間程度で完結する。
当な溶媒中酸化剤を用いて脱水素反応に付すことにより
行なわれる。用いられる酸化剤としては、例えば2,3−
ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン（DDQ）、クロラ
ニル（2,3,5,6−テトラクロロベンゾキノン）等のベン
ゾキノン類、二酸化セレン、パラジウム炭素等の金属触
媒、Ｎ−ブロモサクシンイミド、臭素等のブロム化剤等
が挙げられる。酸化剤の使用量としては、例えば酸化剤
としてベンゾキノン類又はブロム化剤を使用する場合に
は、化合物（1j）に対して通常等モル〜５倍モル程度、
好ましくは等モル〜２倍モル程度の酸化剤を使用するの
がよい。また溶媒としては、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、２−メトキシエタノール、ジメトキシエ
タン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノール等の
アルコール類、DMF、DMSO、HMPA等の非プロトン性極性
溶媒等を挙げることができる。上記反応は、通常室温〜
300℃程度、好ましくは50〜200℃程度で好適に進行し、
一般に１〜48時間程度で完結する。
一般式（1k）の化合物の接触還元は、常法に従い、適当
な溶媒中触媒を用いて水素添加することにより行なわれ
る。触媒としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば白金線、白金板、白金海綿、白金黒、酸化白金、コ
ロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウム
黒、酸化パラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラ
ジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムシリ
カゲル、コロイドパラジウム等のパラジウム触媒、石綿
つきロジウム、イリジウム、コロイドロジウム、ルテニ
ウム触媒、コロイドイリジウム等の白金族触媒、還元ニ
ツケル、酸化ニツケル、ラネーニツケル、漆原ニツケ
ル、蟻酸ニツケルの熱分解で生じるニツケル触媒、硼化
ニツケル等のニツケル触媒、還元コバルト、ラネーコバ
ルト、漆原コバルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー
鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触
媒、更に亜鉛のようなその他の金属触媒が挙げられる。
用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール類、水、酢酸、酢酸
メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、エチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等のシクロアルカン類、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ペンタン等のｎ−アルカン類等を例示できる。
上記反応は、通常水素圧常圧又は加圧下、好ましくは１
〜20気圧にて、通常室温〜溶媒の沸点、好ましくは室温
〜100℃で行なうのがよい。
な溶媒中触媒を用いて水素添加することにより行なわれ
る。触媒としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば白金線、白金板、白金海綿、白金黒、酸化白金、コ
ロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウム
黒、酸化パラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラ
ジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムシリ
カゲル、コロイドパラジウム等のパラジウム触媒、石綿
つきロジウム、イリジウム、コロイドロジウム、ルテニ
ウム触媒、コロイドイリジウム等の白金族触媒、還元ニ
ツケル、酸化ニツケル、ラネーニツケル、漆原ニツケ
ル、蟻酸ニツケルの熱分解で生じるニツケル触媒、硼化
ニツケル等のニツケル触媒、還元コバルト、ラネーコバ
ルト、漆原コバルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー
鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触
媒、更に亜鉛のようなその他の金属触媒が挙げられる。
用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール類、水、酢酸、酢酸
メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、エチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等のシクロアルカン類、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ペンタン等のｎ−アルカン類等を例示できる。
上記反応は、通常水素圧常圧又は加圧下、好ましくは１
〜20気圧にて、通常室温〜溶媒の沸点、好ましくは室温
〜100℃で行なうのがよい。
反応式−10 〔式中Ｒ、R2、Ｚ、Ａ、Ｘ、ｎ、X4、並びにカルボスチ
リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。
R1′は低級アルキル基又はフエニル低級アルキル基を示
す。〕 一般式（11）の化合物と一般式（16）の化合物との反応
は、前記反応式−５における化合物（1f）と化合物
（８）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。該
反応において、Ｒの複素環残基中基−NH−を有する化合
物（11）は、該基が同時に化合物（16）と反応すること
もあるが、この化合物は容易に化合物（1m）と分離する
ことができる。
リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。
R1′は低級アルキル基又はフエニル低級アルキル基を示
す。〕 一般式（11）の化合物と一般式（16）の化合物との反応
は、前記反応式−５における化合物（1f）と化合物
（８）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。該
反応において、Ｒの複素環残基中基−NH−を有する化合
物（11）は、該基が同時に化合物（16）と反応すること
もあるが、この化合物は容易に化合物（1m）と分離する
ことができる。
反応式−11 〔式中Ｒ、R1、R2、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1n）の化合物とヒドロキシルアミン（17）との
反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は不存
在下に行なわれる。ここで使用される塩基性化合物とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピペリジン、
ピリジン、トリエチルアミン、DBN、DBU、DABCO等の有
機塩基等を挙げることができる。また溶媒としては、例
えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、DM
F、DMSO、HMPA等の極性溶媒等を例示できる。化合物
（（1n）とヒドロキシルアミン（17）との使用割合とし
ては、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好ま
しくは等モル〜５倍モル量とするのがよい。上記反応
は、通常０〜150℃、好ましくは０〜100℃にて好適に進
行し、一般に10分〜10時間程度で終了する。
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1n）の化合物とヒドロキシルアミン（17）との
反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は不存
在下に行なわれる。ここで使用される塩基性化合物とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピペリジン、
ピリジン、トリエチルアミン、DBN、DBU、DABCO等の有
機塩基等を挙げることができる。また溶媒としては、例
えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、DM
F、DMSO、HMPA等の極性溶媒等を例示できる。化合物
（（1n）とヒドロキシルアミン（17）との使用割合とし
ては、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好ま
しくは等モル〜５倍モル量とするのがよい。上記反応
は、通常０〜150℃、好ましくは０〜100℃にて好適に進
行し、一般に10分〜10時間程度で終了する。
反応式−12 〔式中Ｒ、R1、R2、R3、Ａ、Ｘ、ｎ、X4、並びにカルボス
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同
じ。〕 一般式（1p）の化合物のハロゲン化反応は、ハロゲン化
剤の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下にて行なわれ
る。ハロゲン化剤としては、塩酸、臭化水素酸等のハロ
ゲン化水素酸、N,N−ジエチル−1,2,2−トリクロロビニ
ルアミド、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、
チオニルクロリド等を例示できる。斯かるハロゲン化剤
の使用量としては、化合物（1p）に対して少なくとも等
モル、通常大過剰量とするのがよい。溶媒としては、例
えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を例示できる。上記
反応は、通常−20〜150℃、好ましくは−20〜80℃にて
好適に進行し、一般に10分〜６時間程度で完了する。
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同
じ。〕 一般式（1p）の化合物のハロゲン化反応は、ハロゲン化
剤の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下にて行なわれ
る。ハロゲン化剤としては、塩酸、臭化水素酸等のハロ
ゲン化水素酸、N,N−ジエチル−1,2,2−トリクロロビニ
ルアミド、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、
チオニルクロリド等を例示できる。斯かるハロゲン化剤
の使用量としては、化合物（1p）に対して少なくとも等
モル、通常大過剰量とするのがよい。溶媒としては、例
えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を例示できる。上記
反応は、通常−20〜150℃、好ましくは−20〜80℃にて
好適に進行し、一般に10分〜６時間程度で完了する。
一般式（1q）の化合物と一般式（18）の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、適当な溶媒中
又は無溶媒下にて行なわれる。用いられる塩基性化合物
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウ
ム等の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート等のアルコール類、トリエチルアミン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基等を挙げるこ
とができる。また溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ｎ−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、アセトン、アセトニトリル、DMF、DMSO、HMP
A等の極性溶媒やこれらの混合溶媒等を例示できる。化
合物（1q）と化合物（18）との使用割合としては、前者
に対して後者を少なくとも等モル、通常大過剰量とする
のがよい。上記反応は、通常０〜150℃、好ましくは０
〜100℃にて好適に進行し、一般に10分〜10時間程度で
完結する。
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、適当な溶媒中
又は無溶媒下にて行なわれる。用いられる塩基性化合物
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウ
ム等の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエ
チラート等のアルコール類、トリエチルアミン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基等を挙げるこ
とができる。また溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ｎ−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、アセトン、アセトニトリル、DMF、DMSO、HMP
A等の極性溶媒やこれらの混合溶媒等を例示できる。化
合物（1q）と化合物（18）との使用割合としては、前者
に対して後者を少なくとも等モル、通常大過剰量とする
のがよい。上記反応は、通常０〜150℃、好ましくは０
〜100℃にて好適に進行し、一般に10分〜10時間程度で
完結する。
反応式−13 〔式中Ｒ、R1、R2、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1s）の化合物を酸化して一般式（1t）の化合物
を得る反応、一般式（1s）の化合物を酸化して一般式
（1u）の化合物を得る反応及び一般式（1t）の化合物を
酸化して一般式（1u）の化合物を得る反応は、酸化剤の
存在下適当な溶媒中にて行なわれる。ここで使用される
酸化剤としては、スルフイド基をスルホキシド基又はス
ルホン基に酸化し得るものである限り従来公知のものを
いずれも使用でき、例えば過蟻酸、過酢酸、過トリフル
オロ酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸、ｏ−カ
ルボニル安息香酸等の過酸類、過酸化水素、重クロム
酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウム等の重
クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガン酸ナトリウム、
過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩等を例示でき
る。また溶媒としては、水、蟻酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
化水素類やこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
上記反応は、通常−20〜40℃、好ましくは−20℃〜室温
付近にて好適に進行し、一般に0.5〜50時間程度で完了
する。
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（1s）の化合物を酸化して一般式（1t）の化合物
を得る反応、一般式（1s）の化合物を酸化して一般式
（1u）の化合物を得る反応及び一般式（1t）の化合物を
酸化して一般式（1u）の化合物を得る反応は、酸化剤の
存在下適当な溶媒中にて行なわれる。ここで使用される
酸化剤としては、スルフイド基をスルホキシド基又はス
ルホン基に酸化し得るものである限り従来公知のものを
いずれも使用でき、例えば過蟻酸、過酢酸、過トリフル
オロ酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸、ｏ−カ
ルボニル安息香酸等の過酸類、過酸化水素、重クロム
酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウム等の重
クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガン酸ナトリウム、
過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩等を例示でき
る。また溶媒としては、水、蟻酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
化水素類やこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
上記反応は、通常−20〜40℃、好ましくは−20℃〜室温
付近にて好適に進行し、一般に0.5〜50時間程度で完了
する。
化合物（1s）を酸化して化合物（1t）を得る場合には、
上記酸化剤を化合物（1s）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度使用するのが
よい。
上記酸化剤を化合物（1s）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度使用するのが
よい。
化合物（1s）を酸化して化合物（1u）を得る場合には、
上記酸化剤を化合物（1s）に対して通常少なくとも２倍
モル、好ましくは２〜４倍モル量程度使用するのがよ
い。
上記酸化剤を化合物（1s）に対して通常少なくとも２倍
モル、好ましくは２〜４倍モル量程度使用するのがよ
い。
化合物（1t）を酸化して化合物（1u）を得る場合には、
上記酸化剤を化合物（1t）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜４倍モル量程度使用するのがよ
い。
上記酸化剤を化合物（1t）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜４倍モル量程度使用するのがよ
い。
反応式−14 〔式中Ｒ、R1、R2、Ａ、Ｘ、ｎ、X4、及びカルボスチリ
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（19）の化合物と一般式（20）の化合物との反応
は、一般にフリーデル−クラフト反応と呼ばれているも
のであり、ルイス酸の存在下適当な溶媒中にて行なわれ
る。ここでルイス酸としては、例えば塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二錫、三臭化硼素、
三弗化硼素、濃硫酸等を挙げることができる。斯かるル
イス酸の使用量としては、化合物（19）に対して通常等
モル〜６倍モル量、好ましくは等モル〜４倍モル量とす
るのがよい。また溶媒としては、例えば二硫化炭素、ニ
トロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類等が挙げられる。化合物（19）と化
合物（20）との使用割合としては、通常前者に対して後
者を少なくとも等モル、好ましくは等モル〜４倍モルと
するのがよい。上記反応は、通常０〜120℃、好ましく
は０℃〜70℃付近にて好適に進行し、一般に0.5〜６時
間程度で終了する。
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（19）の化合物と一般式（20）の化合物との反応
は、一般にフリーデル−クラフト反応と呼ばれているも
のであり、ルイス酸の存在下適当な溶媒中にて行なわれ
る。ここでルイス酸としては、例えば塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二錫、三臭化硼素、
三弗化硼素、濃硫酸等を挙げることができる。斯かるル
イス酸の使用量としては、化合物（19）に対して通常等
モル〜６倍モル量、好ましくは等モル〜４倍モル量とす
るのがよい。また溶媒としては、例えば二硫化炭素、ニ
トロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素類等が挙げられる。化合物（19）と化
合物（20）との使用割合としては、通常前者に対して後
者を少なくとも等モル、好ましくは等モル〜４倍モルと
するのがよい。上記反応は、通常０〜120℃、好ましく
は０℃〜70℃付近にて好適に進行し、一般に0.5〜６時
間程度で終了する。
上記反応式−３において出発原料として用いられる化合
物（６）及び上記反応式−６において出発原料として用
いられる化合物（９）は、例えば下記に示す方法によつ
ても製造される。
物（６）及び上記反応式−６において出発原料として用
いられる化合物（９）は、例えば下記に示す方法によつ
ても製造される。
反応式−15 〔式中Ｒ、R1、R2、R3、Ａ、X1、X4、並びにカルボスチリ
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（6a）の化合物の還元反応は、前記化合物（1d）
の還元反応と同様の反応条件下にて行ない得る。
ル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（6a）の化合物の還元反応は、前記化合物（1d）
の還元反応と同様の反応条件下にて行ない得る。
一般式（6b）の化合物のハロゲン化反応は、前記化合物
（1p）のハロゲン化反応と同様の反応条件下にて行ない
得る。
（1p）のハロゲン化反応と同様の反応条件下にて行ない
得る。
一般式（6d）の化合物と化合物（18）との反応は、前記
化合物（1q）と化合物（18）との反応と同様の反応条件
下にて行ない得る。尚、該反応において、化合物（6d）
のX1が基R3Ｏ−で置換された化合物及び化合物（6d）の
X1及びX4がそれぞれ基R3Ｏ−で置換された化合物が生成
するが、これらの化合物は化合物（6e）から容易に分離
することができる。
化合物（1q）と化合物（18）との反応と同様の反応条件
下にて行ない得る。尚、該反応において、化合物（6d）
のX1が基R3Ｏ−で置換された化合物及び化合物（6d）の
X1及びX4がそれぞれ基R3Ｏ−で置換された化合物が生成
するが、これらの化合物は化合物（6e）から容易に分離
することができる。
一般式（6a）の化合物とヒドロキシルアミン（17）との
反応は、前記化合物（1q）とヒドロキシルアミン（17）
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。尚、該反
応において、化合物（6a）のX1がヒドロキシルアミン
（17）と反応した化合物が生成するが、該化合物は化合
物（6c）から容易に分離することができる。
反応は、前記化合物（1q）とヒドロキシルアミン（17）
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。尚、該反
応において、化合物（6a）のX1がヒドロキシルアミン
（17）と反応した化合物が生成するが、該化合物は化合
物（6c）から容易に分離することができる。
反応式−16 〔式中R1、R2、Ｚ、X1、X4、並びにカルボスチリル骨格の
３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R8及びR9は低
級アルキル基を示す。Ａ′は低級アルキレン基を示
す。〕 一般式（6f）の化合物と一般式（23）の化合物との反応
は、適当な溶媒中で行なわれる。ここで化合物（23）と
しては、例えばシアン化カリウム、シアン化ナトリウ
ム、シアン化銀、シアン化銅、シアン化カルシウム等の
シアン化物を例示できる。また溶媒としては、例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類やこれらの混合溶媒等を挙げることができ
る。化合物（1f）と化合物（23）との使用割合として
は、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、
通常室温〜150℃、好ましくは50〜120℃付近にて好適に
進行し、一般に30分〜10時間程度で終了する。
３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。R8及びR9は低
級アルキル基を示す。Ａ′は低級アルキレン基を示
す。〕 一般式（6f）の化合物と一般式（23）の化合物との反応
は、適当な溶媒中で行なわれる。ここで化合物（23）と
しては、例えばシアン化カリウム、シアン化ナトリウ
ム、シアン化銀、シアン化銅、シアン化カルシウム等の
シアン化物を例示できる。また溶媒としては、例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類やこれらの混合溶媒等を挙げることができ
る。化合物（1f）と化合物（23）との使用割合として
は、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、
通常室温〜150℃、好ましくは50〜120℃付近にて好適に
進行し、一般に30分〜10時間程度で終了する。
一般式（24）の化合物の加水分解反応は、塩酸、臭化水
素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の鉱酸、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩乃至炭酸水素塩等の加水分解
触媒の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒にて行なわれ
る。使用される溶媒としては、例えば水、メタノール、
エタノール等のアルコール類やこれらの混合溶媒等が挙
げられる。該反応は、通常50〜150℃、好ましくは70〜1
00℃付近にて好適に進行し、一般に１〜24時間程度で終
了する。斯くして一般式（9a）の化合物が収得される。
素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の鉱酸、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩乃至炭酸水素塩等の加水分解
触媒の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒にて行なわれ
る。使用される溶媒としては、例えば水、メタノール、
エタノール等のアルコール類やこれらの混合溶媒等が挙
げられる。該反応は、通常50〜150℃、好ましくは70〜1
00℃付近にて好適に進行し、一般に１〜24時間程度で終
了する。斯くして一般式（9a）の化合物が収得される。
化合物（6f）と一般式（21）の化合物との反応は、塩基
性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。使用
される塩基性化合物としては、例えば炭酸カルシウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアミ
ド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の無機塩基、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン
等のアミン類等を挙げることができる。また用いられる
溶媒としては、例えばジオキサン、テチラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等の低級アルコール類、DMF、DMSO等の極
性溶媒等を例示できる。該反応は、反応系内に沃化カリ
ウム、沃化ナトリウム等のアルカリ金属沃化物等を存在
させることにより有利に進行する。化合物（6f）と化合
物（19）との使用割合としては、通常前者に対して後者
を等モル〜大過剰量、好ましくは等モル〜５倍モル量、
より好ましくは等モル〜1.2倍モル量とするのがよい。
該反応は、通常室温〜200℃、好ましくは60〜120℃付近
にて好適に進行し、一般に１〜24時間程度で終了する。
性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。使用
される塩基性化合物としては、例えば炭酸カルシウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアミ
ド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の無機塩基、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン
等のアミン類等を挙げることができる。また用いられる
溶媒としては、例えばジオキサン、テチラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等の低級アルコール類、DMF、DMSO等の極
性溶媒等を例示できる。該反応は、反応系内に沃化カリ
ウム、沃化ナトリウム等のアルカリ金属沃化物等を存在
させることにより有利に進行する。化合物（6f）と化合
物（19）との使用割合としては、通常前者に対して後者
を等モル〜大過剰量、好ましくは等モル〜５倍モル量、
より好ましくは等モル〜1.2倍モル量とするのがよい。
該反応は、通常室温〜200℃、好ましくは60〜120℃付近
にて好適に進行し、一般に１〜24時間程度で終了する。
一般式（22）の化合物の加水分解反応は、上記化合物
（24）の加水分解反応と同様の反応条件下にて行ない得
る。斯くして一般式（9b）の化合物を収得し得る。
（24）の加水分解反応と同様の反応条件下にて行ない得
る。斯くして一般式（9b）の化合物を収得し得る。
化合物（9a）又は化合物（9b）と一般式（25）の化合物
との反応は、通常のエステル化反応の条件が適用され、
例えば（１）適当な溶媒中、脱水剤の存在下に行なう方
法、（２）適当な溶媒中、酸又は塩基性化合物の存在下
に行なう方法等を挙げることができる。
との反応は、通常のエステル化反応の条件が適用され、
例えば（１）適当な溶媒中、脱水剤の存在下に行なう方
法、（２）適当な溶媒中、酸又は塩基性化合物の存在下
に行なう方法等を挙げることができる。
上記（１）の方法において使用される溶媒としては、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、DMF、DMSO、HMPA等の極性溶媒等を例示できる。
また使用される脱水剤としては、例えばジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げ
られる。斯かる脱水剤の使用量としては、化合物（9a）
又は（9b）に対して通常少なくとも等モル、好ましくは
等モル〜1.5倍モル量とするのがよい。化合物（9a）又
は（9b）と化合物（25）との使用割合としては、通常前
者に対して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、通常室温〜1
50℃、好ましくは50〜100℃付近にて好適に進行し、一
般に１〜10時間程度で終了する。
えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、DMF、DMSO、HMPA等の極性溶媒等を例示できる。
また使用される脱水剤としては、例えばジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げ
られる。斯かる脱水剤の使用量としては、化合物（9a）
又は（9b）に対して通常少なくとも等モル、好ましくは
等モル〜1.5倍モル量とするのがよい。化合物（9a）又
は（9b）と化合物（25）との使用割合としては、通常前
者に対して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、通常室温〜1
50℃、好ましくは50〜100℃付近にて好適に進行し、一
般に１〜10時間程度で終了する。
上記（２）の方法において使用される酸としては、例え
ば塩酸ガス、硫酸、燐酸、ポリリン酸、三弗化硼素、過
塩素酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等
の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無水物、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、チオニル
クロライド、アセトンジメチルアセタール等を例示でき
る。更に酸性イオン交換樹脂も使用することができる。
また塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
ラート類等を例示できる。該反応は無溶媒下でも行ない
得るが、前記（１）の方法で例示した溶媒を用いて有利
に行なわれる。更に該反応は、無水塩化カルシウム、無
水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リン等の乾燥剤
を使用すると有利に進行する。化合物（25）の使用量と
しては、無溶媒の時には通常大過剰量使用するのがよ
く、溶媒の存在下の時には通常等モル〜５倍モル量、好
ましくは等モル〜２倍モル量使用するのがよい。該反応
は、通常−20〜200℃、好ましくは０〜150℃付近にて好
適に進行し、一般に１〜20時間程度で終了する。
ば塩酸ガス、硫酸、燐酸、ポリリン酸、三弗化硼素、過
塩素酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等
の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無水物、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、チオニル
クロライド、アセトンジメチルアセタール等を例示でき
る。更に酸性イオン交換樹脂も使用することができる。
また塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
ラート類等を例示できる。該反応は無溶媒下でも行ない
得るが、前記（１）の方法で例示した溶媒を用いて有利
に行なわれる。更に該反応は、無水塩化カルシウム、無
水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リン等の乾燥剤
を使用すると有利に進行する。化合物（25）の使用量と
しては、無溶媒の時には通常大過剰量使用するのがよ
く、溶媒の存在下の時には通常等モル〜５倍モル量、好
ましくは等モル〜２倍モル量使用するのがよい。該反応
は、通常−20〜200℃、好ましくは０〜150℃付近にて好
適に進行し、一般に１〜20時間程度で終了する。
化合物（9a）、化合物（9b）、化合物（26）又は化合物
（28）の還元反応は、適当な溶媒中、水素化還元剤の存
在下に行なわれる。使用される還元剤としては、水素化
硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ジボラ
ン等を例示できる。斯かる還元剤の使用量としては、処
理すべき化合物に対して通常少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜３倍モル量とするのがよい。特に水素化ア
ルミニウムリチウムを還元剤として使用する場合には、
処理すべき化合物に対して等重量使用するのが好まし
い。また用いられる溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライ
ム等のエーテル類等を挙げることができる、。特に還元
剤として水素化アルミニウムリチウムやジボランを使用
する場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジグライム等の無水溶媒を使用するのがよい。該反
応は、通常−60〜50℃、好ましくは−30℃〜室温付近に
て好適に進行し、一般に10分〜５時間程度で終了する。
（28）の還元反応は、適当な溶媒中、水素化還元剤の存
在下に行なわれる。使用される還元剤としては、水素化
硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ジボラ
ン等を例示できる。斯かる還元剤の使用量としては、処
理すべき化合物に対して通常少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜３倍モル量とするのがよい。特に水素化ア
ルミニウムリチウムを還元剤として使用する場合には、
処理すべき化合物に対して等重量使用するのが好まし
い。また用いられる溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライ
ム等のエーテル類等を挙げることができる、。特に還元
剤として水素化アルミニウムリチウムやジボランを使用
する場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジグライム等の無水溶媒を使用するのがよい。該反
応は、通常−60〜50℃、好ましくは−30℃〜室温付近に
て好適に進行し、一般に10分〜５時間程度で終了する。
一般式（27）の化合物又は一般式（29）の化合物のハロ
ゲン化は、上記化合物（1p）のハロゲン化反応と同様の
反応条件下にて行ない得る。
ゲン化は、上記化合物（1p）のハロゲン化反応と同様の
反応条件下にて行ない得る。
上記反応式−16の反応を順次繰り返すことにより、所望
の化合物（６）又は化合物（９）を製造し得る。
の化合物（６）又は化合物（９）を製造し得る。
上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体は、薬理的に
許容される酸と塩を形成させることができる。斯かる酸
としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、
蓚酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、酢酸、リン
ゴ酸、クエン酸、乳酸等の有機酸を例示できる。
許容される酸と塩を形成させることができる。斯かる酸
としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、
蓚酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、酢酸、リン
ゴ酸、クエン酸、乳酸等の有機酸を例示できる。
また上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体の内、酸
性基を有する化合物は、薬理的に許容される塩基と塩を
形成させることができる。斯かる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物を例示でき
る。
性基を有する化合物は、薬理的に許容される塩基と塩を
形成させることができる。斯かる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物を例示でき
る。
本発明の化合物は、当然に光学異性体、立体異性体を含
有するものである。
有するものである。
本発明の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態で用い
られる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合
剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あ
るいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤として
は各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的
なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、
顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）
等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、担
体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例
えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デ
ンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、
ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単
シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カ
ルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロー
ス、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合
剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリ
ド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カ
カオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモ
ニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、
グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カ
オリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、
精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレン
グリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必
要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラ
チン被包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形態に成
形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のも
のを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、
カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、
アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール
等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示で
きる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体として従
来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレングリ
コール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールの
エステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げる
ことができる。注射剤として調製される場合には、液
剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張である
のが好ましく、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成
形するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用
されているものをすべて使用でき、例えば水、乳酸水溶
液、エチルアルコール、プロピレングリコール、エトキ
シ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類等を挙げることができる。なお、この場合
等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖あ
るいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、
また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加して
もよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味
剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめて
もよい。ペースト、クリーム及びゲルの形態に成形する
に際しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフ
イン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレング
リコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
られる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合
剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あ
るいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤として
は各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的
なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、
顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）
等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、担
体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例
えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デ
ンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、
ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単
シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カ
ルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロー
ス、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合
剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリ
ド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カ
カオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモ
ニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、
グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カ
オリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、
精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレン
グリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必
要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラ
チン被包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形態に成
形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のも
のを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、
カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、
アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール
等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示で
きる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体として従
来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレングリ
コール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールの
エステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げる
ことができる。注射剤として調製される場合には、液
剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張である
のが好ましく、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成
形するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用
されているものをすべて使用でき、例えば水、乳酸水溶
液、エチルアルコール、プロピレングリコール、エトキ
シ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類等を挙げることができる。なお、この場合
等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖あ
るいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、
また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加して
もよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味
剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめて
もよい。ペースト、クリーム及びゲルの形態に成形する
に際しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフ
イン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレング
リコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式（１）の化
合物又はその塩の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中１〜70重量％とするのがよ
い。
合物又はその塩の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中１〜70重量％とするのがよ
い。
本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、丸剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与さ
れ、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もし
くは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与され
る。
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、丸剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与さ
れ、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もし
くは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与され
る。
本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別そ
の他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通
常有効成分である一般式（１）の化合物の量は１日当り
体重1kg当り約0.06〜100mgとするのがよく、該製剤は１
日に２〜４回に分けて投与することができる。
の他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通
常有効成分である一般式（１）の化合物の量は１日当り
体重1kg当り約0.06〜100mgとするのがよく、該製剤は１
日に２〜４回に分けて投与することができる。
実施例 以下に製剤例、参考例、実施例、及び薬理試験を掲げ
る。
る。
製剤例１ 錠剤の調製 配合 量（ｇ） ６−〔２−（１−フエニル−２− イミダゾリル）チオアセチル〕− 3,4−ジヒドロカルボスチリル ５ 乳糖（日本薬局方品） 50 コーンスターチ（日本薬局方品） 25 結晶セルローズ（日本薬局方品） 25 メチルセルローズ（日本薬局方品） 1.5 ステアリン酸マグネシウム （日本薬局方品） １ 上記本発明の化合物、乳糖、コーンスターチ及び結晶セ
ルローズを充分混合し、メチルセルローズの５％水溶液
で顆粒化し、200メツシユの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤1000錠を調製する。
ルローズを充分混合し、メチルセルローズの５％水溶液
で顆粒化し、200メツシユの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤1000錠を調製する。
製剤例２ カプセル剤の調製 配合 量（ｇ） ６−｛３−〔１−（３−ピリジル） ２−イミダゾリル）チオプロポキシ〕 −3,4−ジヒドロカルボスチリル 10 乳糖（日本薬局方品） 80 澱粉（日本薬局方品） 30 滑石（日本薬局方品） ５ ステアリン酸マグネシウム （日本薬局方品） １ 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるように
充分攪拌したのち所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル1000個を調製する。
充分攪拌したのち所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル1000個を調製する。
製剤例３ 注射剤の調製 配合 量（ｇ） ６−〔２−（１−フエニル− ２−イミダゾリル）チオアセチル〕 −3,4−ジヒドロカルボスチリル １ ポリエチレングリコール（分子量： 4000）（日本薬局方品） 0.3 塩化ナトリウム（日本薬局方品） 0.9 ポリオキシエチレンソルビタン モノオレート（日本薬局方品） 0.4 メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1 メチル−パラベン（日本薬局方品） 0.18 プロピル−パラベン（日本薬局方品） 0.02 注射用蒸留水 100（ml） 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを攪拌しながら80℃で上記の約半量の蒸留水に溶
解し、その溶液を40℃まで冷却し、本発明の化合物、ポ
リエチレングリコール及びポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエートをその溶液中に溶解し、その溶液に注
射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し、適当なフイル
ターペーパーを用いて滅菌過することにより滅菌して
注射剤を調製する。
リウムを攪拌しながら80℃で上記の約半量の蒸留水に溶
解し、その溶液を40℃まで冷却し、本発明の化合物、ポ
リエチレングリコール及びポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエートをその溶液中に溶解し、その溶液に注
射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し、適当なフイル
ターペーパーを用いて滅菌過することにより滅菌して
注射剤を調製する。
参考例１ ６−（４−クロロブチリル）−3,4−シヒドロカルボス
チリル10g（39.7mモル）をベンゼン300mlに溶解させ、
これにエチレングリコール7.4g（120mモル）、ｐ−トル
エンスルホン酸300mgを加え、デイーンスターク中、脱
水しながら６時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素
ナトリウム水で中和し、クロロホルムにて抽出する。水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出
液；クロロホルム：メタノール＝40:1）で精製して、1
0.5gの６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチ
ル）−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
チリル10g（39.7mモル）をベンゼン300mlに溶解させ、
これにエチレングリコール7.4g（120mモル）、ｐ−トル
エンスルホン酸300mgを加え、デイーンスターク中、脱
水しながら６時間加熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素
ナトリウム水で中和し、クロロホルムにて抽出する。水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出
液；クロロホルム：メタノール＝40:1）で精製して、1
0.5gの６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチ
ル）−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
参考例２ メチルシクロヘキシルカルボキシレート28gと85％NH2NH
2・H2O15gをイソプロピルアルコール50mlに溶解し、10
時間加熱還流する。濃縮後、水を加えて析出する結晶を
取し、水洗後、水から再結晶すると無色針状晶のシク
ロヘキサンカルボヒドラジド20gを得る。
2・H2O15gをイソプロピルアルコール50mlに溶解し、10
時間加熱還流する。濃縮後、水を加えて析出する結晶を
取し、水洗後、水から再結晶すると無色針状晶のシク
ロヘキサンカルボヒドラジド20gを得る。
融点155.5〜156,5℃ 実施例１ ６−（３−ブロモプロポキシ）−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル2.0g（7.0mモル）、２−メチルイミダゾール2.
2g（7.7mモル）及びDBU1.3ml（8.4mモル）をイソプロパ
ノール80mlに加え、20時間加熱還流する。濃縮後、残渣
に水を加え、クロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナ
トリウムにて乾燥、続いて濃縮する。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；ジクロロ
メタン：メタノール＝20:1）にて精製後、エタノール−
ｎ−ヘキサンより再結晶して、1.0gの６−〔３−（２−
メチル−１−イミダゾリル）プロポキシ〕−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
スチリル2.0g（7.0mモル）、２−メチルイミダゾール2.
2g（7.7mモル）及びDBU1.3ml（8.4mモル）をイソプロパ
ノール80mlに加え、20時間加熱還流する。濃縮後、残渣
に水を加え、クロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナ
トリウムにて乾燥、続いて濃縮する。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；ジクロロ
メタン：メタノール＝20:1）にて精製後、エタノール−
ｎ−ヘキサンより再結晶して、1.0gの６−〔３−（２−
メチル−１−イミダゾリル）プロポキシ〕−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
白色粉末状 mp.141.5-142.5℃ 実施例２ ６−メルカプト−3,4−ジヒドロカルボスチリル2.4g（1
3.4モル）、１−（３−ブロモプロピル）−1,2,4−トリ
アゾール3.3g（17.4mモル）及びDBU2.6ml（17.4mモル）
をイソプロパノール60mlに加え、２時間加熱還流する。
反応終了後、濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出す
る。水、飽和炭酸水素ナトリウム水、水の順に洗浄し、
硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を濃縮後、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；
ジクロロメタン：メタノール＝20:1）にて精製後、エタ
ノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、2.5gの６−〔３
−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イル）プロピルチ
オ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
3.4モル）、１−（３−ブロモプロピル）−1,2,4−トリ
アゾール3.3g（17.4mモル）及びDBU2.6ml（17.4mモル）
をイソプロパノール60mlに加え、２時間加熱還流する。
反応終了後、濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出す
る。水、飽和炭酸水素ナトリウム水、水の順に洗浄し、
硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を濃縮後、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；
ジクロロメタン：メタノール＝20:1）にて精製後、エタ
ノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、2.5gの６−〔３
−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イル）プロピルチ
オ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
mp.114.5〜115.5℃ 無色針状晶 適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第１表に示す化合物を得る。
記第１表に示す化合物を得る。
実施例69 ６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチル）−3,
4−ジヒドロカルボスチリル10.5g（35.5mモル）をジエ
チルホルムアミド170mlに溶解させ、沃化ナトリウム10.
6g（71mモル）、1H−1,2,4−トリアゾール5.4g（78.1m
モル）及びDBU6.5ml（46.1mモル）を加え、80℃にて７
時間加熱攪拌する。溶媒を減圧下濃縮後、残渣をクロロ
ホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウムにて乾燥
後、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（溶出液；クロロホルム：メタノール＝4
0:1）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結
晶して、8.0gの無色粒状晶の６−〔１−エチレンジオキ
シ−４−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブチ
ル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。次に、こ
こで得られた６−〔１−エチレンジオキシ−４−（1H−
1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブチル〕−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル1g（3.0mモル）のDMF10m溶液に５％
塩酸3mlを加え、室温下、２時間攪拌する。溶媒を濃縮
後、得られた残渣をクロロホルム：メタノール＝3:1で
抽出する。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、続いて溶媒
を濃縮する。クロロホルム−エタノールより再結晶し
て、６−〔４−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イ
ル）ブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得
る。
4−ジヒドロカルボスチリル10.5g（35.5mモル）をジエ
チルホルムアミド170mlに溶解させ、沃化ナトリウム10.
6g（71mモル）、1H−1,2,4−トリアゾール5.4g（78.1m
モル）及びDBU6.5ml（46.1mモル）を加え、80℃にて７
時間加熱攪拌する。溶媒を減圧下濃縮後、残渣をクロロ
ホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウムにて乾燥
後、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（溶出液；クロロホルム：メタノール＝4
0:1）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結
晶して、8.0gの無色粒状晶の６−〔１−エチレンジオキ
シ−４−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブチ
ル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。次に、こ
こで得られた６−〔１−エチレンジオキシ−４−（1H−
1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブチル〕−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル1g（3.0mモル）のDMF10m溶液に５％
塩酸3mlを加え、室温下、２時間攪拌する。溶媒を濃縮
後、得られた残渣をクロロホルム：メタノール＝3:1で
抽出する。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、続いて溶媒
を濃縮する。クロロホルム−エタノールより再結晶し
て、６−〔４−（1H−1,2,4−トリアゾール−１−イ
ル）ブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得
る。
無色針状晶 mp.194.0〜195.0℃ 適当な出発原料を用い、実施例69と同様にして前記実施
例５、７〜12、14、18〜20、26、28、34、36、37、41、
43〜51、169、170の化合物及び下記第２表に示す化合物
を得る。
例５、７〜12、14、18〜20、26、28、34、36、37、41、
43〜51、169、170の化合物及び下記第２表に示す化合物
を得る。
実施例85 ６−α−クロロアセチル−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル2.24g（10mモル）、１−フエニル−２−メルカプトイ
ミダゾール1.94g（11mモル）及びDBU1.75ml（12mモル）
をイソプロパノール80mlに加え、10分間加熱還流する。
冷後、析出晶を取、イソプロパノールで洗浄する。エ
タノールより再結晶して、６−〔２−（１−フエニル−
２−イミダゾリル）チオアセチル〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリルを得る。
ル2.24g（10mモル）、１−フエニル−２−メルカプトイ
ミダゾール1.94g（11mモル）及びDBU1.75ml（12mモル）
をイソプロパノール80mlに加え、10分間加熱還流する。
冷後、析出晶を取、イソプロパノールで洗浄する。エ
タノールより再結晶して、６−〔２−（１−フエニル−
２−イミダゾリル）チオアセチル〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリルを得る。
淡黄色針状晶 mp.209.0〜210.0℃ 実施例86 ６−（２−ブロモブチリル）−３、４−ジヒドロカルボ
スチリル2.0g（6.8mモル）、１−フエニル−２−メルカ
プトイミダゾール1.4g（8.1mモル）及びDBU1.1ml（8.1m
モル）をイソプロパノール60mlに加え、３時間加熱還流
する。反応終了後、溶媒を濃縮し、得られた残渣をクロ
ロホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥
後、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー（溶出液；ジクロロメタン：メタノ
ール＝20:1）にて精製後、クロロホルム−ｎ−ヘキサン
より再結晶して、2gの６−〔２−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。
スチリル2.0g（6.8mモル）、１−フエニル−２−メルカ
プトイミダゾール1.4g（8.1mモル）及びDBU1.1ml（8.1m
モル）をイソプロパノール60mlに加え、３時間加熱還流
する。反応終了後、溶媒を濃縮し、得られた残渣をクロ
ロホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥
後、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー（溶出液；ジクロロメタン：メタノ
ール＝20:1）にて精製後、クロロホルム−ｎ−ヘキサン
より再結晶して、2gの６−〔２−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。
無色針状晶 mp.82.0〜84.5℃ 適当な出発原料を用い、実施例85及び86と同様にして前
記実施例３、13、15〜17、21〜25、27、29〜33、35、38
〜40、42、52〜65、175〜202の化合物及び下記第３表に
示す化合物を得る。
記実施例３、13、15〜17、21〜25、27、29〜33、35、38
〜40、42、52〜65、175〜202の化合物及び下記第３表に
示す化合物を得る。
実施例141 ６−〔３−（２−イミダゾリル）チオプロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル2g（6.6mモル）のDMF50ml溶
液に水酸化カリウム520mg（7.9mモル）を加え、室温下2
0分攪拌する。次にエチルブロマイド1.5ml（19.8mモ
ル）を氷冷下滴下し、40〜50℃で10分間攪拌する。溶媒
を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、クロロホルムで抽出
する。水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を濃縮す
る。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー（溶出液；クロロホルム：メタノール：酢酸エチル＝
10:1:20）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより
再結晶して、1.2gの６−〔３−（１−エチル−２−イミ
ダゾリル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリルを得る。無色針状晶 mp.120.5〜121.0℃ 適当な出発原料を用い、実施例108と同様にして前記実
施例３、13、15、25、29、30、31、32、35、38〜40、4
2、55〜65、85〜103、107、109〜110、112〜137、173〜
179、182、185〜188、190〜191、195〜199及び202の化
合物を得る。
4−ジヒドロカルボスチリル2g（6.6mモル）のDMF50ml溶
液に水酸化カリウム520mg（7.9mモル）を加え、室温下2
0分攪拌する。次にエチルブロマイド1.5ml（19.8mモ
ル）を氷冷下滴下し、40〜50℃で10分間攪拌する。溶媒
を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、クロロホルムで抽出
する。水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を濃縮す
る。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー（溶出液；クロロホルム：メタノール：酢酸エチル＝
10:1:20）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより
再結晶して、1.2gの６−〔３−（１−エチル−２−イミ
ダゾリル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリルを得る。無色針状晶 mp.120.5〜121.0℃ 適当な出発原料を用い、実施例108と同様にして前記実
施例３、13、15、25、29、30、31、32、35、38〜40、4
2、55〜65、85〜103、107、109〜110、112〜137、173〜
179、182、185〜188、190〜191、195〜199及び202の化
合物を得る。
実施例142 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル2g（5.5mモ
ル）のDMF:メタノール＝3:1混合溶液80mlに水素化ホウ
素ナトリウム208mg（5.5mモル）を加え、50〜60℃にて
１時間加熱攪拌する。溶媒を濃縮後、残渣を1N−塩酸50
mlに注ぎ込む。1N−水酸化ナトリウムでアルカリ性とし
た後、析出晶を取、水洗、乾燥する。エタノールより
再結晶して、1.5gの６−〔１−ヒドロキシ−２−（１−
フエニル−２−イミダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル2g（5.5mモ
ル）のDMF:メタノール＝3:1混合溶液80mlに水素化ホウ
素ナトリウム208mg（5.5mモル）を加え、50〜60℃にて
１時間加熱攪拌する。溶媒を濃縮後、残渣を1N−塩酸50
mlに注ぎ込む。1N−水酸化ナトリウムでアルカリ性とし
た後、析出晶を取、水洗、乾燥する。エタノールより
再結晶して、1.5gの６−〔１−ヒドロキシ−２−（１−
フエニル−２−イミダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
黄色針状晶 mp.197.0〜198.5℃ 適当な出発原料を用い、実施例142と同様にして前記実
施例91、92、172、185及び190の化合物を得る。
施例91、92、172、185及び190の化合物を得る。
実施例143 Ｎ′−シクロヘキシルカルボニル−４−〔６−（1,2−
ジヒドロ−２−オキソキノリルオキシ）〕ブチロヒドラ
ジド3gにポリリン酸120gを加え、油浴の温度190〜210℃
にて10分間時々攪拌しながら加熱する。冷後、反応液を
氷水400mlに注ぎ、クロロホルムで抽出する。クロロホ
ルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（クロロホル
ム：メタノール＝20:1）で精製する。クロロホルム−石
油エーテルより再結晶して、黄色針状晶の６−〔３−
（２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサジアゾール−５
−イル）プロポキシ〕カルボスチリル0.4gを得る。
ジヒドロ−２−オキソキノリルオキシ）〕ブチロヒドラ
ジド3gにポリリン酸120gを加え、油浴の温度190〜210℃
にて10分間時々攪拌しながら加熱する。冷後、反応液を
氷水400mlに注ぎ、クロロホルムで抽出する。クロロホ
ルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（クロロホル
ム：メタノール＝20:1）で精製する。クロロホルム−石
油エーテルより再結晶して、黄色針状晶の６−〔３−
（２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサジアゾール−５
−イル）プロポキシ〕カルボスチリル0.4gを得る。
mp160〜161.5℃ 適当な出発原料を用い、実施例143と同様にして前記実
施例４及び150〜166の化合物を得る。
施例４及び150〜166の化合物を得る。
実施例144 ６−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル2g（7.35mモル）
のDMF溶液20mlに、水素化ナトリウム（60％油性）350mg
（8.8mモル）を加え、60℃で30分加熱する。その後氷冷
下、エチルブロマイド0.6ml（8.1mモル）を滴下する。
室温下、３時間攪拌後、反応混合物に水を加え、クロロ
ホルムで抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、
溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（溶出液；ジクロロメタン：メタノール
＝30:1）にて精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再
結晶して、1.8gの１−エチル−６−〔３−（1,2,4−ト
リアゾール−１−イル）プロポキシ〕−3,4−ジヒドロ
カルボスチリルを得る。
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル2g（7.35mモル）
のDMF溶液20mlに、水素化ナトリウム（60％油性）350mg
（8.8mモル）を加え、60℃で30分加熱する。その後氷冷
下、エチルブロマイド0.6ml（8.1mモル）を滴下する。
室温下、３時間攪拌後、反応混合物に水を加え、クロロ
ホルムで抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、
溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（溶出液；ジクロロメタン：メタノール
＝30:1）にて精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再
結晶して、1.8gの１−エチル−６−〔３−（1,2,4−ト
リアゾール−１−イル）プロポキシ〕−3,4−ジヒドロ
カルボスチリルを得る。
無色針状晶 mp.97.0〜98.0℃ 適当な出発原料を用い、実施例144と同様にして前記実
施例44及び100の化合物を得る。
施例44及び100の化合物を得る。
実施例145 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル3.63g（10mモ
ル）及びヒドロキシルアミン塩酸塩1.09g（15mモル）を
エタノール100ml及び水20mlの混液に懸濁し、水酸化ナ
トリウムの粉末2.0g（50mモル）を激しく攪拌しながら
加え、室温下に30分攪拌する。反応終了後、反応液を５
％塩酸にて中和後、クロロホルム：メタノール＝8:1に
て抽出、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶
出液；クロロホルム：メタノール＝20:1）にて精製後、
エタノールより再結晶して、3.34gの６−〔１−ヒドロ
キシイミノ−２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）
チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル3.63g（10mモ
ル）及びヒドロキシルアミン塩酸塩1.09g（15mモル）を
エタノール100ml及び水20mlの混液に懸濁し、水酸化ナ
トリウムの粉末2.0g（50mモル）を激しく攪拌しながら
加え、室温下に30分攪拌する。反応終了後、反応液を５
％塩酸にて中和後、クロロホルム：メタノール＝8:1に
て抽出、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶
出液；クロロホルム：メタノール＝20:1）にて精製後、
エタノールより再結晶して、3.34gの６−〔１−ヒドロ
キシイミノ−２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）
チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
白色粉末状 mp 201.0〜202.0℃ 実施例146 ６−〔１−ヒドロキシ−２−（１−フエニル−２−イミ
ダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル3.0g（8.17mモル）を、−10℃にてチオニルクロリド9
ml中に加え、30分同温度にて攪拌後、メタノール50mlを
滴下する。その後室温にて30分攪拌する。反応終了後、
反応液を炭酸水素ナトリウムにてアルカリ性とし、クロ
ロホルムで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去する。エタノールより再結晶して、1.5gの６−
〔１−メトキシ−２−（１−フエニル−２−イミダゾリ
ル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得
る。
ダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル3.0g（8.17mモル）を、−10℃にてチオニルクロリド9
ml中に加え、30分同温度にて攪拌後、メタノール50mlを
滴下する。その後室温にて30分攪拌する。反応終了後、
反応液を炭酸水素ナトリウムにてアルカリ性とし、クロ
ロホルムで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去する。エタノールより再結晶して、1.5gの６−
〔１−メトキシ−２−（１−フエニル−２−イミダゾリ
ル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを得
る。
無色プリズム状 mp.193.0〜194.0℃ 実施例147 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル4.47g（12.3m
モル）をクロロホルム200ml及び酢酸45mlに溶解し、氷
冷下ｍ−クロロ過安息香酸3.0g（15.0mモル）を加え、
同温度にて１時間攪拌する。反応終了後、炭酸水素ナト
リウムにてアルカリ性とし、クロロホルムにて抽出す
る。クロロホルム層より析出する結晶を取後、エタノ
ールにて洗浄して、4.0gの６−〔２−（１−フエニル−
２−イミダゾリル）スルフイニルアセチル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル4.47g（12.3m
モル）をクロロホルム200ml及び酢酸45mlに溶解し、氷
冷下ｍ−クロロ過安息香酸3.0g（15.0mモル）を加え、
同温度にて１時間攪拌する。反応終了後、炭酸水素ナト
リウムにてアルカリ性とし、クロロホルムにて抽出す
る。クロロホルム層より析出する結晶を取後、エタノ
ールにて洗浄して、4.0gの６−〔２−（１−フエニル−
２−イミダゾリル）スルフイニルアセチル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
白色粉末状 mp.195℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例147と同様にして後記実
施例191、193、196、199〜200の化合物を得る。
施例191、193、196、199〜200の化合物を得る。
実施例148 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）スルフ
イニルアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル3.79g
（10mモル）を酢酸240ml及び水100mlの混液に溶かし、
過マンガン酸カリウム5.06g（32mモル）を加え、室温下
に２日間攪拌する。反応終了後、反応液にクロロホルム
を加え、セライトにて過する。液を水洗、硫酸マグ
ネシウムにて乾燥する。溶媒を留去して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；クロロ
ホルム：メタノール＝30:1）にて精製後、エタノール−
クロロホルムより再結晶して、0.6gの６−〔２−（１−
フエニル−２−イミダゾリル）スルホニルアセチル〕−
3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
イニルアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル3.79g
（10mモル）を酢酸240ml及び水100mlの混液に溶かし、
過マンガン酸カリウム5.06g（32mモル）を加え、室温下
に２日間攪拌する。反応終了後、反応液にクロロホルム
を加え、セライトにて過する。液を水洗、硫酸マグ
ネシウムにて乾燥する。溶媒を留去して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；クロロ
ホルム：メタノール＝30:1）にて精製後、エタノール−
クロロホルムより再結晶して、0.6gの６−〔２−（１−
フエニル−２−イミダゾリル）スルホニルアセチル〕−
3,4−ジヒドロカルボスチリルを得る。
淡黄色粒状 mp.199〜201℃ 適当な出発原料を用い、実施例148と同様にして後記実
施例194〜195、197、201〜202の化合物を得る。
施例194〜195、197、201〜202の化合物を得る。
実施例149 ２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チオアセチル
クロリド23.3g（0.096モル）、及び塩化アルミニウム1
2.8g（0.096モル）の二硫化炭素60ml溶液中、室温、攪
拌下、3.4−ジヒドロカルボスチリル3.5g（0.024モル）
を少量ずつ添加する。添加終了後、2.5時間加熱還流す
る。二硫化炭素をデカントして除き、残渣を氷水に注ぎ
込む。析出晶を取、水洗後、エタノールより再結晶し
て、17gの６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリ
ル）チオアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを
得る。
クロリド23.3g（0.096モル）、及び塩化アルミニウム1
2.8g（0.096モル）の二硫化炭素60ml溶液中、室温、攪
拌下、3.4−ジヒドロカルボスチリル3.5g（0.024モル）
を少量ずつ添加する。添加終了後、2.5時間加熱還流す
る。二硫化炭素をデカントして除き、残渣を氷水に注ぎ
込む。析出晶を取、水洗後、エタノールより再結晶し
て、17gの６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリ
ル）チオアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリルを
得る。
淡黄色針状晶 mp.209.0〜210.0℃ 適当な出発原料を用い、実施例149と同様にして前記実
施例69〜84、86〜87、89〜90、93〜94、97〜140、171、
173〜184、186〜189及び191〜202の化合物を得る。
施例69〜84、86〜87、89〜90、93〜94、97〜140、171、
173〜184、186〜189及び191〜202の化合物を得る。
適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第４表に示す化合物を得る。
記第４表に示す化合物を得る。
適当な出発原料を用い、実施例69と同様にして下記第５
表に示す化合物を得る。
表に示す化合物を得る。
適当な出発原料を用い、実施例85及び86と同様にして下
記第６表に示す化合物を得る。
記第６表に示す化合物を得る。
薬理試験方法 血小板粘着抑制率はSalzmanガラスビーズ法を用いて測
定した。
定した。
供試化合物をアラビアゴムに懸濁し、生後６週令のウイ
スター系雄性ラツト（体重150〜200g）に100mg/kg/5ml
経口投与し、約３時間後エーテル麻酔下に開腹し、腹部
下行大静脈よりガラスビーズカラム（医学書院器械社
製）を介し、定時間血液吸引装置（医学書院器械社製）
を用いて1ml/minの速度で採血した。対照群は１％アラ
ビアゴム溶液を経口投与し、同様にして採血した。採取
した血液を直ちにEDTA入りプラスチツクボトル（東亜医
用電子社製、シスメツクスSB−41）に移し、ローリング
ミキサー（サーマル科学産業製）にて回転混和した。血
液中の血小板数を自動血球計数器（オルソダイアグノス
テイツク社製、ELT−８）により計数し血小板粘着率を
次式より算出した。
スター系雄性ラツト（体重150〜200g）に100mg/kg/5ml
経口投与し、約３時間後エーテル麻酔下に開腹し、腹部
下行大静脈よりガラスビーズカラム（医学書院器械社
製）を介し、定時間血液吸引装置（医学書院器械社製）
を用いて1ml/minの速度で採血した。対照群は１％アラ
ビアゴム溶液を経口投与し、同様にして採血した。採取
した血液を直ちにEDTA入りプラスチツクボトル（東亜医
用電子社製、シスメツクスSB−41）に移し、ローリング
ミキサー（サーマル科学産業製）にて回転混和した。血
液中の血小板数を自動血球計数器（オルソダイアグノス
テイツク社製、ELT−８）により計数し血小板粘着率を
次式より算出した。
血小板粘着抑制率は次式から算出した。
供試化合物No. １ ６−〔３−（１−メチル−1,2,3,4−テトラゾール
−５−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル ２ ６−〔３−（２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサ
ジアゾール−５−イル）プロポキシ〕−3,4−ジヒドロ
カルボスチリル ３ ６−〔３−（１−イミダゾリル）プロポキシ〕カル
ボスチリル・塩酸塩 ４ ６−〔３−（２−シクロヘキシル−1,3、４−オキ
サジアゾール−５−イル）プロポキシ〕カルボスチリル ５ ６−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ６ ６−〔３−（1,2,3,4−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ７ ６−〔３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ８ ６−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル ９ ６−〔３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕カルボスチリル 10 ６−〔３−（1,2,4,5−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕カルボスチリル 11 ６−〔３−（1,2,3,4−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕カルボスチリル 12 ６−〔３−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 13 ６−〔３−（１−イミダゾリル）プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル 14 ６−〔３−（１−フエニル−1,3,4−トリアゾール
−２−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 15 ６−〔３−（２−イミダゾリル）チオプロポキシ〕
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 16 ６−〔３−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオ
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 17 ８−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 18 ７−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 19 ５−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 20 ６−〔３−（５−メチル−２−イミダゾリル）チオ
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 21 ６−〔３−（５−メトキシベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・１水和物 22 ６−〔３−（５−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル・1/2蓚
酸塩 23 ７−〔３−（1,3,4−トリアゾール−２−イル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 24 ６−〔３−（１−エチル−ベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・1/2水和物 25 ７−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）エ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 26 ７−〔３−（２−チアゾリニル）チオプロポキシ〕
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 27 ７−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 28 ７−〔３−（１−ベンジル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 29 ７−〔３−（１−アリル−２−ミダゾリル）チオプ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 30 ７−〔３−（１−エチル−1,3,4−トリアゾール−
２−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 31 ７−〔３−（１−エチル−1,2,4−トリアゾール−
３−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 32 ７−〔３−（２−ピリジル）チオプロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル 33 ７−〔５−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ペ
ンチルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 34 ６−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
チリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 35 ６−｛３−〔１−（２−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 36 ６−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）エ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 37 ６−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 38 ６−｛３−〔１−（３−ピリジル）−２−イミダゾ
リル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル 39 ６−｛３−〔１−（２−メトキシフエニル）−２−
イミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル 40 ６−｛３−〔１−（４−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 41 ６−｛〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）
プロピル〕アミノ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリル 42 ６−｛〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）
プロピル〕チオ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリル 43 ６−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ア
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 44 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 45 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オアセチル〕カルボスチリル 46 ６−〔２−（１−イミダゾリル）アセチル〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル・臭素水素酸塩 47 ６−〔２−（３−メチル−１−ピラゾリル）アセチ
ル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 48 ６−〔２−（２−メチルチオ−４−メチル−１−イ
ミダゾリル）アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル 49 ６−〔１−ヒドロキシ−２−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 50 ６−〔２−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 51 ６−〔２−（１−アリル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 52 ６−〔１−ヒドロキシ−４−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオブチル〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 53 ６−〔１−ヒドロキシ−３−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオプロピル〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 54 ６−｛２−〔１−（３−トリフルオロメチルフエニ
ル）−２−イミダゾリル〕チオアセチル｝−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル 55 ６−｛２−〔１−（２−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオアセチル｝−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 56 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 57 ７−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル
−５−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル ２ ６−〔３−（２−シクロヘキシル−1,3,4−オキサ
ジアゾール−５−イル）プロポキシ〕−3,4−ジヒドロ
カルボスチリル ３ ６−〔３−（１−イミダゾリル）プロポキシ〕カル
ボスチリル・塩酸塩 ４ ６−〔３−（２−シクロヘキシル−1,3、４−オキ
サジアゾール−５−イル）プロポキシ〕カルボスチリル ５ ６−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ６ ６−〔３−（1,2,3,4−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ７ ６−〔３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル ８ ６−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル ９ ６−〔３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕カルボスチリル 10 ６−〔３−（1,2,4,5−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕カルボスチリル 11 ６−〔３−（1,2,3,4−テトラゾール−１−イル）
プロポキシ〕カルボスチリル 12 ６−〔３−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 13 ６−〔３−（１−イミダゾリル）プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル 14 ６−〔３−（１−フエニル−1,3,4−トリアゾール
−２−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 15 ６−〔３−（２−イミダゾリル）チオプロポキシ〕
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 16 ６−〔３−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオ
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 17 ８−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 18 ７−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 19 ５−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 20 ６−〔３−（５−メチル−２−イミダゾリル）チオ
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 21 ６−〔３−（５−メトキシベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・１水和物 22 ６−〔３−（５−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル・1/2蓚
酸塩 23 ７−〔３−（1,3,4−トリアゾール−２−イル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 24 ６−〔３−（１−エチル−ベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・1/2水和物 25 ７−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）エ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 26 ７−〔３−（２−チアゾリニル）チオプロポキシ〕
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 27 ７−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 28 ７−〔３−（１−ベンジル−２−イミダゾリル）チ
オプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 29 ７−〔３−（１−アリル−２−ミダゾリル）チオプ
ロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 30 ７−〔３−（１−エチル−1,3,4−トリアゾール−
２−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 31 ７−〔３−（１−エチル−1,2,4−トリアゾール−
３−イル）チオプロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 32 ７−〔３−（２−ピリジル）チオプロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル 33 ７−〔５−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ペ
ンチルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 34 ６−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
チリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 35 ６−｛３−〔１−（２−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 36 ６−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）エ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 37 ６−〔４−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ブ
トキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 38 ６−｛３−〔１−（３−ピリジル）−２−イミダゾ
リル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル 39 ６−｛３−〔１−（２−メトキシフエニル）−２−
イミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル 40 ６−｛３−〔１−（４−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオプロポキシ｝−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 41 ６−｛〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）
プロピル〕アミノ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリル 42 ６−｛〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）
プロピル〕チオ｝−3,4−ジヒドロカルボスチリル 43 ６−〔２−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）ア
セチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 44 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オアセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 45 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オアセチル〕カルボスチリル 46 ６−〔２−（１−イミダゾリル）アセチル〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル・臭素水素酸塩 47 ６−〔２−（３−メチル−１−ピラゾリル）アセチ
ル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 48 ６−〔２−（２−メチルチオ−４−メチル−１−イ
ミダゾリル）アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル 49 ６−〔１−ヒドロキシ−２−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオエチル〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 50 ６−〔２−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 51 ６−〔２−（１−アリル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 52 ６−〔１−ヒドロキシ−４−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオブチル〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 53 ６−〔１−ヒドロキシ−３−（１−フエニル−２−
イミダゾリル）チオプロピル〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 54 ６−｛２−〔１−（３−トリフルオロメチルフエニ
ル）−２−イミダゾリル〕チオアセチル｝−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル 55 ６−｛２−〔１−（２−メチルフエニル）−２−イ
ミダゾリル〕チオアセチル｝−3,4−ジヒドロカルボス
チリル 56 ６−〔２−（１−フエニル−２−イミダゾリル）チ
オブチリル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル 57 ７−〔３−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 401/12 ２３５ 7602−4Ｃ ２３９ 7602−4Ｃ ２４９ 7602−4Ｃ 409/06 ２１５ 7602−4Ｃ 409/12 ２１５ 7602−4Ｃ 413/06 ２１５ 7602−4Ｃ 413/12 ２１５ 7602−4Ｃ 417/06 ２１５ 9051−4Ｃ 417/12 ２１５ 9051−4Ｃ // Ａ６１Ｋ 31/47 ＡＣＢ 7431−4Ｃ 31/505 (56)参考文献 特開 昭50−142576（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−30183（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−351019（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−49378（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−9780（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−159778（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−183761（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】ａ）一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基；シク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。R1は水素
原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基を示す。Ｚ
は酸素原子、硫黄原子、 （R3は水素原子又は低級アルキル基）又は基−NH−を示
す。Ａは低級アルキレン基を示す。Ｘは酸素原子、硫黄
原子、基−SO−又は基−SO2−を示す。カルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二重結
合を示す。但し、Ｚが酸素原子を示し、Ｘが硫黄原子、
基−SO−又は基−SO2−を示す場合には、Ｒはピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、
1,2,3,4−テトラゾリル基、キノリル基、ピリミジル基
又はチアゾリニル基であってはならない。またＺが硫黄
原子又は を示す場合、R2は置換基として低級アルキル基、フェニ
ル基又はシクロアルキル基を有することのある1,2,3,4
−テトラゾリル基であってはならない。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩、 ｂ）一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基；シク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。R1は水素
原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基を示す。
Ｚ′は硫黄原子、 （R3は水素原子又は低級アルキル基）又は基−NH−を示
す。Ａは低級アルキレン基を示す。カルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を
示す。但し、Ｚ′が を示し、側鎖−Ｚ′−Ａ−Ｒがカルボスチリル骨格の５
位に置換し、R2がカルボスチリル骨格の８位に置換し、
Ｒがピリジン−１−イル基、又はフェニル基もしくはフ
ェニル低級アルキル基が置換した１−イミダゾリル基を
示す場合、R2は水酸基又は低級アルコキシ基であっては
ならない。またＺ′が を示し、側鎖−Ｚ′−Ａ-Ｒがカルボスチリル骨格の５
位に置換し、R2がカルボスチリル骨格の８位に置換し、
Ｒが置換基として低級アルキル基を有することのある１
−イミダゾリル基を示す場合、R2は水酸基又は低級アル
コキシ基であってはならない。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩、及び ｃ）一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基；シク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。R1は水素
原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基を示す。Ａ
は低級アルキレン基を示す。カルボスチリル骨格の３位
及び４位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示す。
但し、前記Ｒはテトラゾール環の１位に低級アルキル
基、シクロアルキル基、フェニル環上に置換基として低
級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルキルアミノ基及
び低級アルコキシ基なる群より選ばれた基を１〜３個有
することのあるフェニル基又はフェニル環上に置換基と
して低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェ
ニル低級アルキル基で置換されてもよいテトラゾール−
５−イル基であってはならない。またカルボスチリル骨
格の３位及び４位の炭素間結合が一重結合であり、R1が
水素原子であり且つ側鎖−Ｏ-Ａ-Ｒがカルボスチリル骨
格の６位に置換されている場合、Ｒは置換基として低級
アルキル基を有することのある１−ピリジル基又は置換
基として低級アルキルチオ基を有することのある窒素原
子を２〜５個有する複素環基であってはならない。また
側鎖−Ｏ-Ａ-Ｒがカルボスチリル骨格の５〜８位に置換
されている場合、Ｒは （Bdは、酸素原子又は硫黄原子を示す。R5′は水素原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、
無置換のフェニル低級アルキル基又は低級アルキルチオ
基）であってはならない。更にR1が水素原子であり且つ
側鎖−Ｏ-Ａ-Ｒがカルボスチリル骨格の５〜８位に置換
している場合、Ｒはイミダゾール環の２位に低級アルキ
ル基又はシクロアルキル基を有することのあるイミダゾ
ール−１−イル基であってはならない。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩からなる
群から選ばれた少なくとも１種のカルボスチリル誘導
体。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62060770A JPH0681752B2 (ja) | 1986-04-02 | 1987-03-16 | カルボスチリル誘導体 |
| DK167187A DK167187A (da) | 1986-04-02 | 1987-04-01 | Carbostyrilderivater og salte deraf, fremgangsmaade til fremstilling af saadanne forbindelser og laegemiddel indeholdende disse |
| KR1019870003141A KR940000785B1 (ko) | 1986-04-02 | 1987-04-02 | 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조 방법 |
| ES87104873T ES2068807T3 (es) | 1986-04-02 | 1987-04-02 | Derivados de carboestirilo, procedimiento para prepararlos, composicion farmaceutica, y uso. |
| EP87104873A EP0240015B1 (en) | 1986-04-02 | 1987-04-02 | Carbostyril derivatives, process for preparing them, pharmaceutical composition, and use |
| DE3750913T DE3750913T2 (de) | 1986-04-02 | 1987-04-02 | Karbostyrilderivate, Verfahren zu ihrer Herstellung, diese enthaltende pharmazeutische Zusammensetzungen und ihre Verwendung. |
| US07/232,524 US5008274A (en) | 1986-04-02 | 1988-08-16 | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical composition for inhibiting adhesion of thrombocytes |
| US07/958,489 US5434164A (en) | 1986-04-02 | 1992-10-08 | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical compositions for inhibiting adhesion of thrombocytes |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7608986 | 1986-04-02 | ||
| JP61-76089 | 1986-04-02 | ||
| JP62-43458 | 1987-02-25 | ||
| JP4345887 | 1987-02-25 | ||
| JP62060770A JPH0681752B2 (ja) | 1986-04-02 | 1987-03-16 | カルボスチリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS646271A JPS646271A (en) | 1989-01-10 |
| JPH0681752B2 true JPH0681752B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=27291551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62060770A Expired - Lifetime JPH0681752B2 (ja) | 1986-04-02 | 1987-03-16 | カルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0681752B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5307903A (en) * | 1988-01-29 | 1994-05-03 | Hitachi, Ltd. | Method and system of controlling elevators and method and apparatus of inputting requests to the control system |
| TW289019B (ja) * | 1993-05-19 | 1996-10-21 | Otsuka Pharma Co Ltd | |
| ATE477251T1 (de) * | 2002-08-23 | 2010-08-15 | Novartis Vaccines & Diagnostic | Pyrrolverbindungen als glykogen synthase kinase 3 inhibitoren |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5310989B2 (ja) * | 1974-04-25 | 1978-04-18 | ||
| JPS5430183A (en) * | 1977-08-10 | 1979-03-06 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | 3,4-dihydrocarbostyril derivative |
| JPS5535019A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-11 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyryl derivative |
| JPS5649378A (en) * | 1979-08-25 | 1981-05-02 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Tetrazolylalkoxycarbostyril derivative |
| JPS579780A (en) * | 1980-06-21 | 1982-01-19 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyril derivative |
| JPS57159778A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-01 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyril derivative |
| JPS57183761A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-12 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyril derivative |
-
1987
- 1987-03-16 JP JP62060770A patent/JPH0681752B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS646271A (en) | 1989-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0240015B1 (en) | Carbostyril derivatives, process for preparing them, pharmaceutical composition, and use | |
| EP1335915B1 (en) | Tetrahydrobenzazepine derivatives useful as modulators of dopamine d3 receptors (antipsychotic agents) | |
| JP4157178B2 (ja) | 複素環式−縮合ピリジン類 | |
| JPH054984A (ja) | カルボスチリル誘導体及びバソプレシン拮抗剤 | |
| WO2006030805A1 (ja) | トリアゾール誘導体またはその塩 | |
| EA021025B1 (ru) | Соединения, эффективные в качестве ингибиторов ксантиноксидазы, способ их получения и содержащая их фармацевтическая композиция | |
| JPH05140149A (ja) | 縮合複素環誘導体 | |
| CA2652852A1 (fr) | Derives d'urees de piperidine ou pyrrolidine, leur preparation et leur application en therapeutique | |
| RU2347781C2 (ru) | Производное пропан-1,3-диона или его соль | |
| KR20120081973A (ko) | 질소-함유 화합물 및 심방 세동의 치료를 위한 그의 제약 조성물 | |
| JP2007512313A (ja) | ５−ｈｔ４受容体アゴニスト活性を有するキノリンカルボン酸化合物 | |
| JP2002543079A (ja) | うつ病治療用のアザインドール誘導体 | |
| JPH06239858A (ja) | 末梢血管拡張剤 | |
| KR940000785B1 (ko) | 카르보스티릴 유도체 및 그의 염의 제조 방법 | |
| JPH06135946A (ja) | ピラジン誘導体 | |
| JPH0681752B2 (ja) | カルボスチリル誘導体 | |
| JPH0681727B2 (ja) | 血小板粘着抑制剤 | |
| SK104099A3 (en) | 2-amino substituted pyridines for use in the treatment of arteriosclerosis and hyperlipoproteinaemia | |
| JPH01160985A (ja) | ベンゾヘテロ環化合物 | |
| JPS6254308B2 (ja) | ||
| JPH01193275A (ja) | ベンゾヘテロ環化合物 | |
| JPH0696555B2 (ja) | カルボスチリル誘導体 | |
| AU2015224425B2 (en) | Fused benzoxazepinones as ion channel modulators | |
| JPS62240677A (ja) | カルボスチリル誘導体 | |
| JPH0114911B2 (ja) |