JPS62240677A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

カルボスチリル誘導体

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JPS62240677A
JPS62240677A JP6181986A JP6181986A JPS62240677A JP S62240677 A JPS62240677 A JP S62240677A JP 6181986 A JP6181986 A JP 6181986A JP 6181986 A JP6181986 A JP 6181986A JP S62240677 A JPS62240677 A JP S62240677A
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JP
Japan
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compound
reaction
acid
formula
sodium
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Pending
Application number
JP6181986A
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English (en)
Inventor
Minoru Uchida
内多 稔
Seiji Morita
清司 森田
Masatoshi Chihiro
正利 千尋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 先1よ立且ユ遣1 本発明は、新規なカルボスチリル誘導体に関する。
発明の開示 本発明のカルボスチリル誘導体は、文献未載の新規化合
物であって、下記一般式(1)で表わされる。
〔式中R1は水、素原子、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル低級アルキ
ル基、フェニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキ
ル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示
す。R2は水素原子、低級アルコキシ基又は低級アルキ
ル基を示す。R3は水素原子、低級アルコキシ基、ハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキル基、ハロゲン
原子又は低級アルカノイル基を示す。
A及びBは低級アルキレン基を示す。n及びQは同−又
は異なってO又は1の整数を示す。カルボスチリル骨格
の3.4位間の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示
す。
及びR2の置換位置はカルボスチリル骨格の3位、4位
、5位、6位、7位又は8位である。〕本発明の上記、
一般式(1)で表わされるカルボスチリル誘導体は、抗
潰瘍作用を有し、例えば胃潰瘍、十二指腸潰瘍等の消化
器系潰瘍の治療剤として有用である。
胃粘膜における塩酸産生は多くの薬理学的因子により調
節されているが、終局的には〔H+〕イオン産生の生化
学機序が律速段階となる。近年、胃の壁細胞においてH
÷とに÷で活性化される性質を有するA T P as
sが酸産生をつかさどっていることが見い出された。こ
の酵素は胃壁細胞に特異的に存在する酵素でプロトンポ
ンプのキー酵素の役割を果しており、この酵素の阻害剤
は有用な酸分泌抑制剤となりうる。本発明の化合物は、
特に酸分泌抑制作用及び細胞保護作用の両面を有し、攻
撃因子と防御因子の両面から潰瘍因子を抑制し、しかも
毒性が少なく、酸分泌抑制作用の持続時間が長いという
特徴を有している。
本明細書において、低級アルキル基としては炭素数1〜
6の1繭又は分枝鎖アルキル基、例えばメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペン
チル、ヘキシル基等が挙げられる。
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、ブOポキシ、イソブトキシ、ブトキシ、イソブトキシ
、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、弗素、塩素、臭素及び沃素原子
を挙げることができる。
ハロゲン原子で置換されていることのある囲板アルキル
基としては、例えば上記炭素数1〜6のアルキル基に加
えて、トリフルオロメチル、2゜2−ジフルオロエチル
、1,1−ジクロロエチル、トリクロロメタル、ジクロ
ロメチル、トリブロモメチル、2.2.2−トリフルオ
ロエチル、2゜2.2−トリクロロメタル、2−クロロ
エチル、1.2−ジクロルエチル、3.3.3−トリク
ロロプロピル、3−フルオロプロピル、4−クロロブチ
ル、3−クロロ−2−メチルエチル基等のハロゲン原子
を1〜3個有することのある炭素数1〜6のアルキル基
を挙げることができる。
低級アルカノイル基としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノ
イル、ヘキサノイル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖アルカノイル基を挙げることができる。
低級アルキレン基としては、例えばメヂレン、エチレン
、トリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、2
−メチルトリメチレン、2.2−ジメチルトリメチレン
、1−メチルトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメ
チレン、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖アルキレン基が挙げられる。
低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、2−ブテ
ニル、63−ブテニル、2−メチルアリル、2−ペンテ
ニル、2−へキセニル基等の炭素数2〜6の直鎖又は分
枝鎖アルケニル基を例示できる。
低級アルキニル基としては、エチニル、プロピニル、2
−ブチニル、3−ブチニル、2−ペンチニル、2−ヘキ
シニル、1−ブチニル基等の炭素数2〜6の直鎖又は分
枝鎖アルキニル基を例示できる。
シクロアルキル低級アルキル基としては、シクロプロピ
ルメチル、4−シクロへキシルブチル、2−シクロペン
チルエチル、シクロへキシルメチル、2−シクロペンチ
ルプロピル、3−シクロへキシルプロピル、シクロペン
チルメチル、2−シクロヘキシルエチル、3−シクロへ
ブチルプロピル、2−シクロへブチルエチル、3−シク
ロブチルプロビル、1.1−ジメチル−2−シクロヘキ
シルメチル、1−メチル−2−シクロペンチルエチル、
2−シクロオクチルエチル、5−シクロヘキシルペンチ
ル、6−シクロへキシルヘキシル基等のシクロアルキル
部分の炭素数が3〜8のシクロアルキル基であって、ア
ルキル部分の炭素数が1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキル
基であるシクロアルキルアルキル基を例示できる。
カルボキシ低級アルキル基としては、カルボキシメチル
、2−カルボキシエチル、1−カルボキシエチル、3−
カルボキシプロピル シブチル キシヘキシル キシエチル、2−メチル−3−カルボキシエチル基等の
カルボキシル基が置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖アルキル基を例示できる。
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、メ
トキシカルボニルメチル、3−メトキシカルボニルプロ
ピル チル、6−ブOボキシカルポニルヘキシル、5−イソプ
ロポキシカルボニルベンチル、1.1−ジメチル−2−
ブトキシカルボニルエチルチル−3 − tert−ブ
トキシカルボニルプロビル2−ペンチルオキシカルボニ
ルエチルへキシルオキシカルボニルエチル、エトキシカ
ルボニルメチル基等のアルコキシ基が炭素数1〜6の直
鎖又は分枝鎖状アルコキシであり且つアルキル基が炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキル基であるアルコキシ
カルボニルアルキル基を例示できる。
フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、2−フェ
ニルエチル、1−フェニルエチル、3−フェニルプロピ
ル、4−フェニルブチル、1,1−ジメチル−2−フェ
ニルエチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキ
シル、2−メチル−3−フェニルプロピル基等のアルキ
ル部分の炭素数が1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキル基で
あるフェニルアルキル基を例示できる。
びR2は、カルボスチリル骨格の3.4.5.6。
7及び8位のいずれの位置でもよい。
本発明の化合物は種々の方法で製造されるが例えば、下
記反応式に示される方法で[1することができる。
〔反応式−1〕 電 R鵞 R曹 (1a) 〔式中R’ 、R2,R3、A、B、n及び力/L、、
Icスチリル骨格の3,4位間の結合は前記に同じ。
XI及び×2は、それぞれメルカプト基、ハロゲン原子
、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニ
ルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示ず。
但し、×1がメルカプト基を示す場合には、×2はハロ
ゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリール
スルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基
を示し、x2がメルカプト基を示す場合には、×1はハ
ロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリー
ルスルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ
基を示す。〕一般式(2)及び(3)において、×1及
び/又はx2で示されるハロゲン原子は弗素、塩素、臭
素及び沃素原子が例示でき、低級アルカンスルホニルオ
キシ基としては具体的にはメタンスルホニルオキシ、エ
タンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキシ
、プロパンスルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ
、tert−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンスルホ
ニルオキシ、ヘキサンスルホニルオキシ基等を例示でき
、またアリールスルホニルオキシ基としては具体的には
フェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスルホ
ニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、4
−ニドOフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフェ
ニルスルホニルオキシ、3−クロロフェニルスルホニル
オキシ、α−ナフチルスルホニルオキシ基等の買換又は
未置換のアリールスルホニルオキシ基を例示でき、また
アラルキルスルホニルオキシ基としては具体的にはベン
ジルスルホニルオキシ、2−フェニルブチルスルホニル
オキシ、4−フェニルブチルスルホニルオキシ、4−メ
チルベンジルスルホニルオキシ、2−メチルベンジルス
ルホニルオキシ、4−ニトロベンジルスルホニルオキシ
、4−メトキシベンジルスルホニルオキシ、3−クロロ
ベンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチルスルホ
ニルオキシ基等の置換又は未置換のアラルキルスルホニ
ルオキシ基を例示できる。
一般式(2)の化合物と一般式(3)の化合物の反応は
、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下に行なうことが
できる。使用される溶媒としては反応に影響を与えない
ものであればい′ずれも使用可能であり、例えば水、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のア
ルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類
、アセトン等のケトン類、メチルアセテート、エチルア
セテート等のエステル類、N、N−ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)又は
ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等又はそれ
らの混合溶媒を例示できる。使用される塩基性化合物と
しては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、金
属ナトリウム、金属カリウム等のアルカリ金属、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラー
ド類、トリエチルアミン、ピリジン、N、N−ジメチル
アミノピリジン、N−メチルモルホリン、1.5−ジア
ザビシクロ(4,3,0)ノネン−5(DBN)、1.
8−ジアザビシクロ(5,4,O)ウンデセン−7(D
BU)、1゜4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタ
ン(DABCO)等の有機塩基を例示できる。該反応は
、通常O〜150℃、好ましくは0〜100℃付近にて
行なわれ、1〜10時間程瓜で終了する。一般式(3)
の化合物の使用量としては、一般式(2)の化合物に対
して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル−1,5
倍モル量使用するのがよい。
〔反応式−2〕 (2a)            H (3a) (1a) (式中R1、R2、R’ 、A、B、n及びカルボスチ
リル骨格の3.4位の結合は前記に同じ。
×3及び×4はそれぞれハロゲン原子を示ず。)一般式
(2a)の化合物とチオエレア(4)との反応は、溶媒
の存在下又は無溶媒にて行なわれる。使用される溶媒と
しては、例えばメタノール、エタノール、プロパツール
等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコール七ツメチルエー
テル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、DMF、DMSO,HMPA等を例示でき
る。チオウレア(4)の使用量としては、一般式(2a
)の化合物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは
等モル−2倍モル退程度使用するのがよい。また、該反
応は、通常室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃
程度にて、1〜5時間程度で終了する。
上記反応で得られた中間体と一般式(3a)の化合物と
の反応は通常縮合剤の存在下に行なわれる。縮合剤とし
ては、通常塩基性化合物が用いられる。塩基性化合物と
しては公知のものを広く使用でき、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の
無機塩基、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
ラード、トリエチルアミン、ピリジン、N。
N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジ
メチルアミノピリジン、DBN、DBLI。
DABGO等の有機塩基が挙げられる。該反応は無溶媒
でも、溶媒の存在下でも行なわれ、溶媒としては反応に
悪影響を与えない不活性なものがすべて用いられ、例え
ば水、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノ
ール、エチレングリコール等のアルコール類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグラ
イム、ジグライム等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル類、DMF、DMSO,I−IMPA等の非プ
ロトン性極性溶媒又はそれらの混合溶媒等が挙げられる
。また、該反応は沃化ナトリウム、沃化カリウム等の金
属沃化物の存在下に行なうのが有利である。上記方法に
おける化合物(2a)に対する化合物(3a)の使用割
合は特に限定されず、広範囲の中から適宜選択されるが
、通常前者に対して後者を0.5〜5倍モル程度、好ま
しくは0.5〜2倍モル量用いるのが望ましい、。また
その反応温度も特に限定されないが、通常−30〜20
0℃程度、好ましくは0〜160℃とされ、反応は通常
1〜30RIm程度で完結する。
〔反応式−3〕 (5)          R1 (1a) 〔式中R’ 、R2、R3、A、8.n及びカルボスチ
リル骨格の3.4位の結合は前記に同じ。〕一般式(5
)の化合物と一般式(6)の化合物との反応は、適当な
酸の存在下、無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なうこと
かできる。ここで使用される溶媒としては、例えば前記
の反応式−2における一般式(2a)の化合物一般式(
4)の化合物との反応で生成する化合物と一般式(3a
)の化合物との反応で用いた溶媒を例示することができ
る。また、使用される酸としては、塩酸、硫酸、臭化水
素酸等の鉱酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸等を例示できる。
一般式(6)の化合物の使用量としては、一般式(5)
の化合物に対して通常少なくとも等モルΩ、好ましくは
等モル〜1.5倍モル■とするのがよい。また、該反応
は、通常室温〜150℃、好ましくは50〜120℃付
近にて行なわれ、10分〜5時間程瓜で反応は終了する
〔反応式−4〕 (1a) ↓ (1b) (式中R1、R2、R3、A、B、n及びカルボスチリ
ル骨格の3.4位の結合は前記に同じ。〕一般式(1a
)の化合物の酸化反応は、適当な溶媒中、酸化剤の存在
下に行なわれる。使用される溶媒としては、反応に影響
を与えないものであればいずれも使用可能であり、例え
ば水、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有III酸、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の
アルコール類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類等を例示できる。酸
化剤としては、通常スルフィド基をスルホキシド基に酸
化する酸化剤はいずれも使用可能であり、例えば、過ギ
酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、m−ク
ロロ過安息香酸、〇−力ルボキシ過安、息香酸等の過酸
、過酸化水素、クロム酸、クロム酸ナトリウム、クロム
酸カリウム等のクロム酸塩、過マンガン酸、過マンガン
酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガンF
l!i塩、メタ過ヨウ素酸ナトリウム等のヨウ素酸塩、
二酸化セレン等のセレン化合物等を例示できる。
酸化剤の使用量としては、通常一般式(1a)の化合物
に対して少なくとも等モル、好ましくは等モル−1,5
倍モル量使用するのがよい。該反応は、通常−70〜4
0℃、好ましくは一り0℃〜掌温付近にて好適に進行し
、一般に5分〜3時間程痕で終了する。
〔反応式−5〕 (1C) 〔式中R1、R2、R3、B、n及びカルボスチリル骨
格の3.4位の結合は前記に同じ。A′は低級アルキレ
ン基を示す。mはO又は1を示す。R4及びR5はハロ
ゲン原子又は基−C82M(式中Mはナトリウム、カリ
ウム及びリチウムからなる群より選ばれた金属を示す)
を示す。但し、R4が基−CH2−Mを示す場合には、
R5はハロゲン原子を示し、RAがハロゲン原子を示す
場合には、R5はi−CH2−Mを示すものとする。〕 一般式(1C)で表わされる本発明化合物は、一般式(
7)の化合物と一般式(8)の化合物とを適当な溶媒中
で反応させることにより得られる。
ここで使用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類等又はそれらの混合溶媒が例示でき
る。一般式(8)の化合物の使用量は一般式(7)の化
合物に対して、通常少な(とも等モル量、好ましくは等
モル〜1.5倍モルmとするのがよい。該反応は、通常
空温〜150℃、好ましくは室温〜120℃付近にて行
なわれ、1〜5時間程度で終了する。
〔反応式−6〕 (1d) R1′ (1e) 〔式中R2、R3、A、8、n、Q及び力/L、 、K
 スチリル骨格の3.4位の結合は前記に同じ。
PIFは水素原子以外の前記R1を示す。〕上記化合物
(1d)のアルキル化反応は、例えば水素化ナトリウム
、水素化カリウム、金属カリウム、金属ナトリウム、ナ
トリウムアミド、カリウムアミド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の塩基性化合物の
存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。用いられる溶媒
としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素
類、DMF、DMSO,HMPA、アンモニア水等又は
それらの混合溶媒が挙げられる。アルキル化剤としては
、一般式R” X5 (R” は前記に同じ。、×5は
ハロゲン原子)のハロゲン化アルキル、ジメチル硫酸、
ジエチル硫酸等のジアルキル硫酸、ベンジルp−トルエ
ンスルホネート、メチルp−トルエンスルホネート等の
トルエンスルホネート類等が挙げられ、その使用割合は
特に限定されないが、通常化合物(1d)に対し少なく
とも等モル、好ましくは等モル−2倍モルである。該反
応は通常O〜150℃程度、好ましくはO℃〜100℃
付近で行なわれ、一般に30分〜12時間程度で終了す
る。該反応において、−8→(0)12基のα位のアル
キレン基やイミダゾール環の1位又は3位にアルキル化
されることがあるが、この化合物は容易に分離し得る。
〔反応式−7〕 (1f) (1g) 〔式中、R’ 、R2、R3、A、B、n及びQは前記
に同じ。〕 上記の化合物(1f)を脱水素して化合物(1q)に導
く反応は適当な溶媒中で脱水門剤で処理して行なわれる
。脱水素剤としては、例えば2.3−ジクロロ−5,6
−ジシアツベンゾキノン、2,3.5.6−チトラクロ
Oベンゾキノン(一般名りOラニル)等のベンゾキノジ
類、N−プロミコハク酸イミド、N−り00コハク酸イ
ミド、臭素等のハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウ
ム炭素、パラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケ
ル等の脱水素化触媒が挙げられる。その脱水素剤の使用
量は特に制限されないが、ハロゲン化剤の場合には、通
常、化合物(1f)に対し1〜5倍モル、好ましくは1
〜2倍モル用いるのがよく、脱水素化触媒の場合には一
般に過剰量用いるのがよい。他の脱水素剤の場合にも通
常等モル〜過剰量用いる。溶媒としては、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、メトキシエタノール、ジメトキシ
エタン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノ
ール等のアルコール類、酢酸等の極性プロトン溶媒、D
MFlDMSOlHMPA等の非プロトン性極性溶媒等
が挙げられる。該反応は通常室温〜300℃、好ましく
は室温〜200℃で行なわれ、一般に1〜40時間程時
間路了する。
また化合物(19)を還元すれば化合物(1f)に導く
ことができ、この還元反応は通常の接触還元における条
件が適用され、例えば適当な溶媒中で金属触媒の存在下
に行なわれる。触媒としてはパラジウム、パラジウム炭
素、プラチナ、ラネーニッケル等の金属触媒が挙げられ
、通常の触ts量にて用いられる。用いられる溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、
シクロヘキサン、酢酸エチル又はこれらの混合溶媒が挙
げられる。該反応は常圧及び加圧下のいずれでも行ない
得るが、通常、常圧〜20 k<1/ cm2、好まし
くは常圧〜10 k!II/ cs2にて、0〜150
℃、好ましくは室温〜100℃で行なわれる。
尚、本発明の化合物(1)のうち、R1が水素原子であ
り且つカルボスチリル骨格の3,4位間の結合が二重結
合である化合物は下記の式で示される様にラクタムーラ
クチム型の互変異性を採り得る。
+1 (式中R2、R3,A、B、n及びQは前記に同じ。) 〔反応式−8〕 〔式中R1、R2、A′、m%x3及ヒカルホスチリル
骨格の3.4位間の結合は前記に同じ。
上記反応式−8において、化合物(9)と化合物(10
)との反応は、通常のエステル化反応の反応条件がいず
れも採用され、例えば(1)rRI中鋭中剤水剤在下に
脱水縮合させるか、(2)酸性又は塩基性触媒の存在下
に適当な溶媒中で反応させる。
(1)の方法で使用される溶媒としては、例えば塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン等のエーテル類、DMF、DMSO,
HMPA等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。ま
た脱水剤としては、例えばジシクロへキシルカルボジイ
ミド、カルボニルジイミダゾール等が例示できる。
化合物(9)に対するアルコール(10)の使用割合は
少なくとも等モル、好ましくは等モル〜1.5倍モルで
ある。脱水剤の使用割合は化合物(9)に対して少なく
とも等モル、好ましくは省モル〜1.5倍モルである。
反応温度は通常室温〜150’C1好ましくは50〜1
00℃であり、該反応は一般に1〜10時間で終了する
(2)の方法で用いられる酸性触媒としては、例えば塩
酸ガス、濃硫酸、リン酸、ポリリン酸、三フッ化ホウ素
、過塩素酸等の無機酸、トリフ0口酢酸、トリノ、ロロ
メタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、p−トシル
酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有機酸
、トリフロロメタンスルホン酸無水物、トリフロロメタ
ンスルホン酸無水物等の酸無水物、塩化チオニル、アセ
1−ンジメチルアセタール等が例示できる。更に酸性イ
オン交換樹脂も本発明の触媒として用いることができる
。塩基性触媒としては公知のものを広く使用でき、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸銀等の無機塩基、ナトリウムメチラート、ナ
トリウム1チラート等のアルコラードが挙げられる。本
反応は無溶媒若しくは溶媒中のいずれでも進行する。用
いられる溶媒としては、通常のエステル化反応に使用さ
れる溶媒が有効に使用でき、具体的にはベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン
、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭車等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル等のエーテル類が挙げられる。更に上記反応は無水
塩化カルシウム、無水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五
酸化リン等の乾燥剤の使用により有利に行なわれる。該
反応における化合物(9)とアルコール(10)との使
用割合は特に限定されず広い範囲から適宜選択できるが
、無溶媒の場合は前者に対して後者を大過剰に用い、溶
媒を用いる場合には前者に対して後者を等モル−5倍モ
ル、好ましくは笠モル〜2倍モル用いる。反応温度は特
に限定されないが、通常−20〜200℃程度、好まし
くはO〜150℃程度であり、反応時間は通常1〜20
時間程度である。
上記エステル化により得られた化合物(11)を還元し
て対応する化合物(12)に導くことができる。尚この
化合物(12)は化合物(9)を直接還元しても得られ
る。これらの還元反応は、通常水素化還元剤を用いて行
なわれる。水素化還元剤としては、例えば水素化硼素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウム、ジボラン等が
挙げられ、その使用mは、通常化合物(9)又は(11
)に対して少なくとも等モル程度、好ましくは等モル−
3倍モルの範囲である。水素化還元剤として水素化アル
ミニウムリチウムを用いた場合には、化合物(9)又は
(11)と等ff1ffi用いるのが好都合である。こ
の還元反応は、通常適当な溶媒、例えば水、メタノール
、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコール類
、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジグライム等
のエーテル類等を用い、約−60〜50℃、好ましくは
一り0℃〜室温にて、約10分間〜5時開路度で行なわ
れる。尚、還元剤として水素化アルミニウムリチウムや
ジポランを用いた場合にはエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジグライム等の無水の溶媒を用いるのがよい
化合物(12)をハロゲン化して化合物(2a)に導く
反応は、通常の水酸基のハロゲン化反応における反応条
件がいずれも採用され、例えば、適当な不活性溶媒中又
は無溶媒にて化合物(12)にハロゲン化剤を反応させ
て行なう。用いられるハロゲン化剤としては、例えば塩
酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、N、N−ジエチ
ル−1゜2.2−トリクロルビニルアミド、五塩化リン
、五臭化リン、オキシ塩化リン、チオニルクロリド等が
挙げられる。不活性溶媒としては、例えばジオキサン、
テトラヒドロフラン等のニーデル類、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等が
挙げられる。化合物(12)とハロゲン化剤との使用割
合は、前者に対して後者を少なくとも等モル、通常は過
剰量である。該反応は、通常室温〜150℃程度、好ま
しくは室温〜80℃にて、1〜6時間程開路なわれる。
前記反応式−8における出発物質のカルボン酸化合物(
9)及びそのエステル化合物(11)も一部公知で新規
化合物も含み、例えば下記反応式−9〜13で示される
方法により製造できる。
〔反応式−9〕 (9a) 〔式中R2は前記に同じ。R7は水素原子又は低級アル
キル基を示す。〕 上記反応式−9において、化合物(13)のニトロ基の
還元反応には通常のニトロ基の還元反応条件がいずれも
採用され、例えば(1)適当な溶媒中接触還元触媒を用
いて還元するが、(2)適当な不活性溶媒中、金属又は
金属塩と酸、あるいは金属又は金属塩とアルカリ金属水
酸化物、硫化物又はアン上ニア塩等との混合物を還元剤
として用いて還元することにより行なわれる。
(1)の接触還元による場合、用いられるwJa!とじ
ては、例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、イソ
プロパツール、ブタノール、エチレングリコール等のア
ルコール類、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭
化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、D
MF等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。接触還
元触媒としては、例えばパラジウム、パラジウム黒、パ
ラジウム炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネー
ニッケル等が挙げられる。これら触媒の使用量は、化合
物(13)に対して0.02〜1.00倍(重量)用い
るのがよい。反応は通常−20〜150℃、好ましくは
室温付近、水素圧1〜10気圧で30分〜10時間開路
行なわれる。
(2)方法を用いる場合には、還元剤とし°C鉄、亜鉛
、錫又は塩化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸との組合せ、
鉄、硫酸第一鉄、亜鉛又は錫と水酸化ナトリウム等のア
ルカリ金属酸化物、硫化アンモニウム等の硫化物、アン
モニア水、塩化アンモニウム等のアンモニウム塩等との
組合せが用いられる。使用される不活性溶媒としては、
例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、ジオキサン
等が挙げられる。反応温度、時間は用いられる触媒の種
類により適宜選択され、例えば硫酸第一鉄とアンモニア
水との組合せの場合には50〜150℃付近で30分〜
10時間開路で有利に行なわれる。
還元剤の使用量は、通常、化合物(13)に対して少な
くとも等モル、好ましくは等モル−5倍モルである。
化合物(14)と化合物(15)との反応は、塩基性化
合物の存在下、適当な溶媒中で行なうことができる。塩
基性化合物としては例えば水酸化ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化
ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート等の無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン、α−
ピコリン、N、N−ジメチルアニリン、N−メチルモル
ホリン、ピペリジン、ピロリジン等のアミン類等の広範
囲のものが用いられる。溶媒としてはジオキサン、テト
ラヒドロフラン、グライム、ジグライム等のエーテル類
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコール
類、DMFlDMSO等の極性溶媒が挙げられる。反応
は室温〜150℃、好ましくは60〜120℃にて1〜
24時間程度開路われる。化合物(14)と化合物(1
5)の使用割合は特に制限されないが、通常前者に対し
て後者を等モル−過剰量、好ましくは等モル−5倍モル
用いるのがよい。
〔反応式−10〕 0R8 (16)          (17)       
   (9b)〔式中R2は前記に同じ。R8は低級ア
ルキル基を示す〕 上記の反応は、化合物(16) をR8C0X5又は(
R’C0)20(式中X5及びR8は前記に同じ。)と
反応させて、化合物(17)にし、次いで化合物(17
)を加水分解することにより化合物(9b)を得ること
ができる。一般式%式%) の反応は塩基性化合物の存在下又は非存在下に行なわれ
る。使用される塩基性化合物としては例えば金属ナトリ
ウム、金属カリウム等のアルカリ金属及びこれらアルカ
リ金属の水酸化物、炭酸塩、I炭酸塩あるいはピリジン
、ピペリ′ジン等の芳香族アミン化合物等が挙げられる
。該反応は無溶媒もしくは溶媒中のいずれでも進行する
。溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、エーテル、ジオキサン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化炭化水素類
、水、ピリジン等が挙げられる。
R’ C0X5又は(R’ Co)20(7)化合物の
使用mとしては、一般式(16)の化合物に対して少な
くとも等モル用いられるが、一般には等モル−大過剰量
用いるのがよい。また該反応は、0〜200℃で進行す
るが、一般には0〜150℃で行なうのがよい。反応時
間は、0.5〜10時間程時間路了する。
一般式(17)の化合物の加水分解反応は、水溶液中加
水分解触媒、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム
等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム等の無機アルカリ化合物の存
在下に、通常50〜150℃、好ましくは70〜100
℃にて0.5〜10時間程時間熱して行なわれる。
〔反応式−11〕 (9C)              (9d)〔式中
R1、R2、R6、x5、A′、m及びカルボスチリル
骨格の3.4位の結合は前記に同じ。R9は芳fh h
Xアミン残基を示す〕上記反応式−11において、化合
物(18)と芳香族アミン(19)との反応は、適当な
溶媒中又は無溶媒下に行なわれる。溶媒としては反応に
悪影響を与えない不活性のものがすべて用いられ、例え
ばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロメタン、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等
のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール、ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル類、DMF、DMSO,HMPA等
の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等が挙げられ
る。芳香族アミンとしては、ピリジン、キノリン等が例
示できる。該芳香族アミンの使用量としては、化合物(
18)に対して少なくとも等モル、好ましくは大過剰m
で用いる。反応温度は50〜200℃、好ましくは70
〜150℃であり、3〜10時間程度開路応は終了する
得られた化合物(20)の加水分解は、水中、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのような無機塩基の存在下に
空温〜150℃にて1〜10時間程度開路して行なわれ
る。
また化合物(20)の化合物(1o)によるエステル化
は塩基性化合物の存在下、溶媒中又は無溶媒にて反応さ
せることにより行なわれる。使用される溶媒としては、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、DMF、DMSOlHMPA等の非プロトン性極
性溶媒等を例示できる。使用される塩基性触媒としては
、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジ
メチルアミノピリジン、DBN、DBtJ、DABCO
等の有機塩基及び炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基等を例
示できる。
ここで使用される塩基性化合物の使用量としては、一般
式(20)の化合物に対して少なくとも等モル、好まし
くは1〜1.5倍モル量使用するのがよい。一般式(1
0)の化合物は、一般式(20)の化合物に対して少な
くとも等モル、通常大過剰量で使用するのがよい。反応
温度は、通常室温〜150℃、好ましくは50〜100
℃付近であり、該反応は一般に30〜10時間で終了す
る。
〔反応式−12〕 (25)             (9e)〔式中R
7及びX5は前記に同じ。x6は水素原子又はハロゲン
原子を示す〕 上記反応式−12において、化合物(21)と化合物(
22)又は(23)との反応は、一般にフリーデルクラ
フッ反応と呼ばれるものであり、通常適当な溶媒中、ル
イス酸の存在下に行なわれる。用いられる溶媒としては
この種の反応に通常使用されるものが有利に用いられ、
例えば二硫化炭素、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、
四塩化炭素等が挙げられる。ルイス酸としても通常用い
られるものがすべて使用され、例えば塩化アルミニウム
、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化ホウ素、三フッ化
ホウ素、濃硫酸等が挙げられる。ルイス酸の使用量は適
宜決定されうるが、通常化合物(21)に対して2〜6
倍モル程度、好ましくは3〜4倍モルであり、化合物(
22)又は(23)の使用量は、化合物(21)に対し
て通常少なくとも等モル、好ましくは等モルへ3倍モル
である。反応温度は通常−50〜120℃程度、好まし
くは0〜70℃であり、また反応時間は用いる原料、触
媒、反応温度等によっても只なるが、通常30分〜24
時間開路である。
得られた化合物(24)のニトロ化は、通常の芳香族化
合物のニトロ化反応と同様の条件下に行なわれ、例えば
適当な不活性溶媒中又は無溶媒下にニトロ化剤を作用さ
せて行なう。不活性溶媒としては、例えば酢酸、無水酢
酸、濃硫酸等が挙げられ、またニトロ化剤としては、例
えば発煙硝酸、濃硫酸、硝酸と他の1(硫酸、発煙硫酸
、リン酸、無水酢酸)との混酸、硝酸カリウム、硝酸ナ
トリウム等のアルカリ金属硝酸塩とIii!!酸等の鉱
酸との混合物等が挙げられる。該ニトロ化剤の使用量は
化合物(24)に対して等モル以上、通常過剰ωであり
、反応温度は一り0℃〜室温付近が好ましく、5分〜4
時間反応される。
得られた化合物(25)は還元、閉環により化合物(9
e)に導かれる。この反応は前記反応式−9における化
合物(13)の還元反応条件と同様の条件下に行なわれ
るが、(1)の接触還元方法を用いる場合は、反応温度
は好ましくは0〜50℃であり、また反応系内に水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基性化合物を存在さ
せることにより反応が有利に進行する。更に(2)の方
法を用いる場合には、通常−50〜100℃において反
応は進行し、0.5〜10時間程度開路応は終了する。
例えば塩化第1錫と塩酸とを還元剤として用いる場合、
有利には一20〜50℃付近にて反応を行なうのがよい
。還元剤の使用量としては、原料化合物に対して少なく
とも等モルm、通常は等モル−3倍モルm用いるのがよ
い。上記の方法によりニトロ基の還元と同時に閉環して
化合物(9e)が得られる。但し、(1)の接触還元触
媒を用いる場合にはカルボニル基も還元されてメチレン
に変換される場合もあるが、反応条件を適当に選択する
ことによりそのような変換は避けられる。
〔反応式−13〕 (2B)             (9f)〔式中R
2、R7及び×5は前記に同じ RIOは低級アルキル
基を示す〕 上記反応式において化合物(26)と(27)との反応
は、通常脱ハロゲン化水素剤の存在下又(メ不存在下に
適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水素剤として
は通常塩基性化合物が用いられ、例えばトリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、
DBNlDBU、DABCO等の有様塩基、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラ
ート、ナトリウムエチラート等のアルカリ金属アルコラ
ード等が挙げられる。尚反応化合物の化合物(27)を
過剰mmいて脱ハロゲン化水素剤としで兼用させること
もできる。溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロルエタン等のハロゲン化炭索類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のニス7 )Lt m
、DMF、DMSO,HMPA等の非プロトン性極性溶
媒、ピリジン、アセトン、アセトニトリル、更にメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ等のアルコール類、ピリジン、アセトン、アセ
トニトリル等、又はそれらの2種以上のd合溶媒が挙げ
られる。化合物(26)と化合物(27)との使用割合
としては、特に限定されず広範囲に選択されるが、通常
前者に対して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モ
ル−5倍モル用いられる。
反応温度は通常−30〜180℃程度、好ましくは約0
〜150℃であり、一般に5分〜30時間で反応は完結
する。
化合物(28)の閉環反応は、適当な溶媒中又は無溶媒
下に酸の存在下に行なわれる。酸としては特に限定され
ず通常の有機酸又は無機酸が用いられ、例えば塩酸、臭
化水素酸、硫酸等の無機酸、塩化アルミニウム、三フッ
化ホウ素、四塩化チタン等のルイス類、ギ酸、酢酸、エ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の有m酸が
挙げられる。
これらのうら、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が好
ましい。酸の使用mは特に限定されず、通常化合物(2
8)に対して少なくとも等量】、好ましくは10〜50
倍重量である。また溶媒としては通常の不活性溶媒が用
いられ、例えば水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール等の低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒト0
7ラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、タロ0ホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、DM
F、DMSO,HMPA等の非プロトン性極性溶媒等が
挙げられる。これらのうち、低級アルコール類、エーテ
ル類、アセトン、DMF。
DMSO,HMPA等の水溶性溶媒が好ましい。
該反応は通常0〜100℃、好ましくは室温〜60℃で
行なわれ、通常5分〜6時間程度開路了する。
尚、該化合物(9)〜(9f)及び(11)は、前記反
応式−6に示されるN−アルキル化方法並びに反応式−
7に示される脱水素反応又は還元反応を利用する方法等
により、同様に対応する他の式(9)〜(9で)及び(
11)の化合物に導くこともできる。
更に、前記反応式−8における中間体である化合物(1
2)及び化合物(2a)並びに前記反応式−11におけ
る出発物質である化合物(18)等は、下記反応式−1
4又は15に示される方法によっても製造される。
〔反応式−14〕 1      (X’ CH2Co) 20 (23)
(18a)          (18b)〔式中R1
、X5 、X6及びカルボスチリル骨格の3.4位の結
合は前記と同じ。〕 上記の化合物(29)と化合物(22)又は(23)と
の反応は、前記反応式−12における化合物(21)と
化合物(22)又は(23)との反応と同様の条件下に
行なわれる。但し、反応温度は通常20〜120℃、好
ましくは40〜70℃程度であり、反応時間は原料、触
媒、反応温度により異なるが、通常30分〜24時間開
路である。
(反応式−15) 〔式中RI、R2、A′、m及びカルボスチリル骨格の
3,4位の結合は前記に同じ。R11はり す〕 上記反応式−15において化合物(30)を還元して化
合物(31)に導く反応は、通常水素化還元剤を用いて
行なわれる。その水素化還元剤としては、例えば水素化
ジイソブチルアルミニウム等のジアルキルアルミニウム
類、リチウムトリを一ブチルアルミニウムハイドライド (L 1A12 H(0−t−Bu)3) 、ソシ’7
ムフルミニウムハイドライド等のアルミニウムハイドラ
イド金属塩等を例示できる。その水素化還元剤の使用量
としては、通常化合物(30)に対して少なくとも等モ
ル程度、好ましくは等モル−3倍モルの範囲である。こ
の還元反応は、通常適当な溶媒、例えばn−ヘキサン、
n−オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレ
ン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、テトラヒト07ラ
ン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル類等を
用い、約−75〜50℃、好ましくは一75〜室温にて
、約10分間〜10時開路度で行なわれる。
尚、還元剤として、アルミニウムハイドライド金属塩等
を用いた場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等の無水の溶媒を用いるのが良い。ま
た上記反応は、通常、適当な還元触媒の存在下に接触還
元することによっても行なわれる。用いられる還元触媒
としては、例えば白金、酸化白金、パラジウム黒、パラ
ジウム炭素、ラネーニッケル等の通常の接触還元用触媒
が含まれ、その使用量は、化合物(30)に対し通常約
0.2〜0.5倍重量の範囲である。この接触還元は、
例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツール
、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の溶媒中、1
〜10気圧、好ましくは1〜3気圧の水素雰囲気中、−
30℃〜溶媒の沸点温度、好ましくはO℃〜室温付近に
て、よく振り混ぜることにより行なわれる。
化合物(31)を更に還元して化合物(12)に導く方
法は、種々の方法があるが、例えば水素化還元剤を用い
る還元法が好適に利用される。用いられる水素化還元剤
としては、例えば水素化アルミニウムナトリウム、水素
化トリーtert−ブトキシアルミニウムリチウム、水
素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化(1,1−ジメチル−1−ジイソプロピルメ
チル)ホ ウ 素 ((f     0 3  Hz 
  )(CHa   )  2  0B  ト12  
〕等が挙げられ、その使用量は、通常、化合物(31)
に対して等重量である。この還元反応は、例えばジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等の適当
な溶媒中、通常、−60〜50℃程度、好ましくは一り
0℃〜室温にて行なわれ、10分間〜5時間で終了する
。水素化ホウ素ナトリウムを還元剤として用いる場合に
は、通常化合物(31)に対して少なくとも等モル、好
ましくは等モル−5倍モル通使用するのがよく、溶媒と
しても上記溶媒以外に水、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール等のアルコール類を使用してもよい。
反応式−15における化合物(31)は、例えば下記反
応式−16に示す方法で製造できる。
〔反応式−16〕 2H (31a> 〔式中R2は前記に同じ。〕 上記反応式−16中、化合物(32)を閉環させて化合
物(33)に導く反応は、N、N−置換ホルムアミドと
酸触媒(一般にヴイルスマイヤー試薬と呼ばれる)の存
在下に適当な溶媒中又は溶媒の非存在下に行なわれる。
ここで使用されるN。
N−E換ホルムアミドとしては、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N−エチル
−N−メチルホルムアミド、N−メチル−N−フェニル
ホルムアミド等を例示できる。
酸触媒としては、オキシ塩化リン、チオニルクロライド
、フォスゲン等を例示できる。使用される溶媒としては
、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、1,2−ジ
クロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類、クロロベン
ゼン、1.2−ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類
等を例示できる。
N、N−置換ホルムアミドと酸触媒の使用量としては、
一般式(32)の化合物に対して通常大過剰量、好まし
くは前者は2〜5倍モル、後者は5〜10倍モルm使用
するのがよい。反応温度は通常O〜150℃、好ましく
は50〜100℃付近で行なうのがよい。反応は3〜2
4時間程時間綿了する。
また化合物(33)から化合物(31a)を得る反応は
、化合物(33)を例えば塩酸、臭化水素酸等のハロゲ
ン化水素酸類、硫酸、リン酸等の無機酸類、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無
機アルカリ化合物、あるいは酢M等の有機酸の存在下に
、50〜150℃、好ましくは70〜120℃にて、0
.5〜24時間程時間熱することにより達成される。
化合物(2a)の一部は、下記反応式−17の方法でも
製造される。
〔反応式−17〕 C式中R2、A′、m及び×5は前記に同じ。〕上記反
応式における化合物(34)の閉環反応は、前記反応式
−16における化合物(32)の閉環反応と同様の条件
下に行なわれ、また化合物(35)から化合物(2b)
に導く反応も前記反応式−16における化合物(33)
から化合物(3’ a)を得る反応と同じ条件下に行な
われる。
〔反応式−18〕 (2C) 〔式中R1、R2及び×5は前記に同じ。R+2は水素
原子及び低級アルキル基を示す。〕上記反応式−18に
おいて、化合物(36)のハロゲン化反応は、適当な溶
媒中化合物(36)をハロゲン化剤で処理して行なわれ
る。用いられるハロゲン化剤としては例えば塩素、臭素
等のハロゲン分子、N−プロロモコハク酸イミド、N−
クロロコハク酸イミド等のN−ハロゲノコハク酸イミド
、塩化スリフリル、塩化銅、臭化銅等のハロゲン化銅等
が挙げられる。溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒJ−″Oフラン、
ジオキサン等のエーテル類、酢酸等が例示できる。この
ハロゲン化剤の使用針は、化合物(36)に対して等モ
ル−過剰量、好ましくは等モル−1,2倍モルである。
該反応は通常O℃〜溶媒の沸点付近、好ましくは室温〜
100℃であり、通常1〜10時間程時間路了する。尚
、この反応に過酸化ベンゾイル、過酸化水素等の過酸化
物のようなラジカル反応開始剤を用いてもよい。
化合物(37)を閉環させて化合物(2C)に導く反応
は適当な溶媒中縮合剤の存在下に行なわれる。用いられ
る縮合剤としては、例えば五酸化リン、フッ化水素、硫
酸、ポリリン酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイ
ス酸等が挙げられる。
溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、1゜2−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル類、ニトロベンゼン、
クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等が例示できる。
化合物(37)と縮合剤との使用割合は特に限定されな
いが、通常前者に対して後右を等モル−10倍モル、好
ましくは3〜6倍モルとするのがよい。この反応は、通
常50〜250℃、好ましくは70〜200℃にて20
分〜6時間程度で開路われる。
尚、これら化合物(2)、(12)及び(31)は、前
記反応式−6に示されるN−アルキル化法及び反応式−
7に示される脱水素反応又は還元反応を利用する方法等
により、同様に他の式(2)、(12)又は(31)の
化合物に導くこともてきる。ここで一般式(12)の化
合物をN−アルキル化する場合、側鎖のOH基をテトラ
ヒドロピラニルオキシ基、エトキシメトキシ基等の低級
アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルカノイルオキシ
基等に保護基化後、N−アルキル化し、次いで水、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコール
類等の溶媒中、塩酸、硫酸等の鉱酸やp−トルエンスル
ホン酸等の有機酸等の酸の存在下、−30〜200℃、
好ましくは一30〜100℃付近にて、0.5〜8時間
程開路応させることにより脱保護化してもよい。
前記反応式−8における化合物(9)は、例えば下記反
応式−19の方法によっても製造される。
〔反応式−19〕 RI             R+ (42)             (9q)〔式中R
11R2、×3、m及びカルボスチリル骨格の3.4位
の結合は前記に同じ。RI3は低級アルキル基、A“は
低級アルキレン基を示す。〕 化合物(38)と化合物(39)との反応は、適当な不
活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に、空温〜200℃
、好ましくは60〜120℃にて1〜24時間程度開路
件で行なわれる。用いられる不活性溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパツール等の低級アルコール類、DM
F、DMSO等の極性溶媒が挙げられる。塩基性化合物
としては、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カルラム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム
、水素化カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラート等の無機塩基、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、ピリジン、キノリン等の第3級アミン類等
の広範囲のものが用いられる。上記の反応は、必要に応
じて反応促進剤として、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリ
ウム等のヨウ化アルカリ金属化合物を添加して行なって
もよい。化合物(38)と化合物(39)の使用割合は
特に制限されないが、通常前者に対して後者を等モル−
過剰量、好ましくは等モル−5倍モル、より好ましくは
等モル〜1.2倍モルである。
化合物(40〕の加水分解反応は、適当な加水分解触媒
、例えば塩酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸
、燐酸等の無m酸、水酸化すi・リウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩又
は正炭酸塩等の無機アルカリ化合物の存在下に、無溶媒
又は適当な溶媒中(例えば、水又は水とメタノール、エ
タノール等の低級アルコールとの混合溶媒)、50〜1
50℃、好ましくは70〜100℃らで、3〜24時間
程度開路すればよい。
化合物(41)としては、例えばシアン化カリウム、シ
アン化ナトリウム、シアン化銀、シアン化銅、シアン化
カルシウム等が挙げられる。化合物(38)と化合物(
41)との反応は、適当な溶媒中で行なわれる。用いら
れる溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール
、イソプロパツール等の低級アルカノール類又は水と低
級アルカノール類との混合溶媒が挙げられる。化合物(
41)の使用量は、化合物(38)に対して少なくとも
等モル、好ましくは1〜1.5倍モルである。該反応は
通常室温〜150℃、好ましくは50〜120℃付近で
行なわれ、30分〜10時間程度行な開路る。
また化合物(42)の加水分解反応も上記化合物(40
)の加水分解反応と同様の条件下に行なわれる。
また化合物(9q)の所望の炭素数のものは、前記反応
式−8の反応及び反応式−19の反応の増炭素反応を適
宜組合せて繰返すことにより両られる。
〔反応式−2,O〕 (43)             (2d)〔式中R
+、R2、x’及びカルボスチリル骨格の3.4位の縮
合は、前記に同じ。RI4は水素原子又は低級アルキル
基を示す。〕 化合物(43)のハロゲン化反応は、前記反応式−18
における化合物(36)のハロゲン化反応と同様の条件
下に行なわれる。
〔反応式−21〕 1:中R2、R” 、X5 は前記に同じ。×7はハロ
ゲン原子を示す。〕 化合物(44)のハロゲン化反応は、前記反応式−8に
おける化合物(12)のハロゲン化反応と同様の条件下
に行なわれる。
化合物(45)のハロゲン化反応は、前記反応式−18
における化合物(36)のハロゲン化反応と同様の条件
下に行なわれる。
化合物(46)を化合物(2e)に導く反応は、前記反
応式−16における化合物(33)を化合物<31a)
に導く反応と同様の条件下に行なわれる。
一般式(1)で表わされる化合物は、通常の薬理的に許
容し得る酸と容易に塩を形成し得る。かかる酸としては
、例えば、硫酸、硝酸、塩酸、臭化水素酸等の無*R1
酢酸、ρ−トルエンスルホン酸、エタンスルホン酸、蓚
酸、マレイン酸、コハク酸、安息香酸等の有機酸が挙げ
られる。
上記の方法で製造される本発明の化合物は、通常の分離
手段、例えば蒸留法、再結晶法、カラムクロマトグラフ
ィー、プレパラテイブR’lJBクロマトグラフィー、
溶媒抽出法等により容易に反応系より、単離、精製でき
る。
本発明の化合物には、立体異性体、光学活性体も当然に
包含され、これらの異性体は、例えば分割剤を使用する
方法などの慣用の分離手段で分離できる。
一般式(1)の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増酊剤、
結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈
剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤と
しては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代
表的なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤、カプセル剤、学則、注射剤(液剤、懸濁剤
等)等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき
、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素
、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロー
ス、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール
、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ピラチン溶液
、カルボ1ジメチルセルロース、セラック、メチルセル
ロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結
合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド
、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカ
オバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニ
ウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グ
リセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオ
リン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、1
a+8!タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチ
レングリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤
は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、
ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あ
るいは二重症、多層錠とすることができる。乳剤の形態
に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知
のものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプ
ン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形
剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノ
ール等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例
示できる。学則の形態に成形するに際しては、担体とし
て従来公知のものを広(使用でき、例えばポリエチレン
グリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコー
ルのニスデル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙
げることができる。注射剤として調製される場合には、
液剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが
好ましく、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形す
るに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用され
ているものをすべて使用でき、例えば水、エチルアルコ
ール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリ
ルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール
、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を
挙げることができる。なお、この場合等張性の溶液を調
製するに充分な鑓の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリン
を強心剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助
剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に
応じて着色剤、筺存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の
医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。
本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式(1)の化
合物のmは、特に限定されず広範囲に適宜選択されるが
、通常全組成物中1へ・70重量%、好ましくは5〜5
0重量%である。
本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患者の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、乳剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され
、更には必要に応じて単独で筋肉内、陵内、皮下もしく
は腹腔内投与される。学則の場合には直腸内投与される
本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別そ
の他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通
常有効成分である一般式(1)の化合物のmは1日当り
体重1に!+当り約0.6〜50mgとするのがよい。
また、投与単位形態中に右動成分を10〜1000mg
含有せしめるのがよい。
実  施  例 次に製剤例、実施例及び試験例を挙げて本発明を更に具
体的に説明する。
製剤例1 l−n−ブチル−6−メトキシ ー3− ((5−メトキシ−1H −ベンズイミダゾール−2−イ ル)スルフィニルメチル〕カル ボスチリル           150+11(+ア
ビセル(商標名、旭化成(株)製)40gコンスターチ
           3Clステアリン酸マグネシウ
ム      2Qヒドロキシプロピル メチルセルロース         10CJポリエチ
レングリコール−60003に1ヒマシ油      
       40Gエタノール          
  400本発明化合物、アビセル、コンスターチ及び
ステアリン酸マグネシウムを混合研磨後、糖衣R101
11のキネで打錠する。得られた錠剤をヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース、ポリエチレングリコール−60
00,とマシ油及びエタノールからなるフィルムコーテ
ィング剤で被覆を行ないフィルムコーティング錠を製造
する。
製剤例2 l−n−ブヂルー3− ((5− フルオロ−1H−ベンズイミダ ゾール−2−イル)スルフィニ ルメチル〕カルボスチリル     150Qクエン酸
              1.OQラクトース  
         33.5(jリン酸二カルシウム 
      70.opブルロニックF−6830,0
G ラウリル@酸ナトリウム     15.OQポリビニ
ルピロリドン      15.OQポリエチレングリ
コール  ′ (カルボワックス1500)     4.5gポリエ
チレングリコール (カルボワックス6.000)    45.0gコー
ンスターチ         30.(1乾燥ラウリル
硫酸ナトリウム    3.Oa乾燥ステアリン酸マグ
ネシウム   3.0gエタノール         
  適  量水発明化合物、クエン酸、ラクト−ス、リ
ン酸二カルシウム、プルロニックF−68及びラウリル
硫酸ナトリウムを混合する。
上記混合物をNo、60スクリーンでふるい、ポリビニ
ルピロリドン、カルボワックス1500及び6000を
含むアルコール性溶液で湿式粒状化する。必要に応じて
アルコールを添加して粉末をペースト抗塊に、する。コ
ーンスターチを添加し、均一な粒子が形成されるまで混
合を続ける。No。
10スクリーンを通過させ、トレイに入れ100度のオ
ーブンで12〜14時間乾燥する。乾燥粒子をNo、1
6スクリーンでふるい、乾燥ラウリル硫酸ナトリウム及
び乾燥ステアリン酸マグネシウムを加え混合し、打錠機
で所望の形状に圧縮する。
上記の芯部をワニスで処理し、タルクを散布し湿気の吸
収を防止する。芯部の周囲に下塗り層を被覆する。内服
用のために充分な回数のワニス被覆を行なう。錠剤を完
全に丸くかつ滑かにするために更に下qり層及び平滑被
覆が適用さねる。
所望の色合いが得られるまで着色被覆を行なう。
乾燥後、被覆錠剤を磨いて均一な光沢の錠剤にする。
製剤例3 l−n−ブチル−3−((1H −ベンズイミダゾールー2−イ ル)スルフィニルメチル〕カル ボスチリル             5gポリエチレ
ングリコール (分子2:4000)       o、3Q塩化ナト
リウム         0.9gポリオキシエチレン
− ソルビタンモノオレート     0.4aメタ重亜硫
酸ナトリウム     0.19メチル−パラベン  
      0.18ajOビル−パラベン     
  0.020注射用蒸留水         10.
0較上記パラベン類、メタ重曲硫諸すトリウム及び塩化
ナトリウムを撹拌しながら80℃で上記の約半最の蒸留
水に溶解りる。1qられた溶液を40°Cまで冷却し、
本発明化合物、次にポリエチレングリコール及びポリオ
キシエチレンソルビタンモノオレートをその溶液中に溶
解する。次にその溶液に注射用蒸留水を加えてfilの
合口に調製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌
濾過することにより滅菌して、注射剤を調製する。
以下、参考例及び実施例を示ず。
参考例1 3−ホルミルカルボスチリル8.7gをジメチルホルム
アミド150−に溶解する。水冷撹拌下60%油性水素
化ナトリウム2.20を添加し、30分撹拌する。次い
でn−ブチルプロミド8.2gを滴下し、70〜80℃
で5時間撹拌を行なう。溶媒を留去後、残漬を水に注ぎ
、析出物を枦取する。エタノールより再結晶して、1−
n−ブチル−3−ホルミルカルボスチリルを得る。
mp.118.5〜120.5℃ 黄褐色針状晶 参考例2 1−n−ブチル−3−ホルミルカルボスチリル3、0g
をメタノール80mGに溶解する。水冷撹拌下、水素化
ホウ素ナトリウム0.59を添加し、1時間撹拌する。
濃塩酸で酸性とし、減圧濃縮する。残漬をエタノールに
溶解し、不溶物を枦去する。エタノールを留去し、淡黄
色油状の1−n−ブチル−3−ヒドロキシメチルカルボ
スチリル3、OQを得る。
参考例3 1−n−ブチル−3−ヒドロキシメチルカルボスチリル
3.59に47%臭化水素酸30鵬を加え、70〜80
℃にて3時間撹拌する。冷後、水にて希釈し、クロロホ
ルムで抽出する。クロロホルム溶液を水洗優、硫酸マグ
ネシウムにて乾燥する。クロロホルムを留去し、残漬を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液ニジクロ
ロメタン)にて′M製する。リグロインより再結晶して
1−n−ブチル−3−ブロモメチルカルボスチリル2、
OQを得る。
mp.79〜81℃ 無色プリズム状晶 参考例4 N−メチルアセトアセタニリド25gをクロロホルム2
001+112に溶解する。水冷撹拌下、臭素21、5
gを滴下し、2時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液:ツク0ロメタン)にてM製して油状のN−メチル
(α−ブロモアセト)アセタニリド13.70を得る。
このものをW.tR50鵬中に滴下し、室温にて一晩撹
拌する。反応液を氷水にあけ、析出物を枦取する。エタ
ノールより再結晶して9.6gの4−ブロモメチル−1
゜3−ジメチルカルボスチリルを得る。
無色針状晶 mp、151〜153℃ 参考例5 4.8−ジメチルカルボスチリル キシ塩化リン30m12を加え、70〜80℃にて2時
間撹拌する。過剰のオキシ塩化リンを減圧留去後、残渣
を氷水にあけ、析出物を戸数する。エタノールより再結
晶して、3.1gの2−クロロ−4、8−ジメチルキノ
リンを得る。
mp.69〜71.5℃ 無色鱗片状晶 参考例6 2−クロロ−4.8−ジメチルキノリン3.OQを四塩
化炭素50−に溶解する。これにN−プロモサクシンイ
ミド(NBS>2.70及び過酸化ベンゾイル0.1q
を加え、3時間加熱還流する。析出物を枦去後、iP液
を減圧濃縮する。得られた残渣をエタノールより再結晶
して2.80の8−ブロモメチル−2−クロロ−4−メ
チルキノリンを得る。
mp.124〜125℃ 無色針状晶 参考例7 2−クロロ−4−メチル−8−ブロモメチルキノリン3
.OQに20%塩1130−を加えて、3時間加熱還流
する。減圧濃縮後、得られた残渣をエタノールより再結
晶して0.6gの4−メチル−8−ブロモメチルカルボ
スチリルを得る。
mo.236 〜240℃(分解) 白色粉末状 参考例8 4、8−ジメチルカルボスチリル メチルホルムアミド50−に溶解する。水冷撹拌下、6
0%油性水素化ナトリウム0.9gを添加し、30分間
撹拌する。続いてn−ブチルブロミド3.09を滴下し
70〜80℃で8時間撹拌する。ジメチルホルムアミド
を留去後、得られた残漬を水にあけ、析出物を戸数する
。エタノールより再結晶して1.50の1−n−ブチル
−4.8−ジメチルカルボスチリルを得る。
mp.33〜35℃ 無色プリズム状品 参考例9 1−n−ブチル−4,8−ジメチルカルボスチリル 油状のl−n−ブチル−4−メチル−8−ブロモメチル
カルボスチリル2.9gを得る。
NMR (CDCQ3)δ: 0、98 (3H,t) 1、30 〜2.00 (4H.m) 2、57 (3H,s> 4、50 (2H.t) 5、10  (2H,s) 6、73  (IH,s) 7、20 〜7.80  (3H,m)参考例2又は3
と同様にして適当な出発原料を用いて、下記第1表に示
す化合物を得る。
1)NMR(DMSO−ds)  δ :3. 68 
 (3H,s) 4.63  (2H,s) 7、 20〜7.80  (4H,m)8、 20  
(IH,s) 2)NMR(CDCQ3  )  δ :0198  
(3)−1,t) 1、 10〜1.80  (4H,m)4、 28  
(2H,t) 4、 67  (2H,s) 7.00〜7. 60  (4H,m)7.67  (
1H,s) 3)NMR(CDC123)  δ :0.89  (
3H,t) 1、 20〜1. 90  (8H,m>4、 27 
 (2H,t) 4.65  (2H,s) 7、 20〜7.80  (5H,m)4)NMR(C
;OCQ 3  )  δ :0.88  (3H,t
) 1、 10〜1.90  <8H,m)4、 27  
(2H,t) 4.53  (2H,s) 7、 10〜7. 70  (4H,m>7、.82 
 (IH,s) 5)NMR(CDCQ 3  )  δ :4.67 
 (2H,s) 4.80〜5.00  (2H,m) 5.00〜5.30  (2H,m) 5、 70〜6. 20  (1)−1,m)7.10
〜7.60  (4H,m> 7.61  (1H,s) 6)NMR(DMSO−ds  )  δ :3、 7
0  (3H,s) 4.68  (2H,s) 5、 15  (2H,s) 7.20〜7.80(4H,m) 8、 20  (IH,s) 7)NMR(CDCQ 3  )  δ :0、  9
7   (3ト1 、   t  )1.20〜2.0
0  (4H,m) 3.83  (3)(、s) 4、 26  (2H,t) 4.53  (2H,s) 6.90〜7.30  (3H,m> 7、 77  (IH,s) 参考例1と同様にして適当な出発原料を用いて下記第2
表に示す化合物を得る。
参考例38 3−ヒドロキシメチルカルボスチリル15g、2.3−
ジヒドロピラン8.3g及びp−トシルW0.8Elを
塩化メチレン300−中で3時間還流を行なう。冷接、
不溶物を枦去し、炉液を飽和重費水で洗浄し、M Q 
S Otで乾燥する。。塩化メチレンを留去し、残漬を
酢酸エチルから再結晶する。淡褐色プリズム状の3−テ
トラヒドロピラニルオキシカルボスチリル7gを得る。
mp、166〜167℃ 参考例39 3−テトラヒドロピラニルオキシカルボスチリル5.2
0をジメチルホルムアミド80mQに溶解する。水冷撹
拌しながら60%油性水素化ナトリウム0.88CIを
添加する。同温度で30分Ij!拌後、クロチルプロミ
ド3.C1を滴下し、75〜80℃で3時間撹拌する。
DMFを留去し、残漬を水にあけ、クロロホルムで抽出
する。クロロホルム溶液を飽和食塩水で洗浄し、MCI
 S OAで乾燥する。CHCQ ’3を留去後残留物
をp−t−ルエンスルホンlI!20.5qを含むメタ
ノール50−に溶解し、室温で2時間放置する。メタノ
ールを留去後残渣をクロロホルムに溶かし、飽和重曹水
で洗浄し、M Q S Oaで乾燥する。クロロホルム
を留去し、淡黄色油状の1−クロチル−3−ヒドロキシ
メチルスルボスチリル5.OQを得る。
NMR(CDCQ3 )δ: 1.65 (3H,d) 4.65 (2H,d) 4.80〜5.10 (2H,m) 5.50〜5.7°O(2H,m) 7.10〜7.60 (4H,m) 7.67 (IH,s) 参考例40 1−クロチル−3−ヒドロキシメチルカルボスチリル5
.0gをエタノール100−に溶解する。
これに5%パラジウム炭素0.59を加え、水素を吸収
させる。理論回の水素ガスを吸収したところで、触媒を
枦去し、炉液を減圧濃縮して、淡黄色油状の1−n−ブ
チル−3−ヒドロキシメチルカルボスチリル3.5gを
得る。
NMR(CDCQ3 )δ: 0.98 (3H,t) 1.10〜1.80 (4H,m> 4.28 (2H,t) 4.67 (2H,s) 7.00〜7.60 (4H,m) 7.67 (IH,s) 参考例41 3−テトラヒドロピラニルオキシカルボスチリルする。
参考例38と同様な方法で反応を行なう。
淡黄色油状の1−n−へキシル−3−ヒドロキシメチル
カルボスチリル2gを得る。
NMR  (CDC123  )  δ :0、89 
 (3H,  t) 1、20 〜1.90  (8H,m)4、  27 
 (2H,  t) 4、  65  (2H,  s) 7、  20 〜7.80  (5H.m)実施例1 5−メトキシ−2−メルカプト−1日−ペンズイミダゾ
ール2.Oq及び3−クロロメチルカルボスチリル −に溶解する。これに炭酸カリウム1.70を加え、6
0〜70℃にて7時間撹拌する。ジメチルホルムアミド
を留去後、得られた残漬を水にあけ、析出晶を戸数する
。ジクロロメタンより再結晶して1.Clの3−(5−
メトキシ−1日−ペンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−カルボスチリルを得る。
mp.160〜162℃ 淡黄色粉末状 実施例1と同様にして適当な出発原料を用いて下記第3
表に示す化合物を得る、。
1)NMR(CDC123)  δ :1.33  (
3H,t> 3、 78  (3H,S) 4.36  (2)−1,s) 4.38  (2H,Q> 6.60〜7.70  (7H,m) 7.81  (IH,s) 2)NMR(CDCQ3 )  δ :0.90  (
3H,t) 1、 10〜1.90  (8H,m>4.40  (
2H,S) 4.37  (2H,t) 6.50〜7.60  (7H,m) 7.85  (IH,s> 3)NMR(DMSO−da  )  δ :2、 4
0〜2. 60  (IH,m>3.80  (3H,
s) 5、 24  <2H,brs  ) 6、 70〜7.80  (7H,m)7、 73  
(IH,s) 4)NMR(DMSO−ds  )  δ :3、 7
1  (3H,s) 3.84  (3H,s) 4.67  (2H,s) 5、 14  (2H,s) 6.90〜7.80  (7H,m) 8、 28  (IH,s) 5)NMR(CDCQ3   DMSO−d6)  δ
 :3.82  (3H,s) 4、 75  (2H,s) 5.04  (2H,s) 6.80〜7.60  (7H,m) 8、 29  (IH,s) 8.43  (I H,brs  ) 6)NMR(CDCQ3  )  δ :0.97  
(3H,t) 1、10〜1.90  (4H,m) 2. 40  (3H,s) 4、 32  (2)(、t) 4.37  (2H,s) 6.80〜7.60  (7H,m) 7.82  (1H,s) 7)NMR(CDCG! 3  )  δ:0.97 
 (3)(、t) 1.20〜1.90  (4H,m) 3.82  (6H,s) 4.35  (2)(、s) 4.33  (2H,t) 6.70〜7.50  (6H,m) 7.80  (1)−1,s) 8)NMR(CDCQ3  )  δ:0.99  (
31−1,t) 1.20〜1.90  (4H,m> 2.64  (3H,s> 4.37  (2H,t) 4、 46  (2H,S’) 7 、 20〜8.20(8ト1 、  m )実施例
30 3−(5−メトキシ−1日−ペンズイミダゾール−2−
イル)チオメチルカルボスチリル0.80をクロロホル
ム50鵬に溶解する。水冷撹拌下、m−り00過安息香
*0.5Qを添加し、30分撹拌する。クロ[1ホルム
を留去し、得られた残渣をエタノールより再結晶して0
.75gの3−(5−メトキシ−1日−ペンズイミダゾ
ール−2−イル)スルフイニルメチル力ルポスチリルを
得る。
mp、218〜220℃(分解) 白色粉末状 実施例30と同様にして、適当な出発原料を用いて、下
記第4表に示す化合物を得る。
実施例59 3−カルボキシチオメチJレカルポスチリル24.20
及び5−メトキシ−0−フェニレンジアミン13.8g
を4N塩酸10〇−中で40分間還流する。反応混合物
を冷却後、アンモニア水で中和し、クロロホルムで抽出
する。抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残
渣をジクロロメタンより再結晶して、4.8gの3− 
(5−メトキシ−1日−ペンズイミダゾール−2−イル
)チオメチルカルボスチリルを得る。
淡黄色粉末状 mp、160〜162℃ 適当な出発原料を用い、実施例59と同様にして前記実
施例2〜29の化合物を得る。
実施例60 2−クロロ−5−メトキシ−1日−ベンズイミダゾール
876ma及びチオウレア0.40をエタノール20−
に加え、2時間加熱還流する。これに3−クロロメチル
カルボスチリル691 raaを加え、5時間加熱還流
する。反応終了後、エタノールを留去し、得られた残漬
に水を加え、クロロホルムで抽出する。抽出液を[fマ
グネシウムで乾燥後、クロロホルムを留去する。得られ
た残漬を、酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶して、
4.72mQの3−(5−メトキシ−1日−ペンズイミ
ダゾール−2−イル)チオメチルカルボスチリルを得る
淡黄色粉末状 mp、160〜162℃ 適当な出発原料を用い、実施PA60と同様にして前記
実施例2〜29の化合物を得る。
実施例61 (カルボスチリル−6−イル)メチルリチウム18.1
aをベンゼン150mGに溶解する。  (5−メトキ
シ−1日−ペンズイミダゾール−2−イル)スルフィニ
ルクロライド20.1qを加えた後、2時間加熱還流す
る。生成した塩化リチウムを炉別し、炉液を減圧濃縮す
る。得られた残渣をジメチルホルムアミド−水より再結
晶して、1.2gの6−(5−メトキシ−1H−ベンズ
イミダゾール−2−イル)チオメチルカルボスチリルを
得る。
茶色粉末状 mp、119〜゛121℃ 適当な出発原料を用い、実施例61と同様にして前記実
施例30〜37及び39〜58の化合物を得る。
実施例62 4−(5−メトキシ−1日−ペンズイミダゾール−2−
イル)スルフィニルメチルカルボスチリル溶解する。水
冷撹拌下、60%油性水素化ナトリウム2.2gを添加
し、30分撹拌する。続いて、ヨウ化メチル8.5gを
滴下し、70〜80℃で5時間撹拌を行なう。溶媒を留
去後、残漬を水に注ぎ、クロロホルムにて抽出する。ク
ロロホルムを留去して、得られた残漬をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製する。アセトニトリルよ
り再結晶して、1−メチル−4−(5−メトキシ−1日
−ペンズイミダゾール−2−イル)スルフィニルメチル
カルボスチリル mp.160〜163℃ 黄色粉末状 実施例62と同様にして適当な出発原料を用い、前記実
施例34〜36、40〜54、56、58の化合物を得
る。
薬理試験 ブタ胃より調製したH” +K” ATPase  (
アデノシントリフォスファターゼ)(タンパク辺:IC
IQ)を2mMピペラジンN.N’ −ビス(2−エタ
ンスルホン酸)を含むバイアス−トリス(2−アミノ−
2−(ヒドロキシメチル)−1。
3−プロパンジオール緩衝液(Pipes −Tris
buyer)(pH6.1)に加え、室温にて放置する
。供試化合物をジメチルホルムアミドに溶解し、最終濃
度が1%になるように先の H” +K” ATPase II衝液に加え、室温テ
30分間反応させる。次に、1mQの75mMバイアス
−トリス緩衝液(pH7.4)(4mMM Q C Q
 2 、4 m M  N a 2 A T P 、及
び20mM  KCQ含有)及びInIQの75mMパ
イプスートリス緩衝液(pH7.4)(4mMMQCQ
2及び4mM  Na2ATP含有)を別々に加えて9
二種類のサンプルを作り、それぞれ37℃で30分間反
応させる。それぞれに40%トリク0口酢酸0.3mQ
を加え、反応を終了させる。次に10分間遠心分離(3
000rpIm)し、上澄液を取り、生成した無機リン
酸をFiske andSubbarowの方法( J
.  Biol. Che+g, 、  vol. 5
 5 。
375 (1925))で測定する。
20mM  KCQを含むバイブスートリス緩衝液より
求めた無機リン酸の量より、20mMKCQを含まない
パイプスートリス緩衝液より求めた無機リン酸の良を差
し引いた値を単位蛋白、単位時間当りに換算して表わし
、酵素活性値とした。コントロール値と各投与aにおけ
る酵素活性値から各投与量の抑制値(%)を求め、得ら
れた抑制値(%)よりICso(50%抑制する各供試
化合物の投与量)値を求めた。その結果を第5表に示す
供試化合物 1、 実施例30の化合物 2、 実施例33の化合物 3、 実施例34の化合物 4、 実施例35の化合物 5、 実施例36の化合物 6、 実施例37の化合物 7、 実施例39の化合物 8、 実施例40の化合物 9. 実施例41の化合物 10、  実施例43の化合物 11、 実施例44の化合物 12、 実施例45の化合物 13、 実施例49の化合物 14、 実施例50の化合物 15、 実施例51の化合物 16、 実施例52の化合物 176 実施例53の化合物 18、 実施例54の化合物 19、 実施例56の化合物 20、  実施例58の化合物 第    5    表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は水素原子、低級アルキル基、低級アルケ
    ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル低級アルキ
    ル基、フェニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキ
    ル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示
    す。 R^2は水素原子、低級アルコキシ基又は低級アルキル
    基を示す。R^3は水素原子、低級アルコキシ基、ハロ
    ゲン原子を有することのある低級アルキル基、ハロゲン
    原子又は低級アルカノイル基を示す。A及びBは低級ア
    ルキレン基を示す。n及びlは同一又は異なつて0又は
    1の整数を示す。カルボスチリル骨格の3、4位間の炭
    素間結合は一重結合又は二重結合を示す。 基▲数式、化学式、表等があります▼ 及びR^2の置換位置はカルボスチリル骨格の3位、4
    位、5位、6位、7位又は8位である。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩。
JP6181986A 1985-12-23 1986-03-18 カルボスチリル誘導体 Pending JPS62240677A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942522A (en) * 1990-09-07 1999-08-24 Schering Corporation Antiviral compounds and antihypertensive compounds
EP2468743A1 (en) 2005-06-24 2012-06-27 Toyama Chemical Co., Ltd. Nitrogen-containing bicyclic compounds useful as antibacterial agents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942522A (en) * 1990-09-07 1999-08-24 Schering Corporation Antiviral compounds and antihypertensive compounds
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