JPH0676884B2 - パターン検出方法 - Google Patents
パターン検出方法Info
- Publication number
- JPH0676884B2 JPH0676884B2 JP15473092A JP15473092A JPH0676884B2 JP H0676884 B2 JPH0676884 B2 JP H0676884B2 JP 15473092 A JP15473092 A JP 15473092A JP 15473092 A JP15473092 A JP 15473092A JP H0676884 B2 JPH0676884 B2 JP H0676884B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- hole
- fluorescent
- fluorescence
- circuit board
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は配線パターンを検出する
パターン検出装置に係り、特にプリント基板の基材から
発生する螢光をとらえることによって配線パターンを検
出するパターン検出方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来のパターン検出装置は、プリント基
板の配線パターンからの反射光像を検出器で検出するも
のである。しかしながら、この検出装置では本来配線パ
ターンに欠陥のないもの（例えばよごれ、浅い傷）まで
欠陥とみなしてしまう欠点を有した。また、従来のパタ
ーン検出装置をスルーホールを有するプリント基板のパ
ターン検出に用いる場合、スルーホールを検出すること
はできなかった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の欠点をなくし、Ｓ／Ｎの良い螢光パターンを
検出できるようにし、基板上に形成された配線パターン
であって、特にスルーホールを有する配線パターンを、
精度良く認識するパターン検出方法を提供することにあ
る。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、プリント基板の下側に螢光を発生する螢
光体を位置し、プリント基板の基材を透過してきた光ま
たはスルーホールを通過してきた光によって前記螢光体
から蛍光を発生させ、該発生した蛍光のうち前記基材を
透過して戻ってくる螢光と、前記基材自体から発生した
螢光とを加え合せ、該加えあわせた蛍光と前記螢光体で
発生してスルーホールを通過してきた蛍光とを同時に検
出器で検出することによって検出すべき基板上に形成さ
れた配線パターンとスルーホールとを検出することを特
徴とするものである。 【０００５】 【実施例】以下本発明の一実施例を図１及び図２により
説明する。 【０００６】図１に示すプリント基板１の配線面２に限
定した波長の光２２を照射し基材３から発生する螢光３
１を検出器１１で検出する方式であり、プリント基板１
の基材３から発生する螢光が小さいため、第１のフィル
タ７あるいは第２のフィルタ９の分光透過率特性の良い
ものを選ぶ必要があったり、出力の大きい光源５を使う
必要があった。 【０００７】そこで次のように構成した。図２におい
て、プリント基板１、光源５、コンデンサレンズ６、第
１のフィルタ７、半透鏡８、第２のフィルタ９、結像レ
ンズ１０、検出器１１は、図１に示した従来のパターン
検出装置の同一符号のものと同じ構成であるが新たに螢
光体１２が追加されている。光源５から発した光２１は
第１のフィルタ７でプリント基板１の基材３から螢光が
発生しやすい波長の光２２に変わり、半透鏡８によって
光路が変更され、プリント基板１の配線面２に照射され
る。プリント基板１の配線面２では反射光が発生し、基
材３では螢光が発生する。更に、前記基材３を透過した
光２３は、プリント基材１の下側に位置する螢光体１２
に照射され、螢光３３を発生させる。螢光３３は再びプ
リント基板１の基材３を透過して上方へ向かう。然らば
光３４は配線面２での反射光と基材３で発生した螢光と
螢光体１２で発生し基材３を透過して来た螢光の合わさ
った光である。光３４は半透鏡８を通過して第２のフィ
ルタ９に入射する。第２のフィルタ９では反射光がカッ
トされ螢光３５のみ透過され、結像レンズ１０で検出器
１１の結像面に結像される。 【０００８】本実施例によれば、プリント基板１の基材
３から発生する螢光に加えて、螢光体１２から発生し基
材３を通過してくる螢光も検出されるので検出すべき螢
光が増大し、検出信号のＳ／Ｎを改善できるという効果
がある。 【０００９】図３は、スルーホール１３を有するプリン
ト基板１に適用した実施例を示す。スルーホール１３を
通過した光２４によって螢光体１２から螢光３３が発生
し、かつスルーホール１３を通過して戻り、図２におけ
る光３４に合わさった光３６になる。 【００１０】図４はスルーホール１３を有するプリント
基板１の検出器１１で検出されたパターン像を示す。ス
ルーホール１３がパッド１４のパターン像の中に検出さ
れる。 【００１１】上記説明した実施例によれば、プリント基
板１がスルーホール１３を有する場合、図２の実施例で
説明した螢光体１２からの蛍光３３と基材１から発生す
る蛍光とを合わせた蛍光３５によって検出される配線パ
ターン像であるパッド１４の像と同時に、図３の実施例
で説明したスルーホール１３を通過した光２４によって
螢光体１２で発生し、かつスルーホール１３を通過して
戻ってくる螢光３３を検出して得られるスルーホール１
３のパターン像も検出することができるため、パッド１
４とスルーホール１３の位置ずれあるいはスルーホール
１３の径の測定が可能になる。 【００１２】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、プ
リント基板の裏側に螢光体を設置することにより、基材
で発生又は透過した蛍光と同時に、螢光体で発生してス
ルーホールを透過してきた蛍光も検出できるので、配線
パターンの検出と同時にスルーホールの位置および形状
も検出できるという効果がある。
パターン検出装置に係り、特にプリント基板の基材から
発生する螢光をとらえることによって配線パターンを検
出するパターン検出方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来のパターン検出装置は、プリント基
板の配線パターンからの反射光像を検出器で検出するも
のである。しかしながら、この検出装置では本来配線パ
ターンに欠陥のないもの（例えばよごれ、浅い傷）まで
欠陥とみなしてしまう欠点を有した。また、従来のパタ
ーン検出装置をスルーホールを有するプリント基板のパ
ターン検出に用いる場合、スルーホールを検出すること
はできなかった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の欠点をなくし、Ｓ／Ｎの良い螢光パターンを
検出できるようにし、基板上に形成された配線パターン
であって、特にスルーホールを有する配線パターンを、
精度良く認識するパターン検出方法を提供することにあ
る。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、プリント基板の下側に螢光を発生する螢
光体を位置し、プリント基板の基材を透過してきた光ま
たはスルーホールを通過してきた光によって前記螢光体
から蛍光を発生させ、該発生した蛍光のうち前記基材を
透過して戻ってくる螢光と、前記基材自体から発生した
螢光とを加え合せ、該加えあわせた蛍光と前記螢光体で
発生してスルーホールを通過してきた蛍光とを同時に検
出器で検出することによって検出すべき基板上に形成さ
れた配線パターンとスルーホールとを検出することを特
徴とするものである。 【０００５】 【実施例】以下本発明の一実施例を図１及び図２により
説明する。 【０００６】図１に示すプリント基板１の配線面２に限
定した波長の光２２を照射し基材３から発生する螢光３
１を検出器１１で検出する方式であり、プリント基板１
の基材３から発生する螢光が小さいため、第１のフィル
タ７あるいは第２のフィルタ９の分光透過率特性の良い
ものを選ぶ必要があったり、出力の大きい光源５を使う
必要があった。 【０００７】そこで次のように構成した。図２におい
て、プリント基板１、光源５、コンデンサレンズ６、第
１のフィルタ７、半透鏡８、第２のフィルタ９、結像レ
ンズ１０、検出器１１は、図１に示した従来のパターン
検出装置の同一符号のものと同じ構成であるが新たに螢
光体１２が追加されている。光源５から発した光２１は
第１のフィルタ７でプリント基板１の基材３から螢光が
発生しやすい波長の光２２に変わり、半透鏡８によって
光路が変更され、プリント基板１の配線面２に照射され
る。プリント基板１の配線面２では反射光が発生し、基
材３では螢光が発生する。更に、前記基材３を透過した
光２３は、プリント基材１の下側に位置する螢光体１２
に照射され、螢光３３を発生させる。螢光３３は再びプ
リント基板１の基材３を透過して上方へ向かう。然らば
光３４は配線面２での反射光と基材３で発生した螢光と
螢光体１２で発生し基材３を透過して来た螢光の合わさ
った光である。光３４は半透鏡８を通過して第２のフィ
ルタ９に入射する。第２のフィルタ９では反射光がカッ
トされ螢光３５のみ透過され、結像レンズ１０で検出器
１１の結像面に結像される。 【０００８】本実施例によれば、プリント基板１の基材
３から発生する螢光に加えて、螢光体１２から発生し基
材３を通過してくる螢光も検出されるので検出すべき螢
光が増大し、検出信号のＳ／Ｎを改善できるという効果
がある。 【０００９】図３は、スルーホール１３を有するプリン
ト基板１に適用した実施例を示す。スルーホール１３を
通過した光２４によって螢光体１２から螢光３３が発生
し、かつスルーホール１３を通過して戻り、図２におけ
る光３４に合わさった光３６になる。 【００１０】図４はスルーホール１３を有するプリント
基板１の検出器１１で検出されたパターン像を示す。ス
ルーホール１３がパッド１４のパターン像の中に検出さ
れる。 【００１１】上記説明した実施例によれば、プリント基
板１がスルーホール１３を有する場合、図２の実施例で
説明した螢光体１２からの蛍光３３と基材１から発生す
る蛍光とを合わせた蛍光３５によって検出される配線パ
ターン像であるパッド１４の像と同時に、図３の実施例
で説明したスルーホール１３を通過した光２４によって
螢光体１２で発生し、かつスルーホール１３を通過して
戻ってくる螢光３３を検出して得られるスルーホール１
３のパターン像も検出することができるため、パッド１
４とスルーホール１３の位置ずれあるいはスルーホール
１３の径の測定が可能になる。 【００１２】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、プ
リント基板の裏側に螢光体を設置することにより、基材
で発生又は透過した蛍光と同時に、螢光体で発生してス
ルーホールを透過してきた蛍光も検出できるので、配線
パターンの検出と同時にスルーホールの位置および形状
も検出できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る螢光検出方式のパターン検出装置
を示す側面図である。 【図２】本発明の一実施例のパターン検出装置を示す側
面図である。 【図３】本発明の一実施例のパターン検出装置を示す側
面図である。 【図４】パターン像を示す図である。 【符号の説明】 １…プリント基板、 ２…配線面、 ３…基材、 ４…配線パターン、 ５…光源、 ６…コンデンサレンズ、 ７…第１のフィルタ、 ８…半透鏡、 ９…第２のフィルタ、 １０…結像レンズ、 １１…検出器、 １２…螢光体、 １３…スルーホール、 １４…パッド、 ２１，２２，２３，２４…照明光、 ３１，３４，３６…螢光と反射光の合わさった光、 ３２，３３，３５…螢光。
を示す側面図である。 【図２】本発明の一実施例のパターン検出装置を示す側
面図である。 【図３】本発明の一実施例のパターン検出装置を示す側
面図である。 【図４】パターン像を示す図である。 【符号の説明】 １…プリント基板、 ２…配線面、 ３…基材、 ４…配線パターン、 ５…光源、 ６…コンデンサレンズ、 ７…第１のフィルタ、 ８…半透鏡、 ９…第２のフィルタ、 １０…結像レンズ、 １１…検出器、 １２…螢光体、 １３…スルーホール、 １４…パッド、 ２１，２２，２３，２４…照明光、 ３１，３４，３６…螢光と反射光の合わさった光、 ３２，３３，３５…螢光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １．表面に配線パターンが形成されたスルーホールを有
するプリント基板の裏側に基材とほぼ同じ波長の蛍光を
発生する螢光体を置き、上記プリント基板の表面に光を
照射することにより、上記プリント基板の基材から発生
する蛍光に、上記プリント基板を透過した上記光により
上記蛍光体から発生して上記プリント基板を透過した蛍
光を加え合せ、該加え合せた蛍光と、上記スルーホール
を通過した上記光により上記螢光体から発生して上記ス
ルーホールを通過した蛍光とを検出器で検出することに
より、上記プリント基板表面に形成された上記配線パタ
ーンおよび上記スルーホールを検出することを特徴とす
るパターン検出方法。 ２．上記螢光体として、上記プリント基板の基材を用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のパター
ン検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15473092A JPH0676884B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | パターン検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15473092A JPH0676884B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | パターン検出方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24384783A Division JPS60135805A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | パタ−ン検出方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05196435A JPH05196435A (ja) | 1993-08-06 |
| JPH0676884B2 true JPH0676884B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=15590694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15473092A Expired - Lifetime JPH0676884B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | パターン検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676884B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3002388B2 (ja) * | 1994-09-14 | 2000-01-24 | 住友電装株式会社 | 皮剥端子圧着機における電線処理部検査装置 |
| CN1326019C (zh) * | 2003-12-05 | 2007-07-11 | 培新科技股份有限公司 | 光学信号影像撷取方法 |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP15473092A patent/JPH0676884B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05196435A (ja) | 1993-08-06 |
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