JPH0476042B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0476042B2 JPH0476042B2 JP58243847A JP24384783A JPH0476042B2 JP H0476042 B2 JPH0476042 B2 JP H0476042B2 JP 58243847 A JP58243847 A JP 58243847A JP 24384783 A JP24384783 A JP 24384783A JP H0476042 B2 JPH0476042 B2 JP H0476042B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit board
- printed circuit
- light
- fluorescent light
- fluorescent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 14
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001917 fluorescence detection Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は配線パターンを検出するパターン検出
装置に係り、特にプリント基板の基材から発生す
る螢光をとらえることによつて配線パターンを検
出するパターン検出方法及びその装置に関するも
のである。
装置に係り、特にプリント基板の基材から発生す
る螢光をとらえることによつて配線パターンを検
出するパターン検出方法及びその装置に関するも
のである。
従来のパターン検出装置は、プリント基板の配
線パターンからの反射光像を検出器で検出するも
のである。しかしながら、この検出装置では本来
配線パターンに欠陥のないもの(例えばよごれ、
浅い傷)まで欠陥とみなしてしまう欠点を有し
た。
線パターンからの反射光像を検出器で検出するも
のである。しかしながら、この検出装置では本来
配線パターンに欠陥のないもの(例えばよごれ、
浅い傷)まで欠陥とみなしてしまう欠点を有し
た。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点をなく
し、S/Nの良い螢光パターンを検出できるよう
にし、基板上に形成された配線パターンを精度良
く認識するパターン検出方法及びその装置を提供
するにある。
し、S/Nの良い螢光パターンを検出できるよう
にし、基板上に形成された配線パターンを精度良
く認識するパターン検出方法及びその装置を提供
するにある。
本発明は、上記目的を達成するために、プリン
ト基板の下側に螢光を発生する螢光体を位置し、
プリント基板を透過してきた光によつて前記螢光
体から螢光を発生させ、基板を透過して戻つてく
る螢光を、基材から発生した螢光に加えることに
より検出すべき螢光の光量を増大させ、該光量を
増大された螢光を検出器で検出することにより、
基板上に形成された配線パターンを精度良く検出
することを特徴とするものである。
ト基板の下側に螢光を発生する螢光体を位置し、
プリント基板を透過してきた光によつて前記螢光
体から螢光を発生させ、基板を透過して戻つてく
る螢光を、基材から発生した螢光に加えることに
より検出すべき螢光の光量を増大させ、該光量を
増大された螢光を検出器で検出することにより、
基板上に形成された配線パターンを精度良く検出
することを特徴とするものである。
以下本発明の一実施例を第1図及び第2図によ
り説明する。
り説明する。
第1図に示すプリント基板1の配線面2に限定
した波長の光22を照射し基材3から発生する螢
光31を検出器11で検出する方式であり、プリ
ント基板1の基材3から発生する螢光が小さいた
め、第1のフイルタ7あるいは第2のフイルタ9
の分光透過率特性の良いものを選ぶ必要があつた
り、出力の大きい光源5を使う必要があつた。
した波長の光22を照射し基材3から発生する螢
光31を検出器11で検出する方式であり、プリ
ント基板1の基材3から発生する螢光が小さいた
め、第1のフイルタ7あるいは第2のフイルタ9
の分光透過率特性の良いものを選ぶ必要があつた
り、出力の大きい光源5を使う必要があつた。
そこで次のように構成した。第2図において、
プリント基板1、光源5、コンデンサレンズ6、
第1のフイルタ7、半透鏡8、第2のフイルタ
9、結像レンズ10、検出器11は、第1図に示
した従来のパターン検出装置の同一符号のものと
同じ構成であるが新たに螢光体12が追加されて
いる。光源5から発した光21は第1のフイルタ
7でプリント基板1の基材3から螢光が発生しや
すい波長の光22に変わり、半透鏡8によつて光
路が変更され、プリント基板1の配線図2に照射
される。プリント基板1の配線図2では反射光が
発生し、基材3では螢光が発生する。更に、前記
基材3を透過した光23は、プリント基板1の下
側に位置する螢光体12に照射され、螢光33を
発生させる。螢光33は再びプリント基板1の基
材3を透過して上方へ向かう。然らば光34は配
線図2での反射光と基材3で発生した螢光と螢光
体12で発生し基材3を透過して来た螢光の合わ
さつた光である。光34は半透鏡8を通過して第
2のフイルタ9に入射する。第2のフイルタ9で
は反射光がカツトされ螢光35のみ透過され、結
像レンズ10で検出器11の結像面に結像され
る。
プリント基板1、光源5、コンデンサレンズ6、
第1のフイルタ7、半透鏡8、第2のフイルタ
9、結像レンズ10、検出器11は、第1図に示
した従来のパターン検出装置の同一符号のものと
同じ構成であるが新たに螢光体12が追加されて
いる。光源5から発した光21は第1のフイルタ
7でプリント基板1の基材3から螢光が発生しや
すい波長の光22に変わり、半透鏡8によつて光
路が変更され、プリント基板1の配線図2に照射
される。プリント基板1の配線図2では反射光が
発生し、基材3では螢光が発生する。更に、前記
基材3を透過した光23は、プリント基板1の下
側に位置する螢光体12に照射され、螢光33を
発生させる。螢光33は再びプリント基板1の基
材3を透過して上方へ向かう。然らば光34は配
線図2での反射光と基材3で発生した螢光と螢光
体12で発生し基材3を透過して来た螢光の合わ
さつた光である。光34は半透鏡8を通過して第
2のフイルタ9に入射する。第2のフイルタ9で
は反射光がカツトされ螢光35のみ透過され、結
像レンズ10で検出器11の結像面に結像され
る。
本実施例によれば、プリント基板1の基材3か
ら発生する螢光に加えて、螢光体12から発生し
基材3を透過してくる螢光も検出されるので検出
すべき螢光が増大し、検出信号のS/Nを改善で
きるという効果がある。
ら発生する螢光に加えて、螢光体12から発生し
基材3を透過してくる螢光も検出されるので検出
すべき螢光が増大し、検出信号のS/Nを改善で
きるという効果がある。
第3図は、スルーホール13を有するプリント
基板1に適用した実施例を示す。スルーホール1
3を通過した光24によつて螢光体12から螢光
33が発生し、かつスルーホール13を通過して
戻り、第2図における光34に合わさつた光36
になる。
基板1に適用した実施例を示す。スルーホール1
3を通過した光24によつて螢光体12から螢光
33が発生し、かつスルーホール13を通過して
戻り、第2図における光34に合わさつた光36
になる。
第4図はスルーホール13を有するプリント基
板1の検出器11で検出されたパターン像を示
す。スルーホール13がパツド14のパターン像
の中に検出される。
板1の検出器11で検出されたパターン像を示
す。スルーホール13がパツド14のパターン像
の中に検出される。
上記説明した実施例によれば、プリント基板1
がスルーホール13を有する場合、スルーホール
13を通過した光24によつて螢光体12から螢
光33が発生し、かつスルーホール13を通過し
て戻つてくる螢光33を検出することになるの
で、スルーホール13をパターン像として検出す
ることができるため、パツド14とスルーホール
13の位置ずれあるいはスルーホール13の径の
測定が可能になる。
がスルーホール13を有する場合、スルーホール
13を通過した光24によつて螢光体12から螢
光33が発生し、かつスルーホール13を通過し
て戻つてくる螢光33を検出することになるの
で、スルーホール13をパターン像として検出す
ることができるため、パツド14とスルーホール
13の位置ずれあるいはスルーホール13の径の
測定が可能になる。
以上説明したように本発明によれば、プリント
基板1の基材3から発生する螢光に加えて、螢光
体12から発生し、基材3を通過してくる螢光も
検出されるので検出すべき螢光の光量を増大させ
ることができ、検出信号のS/Nが改善されてプ
リント基板1上の配線パターンを精度よく検出で
きるという効果がある。
基板1の基材3から発生する螢光に加えて、螢光
体12から発生し、基材3を通過してくる螢光も
検出されるので検出すべき螢光の光量を増大させ
ることができ、検出信号のS/Nが改善されてプ
リント基板1上の配線パターンを精度よく検出で
きるという効果がある。
第1図は本発明に係る螢光検出方式のパターン
検出装置を示す側面図、第2図及び第3図は本発
明の一実施例のパターン検出装置を示す側面図、
第4図はパターン像を示す図である。 1……プリント基板、2……配線図、3……基
材、4……配線パターン、5……光源、6……コ
ンデンサレンズ、7……第1のフイルタ、8……
半透鏡、9……第2のフイルタ、10……結像レ
ンズ、11……検出器、12……螢光体、13…
…スルーホール、14……パツド、21,22,
23,24……照明光、31,34,36……螢
光と反射光の合わさつた光、32,33,35…
…螢光。
検出装置を示す側面図、第2図及び第3図は本発
明の一実施例のパターン検出装置を示す側面図、
第4図はパターン像を示す図である。 1……プリント基板、2……配線図、3……基
材、4……配線パターン、5……光源、6……コ
ンデンサレンズ、7……第1のフイルタ、8……
半透鏡、9……第2のフイルタ、10……結像レ
ンズ、11……検出器、12……螢光体、13…
…スルーホール、14……パツド、21,22,
23,24……照明光、31,34,36……螢
光と反射光の合わさつた光、32,33,35…
…螢光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 表面に配線パターンが形成されたプリント基
板の裏側に上記プリント基板の基材から発生する
螢光の波長とほぼ同じ波長の螢光を発生する螢光
体を置き、上記プリント基板の表面に光を照射し
て、上記プリント基板の基材から発生する螢光
と、上記プリント基板を透過した上記光により上
記螢光体から発生して上記プリント基板を透過し
た螢光とを加え合せて、該加え合せた螢光を検出
器で検出することにより上記プリント基板表面に
形成された配線パターンを検出することを特徴と
するパターン検出方法。 2 上記螢光体として、上記プリント基板の基材
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のパターン検出方法。 3 プリント基板の配線パターンに光を照射する
光源と、螢光を検出するための検出器と、前記光
源からの光を螢光が発生しやすい波長に限定する
ための第1のフイルタと、前記プリント基板の配
線パターンからの反射光をカツトし、螢光を透過
する第2のフイルタと、前記検出器に配線パター
ン像を結像するための結像レンズと、光源からの
光をプリント基板の配線面に向け、該配線面から
の反射光および螢光を前記結像レンズおよび検出
器側へ導く半透鏡と、プリント基板の裏側に位置
し、プリント基板の基材を透過する光により螢光
を発生する螢光体とを備え付けたことを特徴とす
るパターン検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24384783A JPS60135805A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | パタ−ン検出方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24384783A JPS60135805A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | パタ−ン検出方法及びその装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15473092A Division JPH0676884B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | パターン検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60135805A JPS60135805A (ja) | 1985-07-19 |
JPH0476042B2 true JPH0476042B2 (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=17109832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24384783A Granted JPS60135805A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | パタ−ン検出方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60135805A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0752096B2 (ja) * | 1986-03-07 | 1995-06-05 | 三菱化学株式会社 | ウエハ−発光波長及び面積測定装置 |
US6190759B1 (en) | 1998-02-18 | 2001-02-20 | International Business Machines Corporation | High optical contrast resin composition and electronic package utilizing same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52114483A (en) * | 1976-03-18 | 1977-09-26 | Agfa Gevaert Nv | Improvement for radioactiveeray conversion screens |
JPS5447579A (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-14 | Hitachi Ltd | Develping condiction inspecting method in photoetching |
-
1983
- 1983-12-26 JP JP24384783A patent/JPS60135805A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52114483A (en) * | 1976-03-18 | 1977-09-26 | Agfa Gevaert Nv | Improvement for radioactiveeray conversion screens |
JPS5447579A (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-14 | Hitachi Ltd | Develping condiction inspecting method in photoetching |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60135805A (ja) | 1985-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3617547B2 (ja) | 配線パターンを観察する方法および加工装置 | |
JP2512093B2 (ja) | 異物検出装置及び方法 | |
JPH0476042B2 (ja) | ||
TWI359371B (en) | Optical displacement detection apparatus and optic | |
JPS6080745A (ja) | 異物自動検出装置 | |
JPH0436336B2 (ja) | ||
JPH0676884B2 (ja) | パターン検出方法 | |
JP2519363B2 (ja) | プリント基板における配線パタ―ンの欠陥検査方法 | |
JPH10288508A (ja) | 外観検査装置 | |
JP4380926B2 (ja) | Cof用オートハンドラ | |
JPH0436335B2 (ja) | ||
JPS6128810A (ja) | マスク・パタ−ン観測方式 | |
JP3827999B2 (ja) | 赤外線撮像装置とその光源装置とバンドパスフィルタ | |
JPH08136876A (ja) | 基板検査装置 | |
JPS603507A (ja) | 配線パタ−ン検出装置 | |
JPH10170240A (ja) | パターン欠陥検査方法及びその装置 | |
JPH05296747A (ja) | 透明プリント板用蛍光検査装置 | |
JPH0495859A (ja) | プリント板光学検査装置 | |
JPH0555332A (ja) | 異物検査装置 | |
JPS57100742A (en) | Measuring and recording device | |
JPH0739993B2 (ja) | 検査方法および装置 | |
JPS5970947A (ja) | 印刷配線基板のパタ−ン検出方法 | |
JPH05312518A (ja) | 照明装置 | |
JP2781022B2 (ja) | はんだ付外観検査装置 | |
JPH0476405B2 (ja) |