JPH0669582A - 短波長光源 - Google Patents
短波長光源Info
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- JPH0669582A JPH0669582A JP5064926A JP6492693A JPH0669582A JP H0669582 A JPH0669582 A JP H0669582A JP 5064926 A JP5064926 A JP 5064926A JP 6492693 A JP6492693 A JP 6492693A JP H0669582 A JPH0669582 A JP H0669582A
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- diffraction grating
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3544—Particular phase matching techniques
- G02F1/3548—Quasi phase matching [QPM], e.g. using a periodic domain inverted structure
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- G—PHYSICS
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- G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
- G02F1/372—Means for homogenizing the output beam
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- G02F1/377—Non-linear optics for second-harmonic generation in an optical waveguide structure
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/065—Mode locking; Mode suppression; Mode selection ; Self pulsating
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
- H01S5/141—External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスクの高密度記録や画像処理等で要求
されている小型且つ安定で高効率な短波長光源や計測用
光源等に求められている波長可変短波長光源を提供す
る。 【構成】 半導体レーザー101と分極反転型バルク素
子102と回折格子103を組み合わせることで、安定
なグリーンやブルーの短波長レーザー光が可能となり、
更に、分極反転層の周期を分割構造やチャープ構造し回
折格子の角度を変化させることで波長可変の小型で高効
率な短波長光が実現される。
されている小型且つ安定で高効率な短波長光源や計測用
光源等に求められている波長可変短波長光源を提供す
る。 【構成】 半導体レーザー101と分極反転型バルク素
子102と回折格子103を組み合わせることで、安定
なグリーンやブルーの短波長レーザー光が可能となり、
更に、分極反転層の周期を分割構造やチャープ構造し回
折格子の角度を変化させることで波長可変の小型で高効
率な短波長光が実現される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度光ディスクシス
テム等に使用する、半導体レーザーと分極反転導波路を
組み合わせて出力が安定且つ高効率な短波長光源に関す
るものである。
テム等に使用する、半導体レーザーと分極反転導波路を
組み合わせて出力が安定且つ高効率な短波長光源に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザーを光源として高効率波長
変換によりグリーン、ブルー光源を得ることが、光ディ
スクの高密度記録や画像処理等で要求されているが、こ
こで得られる出力光の横モードがガウシアンで回折限界
近くまで集光でき、且つ出力が10mW程度で周波数的にも
時間的にも安定であることが必要である。
変換によりグリーン、ブルー光源を得ることが、光ディ
スクの高密度記録や画像処理等で要求されているが、こ
こで得られる出力光の横モードがガウシアンで回折限界
近くまで集光でき、且つ出力が10mW程度で周波数的にも
時間的にも安定であることが必要である。
【0003】また、計測用光源としては波長可変できる
短波長光源が必要とされている。半導体レーザーを光源
として10mW以上の高出力を得るには、波長変換素子とし
て擬位相整合(以下、QPMと記す)。方式の分極反転
導波路(山本他、オプティクス・レターズ Optics Let
ters Vol.16, No.15, 1156 (1991))、QPM方式の分
極反転型バルク素子、KNbO3(KN)などの非線形
定数が大きな結晶が有力視されている。
短波長光源が必要とされている。半導体レーザーを光源
として10mW以上の高出力を得るには、波長変換素子とし
て擬位相整合(以下、QPMと記す)。方式の分極反転
導波路(山本他、オプティクス・レターズ Optics Let
ters Vol.16, No.15, 1156 (1991))、QPM方式の分
極反転型バルク素子、KNbO3(KN)などの非線形
定数が大きな結晶が有力視されている。
【0004】図11に、半導体レーザーとQPM分極反
転導波路を用いた短波長光源の概略構成図を示す。半導
体レーザーB01から放射された光は、コリメートレン
ズB02により平行ビームに変換され、λ/2板B03
で偏向方向を回転させ、N.A.=0.6のフォーカシングレン
ズB04により導波路の入射端面B05に集光される。
そして波長変換されたブルー光が得られる。半導体レー
ザーへの戻り光を避けるため入射端面B05には無反射
コートを施してあるが、端面B05から約1%の戻り光が
生じる。
転導波路を用いた短波長光源の概略構成図を示す。半導
体レーザーB01から放射された光は、コリメートレン
ズB02により平行ビームに変換され、λ/2板B03
で偏向方向を回転させ、N.A.=0.6のフォーカシングレン
ズB04により導波路の入射端面B05に集光される。
そして波長変換されたブルー光が得られる。半導体レー
ザーへの戻り光を避けるため入射端面B05には無反射
コートを施してあるが、端面B05から約1%の戻り光が
生じる。
【0005】一方、光通信分野で周辺温度が変化しても
安定に単一波長で単一縦モード発振する半導体レーザー
が要求されている。半導体レーザーを安定に発振させる
方法として外部共振器型半導体レーザーが有力視されて
いる。(朝倉他、昭和62年度電子情報通信学会全国大
会)それを図12に示す。
安定に単一波長で単一縦モード発振する半導体レーザー
が要求されている。半導体レーザーを安定に発振させる
方法として外部共振器型半導体レーザーが有力視されて
いる。(朝倉他、昭和62年度電子情報通信学会全国大
会)それを図12に示す。
【0006】図12に外部共振器型半導体レーザーの概
略構成図を示す。C01は1.3μm帯のファブリペロー型
半導体レーザー、C02はN.A.=0.6のコリメートレン
ズ、C03は半導体レーザーの光軸に対して傾斜して配
置された外部共振器鏡基板であり、その基板の表面の一
部には反射型直線形状の回折格子C04が形成されてい
る。
略構成図を示す。C01は1.3μm帯のファブリペロー型
半導体レーザー、C02はN.A.=0.6のコリメートレン
ズ、C03は半導体レーザーの光軸に対して傾斜して配
置された外部共振器鏡基板であり、その基板の表面の一
部には反射型直線形状の回折格子C04が形成されてい
る。
【0007】半導体レーザーの片端面C05から放射さ
れた光は回折格子C04の波長分散効果によりある特定
の波長λだけが半導体レーザーの片端面C05に集光さ
れ活性層C06に光帰還する。他の波長λ’の光は活性
層C06の周辺部に集光されるように設計してある。特
定の波長λは、回折格子のピッチと基板の傾斜角に因っ
て決まる。片端面C05には無反射コートが施してあ
る。
れた光は回折格子C04の波長分散効果によりある特定
の波長λだけが半導体レーザーの片端面C05に集光さ
れ活性層C06に光帰還する。他の波長λ’の光は活性
層C06の周辺部に集光されるように設計してある。特
定の波長λは、回折格子のピッチと基板の傾斜角に因っ
て決まる。片端面C05には無反射コートが施してあ
る。
【0008】回折格子C04の形成方法について説明す
る。反射型回折格子はSi基板上に電子線レジストを形成
し、電子ビームを照射しその部分を除去することで形成
している。その表面には高反射を得るためAuの薄膜を形
成してある。
る。反射型回折格子はSi基板上に電子線レジストを形成
し、電子ビームを照射しその部分を除去することで形成
している。その表面には高反射を得るためAuの薄膜を形
成してある。
【0009】図13にコリメートレンズの省いた外部共
振器型半導体レーザーの概略構成図を示す。回折格子の
形状が図12とは違い円群の一部となっている以外は、
図12と同じ構成になっている。コリメートレンズを省
くことで共振器長を短くでき変調周波数が向上できる
(特願平1−30457号 外部共振型半導体レーザ及
び波長多重光伝送装置)。
振器型半導体レーザーの概略構成図を示す。回折格子の
形状が図12とは違い円群の一部となっている以外は、
図12と同じ構成になっている。コリメートレンズを省
くことで共振器長を短くでき変調周波数が向上できる
(特願平1−30457号 外部共振型半導体レーザ及
び波長多重光伝送装置)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図11に示す概略構成
図において、半導体レーザーの導波路内への入射光強度
35mWに対し1.1mWのブルー光を得た。しかし、QPM分
極反転導波路素子は波長許容度が0.2nmしかなく、また
半導体レーザーの温度の変化に対する発振波長の揺らぎ
が0.2nm/℃あり、戻り光によるモードホップが1nm程度
あるため、出力は数秒しか安定しない。そのため、半導
体レーザーの波長安定化が不可欠となる。
図において、半導体レーザーの導波路内への入射光強度
35mWに対し1.1mWのブルー光を得た。しかし、QPM分
極反転導波路素子は波長許容度が0.2nmしかなく、また
半導体レーザーの温度の変化に対する発振波長の揺らぎ
が0.2nm/℃あり、戻り光によるモードホップが1nm程度
あるため、出力は数秒しか安定しない。そのため、半導
体レーザーの波長安定化が不可欠となる。
【0011】同様に、分極反転型バルク素子やKN等の
位相整合する非線形結晶も波長許容度が小さく、半導体
レーザーを用いた波長変換を行うには、半導体レーザー
の波長安定化が不可欠となる。
位相整合する非線形結晶も波長許容度が小さく、半導体
レーザーを用いた波長変換を行うには、半導体レーザー
の波長安定化が不可欠となる。
【0012】また、半導体レーザーからは1波長の光源
しか得られず、波長を可変するためには半導体レーザー
の温度を変化させる必要があった。
しか得られず、波長を可変するためには半導体レーザー
の温度を変化させる必要があった。
【0013】本発明は以上示したような半導体レーザー
を光源とするQPM分極反転導波路の課題を克服し、小
型で高効率且つ安定な高調波出力を提供することを目的
とする。
を光源とするQPM分極反転導波路の課題を克服し、小
型で高効率且つ安定な高調波出力を提供することを目的
とする。
【0014】また、本発明は波長可変できる高調波出力
を提供することを目的とする。
を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、 (1)半導体レーザーと、フィードバックをかけるため
の回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式(QP
M)分極反転導波路などの波長変換素子と、半導体レー
ザーからの光を光導波路に導くための結合光学系とを備
え、前記波長変換素子が半導体レーザーと回折格子の間
に位置し、光導波路から出た波長変換されない基本波を
回折格子により光導波路内に再び光帰還させ、さらに半
導体レーザーの活性層に光帰還させることで、半導体レ
ーザーの発振波長を波長変換素子の波長許容幅内に安定
化し、高効率に高調波出力を得ようとするものである。
の回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式(QP
M)分極反転導波路などの波長変換素子と、半導体レー
ザーからの光を光導波路に導くための結合光学系とを備
え、前記波長変換素子が半導体レーザーと回折格子の間
に位置し、光導波路から出た波長変換されない基本波を
回折格子により光導波路内に再び光帰還させ、さらに半
導体レーザーの活性層に光帰還させることで、半導体レ
ーザーの発振波長を波長変換素子の波長許容幅内に安定
化し、高効率に高調波出力を得ようとするものである。
【0016】また本発明は、 (2)半導体レーザーと、フィードバックをかけるため
の回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式(QP
M)分極反転導波路などの波長変換素子と、半導体レー
ザーからの光を光導波路に導くための結合光学系とを備
え、前記波長変換素子が半導体レーザーと回折格子の間
に位置し、回折格子により半導体レーザーの活性層に光
帰還させ、前記波長変換素子中の分極反転周期が分割構
造またはチャープ構造をもち回折格子の角度を可変させ
ることで、波長可変のできる高調波出力を得ようとする
ものである。
の回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式(QP
M)分極反転導波路などの波長変換素子と、半導体レー
ザーからの光を光導波路に導くための結合光学系とを備
え、前記波長変換素子が半導体レーザーと回折格子の間
に位置し、回折格子により半導体レーザーの活性層に光
帰還させ、前記波長変換素子中の分極反転周期が分割構
造またはチャープ構造をもち回折格子の角度を可変させ
ることで、波長可変のできる高調波出力を得ようとする
ものである。
【0017】また本発明は、 (3)波長変換素子と回折格子を間にダイクロイックミ
ラーを設置して効率よく高調波光を取り出せる機能を有
するものである。
ラーを設置して効率よく高調波光を取り出せる機能を有
するものである。
【0018】
【作用】本発明は、回折格子と半導体レーザーを組み合
わせ、回折格子からの回折光を半導体レーザーに戻して
半導体レーザから出力する波長を安定化でき、QPM分
極反転導波路素子等の波長変換素子からの戻り光による
モードホップを抑制できるため、安定なグリーンやブル
ーの高調波光が実現されるものである。さらに波長変換
素子が半導体レーザーと回折格子の間に位置しているた
め、波長変換されない基本波を光帰還させることがで
き、高効率な短波長光源が実現できる。
わせ、回折格子からの回折光を半導体レーザーに戻して
半導体レーザから出力する波長を安定化でき、QPM分
極反転導波路素子等の波長変換素子からの戻り光による
モードホップを抑制できるため、安定なグリーンやブル
ーの高調波光が実現されるものである。さらに波長変換
素子が半導体レーザーと回折格子の間に位置しているた
め、波長変換されない基本波を光帰還させることがで
き、高効率な短波長光源が実現できる。
【0019】また、QPM分極反転型素子中の分極反転
周期を分割構造またはチャープ構造にすると、回折格子
の角度を可変させることで半導体レーザーの波長を可変
できるため、波長可変の短波長光源を実現できる。
周期を分割構造またはチャープ構造にすると、回折格子
の角度を可変させることで半導体レーザーの波長を可変
できるため、波長可変の短波長光源を実現できる。
【0020】
【実施例】本発明の半導体レーザーと波長変換素子と回
折格子を用いた短波長光源の概略構成図を図1に示す。
折格子を用いた短波長光源の概略構成図を図1に示す。
【0021】101は波長0.86μmの100mW級AlGaAs半導
体レーザー、102はLiTaO3のQPM分極反転型バルク
素子、103は半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾
斜して設置された回折格子である。
体レーザー、102はLiTaO3のQPM分極反転型バルク
素子、103は半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾
斜して設置された回折格子である。
【0022】半導体レーザーの端面104から出射した
レーザー光はN.A.=0.6のコリメートレンズ105により
平行光にされ、分極反転型バルク素子102に入射し波
長430nmに波長変換される。高調波光と波長変換されな
かった基本波が得られ、波長変換された高調波とされな
い基本波は、ダイクロイックミラー106で高調波と基
本波に分岐される。ダイクロイックミラーで分岐された
後、基本波だけが回折格子103に進み、回折格子10
3の波長分散効果によりある特定の波長だけが再び分極
反転型バルク素子を通過したのち半導体レーザー101
の端面104に集光され活性層に光帰還して半導体レー
ザーの波長が固定される。半導体レーザーの端面104
は2%程度の反射コートが施してあり、共振器は半導体
レーザーの両端面で構成されている。ただし、端面10
4に無反射コートを施して共振器を半導体レーザーの後
端面と回折格子との間で形成することも可能である。
レーザー光はN.A.=0.6のコリメートレンズ105により
平行光にされ、分極反転型バルク素子102に入射し波
長430nmに波長変換される。高調波光と波長変換されな
かった基本波が得られ、波長変換された高調波とされな
い基本波は、ダイクロイックミラー106で高調波と基
本波に分岐される。ダイクロイックミラーで分岐された
後、基本波だけが回折格子103に進み、回折格子10
3の波長分散効果によりある特定の波長だけが再び分極
反転型バルク素子を通過したのち半導体レーザー101
の端面104に集光され活性層に光帰還して半導体レー
ザーの波長が固定される。半導体レーザーの端面104
は2%程度の反射コートが施してあり、共振器は半導体
レーザーの両端面で構成されている。ただし、端面10
4に無反射コートを施して共振器を半導体レーザーの後
端面と回折格子との間で形成することも可能である。
【0023】回折格子103は、次式ピッチdを持つ直
線形状である。 d=λ/(2sinθ) (1) 本実施例においては、λ(LDの発振波長)=0.86μm
に対し、d=0.86μm、θ=30゜とし、回折格子103
の回折効率は90%以上であった。
線形状である。 d=λ/(2sinθ) (1) 本実施例においては、λ(LDの発振波長)=0.86μm
に対し、d=0.86μm、θ=30゜とし、回折格子103
の回折効率は90%以上であった。
【0024】本概略構成図では、ダイクロイックミラー
で高調波出力を効率よく取り出し、また波長変換に使わ
れなかった基本波を半導体レーザーに光帰還しているた
め高効率に波長変換がなされる。ダイクロイックミラー
を用いず、回折格子の反射光(0次光)として高調波光
を取り出すことも可能である。
で高調波出力を効率よく取り出し、また波長変換に使わ
れなかった基本波を半導体レーザーに光帰還しているた
め高効率に波長変換がなされる。ダイクロイックミラー
を用いず、回折格子の反射光(0次光)として高調波光
を取り出すことも可能である。
【0025】尚、概略構成図1では半導体レーザーから
出射した基本波をレンズでコリメートしてから波長変換
素子に入射し波長変換を行ったが、図2のようにコリメ
ートレンズを省いても光帰還させ、半導体レーザーの波
長を固定し波長変換を効率よく行うことができる。この
時、高調波は回折格子の法線方向にコリメート(1次
光)されるため、コリメートレンズが省け部品点数も少
なくなりコンパクトな構成となる。
出射した基本波をレンズでコリメートしてから波長変換
素子に入射し波長変換を行ったが、図2のようにコリメ
ートレンズを省いても光帰還させ、半導体レーザーの波
長を固定し波長変換を効率よく行うことができる。この
時、高調波は回折格子の法線方向にコリメート(1次
光)されるため、コリメートレンズが省け部品点数も少
なくなりコンパクトな構成となる。
【0026】この場合の回折格子は円群の一部分とな
る。図3を用いて回折格子の設計原理を示す。回折格子
の形成される平面基板上にx,yの直交座標系を仮定
し、光の発散点及び集光点となる活性層端面Pが前記座
標の原点からの垂線に対し、y軸方向にθの角をなす線
上に存在し、且つ距離fの位置に存在するとする。Pか
ら放射した光は回折格子上の点Gに到達し反射されてP
点に戻る時、その光の位相が揃うように回折格子が形成
されているとき外部共振器鏡として働く。即ち、 2PG=mλ+(定数) (2) ここでPGは点Pと点Gの距離、λは半導体レーザーの
波長、mは整数である。原点における前記定数の零とす
ると次式のようになる。
る。図3を用いて回折格子の設計原理を示す。回折格子
の形成される平面基板上にx,yの直交座標系を仮定
し、光の発散点及び集光点となる活性層端面Pが前記座
標の原点からの垂線に対し、y軸方向にθの角をなす線
上に存在し、且つ距離fの位置に存在するとする。Pか
ら放射した光は回折格子上の点Gに到達し反射されてP
点に戻る時、その光の位相が揃うように回折格子が形成
されているとき外部共振器鏡として働く。即ち、 2PG=mλ+(定数) (2) ここでPGは点Pと点Gの距離、λは半導体レーザーの
波長、mは整数である。原点における前記定数の零とす
ると次式のようになる。
【0027】 x2+(y−fsinθ)2=(mλ/2+f)2−(fcosθ)2 (3) ここでx,yは回折素子の形成される平面基板上の直交
座標であり、fは活性層端面と直交座標の原点との距
離、θは活性層端面と原点を結ぶ軸と回折格子の形成さ
れた平面基板の垂線とのなす角、λは半導体レーザーの
発振波長、mは整数である。
座標であり、fは活性層端面と直交座標の原点との距
離、θは活性層端面と原点を結ぶ軸と回折格子の形成さ
れた平面基板の垂線とのなす角、λは半導体レーザーの
発振波長、mは整数である。
【0028】また、概略構成図4のように波長変換素子
を半導体レーザーとコリメートレンズの間に設置する
と、よりビーム径が小さなところに波長変換素子をせっ
ちすることができるので、高効率な波長変換が行えた。
を半導体レーザーとコリメートレンズの間に設置する
と、よりビーム径が小さなところに波長変換素子をせっ
ちすることができるので、高効率な波長変換が行えた。
【0029】本発明に用いられるLiTaO3のQPM分極反
転型導波路素子の分極反転はプロトン交換を用いた瞬間
熱処理法により作製される。このように作製された素子
は均質性がよく低ロスで量産効果もあるので、本発明の
ような回折光をより多く半導体レーザーに帰還させるこ
とを望む構成においての効果は絶大である。
転型導波路素子の分極反転はプロトン交換を用いた瞬間
熱処理法により作製される。このように作製された素子
は均質性がよく低ロスで量産効果もあるので、本発明の
ような回折光をより多く半導体レーザーに帰還させるこ
とを望む構成においての効果は絶大である。
【0030】この素子の製造方法を図5をもちいて説明
する。まずLiTaO3基板501に通常のフォトプロセスと
ドライエッチングを用いてTaを周期状にパターニング
する。次にTaパターンが形成されたLiTaO3基板501
に260℃、30分間プロトン交換を行いTaで覆われ
ていないスリット直下に厚み0.8μmのプロトン交換
層を形成する。次に590℃の温度で10分間熱処理す
る。熱処理の上昇レートは10℃/分、冷却レートは5
0℃/分である。これにより分極反転層503が形成さ
れる。プロトン交換層直下はLiが減少しておりキュリ
ー温度が低下するため部分的に分極反転を行うことがで
きる。次にHF:HNF3の1:1混合液にて2分間エ
ッチングしTaを除去する。
する。まずLiTaO3基板501に通常のフォトプロセスと
ドライエッチングを用いてTaを周期状にパターニング
する。次にTaパターンが形成されたLiTaO3基板501
に260℃、30分間プロトン交換を行いTaで覆われ
ていないスリット直下に厚み0.8μmのプロトン交換
層を形成する。次に590℃の温度で10分間熱処理す
る。熱処理の上昇レートは10℃/分、冷却レートは5
0℃/分である。これにより分極反転層503が形成さ
れる。プロトン交換層直下はLiが減少しておりキュリ
ー温度が低下するため部分的に分極反転を行うことがで
きる。次にHF:HNF3の1:1混合液にて2分間エ
ッチングしTaを除去する。
【0031】次に上記分極反転層503中にプロトン交
換を用いて光導波路502を形成する。光導波路用マス
クとしてTaをストライプ状にパターニングを行うこと
でTaマスクに幅4μm、長さ12mmのスリットを形
成する。このTaマスクで覆われた基板501に260
℃、16分間プロトン交換を行い0.5μmの高屈折率
層を形成する。Taマスクを除去した後380℃で10
分間熱処理を行う。プロトン交換された保護マスクのス
リット直下の領域は屈折率が0.02程度上昇した光導
波路502となる。
換を用いて光導波路502を形成する。光導波路用マス
クとしてTaをストライプ状にパターニングを行うこと
でTaマスクに幅4μm、長さ12mmのスリットを形
成する。このTaマスクで覆われた基板501に260
℃、16分間プロトン交換を行い0.5μmの高屈折率
層を形成する。Taマスクを除去した後380℃で10
分間熱処理を行う。プロトン交換された保護マスクのス
リット直下の領域は屈折率が0.02程度上昇した光導
波路502となる。
【0032】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転
導波路と回折格子を用いた短波長光源の概略構成図を図
6に示す。
導波路と回折格子を用いた短波長光源の概略構成図を図
6に示す。
【0033】601は波長0.86μmの100mW級AlGaAs半導
体レーザー、602はLiTaO3のQPM分極反転導波路、
603は半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾斜して
設置された回折格子である。
体レーザー、602はLiTaO3のQPM分極反転導波路、
603は半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾斜して
設置された回折格子である。
【0034】半導体レーザーの端面604から出射した
レーザー光はN.A.=0.6のコリメートレンズ605により
平行光にされλ/2板606で偏光方向を90度回転さ
せ、N.A.=0.6のフォーカシングレンズ107で導波路端
面108に集光され、分極反転導波路602を伝ぱんし
た光は波長430nmに波長変換され、高調波光と波長変換
されなかった基本波が端面609より出射される。出射
された高調波と基本波はN.A.=0.65のレンズ610でコ
リメートされ、ダイクロイックミラー611で高調波と
基本波に分岐される。このとき、3mWのブルー光が得
られた。ダイクロイックミラーで分岐された後、基本波
だけが回折格子603に進み、回折格子603の波長分
散効果によりある特定の波長だけが再び分極反転導波路
602の端面609に集光され、端面608から出射し
た光は半導体レーザー601の端面604に集光され活
性層に光帰還して半導体レーザーの波長が固定される。
レーザー光はN.A.=0.6のコリメートレンズ605により
平行光にされλ/2板606で偏光方向を90度回転さ
せ、N.A.=0.6のフォーカシングレンズ107で導波路端
面108に集光され、分極反転導波路602を伝ぱんし
た光は波長430nmに波長変換され、高調波光と波長変換
されなかった基本波が端面609より出射される。出射
された高調波と基本波はN.A.=0.65のレンズ610でコ
リメートされ、ダイクロイックミラー611で高調波と
基本波に分岐される。このとき、3mWのブルー光が得
られた。ダイクロイックミラーで分岐された後、基本波
だけが回折格子603に進み、回折格子603の波長分
散効果によりある特定の波長だけが再び分極反転導波路
602の端面609に集光され、端面608から出射し
た光は半導体レーザー601の端面604に集光され活
性層に光帰還して半導体レーザーの波長が固定される。
【0035】回折格子603は、概略構成図1で用いら
れた回折格子103と同様の直線形状グレーティングで
ある。
れた回折格子103と同様の直線形状グレーティングで
ある。
【0036】図7に半導体レーザーの波長が光帰還によ
り安定に固定されているときの高調波出力の時間特性示
す。安定な高調波出力が得られた。
り安定に固定されているときの高調波出力の時間特性示
す。安定な高調波出力が得られた。
【0037】本概略構成図では、ダイクロイックミラー
で高調波出力を効率よく取り出し、また波長変換に使わ
れなかった基本波を半導体レーザーに光帰還しているた
め高効率に波長変換がなされる。
で高調波出力を効率よく取り出し、また波長変換に使わ
れなかった基本波を半導体レーザーに光帰還しているた
め高効率に波長変換がなされる。
【0038】尚、概略構成図6ではQPM分極反転導波
路から出射した基本波と高調波をレンズでコリメートし
てからダイクロイックミラーで分岐し基本波だけを回折
格子で光帰還させたが、図8のようにコリメートレンズ
を省いても光帰還させることができる。この場合の回折
格子は円群の一部分となる。この時、高調波は回折格子
の法線方向にコリメート(1次光)されるため、コリメ
ートレンズが省け部品点数も少なくなりコンパクトな構
成となる。
路から出射した基本波と高調波をレンズでコリメートし
てからダイクロイックミラーで分岐し基本波だけを回折
格子で光帰還させたが、図8のようにコリメートレンズ
を省いても光帰還させることができる。この場合の回折
格子は円群の一部分となる。この時、高調波は回折格子
の法線方向にコリメート(1次光)されるため、コリメ
ートレンズが省け部品点数も少なくなりコンパクトな構
成となる。
【0039】概略構成図1から8(3と7を除く)にお
いて、図9のように半導体レーザーの波長を回折格子の
角度θを変化させることで20nm程度波長可変することが
できる。そのため、分極反転型バルク素子や導波路素子
の分極反転周期をチャープ構造または分割構造にするこ
とで、回折格子の角度変化による波長チューニングを行
うことができる。図10を用いて、分極反転型導波路素
子を用いて波長可変を行った。
いて、図9のように半導体レーザーの波長を回折格子の
角度θを変化させることで20nm程度波長可変することが
できる。そのため、分極反転型バルク素子や導波路素子
の分極反転周期をチャープ構造または分割構造にするこ
とで、回折格子の角度変化による波長チューニングを行
うことができる。図10を用いて、分極反転型導波路素
子を用いて波長可変を行った。
【0040】図10(a)に概略構成図1で用いた分極反
転型導波路を概略図を示す。図10(a)では波長860nmに
対して擬似位相整合が成り立つように、LiTaO3基板A0
1上に周期3.8μmで均一に1次の分極反転層A02が形
成されている。しかし、図10(b)のように分割構造や
(c)のようにチャープ構造を形成することで図1の回折
格子103の角度θを変えることで高調波の波長を可変
することができる。
転型導波路を概略図を示す。図10(a)では波長860nmに
対して擬似位相整合が成り立つように、LiTaO3基板A0
1上に周期3.8μmで均一に1次の分極反転層A02が形
成されている。しかし、図10(b)のように分割構造や
(c)のようにチャープ構造を形成することで図1の回折
格子103の角度θを変えることで高調波の波長を可変
することができる。
【0041】図10(b)の概略図は分割数が3の時であ
り、素子長15mmに対し各分割領域の長さは5mmである。
分割領域Iは分極反転層の周期は3.6μmであり、IIびII
Iの周期はそれぞれ3.8μm、4.0μmである。回折格子の
角度θを変化させると、分割領域I、II、IIIに対して
擬似位相整合が成り立つ波長850nm、860nm、870nmの高
調波出力425nm、430nm、435nmの3波長を選択的に得る
ことができた。
り、素子長15mmに対し各分割領域の長さは5mmである。
分割領域Iは分極反転層の周期は3.6μmであり、IIびII
Iの周期はそれぞれ3.8μm、4.0μmである。回折格子の
角度θを変化させると、分割領域I、II、IIIに対して
擬似位相整合が成り立つ波長850nm、860nm、870nmの高
調波出力425nm、430nm、435nmの3波長を選択的に得る
ことができた。
【0042】また、図10(c)は分極反転層の周期をチ
ャープ構造に形成した時の概略図を示している。素子の
長さは15mm、端面A04側の周期が3.6μm、端面A05
側の周期が4.0μmで、リニアなチャープ構造になるよう
分極反転層が形成されている。この場合、回折格子の角
度θを変化させることで波長425nmから435nmまで連続的
に高調波出力の波長を可変することができた。
ャープ構造に形成した時の概略図を示している。素子の
長さは15mm、端面A04側の周期が3.6μm、端面A05
側の周期が4.0μmで、リニアなチャープ構造になるよう
分極反転層が形成されている。この場合、回折格子の角
度θを変化させることで波長425nmから435nmまで連続的
に高調波出力の波長を可変することができた。
【0043】尚、本実施例ではLiTaO3基板の分極反転型
バルク素子および分極反転導波路を用いた。LiNbO3やKT
P等の他の無機の分極反転素子や有機の分極反転素子を
用いることもできる。さらに、KNのような波長許容度
の小さい非線形結晶に置き換えても同様の効果が得ら
れ、高効率で安定な波長変換により高出力の短波長光源
をえらことができた。
バルク素子および分極反転導波路を用いた。LiNbO3やKT
P等の他の無機の分極反転素子や有機の分極反転素子を
用いることもできる。さらに、KNのような波長許容度
の小さい非線形結晶に置き換えても同様の効果が得ら
れ、高効率で安定な波長変換により高出力の短波長光源
をえらことができた。
【0044】
【発明の効果】本発明は、半導体レーザーとQPM分極
反転導波路と回折格子を組み合わせ、半導体レーザーと
回折格子を間にQPM分極反転導波路を設置すること
で、波長変換されなかった基本波を光帰還させることが
でき、安定なグリーンやブルーの短波長光源が実現され
るので、出力が低ノイズで安定であることが必要とされ
る光ディスク用の光源を実現できその実用的効果は大き
い。
反転導波路と回折格子を組み合わせ、半導体レーザーと
回折格子を間にQPM分極反転導波路を設置すること
で、波長変換されなかった基本波を光帰還させることが
でき、安定なグリーンやブルーの短波長光源が実現され
るので、出力が低ノイズで安定であることが必要とされ
る光ディスク用の光源を実現できその実用的効果は大き
い。
【0045】また、QPM分極反転導波路中の分極反転
周期が分割構造またはチャープ構造をもち回折格子の角
度を可変させることで、波長可変のできる短波長光源が
実現できるため、計測用の光源としても実用的効果は大
きい。
周期が分割構造またはチャープ構造をもち回折格子の角
度を可変させることで、波長可変のできる短波長光源が
実現できるため、計測用の光源としても実用的効果は大
きい。
【図1】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転型バ
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
【図2】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転型バ
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
【図3】回折格子の設計説明図
【図4】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転型バ
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
ルク素子と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構
成図
【図5】分極反転型波長変換素子の概略構成斜視図
【図6】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転型導
波路と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構成図
波路と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構成図
【図7】本発明の回折格子により波長が安定に固定され
ているときの高調波出力の時間安定性を示す特性図
ているときの高調波出力の時間安定性を示す特性図
【図8】本発明の半導体レーザーとQPM分極反転型導
波路と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構成図
波路と回折格子の組合せによる短波長光源の概略構成図
【図9】本発明の回折格子の角度と半導体レーザーの波
長との関係図
長との関係図
【図10】(a)は本発明の分極反転周期が一定の時の
QPM分極反転導波路上の分極反転層の概略図 (b)は本発明の分極反転周期が分割構造の時のQPM
分極反転導波路上の分極反転層の概略図 (c)は分極反転周期がチャープ構造の時のQPM分極
反転導波路上の分極反転層の概略図
QPM分極反転導波路上の分極反転層の概略図 (b)は本発明の分極反転周期が分割構造の時のQPM
分極反転導波路上の分極反転層の概略図 (c)は分極反転周期がチャープ構造の時のQPM分極
反転導波路上の分極反転層の概略図
【図11】従来の半導体レーザーとQPM分極反転導波
路の組み合せによる短波長光源の概略構成図
路の組み合せによる短波長光源の概略構成図
【図12】従来の外部共振器鏡半導体レーザーの概略構
成図
成図
【図13】従来の外部共振器鏡半導体レーザーの概略構
成図
成図
101 半導体レーザー 102 分極反転型バルク素子 103 回折格子 104 端面 105 コリメートレンズ 106 ダイクロイックミラー 201 半導体レーザー 202 分極反転型バルク素子 203 回折格子 401 半導体レーザー 402 分極反転型バルク素子 403 回折格子 404 端面 405 コリメートレンズ 406 ダイクロイックミラー 501 LiTaO3基板 502 光導波路 503 分極反転層 504 非分極反転層 505 入射面 601 半導体レーザー 602 分極反転型バルク素子 603 回折格子 604 端面 605 コリメートレンズ 606 λ/2板 607 フォーカシングレンズ 608 端面 609 端面 610 レンズ 611 ダイクロイックミラー 801 半導体レーザー 802 QPM分極反転導波路 803 回折格子 804 端面 805 コリメートレンズ 806 λ/2板 807 フォーカシングレンズ A01 LiTaO3基板 A02 分極反転層 A03 導波路 A04 端面 A05 端面 B01 半導体レーザー B02 コリメートレンズ B03 λ/2板 B04 フォーカシングレンズ B05 端面 C01 半導体レーザー C02 コリメートレンズ C03 外部共振器鏡基板 C04 回折格子 C05 端面 CO6 活性層 D01 半導体レーザー D02 外部共振器鏡基板 D03 回折格子 D04 活性層
フロントページの続き (72)発明者 加藤 誠 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、波長変換用素子を備え、前記波長
変換用素子が半導体レーザーと回折格子の間に位置し、
前記波長変換素子から出た波長変換されない基本波を回
折格子により半導体レーザーの活性層に光帰還させるこ
とで、半導体レーザーの発振波長を波長変換用素子の波
長許容幅内に安定化することを特徴とする短波長光源。 - 【請求項2】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式
(QPM)分極反転導波路と、半導体レーザーからの光
を光導波路に導くための結合光学系とを備え、前記QP
M分極反転導波路が半導体レーザーと回折格子の間に位
置し、光導波路から出た波長変換されない基本波を回折
格子により光導波路内に再び光帰還させ、さらに半導体
レーザーの活性層に光帰還させることで、半導体レーザ
ーの発振波長をQPM分極反転導波路の波長許容幅内に
安定化することを特徴とする短波長光源。 - 【請求項3】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、分極反転型波長変換用素子を備
え、前記分極反転型波長変換用素子が半導体レーザーと
回折格子の間に位置し、前記波長変換素子から出た波長
変換されない基本波を回折格子により半導体レーザーの
活性層に光帰還させ、前記分極反転型波長変換用素子中
の分極反転周期が分割構造またはチャープ構造をもち、
回折格子の角度を可変させることで出射される高調波の
波長を可変することができることを特徴とする短波長光
源。 - 【請求項4】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式
(QPM)分極反転導波路と、半導体レーザーからの光
を光導波路に導くための結合光学系とを備え、前記QP
M分極反転導波路が半導体レーザーと回折格子の間に位
置し、前記波長変換素子から出た波長変換されない基本
波を回折格子により半導体レーザーの活性層に光帰還さ
せ、前記QPM分極反転導波路中の分極反転周期が分割
構造またはチャープ構造をもち、回折格子の角度を可変
させることで出射される高調波の波長を可変することが
できることを特徴とする短波長光源。 - 【請求項5】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、波長変換用素子を備え、前記波長
変換用素子が半導体レーザーと回折格子の間に位置し、
前記波長変換用素子と回折格子の間にダイクロイックミ
ラーを設置して効率よく高調波光を取り出すことを特徴
とする短波長光源。 - 【請求項6】半導体レーザーと、フィードバックをかけ
るための回折格子と、波長変換のための擬位相整合方式
(QPM)分極反転導波路と、半導体レーザーからの光
を光導波路に導くための結合光学系とを備え、前記QP
M分極反転導波路が半導体レーザーと回折格子の間に位
置し、前記QPM分極反転導波路と回折格子の間にダイ
クロイックミラーを設置して高調波光を取り出すことを
特徴とする短波長光源。 - 【請求項7】波長変換用素子としてKTPまたはLiNbxT
a1-xO3基板を用いた分極反転型素子であることを特徴と
する請求項1、3、5いずれか1項に記載の短波長光源。 - 【請求項8】擬似位相整合方式(QPM)分極反転導波
路としてKTPまたはLiNbxTa1-xO3基板を用い
ることを特徴とする請求項2、4、6いずれか1項に記載の
短波長光源。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5064926A JP3052651B2 (ja) | 1992-06-17 | 1993-03-24 | 短波長光源 |
US08/076,666 US5387998A (en) | 1992-06-17 | 1993-06-15 | Shorter wavelength light generating apparatus in which coherent light is converted into shorter wavelength light |
DE69317074T DE69317074T2 (de) | 1992-06-17 | 1993-06-16 | Vorrichtung zur Erzeugung von kohärentem Licht mit kurzer Wellenlänge |
EP93304691A EP0576197B1 (en) | 1992-06-17 | 1993-06-16 | Short wavelength coherent light generating apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15768692 | 1992-06-17 | ||
JP4-157686 | 1992-06-17 | ||
JP5064926A JP3052651B2 (ja) | 1992-06-17 | 1993-03-24 | 短波長光源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0669582A true JPH0669582A (ja) | 1994-03-11 |
JP3052651B2 JP3052651B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=26406064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5064926A Expired - Fee Related JP3052651B2 (ja) | 1992-06-17 | 1993-03-24 | 短波長光源 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5387998A (ja) |
EP (1) | EP0576197B1 (ja) |
JP (1) | JP3052651B2 (ja) |
DE (1) | DE69317074T2 (ja) |
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JP2008028380A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ光源装置及び画像表示装置 |
JP2008084931A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Matsushita Electric Works Ltd | レーザ発振装置 |
US8023549B2 (en) | 2009-09-30 | 2011-09-20 | Nichia Corporation | Tuning method of external cavity laser diode, variable wavelength laser module, and program of external cavity laser diode tuning |
US9505586B2 (en) | 2011-03-30 | 2016-11-29 | Mitsubishi Electric Corporation | Assigned car information display apparatus for elevators |
Families Citing this family (28)
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US5619369A (en) * | 1992-07-16 | 1997-04-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Diffracting device having distributed bragg reflector and wavelength changing device having optical waveguide with periodically inverted-polarization layers |
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