JPH0665514A - 金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体 - Google Patents
金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体Info
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- JPH0665514A JPH0665514A JP5126261A JP12626193A JPH0665514A JP H0665514 A JPH0665514 A JP H0665514A JP 5126261 A JP5126261 A JP 5126261A JP 12626193 A JP12626193 A JP 12626193A JP H0665514 A JPH0665514 A JP H0665514A
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式〔Ｉ〕で示されるアゾ系化合物と金属
とのアゾ金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学
記録媒体。 【化１】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｘはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香族を
形成する残基を表し、Ｒ1 は置換されていてもよいアル
キル基、置換されていてもよいアリール基、置換されて
いてもよいアルケニル基又は置換されていてもよいシク
ロアルキル基を表し、Ｙは水素原子又はカチオンを表わ
し、ｎは１〜３の整数である。） 【効果】 本発明のアゾ系化合物の金属キレート化合物
は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によるコーテ
ィングが可能であり、しかも感度が良好で耐光性、保存
安定性にすぐれているもので、該金属キレート化合物を
用いた光学記録媒体は工業的に極めて有用なものであ
る。
とのアゾ金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学
記録媒体。 【化１】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｘはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香族を
形成する残基を表し、Ｒ1 は置換されていてもよいアル
キル基、置換されていてもよいアリール基、置換されて
いてもよいアルケニル基又は置換されていてもよいシク
ロアルキル基を表し、Ｙは水素原子又はカチオンを表わ
し、ｎは１〜３の整数である。） 【効果】 本発明のアゾ系化合物の金属キレート化合物
は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によるコーテ
ィングが可能であり、しかも感度が良好で耐光性、保存
安定性にすぐれているもので、該金属キレート化合物を
用いた光学記録媒体は工業的に極めて有用なものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アゾ系化合物と金属塩
との新規なアゾ金属キレート化合物及び該化合物を用い
た光学記録媒体に関する。
との新規なアゾ金属キレート化合物及び該化合物を用い
た光学記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザーを用いた光学記録は、高密度の
情報記録保存及び再生を可能とするため、近年、特にそ
の開発が取り進められている。光学記録媒体の一例とし
ては、光ディスクを挙げることができる。一般に、光デ
ィスクは、円形の基体に設けられた薄い記録層に、１μ
ｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高密度の情報記
録を行なうものである。その記録は、照射されたレーザ
ー光エネルギーの吸収によって、その個所の記録層に、
分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することにより行
なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザー光
により変形が起きている部分と起きていない部分の反射
率の差を読み取ることにより行なわれる。したがって、
光学記録媒体としては、レーザー光のエネルギーを効率
よく吸収する必要がありレーザー吸収色素が用いられ
る。
情報記録保存及び再生を可能とするため、近年、特にそ
の開発が取り進められている。光学記録媒体の一例とし
ては、光ディスクを挙げることができる。一般に、光デ
ィスクは、円形の基体に設けられた薄い記録層に、１μ
ｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高密度の情報記
録を行なうものである。その記録は、照射されたレーザ
ー光エネルギーの吸収によって、その個所の記録層に、
分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することにより行
なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザー光
により変形が起きている部分と起きていない部分の反射
率の差を読み取ることにより行なわれる。したがって、
光学記録媒体としては、レーザー光のエネルギーを効率
よく吸収する必要がありレーザー吸収色素が用いられ
る。
【０００３】この種の光学記録媒体として、種々の構成
のものが知られている。例えば、特開昭５５−９７０３
３号公報には、基板上にフタロシアニン系色素の単層を
設けたものが開示されている。しかしながらフタロシア
ニン系色素は感度が低く、また分解点が高く蒸着しにく
い等の問題点を有し、さらに有機溶媒に対する溶解性が
著しく低く、塗布によるコーティングに使用することが
できないという問題点も有している。
のものが知られている。例えば、特開昭５５−９７０３
３号公報には、基板上にフタロシアニン系色素の単層を
設けたものが開示されている。しかしながらフタロシア
ニン系色素は感度が低く、また分解点が高く蒸着しにく
い等の問題点を有し、さらに有機溶媒に対する溶解性が
著しく低く、塗布によるコーティングに使用することが
できないという問題点も有している。
【０００４】また、特開昭５８−１１２７９０号、同５
８−１１４９８９号、同５９−８５７９１号、同６０−
８３２３６号各公報にはシアニン系色素を記録層に設け
たものが開示されている。しかし、このような色素は溶
解性が高く、塗布によるコーティングが可能であるとい
う利点の反面、耐光性が劣るという問題点を有してい
る、このため、特開昭５９−５５７９５号公報には、こ
のシアニン系色素にクエンチャーを加えて耐光性を向上
させることが検討されているが、まだまだ不充分なレベ
ルである。
８−１１４９８９号、同５９−８５７９１号、同６０−
８３２３６号各公報にはシアニン系色素を記録層に設け
たものが開示されている。しかし、このような色素は溶
解性が高く、塗布によるコーティングが可能であるとい
う利点の反面、耐光性が劣るという問題点を有してい
る、このため、特開昭５９−５５７９５号公報には、こ
のシアニン系色素にクエンチャーを加えて耐光性を向上
させることが検討されているが、まだまだ不充分なレベ
ルである。
【０００５】これらの問題点に関して特開昭６２−３０
０９０号公報には、有機溶媒に対する溶解性及び耐光性
を改良した媒体として、モノアゾ化合物と金属との錯体
が開示されている。しかしながら、これらの化合物は、
感光波長が短かく感度が劣り、さらに、高温高湿下での
保存安定性が劣っており、記録媒体としては問題点を有
していた。
０９０号公報には、有機溶媒に対する溶解性及び耐光性
を改良した媒体として、モノアゾ化合物と金属との錯体
が開示されている。しかしながら、これらの化合物は、
感光波長が短かく感度が劣り、さらに、高温高湿下での
保存安定性が劣っており、記録媒体としては問題点を有
していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決する記録用色素及びそれを用いた光学記録媒体
として、感度、保存安定性、耐候性に優れたスピンコー
ティングに適したアゾ系化合物と金属とのアゾ金属キレ
ート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
点を解決する記録用色素及びそれを用いた光学記録媒体
として、感度、保存安定性、耐候性に優れたスピンコー
ティングに適したアゾ系化合物と金属とのアゾ金属キレ
ート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記一般式
〔Ｉ〕で示されるアゾ系化合物と金属とのアゾ金属キレ
ート化合物及び該化合物を記録用色素として用いた光学
記録媒体をその要旨とするものである。以下、本発明に
つき詳細に説明する。
〔Ｉ〕で示されるアゾ系化合物と金属とのアゾ金属キレ
ート化合物及び該化合物を記録用色素として用いた光学
記録媒体をその要旨とするものである。以下、本発明に
つき詳細に説明する。
【０００８】本発明における好ましいアゾ系化合物とし
ては、前記一般式〔II〕で示される化合物が挙げられ
る。より好ましいアゾ系化合物としては、前記一般式
〔III 〕で示される化合物が挙げられる。更に好ましい
アゾ系化合物としては、前記一般式〔IV〕で示される化
合物が挙げられる。
ては、前記一般式〔II〕で示される化合物が挙げられ
る。より好ましいアゾ系化合物としては、前記一般式
〔III 〕で示される化合物が挙げられる。更に好ましい
アゾ系化合物としては、前記一般式〔IV〕で示される化
合物が挙げられる。
【０００９】特に好ましいアゾ系化合物としては前記一
般式〔Ｖ〕で示される化合物が挙げられる。前記一般式
〔Ｉ〕において、Ａとしては、それが結合している炭素
原子と窒素原子と一緒になって複素環を形成するもので
あればよく、特に限定されない。例えば、一般式〔Ｉ〕
における
般式〔Ｖ〕で示される化合物が挙げられる。前記一般式
〔Ｉ〕において、Ａとしては、それが結合している炭素
原子と窒素原子と一緒になって複素環を形成するもので
あればよく、特に限定されない。例えば、一般式〔Ｉ〕
における
【００１０】
【化６】
【００１１】としては下記のものが挙げられる。
【００１２】
【化７】
【００１３】（式中、環Ｄは置換基を有していてもよ
く、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル
基、ホルミル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ト
リフルオロメトキシ基、シアノ基、アルキルチオ基等が
挙げられ、Ｚ1 としては水素原子、アルキル基、ハロゲ
ン原子、アリール基等を表わし、Ｚ2 は水素原子、水素
アルキル基等を表わす。） Ｘとしては、それが結合している２つの炭素原子と一緒
になって、ベンゼン環、ナフタレン環等の芳香環を形成
する基が挙げられる。
く、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル
基、ホルミル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ト
リフルオロメトキシ基、シアノ基、アルキルチオ基等が
挙げられ、Ｚ1 としては水素原子、アルキル基、ハロゲ
ン原子、アリール基等を表わし、Ｚ2 は水素原子、水素
アルキル基等を表わす。） Ｘとしては、それが結合している２つの炭素原子と一緒
になって、ベンゼン環、ナフタレン環等の芳香環を形成
する基が挙げられる。
【００１４】前記一般式〔II〕において、−ＳＲ1 基以
外の環Ｂの置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニ
ル基、アルキルカルボニル基、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、アルキルチオ基、ホルミル基
等が挙げられる。前記一般式〔III 〕において、−ＳＯ
3 Ｙ基以外の環Ｃの置換基としてはアルキル基、アルコ
キシ基、ハロゲン原子等が挙げられ、Ｒ2 及びＲ3 とし
ては、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基、又はシクロアルキル基を表し、
これらの基は置換されていてもよい。
外の環Ｂの置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニ
ル基、アルキルカルボニル基、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、アルキルチオ基、ホルミル基
等が挙げられる。前記一般式〔III 〕において、−ＳＯ
3 Ｙ基以外の環Ｃの置換基としてはアルキル基、アルコ
キシ基、ハロゲン原子等が挙げられ、Ｒ2 及びＲ3 とし
ては、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基、又はシクロアルキル基を表し、
これらの基は置換されていてもよい。
【００１５】Ｒ2 及びＲ3 で示されるアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基又はシクロアルキル基の置換基と
しては、例えば、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ
基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ
基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、アルキルス
ルホニルアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられ、この
他、アリール基、シクロアルキル基の置換基としてアル
キル基又はビニル基が挙げられる。
ール基、アルケニル基又はシクロアルキル基の置換基と
しては、例えば、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ
基、アルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ
基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、アルキルス
ルホニルアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられ、この
他、アリール基、シクロアルキル基の置換基としてアル
キル基又はビニル基が挙げられる。
【００１６】本発明において、金属とキレート化合物を
形成するアゾ系化合物の具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられ、これらは単独又は複数を組み合わせ
て用いることができる。
形成するアゾ系化合物の具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられ、これらは単独又は複数を組み合わせ
て用いることができる。
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】本発明において、アゾ系化合物とキレート
化合物を形成する金属としては、一般に該アゾ系化合物
とキレート化合物を形成する能力のある金属なら特に制
限はないが、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ
ｓ、Ｉｒ、Ｐｔ等の遷移元素が好ましく、特にＮｉ、Ｃ
ｏが好ましい。本発明のアゾ金属キレート化合物の一般
的合成は、たとえば古川；Ａｎａｌｙｔｉｃａ Ｃｈｉ
ｍｉｃａ Ａｃｔａ １４０（１９８２）２８１−２８
９の記載に準じて行うことができる。
化合物を形成する金属としては、一般に該アゾ系化合物
とキレート化合物を形成する能力のある金属なら特に制
限はないが、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏ
ｓ、Ｉｒ、Ｐｔ等の遷移元素が好ましく、特にＮｉ、Ｃ
ｏが好ましい。本発明のアゾ金属キレート化合物の一般
的合成は、たとえば古川；Ａｎａｌｙｔｉｃａ Ｃｈｉ
ｍｉｃａ Ａｃｔａ １４０（１９８２）２８１−２８
９の記載に準じて行うことができる。
【００２５】すなわち、一般式〔VI〕
【００２６】
【化１５】
【００２７】（式中、環Ｂ、Ｒ1 及びｎは前記定義に同
じ。）で示されるアミノ化合物を常法に従い、ジアゾ化
し、下記一般式〔VII 〕
じ。）で示されるアミノ化合物を常法に従い、ジアゾ化
し、下記一般式〔VII 〕
【００２８】
【化１６】
【００２９】（式中、環Ｃ、Ｒ2 、Ｒ3 及びＹは前記定
義に同じ。）で示される置換アニリンスルホン酸誘導体
とカップリングさせて前記一般式〔III 〕で示されるア
ゾ系化合物を得、ついで上記アゾ系化合物と金属塩と水
及び／又はジオキサン、テトラヒドロフラン、アセト
ン、エタノール、メタノール等の有機溶媒中、反応させ
ることによって本発明のアゾ金属キレート化合物を製造
することができる。
義に同じ。）で示される置換アニリンスルホン酸誘導体
とカップリングさせて前記一般式〔III 〕で示されるア
ゾ系化合物を得、ついで上記アゾ系化合物と金属塩と水
及び／又はジオキサン、テトラヒドロフラン、アセト
ン、エタノール、メタノール等の有機溶媒中、反応させ
ることによって本発明のアゾ金属キレート化合物を製造
することができる。
【００３０】該金属キレート化合物の製造に用いる金属
塩の陰イオンとしては、ＳＣＮ- 、ＳｂＦ6 - 、Ｃ
ｌ- 、Ｂｒ- 、Ｆ- 、ＣｌＯ4 - 、ＢＦ4 - 、Ｐ
Ｆ6 - 、ＣＨ3ＣＯＯ- 、ＴｉＦ6 2 - 、Ｓｉ
Ｆ6 2 - 、ＺｒＦ6 2 - 、Ｐｈ−ＳＯ3 - 、ＣＨ 3 −Ｐ
ｈ−ＳＯ3 - 、Ｂ- −（Ｐｈ）4 等の一価又は二価の陰
イオンが挙げられ、特にＣＨ3 ＣＯＯ- が好ましい（前
記式中、Ｐｈはベンゼン環を表わす）。本発明の光学的
記録媒体は、基本的には基板と前記アゾ系化合物の金属
キレート化合物を含む記録層とから構成されるものであ
るが、さらに必要に応じて基板上に下引き層を設けるこ
とができる。また、好ましい層構成としては、記録層上
に金、アルミニウムのような金属反射層及び保護層を設
けて高反射率の媒体とし、迫記型のＣＤメディアとする
ことができる。
塩の陰イオンとしては、ＳＣＮ- 、ＳｂＦ6 - 、Ｃ
ｌ- 、Ｂｒ- 、Ｆ- 、ＣｌＯ4 - 、ＢＦ4 - 、Ｐ
Ｆ6 - 、ＣＨ3ＣＯＯ- 、ＴｉＦ6 2 - 、Ｓｉ
Ｆ6 2 - 、ＺｒＦ6 2 - 、Ｐｈ−ＳＯ3 - 、ＣＨ 3 −Ｐ
ｈ−ＳＯ3 - 、Ｂ- −（Ｐｈ）4 等の一価又は二価の陰
イオンが挙げられ、特にＣＨ3 ＣＯＯ- が好ましい（前
記式中、Ｐｈはベンゼン環を表わす）。本発明の光学的
記録媒体は、基本的には基板と前記アゾ系化合物の金属
キレート化合物を含む記録層とから構成されるものであ
るが、さらに必要に応じて基板上に下引き層を設けるこ
とができる。また、好ましい層構成としては、記録層上
に金、アルミニウムのような金属反射層及び保護層を設
けて高反射率の媒体とし、迫記型のＣＤメディアとする
ことができる。
【００３１】本発明における基板は、使用するレーザー
光に対して透明なものがよく、ガラス、プラスチック等
の一般の記録材料の支持体が挙げられるか、プラスチッ
クが種々の点から好適である。プラスチックとしてはア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙げられるこ
の中で、高生産性、コスト、耐吸湿性の点から射出成型
ポリカーボネート樹脂基板が特に好ましい。
光に対して透明なものがよく、ガラス、プラスチック等
の一般の記録材料の支持体が挙げられるか、プラスチッ
クが種々の点から好適である。プラスチックとしてはア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙げられるこ
の中で、高生産性、コスト、耐吸湿性の点から射出成型
ポリカーボネート樹脂基板が特に好ましい。
【００３２】本発明の光学記録媒体におけるアゾ系化合
物と金属との錯体を含有する記録層は、膜厚１００Å〜
５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍである。成膜法と
しては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレー
ド法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等一般に行なわ
れている薄膜形成法で成膜することができるが、量産性
・コスト面からスピナー法が好ましい。
物と金属との錯体を含有する記録層は、膜厚１００Å〜
５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍである。成膜法と
しては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレー
ド法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等一般に行なわ
れている薄膜形成法で成膜することができるが、量産性
・コスト面からスピナー法が好ましい。
【００３３】また、必要に応じてバインダーを使用する
こともできる。バインダーとしてはポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロ
ース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカ
ーボネート等の既知のものが用いられる。スピナー法に
よる成膜の場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好
ましく、スピンコートの後、場合によっては、加熱ある
いは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよい。
こともできる。バインダーとしてはポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロ
ース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカ
ーボネート等の既知のものが用いられる。スピナー法に
よる成膜の場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好
ましく、スピンコートの後、場合によっては、加熱ある
いは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよい。
【００３４】また、記録層の安定性や耐光性向上のため
に、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化
合物（たとえば、アセチルアセトナートキレート、ビス
フェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビ
スジチオ−α−ジケトン等）を含有していてもよい。更
に、必要に応じて他の色素を併用することもできる。他
の色素としては別の種類の同系統の化合物でもよいし、
トリアリールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色
素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ−インドアニリン系色
素等他系統の色素でもよい。
に、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化
合物（たとえば、アセチルアセトナートキレート、ビス
フェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビ
スジチオ−α−ジケトン等）を含有していてもよい。更
に、必要に応じて他の色素を併用することもできる。他
の色素としては別の種類の同系統の化合物でもよいし、
トリアリールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色
素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ−インドアニリン系色
素等他系統の色素でもよい。
【００３５】ドクターブレード法、キャスト法、スピナ
ー法、浸漬法、特にスピナー法等の塗布方法により記録
層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラフルオロ
プロパノール、オクタフルオロペンタノール、テトラク
ロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、ジアセト
ンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、３−ヒド
ロキシ−３−メチル−２−ブタノン、クロロベンゼン、
シクロヘキサノン、乳酸メチル等の沸点１２０〜１６０
℃のものが好適に使用される。
ー法、浸漬法、特にスピナー法等の塗布方法により記録
層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラフルオロ
プロパノール、オクタフルオロペンタノール、テトラク
ロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、ジアセト
ンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、３−ヒド
ロキシ−３−メチル−２−ブタノン、クロロベンゼン、
シクロヘキサノン、乳酸メチル等の沸点１２０〜１６０
℃のものが好適に使用される。
【００３６】この中でも、高生産性・コスト・耐吸湿性
に優れる射出成型ポリカーボネート樹脂基板に対して
は、該基板をおかすことなく、好適に使用できる溶媒と
して特に、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３
−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系
溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペ
ンタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶
媒；乳酸メチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステ
ル系溶媒；が挙げられる。
に優れる射出成型ポリカーボネート樹脂基板に対して
は、該基板をおかすことなく、好適に使用できる溶媒と
して特に、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３
−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系
溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペ
ンタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶
媒；乳酸メチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステ
ル系溶媒；が挙げられる。
【００３７】本発明の光学記録媒体の記録層は基板の両
面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。上記のよう
にして得られた光学記録媒体への記録は、基体の両面又
は片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束したレーザー
光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてることによ
り行なう。レーザー光の照射された部分には、レーザー
光エネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の記録
層の熱的変形が起こる。
面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。上記のよう
にして得られた光学記録媒体への記録は、基体の両面又
は片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束したレーザー
光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてることによ
り行なう。レーザー光の照射された部分には、レーザー
光エネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の記録
層の熱的変形が起こる。
【００３８】記録された情報の再生は、レーザー光によ
り、熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反
射率の差を読み取ることにより行なう。本発明の光学的
記録媒体について使用されるレーザー光はＮ2 、Ｈｅ−
Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ、ルビー、半導体、色素レーザ
ー等が挙げられるが、特に、軽量性、取扱いの容易さ、
コンパクト性等の点から半導体レーザーが好適である。
り、熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反
射率の差を読み取ることにより行なう。本発明の光学的
記録媒体について使用されるレーザー光はＮ2 、Ｈｅ−
Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ、ルビー、半導体、色素レーザ
ー等が挙げられるが、特に、軽量性、取扱いの容易さ、
コンパクト性等の点から半導体レーザーが好適である。
【００３９】
【実施例】以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
るが、かかる実施例は本発明を限定するものではない。 実施例１ （ａ）製造例
るが、かかる実施例は本発明を限定するものではない。 実施例１ （ａ）製造例
【００４０】
【化１７】
【００４１】上記構造式（１）で示されるｐ−アミノフ
ェニルトリフルオロメチルスルフィド４．８３ｇ、チオ
シアン酸アンモニウム７．６１ｇを酢酸６２．５ｍｌ、
水３．１ｍｌの混合溶液に溶解し、１０℃において臭素
５．０ｇの酢酸１２．５ｍｌ溶液を滴下した。２時間攪
拌した後、一晩放置した。７０℃に加熱し、４時間攪拌
した。熱時濾過し、濾液を熱水２５０ｍｌに注ぎ、析出
した結晶を濾過して除いた。濾液に炭酸ナトリウムを加
えｐＨ＝６にし、析出した結晶を濾過し、水で洗浄し、
乾燥すると下記構造式（２）で示される化合物の薄い黄
色結晶５．２１ｇが得られた（ＭＡＳＳスペクトル Ｍ
+ ＝２５０）。
ェニルトリフルオロメチルスルフィド４．８３ｇ、チオ
シアン酸アンモニウム７．６１ｇを酢酸６２．５ｍｌ、
水３．１ｍｌの混合溶液に溶解し、１０℃において臭素
５．０ｇの酢酸１２．５ｍｌ溶液を滴下した。２時間攪
拌した後、一晩放置した。７０℃に加熱し、４時間攪拌
した。熱時濾過し、濾液を熱水２５０ｍｌに注ぎ、析出
した結晶を濾過して除いた。濾液に炭酸ナトリウムを加
えｐＨ＝６にし、析出した結晶を濾過し、水で洗浄し、
乾燥すると下記構造式（２）で示される化合物の薄い黄
色結晶５．２１ｇが得られた（ＭＡＳＳスペクトル Ｍ
+ ＝２５０）。
【００４２】
【化１８】
【００４３】得られた上記構造式（２）で示される２−
アミノ−６−トリフルオロメチルチオベンゾチアゾール
２．５０ｇをリン酸１７．８ｇ、硫酸０．９９ｇに溶解
し、酢酸６．３ｍｌ及び硝酸ナトリウム０．８５ｇを加
えた後、０〜５℃で硫酸２．４３ｇを滴下し、０〜−５
℃で４４％ニトロシル硫酸３．４７ｇを用いジアゾ化
し、得られたジアゾ液をメタノール１５０ｍｌに２−ジ
プロピルアミノアニソール−４−スルホン酸３．７３
ｇ、尿素０．４ｇ、酢酸ナトリウム４．０ｇを溶解させ
た溶液に０〜５℃の温度下でアンモニウム水溶液等のア
ルカリ化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちながら、滴下し
た。２時間攪はん後、一晩放置した。析出した結晶を濾
別し、乾燥して下記構造式（３）で示される濃茶色結晶
４．９２ｇを得た。この化合物のλmax （メタノール
中）は５６１ｎｍであった。
アミノ−６−トリフルオロメチルチオベンゾチアゾール
２．５０ｇをリン酸１７．８ｇ、硫酸０．９９ｇに溶解
し、酢酸６．３ｍｌ及び硝酸ナトリウム０．８５ｇを加
えた後、０〜５℃で硫酸２．４３ｇを滴下し、０〜−５
℃で４４％ニトロシル硫酸３．４７ｇを用いジアゾ化
し、得られたジアゾ液をメタノール１５０ｍｌに２−ジ
プロピルアミノアニソール−４−スルホン酸３．７３
ｇ、尿素０．４ｇ、酢酸ナトリウム４．０ｇを溶解させ
た溶液に０〜５℃の温度下でアンモニウム水溶液等のア
ルカリ化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちながら、滴下し
た。２時間攪はん後、一晩放置した。析出した結晶を濾
別し、乾燥して下記構造式（３）で示される濃茶色結晶
４．９２ｇを得た。この化合物のλmax （メタノール
中）は５６１ｎｍであった。
【００４４】
【化１９】
【００４５】前記のようにして得られた構造式（３）で
示されるアゾ化合物４．０６ｇをメタノール３００ｍｌ
に溶解し、１５〜１８℃で酢酸ニッケル２．２１ｇのメ
タノール３０ｍｌ溶液を加えた後、室温で５時間攪拌し
た。析出した結晶を濾別し、これをメタノールで洗浄
し、乾燥すると、濃茶色結晶のニッケルキレート化合物
２．６６ｇを得た。この化合物のλmax （クロロホルム
中）は６８８ｎｍ（ε＝１．４０×１０5 ）であった
（図１）。また、融点は２５０℃より高かった。この化
合物の赤外吸収スペクトルを図２に示す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．１５ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７１３ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図３に示す。
示されるアゾ化合物４．０６ｇをメタノール３００ｍｌ
に溶解し、１５〜１８℃で酢酸ニッケル２．２１ｇのメ
タノール３０ｍｌ溶液を加えた後、室温で５時間攪拌し
た。析出した結晶を濾別し、これをメタノールで洗浄
し、乾燥すると、濃茶色結晶のニッケルキレート化合物
２．６６ｇを得た。この化合物のλmax （クロロホルム
中）は６８８ｎｍ（ε＝１．４０×１０5 ）であった
（図１）。また、融点は２５０℃より高かった。この化
合物の赤外吸収スペクトルを図２に示す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．１５ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７１３ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図３に示す。
【００４６】次に、この塗布膜の上に、スパッタリング
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．６
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．６
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
【００４７】本ディスクは、耐光性（キセノンフェード
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 比較例１ 下記構造式（４）
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 比較例１ 下記構造式（４）
【００４８】
【化２０】
【００４９】上記構造式（４）で示されるアゾ化合物と
酢酸ニッケルとから得られたニッケルキレート化合物を
実施例１と同様に塗布し、反射層、保護層をつけ、ディ
スクを作成、感度、反射率について評価・比較したとこ
ろ、本発明の実施例１の光学記録媒体と比べて、感度が
劣るものであった（感度７．５ｍＷ）。 実施例２ （ａ）製造例 実施例１で用いたｐ−アミノトリフルオロメチルスルフ
ィドの代わりに下記構造式（５）で示される４−（メチ
ルメルカプト）アニリン
酢酸ニッケルとから得られたニッケルキレート化合物を
実施例１と同様に塗布し、反射層、保護層をつけ、ディ
スクを作成、感度、反射率について評価・比較したとこ
ろ、本発明の実施例１の光学記録媒体と比べて、感度が
劣るものであった（感度７．５ｍＷ）。 実施例２ （ａ）製造例 実施例１で用いたｐ−アミノトリフルオロメチルスルフ
ィドの代わりに下記構造式（５）で示される４−（メチ
ルメルカプト）アニリン
【００５０】
【化２１】
【００５１】２０．８８ｇを用いたこと以外は実施例１
と同様の方法で製造することにより下記構造式（６）で
示されるベンゾチアゾール誘導体１１．７２ｇを得た
（ＭＡＳＳスペクトル Ｍ+ ＝１９６）。
と同様の方法で製造することにより下記構造式（６）で
示されるベンゾチアゾール誘導体１１．７２ｇを得た
（ＭＡＳＳスペクトル Ｍ+ ＝１９６）。
【００５２】
【化２２】
【００５３】この構造式（６）で示される２−アミノ−
６−メチルチオベンゾチアゾール１．９６ｇを用いたこ
と以外は実施例１と同様の方法で製造することにより下
記構造式（７）で示されるアゾ化合物の結晶１．９４ｇ
を得た。この化合物のλmax（メタノール中）は５６１
ｎｍであった。
６−メチルチオベンゾチアゾール１．９６ｇを用いたこ
と以外は実施例１と同様の方法で製造することにより下
記構造式（７）で示されるアゾ化合物の結晶１．９４ｇ
を得た。この化合物のλmax（メタノール中）は５６１
ｎｍであった。
【００５４】
【化２３】
【００５５】この構造式（７）で示されるアゾ化合物
１．４８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様の方法に
より製造して、ニッケルキレート化合物の濃茶色結晶
１．０６ｇを得た。この化合物のクロロホルム溶液中の
吸収スペクトルはλmax ６９０ｎｍ（ε＝１．３４×１
０5 ）であった（図４）。また、融点は２５０℃より高
かった。この化合物の赤外吸収スペクトルを図５に示
す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．１５ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７１７ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図６に示す。
１．４８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様の方法に
より製造して、ニッケルキレート化合物の濃茶色結晶
１．０６ｇを得た。この化合物のクロロホルム溶液中の
吸収スペクトルはλmax ６９０ｎｍ（ε＝１．３４×１
０5 ）であった（図４）。また、融点は２５０℃より高
かった。この化合物の赤外吸収スペクトルを図５に示
す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．１５ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７１７ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図６に示す。
【００５６】次に、この塗布膜の上に、スパッタリング
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．９
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．９
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
【００５７】本ディスクは、耐光性（キセノンフェード
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例３ （ａ）製造例 特願平４−２６８８５７号に記載された方法に従って合
成した下記構造式（８）で示される４−アミノフェニル
ペンタフルオロエチルスルフィド
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例３ （ａ）製造例 特願平４−２６８８５７号に記載された方法に従って合
成した下記構造式（８）で示される４−アミノフェニル
ペンタフルオロエチルスルフィド
【００５８】
【化２４】
【００５９】２４．３ｇ、チオシアン酸アンモニウム３
０．５ｇを酢酸２４０ｍｌ、水１３ｍｌの混合溶液に溶
解し、１０℃において臭素２０．０ｇの酢酸５０ｍｌ溶
液を滴下した。４時間撹拌した後、７０℃に加熱して３
時間撹拌した。熱時濾過し、濾液を熱水９００ｍｌに注
ぎ、析出した結晶を濾過し、水で洗浄し、乾燥すると下
記構造式（９）で示される化合物の黄色い結晶２２．０
ｇが得られた（収率７３．３％、ＭＡＳＳスペクトル
Ｍ+ ＝２５０）。
０．５ｇを酢酸２４０ｍｌ、水１３ｍｌの混合溶液に溶
解し、１０℃において臭素２０．０ｇの酢酸５０ｍｌ溶
液を滴下した。４時間撹拌した後、７０℃に加熱して３
時間撹拌した。熱時濾過し、濾液を熱水９００ｍｌに注
ぎ、析出した結晶を濾過し、水で洗浄し、乾燥すると下
記構造式（９）で示される化合物の黄色い結晶２２．０
ｇが得られた（収率７３．３％、ＭＡＳＳスペクトル
Ｍ+ ＝２５０）。
【００６０】
【化２５】
【００６１】得られた上記構造式（９）で示される２−
アミノ−６−（ペンタフルオロエチルチオ）ベンゾチア
ゾール１５．０ｇの酢酸／プロピオン酸溶液（酢酸６
３．０ｍｌ／プロピオン酸６３．０ｍｌ）をリン酸８
９．０ｇ、硫酸４．９５ｇに加えた。硝酸ナトリウム
４．２５ｇを加えた後、０〜５℃で硫酸１２．２ｇを滴
下し、０〜−５℃で４４％ニトロシル硫酸１７．４ｇを
滴下した後、１時間撹拌しジアゾ化した。得られたジア
ゾ液をメタノール７５０ｍｌに２−ジ（ｎ−プロピル）
アミノアニソール−４−スルホン酸１８．７ｇ、尿素
２．０ｇ、酢酸ナトリウム２０．０ｇを溶解させた溶液
に０〜５℃の温度下でアンモニウム水溶液等のアルカリ
化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちながら、滴下した。２
時間撹拌後、一晩放置した。析出した結晶を濾別し、乾
燥して下記構造式（１０）で示される濃茶色結晶２０．
３ｇを得た（収率６７．９％、ＭＡＳＳスペクトル Ｍ
+ ＝５９８）。この化合物のλmax （メタノール中）は
５６２ｎｍであった。
アミノ−６−（ペンタフルオロエチルチオ）ベンゾチア
ゾール１５．０ｇの酢酸／プロピオン酸溶液（酢酸６
３．０ｍｌ／プロピオン酸６３．０ｍｌ）をリン酸８
９．０ｇ、硫酸４．９５ｇに加えた。硝酸ナトリウム
４．２５ｇを加えた後、０〜５℃で硫酸１２．２ｇを滴
下し、０〜−５℃で４４％ニトロシル硫酸１７．４ｇを
滴下した後、１時間撹拌しジアゾ化した。得られたジア
ゾ液をメタノール７５０ｍｌに２−ジ（ｎ−プロピル）
アミノアニソール−４−スルホン酸１８．７ｇ、尿素
２．０ｇ、酢酸ナトリウム２０．０ｇを溶解させた溶液
に０〜５℃の温度下でアンモニウム水溶液等のアルカリ
化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちながら、滴下した。２
時間撹拌後、一晩放置した。析出した結晶を濾別し、乾
燥して下記構造式（１０）で示される濃茶色結晶２０．
３ｇを得た（収率６７．９％、ＭＡＳＳスペクトル Ｍ
+ ＝５９８）。この化合物のλmax （メタノール中）は
５６２ｎｍであった。
【００６２】
【化２６】
【００６３】（ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．２１ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７０９ｎｍで
あった。図９に塗布膜の吸収スペクトルを示す。
化合物０．２１ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７０９ｎｍで
あった。図９に塗布膜の吸収スペクトルを示す。
【００６４】次に、この塗布膜の上に、スパッタリング
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．９
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．９
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
【００６５】本ディスクは、耐光性（キセノンフェード
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例４ （ａ）製造例 前記構造式（９）で示される２−アミノ−６−（ペンタ
フルオロエチルチオ）ベンゾチアゾール２．１ｇの酢酸
／プロピオン酸溶液（酢酸８．８ｍｌ／プロピオン酸
８．８ｍｌ）をリン酸１２．５ｇ、硫酸０．６９ｇに加
えた。硝酸ナトリウム０．６０ｇを加えた後、０〜５℃
で硫酸１．７０ｇを滴下し、０〜−５℃で４４％ニトロ
シル硫酸２．４９ｇを滴下した後、１時間撹拌しジアゾ
化した。得られたジアゾ液をメタノール１０５ｍｌに２
−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェネトール−４−スルホン
酸３．０ｇ、尿素０．２８ｇ、酢酸ナトリウム２．８ｇ
を溶解させた溶液に０〜５℃の温度下でアンモニウム水
溶液等のアルカリ化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちなが
ら、滴下した。３時間撹拌後、一晩放置した。析出した
結晶を濾別し、水、トルエンで懸濁洗浄し、乾燥して下
記構造式（１１）で示される濃茶色結晶３．１９ｇを得
た（収率７１．１％）。この化合物のλmax （メタノー
ル中）は５６８ｎｍであった。
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例４ （ａ）製造例 前記構造式（９）で示される２−アミノ−６−（ペンタ
フルオロエチルチオ）ベンゾチアゾール２．１ｇの酢酸
／プロピオン酸溶液（酢酸８．８ｍｌ／プロピオン酸
８．８ｍｌ）をリン酸１２．５ｇ、硫酸０．６９ｇに加
えた。硝酸ナトリウム０．６０ｇを加えた後、０〜５℃
で硫酸１．７０ｇを滴下し、０〜−５℃で４４％ニトロ
シル硫酸２．４９ｇを滴下した後、１時間撹拌しジアゾ
化した。得られたジアゾ液をメタノール１０５ｍｌに２
−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェネトール−４−スルホン
酸３．０ｇ、尿素０．２８ｇ、酢酸ナトリウム２．８ｇ
を溶解させた溶液に０〜５℃の温度下でアンモニウム水
溶液等のアルカリ化合物を用いてｐＨ４〜６を保ちなが
ら、滴下した。３時間撹拌後、一晩放置した。析出した
結晶を濾別し、水、トルエンで懸濁洗浄し、乾燥して下
記構造式（１１）で示される濃茶色結晶３．１９ｇを得
た（収率７１．１％）。この化合物のλmax （メタノー
ル中）は５６８ｎｍであった。
【００６６】
【化２７】
【００６７】前記のようにして得られた構造式（１１）
で示されるアゾ化合物３．０ｇをメタノール３００ｍｌ
に溶解し、２０〜２２℃で酢酸ニッケル１．４０ｇのメ
タノール２０ｍｌ溶液を加えた後、５時間攪拌した。析
出した結晶を濾別し、これをメタノールで洗浄し、乾燥
すると、濃茶色結晶のニッケルキレート化合物１．９６
ｇを得た。この化合物のλmax （クロロホルム中）は６
９１ｎｍであった。また、融点は２５０℃より高かっ
た。得られた化合物の赤外吸収スペクトルを図１０に、
可視吸収スペクトルを図１１に示す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．２１ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７０８ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図１２に示す。
で示されるアゾ化合物３．０ｇをメタノール３００ｍｌ
に溶解し、２０〜２２℃で酢酸ニッケル１．４０ｇのメ
タノール２０ｍｌ溶液を加えた後、５時間攪拌した。析
出した結晶を濾別し、これをメタノールで洗浄し、乾燥
すると、濃茶色結晶のニッケルキレート化合物１．９６
ｇを得た。この化合物のλmax （クロロホルム中）は６
９１ｎｍであった。また、融点は２５０℃より高かっ
た。得られた化合物の赤外吸収スペクトルを図１０に、
可視吸収スペクトルを図１１に示す。 （ｂ）記録媒体例 前記製造例（ａ）で得たアゾ化合物のニッケルキレート
化合物０．２１ｇをオクタフルオロペンタノール７．５
ｇに溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解
液を得た。この溶液５ｍｌを深さ７００Å、幅０．７μ
ｍの溝（グルーブ）つき、射出成型ポリカーボネート樹
脂基板（直径５インチ）上に滴下し、スピナー法により
５００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１
０分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７０８ｎｍで
あった。塗布膜の吸収スペクトルを図１２に示す。
【００６８】次に、この塗布膜の上に、スパッタリング
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．８
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
法により、膜厚２０００Åの金膜を成膜し、反射層を形
成した。更に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂のス
ピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み
１０μｍの保護層を形成した。 （ｃ）光記録法 上記記録媒体を１．４ｍ／ｓで回転させながら、中心波
長７８０ｎｍの半導体レーザー光で、記録パワー６．８
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。次にこの記録部
を中心波長７８０ｎｍの半導体レーザーを有するＣＤプ
レーヤーで再生したところ、良好な再生信号を得た。
【００６９】本ディスクは、耐光性（キセノンフェード
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例５ 実施例１において用いた化合物の代わりに表−１に示し
た化合物を用いて得られた溶液を基板上に塗布して、表
−１に示す塗布膜の最大吸収波長を持つ光学記録媒体を
製造した。
メーター加速テスト；６０時間）及び保存安定性（７０
℃、８５％ＲＨ；５００時間）試験を行った結果、初期
と比べて感度及び再生信号の劣化はみられず、光学記録
媒体として極めて優れたものであった。 実施例５ 実施例１において用いた化合物の代わりに表−１に示し
た化合物を用いて得られた溶液を基板上に塗布して、表
−１に示す塗布膜の最大吸収波長を持つ光学記録媒体を
製造した。
【００７０】得られた光学記録媒体に、光源として半導
体レーザーを用いて書き込みを行ったところ、記録感度
が良好であり、耐光性、保存安定性に優れていた。
体レーザーを用いて書き込みを行ったところ、記録感度
が良好であり、耐光性、保存安定性に優れていた。
【００７１】
【表１】
【００７２】
【発明の効果】本発明のアゾ系化合物の金属キレート化
合物は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によるコ
ーティングが可能であり、しかも感度が良好で耐光性、
保存安定性にすぐれているもので、該金属キレート化合
物を用いた光学記録媒体は工業的に極めて有用なもので
ある。
合物は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によるコ
ーティングが可能であり、しかも感度が良好で耐光性、
保存安定性にすぐれているもので、該金属キレート化合
物を用いた光学記録媒体は工業的に極めて有用なもので
ある。
【図１】本発明の実施例１で得られたニッケルキレート
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
【図２】本発明の実施例１で得られたニッケルキレート
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
【図３】本発明の実施例１で得られたニッケルキレート
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
【図４】本発明の実施例２で得られたニッケルキレート
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
【図５】本発明の実施例２で得られたニッケルキレート
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
【図６】本発明の実施例２で得られたニッケルキレート
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
【図７】本発明の実施例３で得られたニッケルキレート
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
【図８】本発明の実施例３で得られたニッケルキレート
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトルを
表わす図。
【図９】本発明の実施例３で得られたニッケルキレート
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす図。
【図１０】本発明の実施例４で得られたニッケルキレー
ト化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
ト化合物の赤外吸収スペクトルを表わす図。
【図１１】本発明の実施例４で得られたニッケルキレー
ト化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトル
を表わす図。
ト化合物のクロロホルム溶液中の可視部吸収スペクトル
を表わす図。
【図１２】本発明の実施例４で得られたニッケルキレー
ト化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす
図。
ト化合物の塗布薄膜の可視部吸収スペクトルを表わす
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 233/88 235/30 Ａ Ｂ 263/58 271/10 277/50 277/82 285/08 285/135 285/125 Ｇ０３Ｃ 1/735 8910−2Ｈ Ｇ１１Ｂ 7/24 Ａ 7215−5Ｄ Ｃ０７Ｄ 285/12 Ｄ (72)発明者 塚原 貴子 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 今村 悟 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (12)
- 【請求項１】 一般式〔Ｉ〕で示されるアゾ系化合物と
金属とのアゾ金属キレート化合物。 【化１】 （式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表し、Ｘはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香族を
形成する残基を表し、Ｒ1 は置換されていてもよいアル
キル基、置換されていてもよいアリール基、置換されて
いてもよいアルケニル基又は置換されていてもよいシク
ロアルキル基を表し、Ｙは水素原子又はカチオンを表わ
し、ｎは１〜３の整数である。） - 【請求項２】 アゾ系化合物が、下記一般式〔II〕で示
される化合物である請求項１記載のアゾ金属キレート化
合物。 【化２】 （式中、環Ｂは−ＳＲ1 基以外の置換基も有していても
よい。Ｘはそれが結合している二つの炭素原子と一緒に
なって芳香族を形成する残基を表し、Ｒ1 は置換されて
いてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいアルケニル基又は置換されて
いてもよいシクロアルキル基を表し、Ｙは水素原子又は
カチオンを表わし、ｎは１〜３の整数である。） - 【請求項３】 アゾ系化合物が、下記一般式〔III 〕で
示される化合物である請求項１記載のアゾ金属キレート
化合物。 【化３】 （式中、環Ｂは−ＳＲ1 基以外の置換基も有していてよ
い。環Ｃは−ＳＯ3 Ｙ基以外の置換基も有していてもよ
い。Ｒ1 は置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアリール基、置換されていてもよいアルケ
ニル基又は置換されていてもよいシクロアルキル基を表
し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立して水素原子、置換さ
れていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリ
ール基、置換されていてもよいアルケニル基又は置換さ
れていてもよいシクロアルキル基を表し、Ｙは水素原子
又はカチオンを表わし、ｎは１〜３の整数である。） - 【請求項４】 アゾ系化合物が、下記一般式〔IV〕で示
される化合物であるアゾ金属キレート化合物。 【化４】 （式中、Ｒ1 は置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいアリール基、置換されていてもよいア
ルケニル基又は置換されていてもよいシクロアルキル基
を表わし、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ独立して炭素数１〜
６のアルキル基、炭素数２〜７のアルコキシアルキル基
を表わし、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ独立して水素原子、
炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ
基又はカチオンを表し、ｎは１〜３の整数である。） - 【請求項５】 アゾ系化合物が、下記一般式〔Ｖ〕で示
される化合物であるアゾ金属キレート化合物。 【化５】 （式中、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ独立して炭素数１〜６
のアルキル基、炭素数２〜７のアルコキシアルキル基を
表わし、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ独立して水素原子、炭
素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基
又はハロゲン原子を表わし、Ｒ8 は少なくとも一つの水
素原子がフッ素原子に置換されている炭素数１〜６のア
ルキル基を表わし、Ｘは水素原子又はカチオンを表わ
し、ｎは１〜３の整数である。） - 【請求項６】 基板上にレーザーによる情報の書き込み
及び／又は読み取りが可能な記録層が設けられた光学記
録媒体において、該記録層が前記一般式〔Ｉ〕で示され
るアゾ系化合物と金属とのアゾ金属キレート化合物を含
有することを特徴とする光学記録媒体。 - 【請求項７】 アゾ系化合物が、前記一般式〔II〕で示
される化合物である請求項６記載の光学記録媒体。 - 【請求項８】 アゾ系化合物が、前記一般式〔III 〕で
示される化合物である請求項６記載の光学記録媒体。 - 【請求項９】 アゾ系化合物が、前記一般式〔IV〕で示
される化合物である請求項６記載の光学記録媒体。 - 【請求項１０】 アゾ系化合物が、前記一般式〔Ｖ〕で
示される化合物である請求項６記載の光学記録媒体。 - 【請求項１１】 金属が遷移元素であることを特徴とす
る請求項６〜１０のいずれか１項に記載の光学記録媒
体。 - 【請求項１２】 記録層上に金属の反射層及び保護層を
設けることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１項
に記載の光学記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5126261A JPH0819341B2 (ja) | 1992-06-02 | 1993-05-27 | 金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14181292 | 1992-06-02 | ||
| JP4-141812 | 1992-06-02 | ||
| JP5126261A JPH0819341B2 (ja) | 1992-06-02 | 1993-05-27 | 金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0665514A true JPH0665514A (ja) | 1994-03-08 |
| JPH0819341B2 JPH0819341B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=26462485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5126261A Expired - Lifetime JPH0819341B2 (ja) | 1992-06-02 | 1993-05-27 | 金属キレート化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819341B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0755052A2 (en) | 1995-07-20 | 1997-01-22 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical recording medium |
| JP2005200335A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾニウム塩及び記録材料 |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP5126261A patent/JPH0819341B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0755052A2 (en) | 1995-07-20 | 1997-01-22 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical recording medium |
| JP2005200335A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | ジアゾニウム塩及び記録材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0819341B2 (ja) | 1996-02-28 |
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