JPH0665260A - ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法 - Google Patents
ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法Info
- Publication number
- JPH0665260A JPH0665260A JP4214857A JP21485792A JPH0665260A JP H0665260 A JPH0665260 A JP H0665260A JP 4214857 A JP4214857 A JP 4214857A JP 21485792 A JP21485792 A JP 21485792A JP H0665260 A JPH0665260 A JP H0665260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hexamethyldisilazane
- solution
- sodium
- sodium bistrimethylsilylamide
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- WRIKHQLVHPKCJU-UHFFFAOYSA-N sodium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([Na])[Si](C)(C)C WRIKHQLVHPKCJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 11
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 abstract 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 5
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】未反応のヘキサメチルジシラザンのほとんど残
らない高純度のナトリウムビストリメチルシリルアミド
溶液を、短時間に安全に容易に製造できる方法を提供す
ることを目的とする。 【構成】 125℃以上の沸点を有する非プロトン性溶
媒中でナトリウムアミドとヘキサメチルジシラザンとを
反応させ、残存するヘキサメチルジシラザンを留出す
る。高沸点を有する非プロトン性溶媒を反応溶媒に用い
ている結果、溶液状態のまま、反応液から未反応のヘキ
サメチルジシラザンを安全に留出することができる。
らない高純度のナトリウムビストリメチルシリルアミド
溶液を、短時間に安全に容易に製造できる方法を提供す
ることを目的とする。 【構成】 125℃以上の沸点を有する非プロトン性溶
媒中でナトリウムアミドとヘキサメチルジシラザンとを
反応させ、残存するヘキサメチルジシラザンを留出す
る。高沸点を有する非プロトン性溶媒を反応溶媒に用い
ている結果、溶液状態のまま、反応液から未反応のヘキ
サメチルジシラザンを安全に留出することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、種々の有機合成におけ
る強力な塩基剤として、またN−トリメチルシリル系化
合物の合成用試薬として、広く用いられているナトリウ
ムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法に関す
る。
る強力な塩基剤として、またN−トリメチルシリル系化
合物の合成用試薬として、広く用いられているナトリウ
ムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ナトリウムビストリメチルシリルアミド
は式(1)で示される融点171〜175℃の白色の固
体である。一般に非常に活性度が高く、不安定で、通常
は適当な溶媒に溶解した状態で保存され、使用される。 [(CH3 )3 Si] 2 N−Na ・・・(1) この化合物は、種々の有機合成で広く用いられ、その溶
液は、ベンゼン中で合成する方法が知られている。例え
ば、C.R.Krueger and H.Niederprum Inorg.Synth. 8,15
(1966)によって、ナトリウムアミドとヘキサメチルジシ
ラザンとをベンゼン中で反応させて得る方法が知られて
いる。
は式(1)で示される融点171〜175℃の白色の固
体である。一般に非常に活性度が高く、不安定で、通常
は適当な溶媒に溶解した状態で保存され、使用される。 [(CH3 )3 Si] 2 N−Na ・・・(1) この化合物は、種々の有機合成で広く用いられ、その溶
液は、ベンゼン中で合成する方法が知られている。例え
ば、C.R.Krueger and H.Niederprum Inorg.Synth. 8,15
(1966)によって、ナトリウムアミドとヘキサメチルジシ
ラザンとをベンゼン中で反応させて得る方法が知られて
いる。
【0003】反応溶媒にベンゼンを用いる方法の場合、
いくつかの問題がある。例えばベンゼンは発ガン性の疑
いが強く、それだけに取扱いが難しい。その上、沸点が
80℃と低いため、反応の完結までに非常に長い時間が
必要である。
いくつかの問題がある。例えばベンゼンは発ガン性の疑
いが強く、それだけに取扱いが難しい。その上、沸点が
80℃と低いため、反応の完結までに非常に長い時間が
必要である。
【0004】反応時間を短縮する方法としては、反応溶
媒にベンゼンを用いながら、例えばナトリウムアミドに
対して過剰のヘキサメチルジシラザンを使用する方法が
考えられる。この方法の場合、反応終了後未反応で残っ
た過剰のヘキサメチルジシラザンはできるだけ除去しな
ければならない。
媒にベンゼンを用いながら、例えばナトリウムアミドに
対して過剰のヘキサメチルジシラザンを使用する方法が
考えられる。この方法の場合、反応終了後未反応で残っ
た過剰のヘキサメチルジシラザンはできるだけ除去しな
ければならない。
【0005】ヘキサメチルジシラザンの沸点は125℃
で、ベンゼンより高い。そのため、ヘキサメチルジシラ
ザンを除去するには、反応液を加熱してベンゼンをいっ
たん留出し、ついで未反応のヘキサメチルジシラザンを
留出してナトリウムビストリメチルシリルアミドを固体
状に単離し、次いで単離したナトリウムビストリメチル
シリルアミドを必要な溶媒に溶解する。この方法は非常
に工程数が多く、作業は危険を伴う。工業的にはほとん
ど適さないという問題点がある。
で、ベンゼンより高い。そのため、ヘキサメチルジシラ
ザンを除去するには、反応液を加熱してベンゼンをいっ
たん留出し、ついで未反応のヘキサメチルジシラザンを
留出してナトリウムビストリメチルシリルアミドを固体
状に単離し、次いで単離したナトリウムビストリメチル
シリルアミドを必要な溶媒に溶解する。この方法は非常
に工程数が多く、作業は危険を伴う。工業的にはほとん
ど適さないという問題点がある。
【0006】ヘキサメチルジシラザンを除去しないで
も、得られた反応液そのままをナトリウムビストリメチ
ルシリルアミド溶液として用いることができる場合もあ
る。ただし、ヘキサメチルジシラザンを除去しなけれ
ば、例えば中和滴定などによる簡単な作業による濃度定
量は困難である。したがって、定量的な合成反応に直接
用いることはできないという問題点がある。
も、得られた反応液そのままをナトリウムビストリメチ
ルシリルアミド溶液として用いることができる場合もあ
る。ただし、ヘキサメチルジシラザンを除去しなけれ
ば、例えば中和滴定などによる簡単な作業による濃度定
量は困難である。したがって、定量的な合成反応に直接
用いることはできないという問題点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、未反応のヘキサメチルジ
シラザンのほとんど残らない高純度のナトリウムビスト
リメチルシリルアミド溶液を、短時間に安全に容易に製
造できる方法を提供することを目的とする。
解決するためなされたもので、未反応のヘキサメチルジ
シラザンのほとんど残らない高純度のナトリウムビスト
リメチルシリルアミド溶液を、短時間に安全に容易に製
造できる方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めになされた本発明のナトリウムビストリメチルシリル
アミド溶液の製造方法は、125℃以上の沸点を有する
非プロトン性溶媒中でナトリウムアミドとヘキサメチル
ジシラザンとを反応させ、残存するヘキサメチルジシラ
ザンを留出する。
めになされた本発明のナトリウムビストリメチルシリル
アミド溶液の製造方法は、125℃以上の沸点を有する
非プロトン性溶媒中でナトリウムアミドとヘキサメチル
ジシラザンとを反応させ、残存するヘキサメチルジシラ
ザンを留出する。
【0009】反応溶媒としては安価でかつ適度な沸点を
有するキシレンが最も適している。その場合のキシレン
は、オルト、メタ、パラのいずれの異性体でもよい。そ
の他の非プロトン性溶媒としては、例えばエチルベンゼ
ン(沸点136℃)、メシチレン(沸点164.7
℃)、デカン(沸点174.0℃)などが挙げられる。
有するキシレンが最も適している。その場合のキシレン
は、オルト、メタ、パラのいずれの異性体でもよい。そ
の他の非プロトン性溶媒としては、例えばエチルベンゼ
ン(沸点136℃)、メシチレン(沸点164.7
℃)、デカン(沸点174.0℃)などが挙げられる。
【0010】ヘキサメチルジシラザンは式(2)で示さ
れる。 [(CH3 )3 Si]2NH ・・・(2) ヘキサメチルジシラザンの使用量は、ナトリウムアミド
の1〜2倍モル、好ましくは1.05〜1.3倍モルが
望ましい。反応温度は、それぞれの反応溶媒に応じ効率
のよい温度を適宜に選択するとよい。反応は、還流下に
行なうことが好ましい。
れる。 [(CH3 )3 Si]2NH ・・・(2) ヘキサメチルジシラザンの使用量は、ナトリウムアミド
の1〜2倍モル、好ましくは1.05〜1.3倍モルが
望ましい。反応温度は、それぞれの反応溶媒に応じ効率
のよい温度を適宜に選択するとよい。反応は、還流下に
行なうことが好ましい。
【0011】ヘキサメチルジシラザンとナトリウムアミ
ドとが非プロトン性溶媒中で共存すると、通常、下記式
(3)で示される反応が起こり、ナトリウムビストリメ
チルシリルアミドの粗反応液が得られる。
ドとが非プロトン性溶媒中で共存すると、通常、下記式
(3)で示される反応が起こり、ナトリウムビストリメ
チルシリルアミドの粗反応液が得られる。
【0012】
【化1】
【0013】一般に、反応器としては、撹拌機、温度
計、還流冷却器、滴下ロートを備えた反応釜を用いると
よい。
計、還流冷却器、滴下ロートを備えた反応釜を用いると
よい。
【0014】次いで、非プロトン性溶媒を残存させなが
ら未反応のヘキサメチルジシラザンを留出する。一般に
は得られたこの反応液を蒸留装置で蒸留すれば、未反応
のヘキサメチルジシラザンは留出し、非プロトン性溶媒
に溶解した状態の高純度のナトリウムビストリメチルシ
リルアミド溶液が得られる。
ら未反応のヘキサメチルジシラザンを留出する。一般に
は得られたこの反応液を蒸留装置で蒸留すれば、未反応
のヘキサメチルジシラザンは留出し、非プロトン性溶媒
に溶解した状態の高純度のナトリウムビストリメチルシ
リルアミド溶液が得られる。
【0015】ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶
液の濃度測定は、中和滴定によって行えばよい。中和滴
定によれば容易に正確にその値を知ることができる。
液の濃度測定は、中和滴定によって行えばよい。中和滴
定によれば容易に正確にその値を知ることができる。
【0016】なお、このようにして得られたナトリウム
ビストリメチルシリルアミド溶液から、さらに反応溶媒
を適宜に留出し、それとともにテトラヒドロフランある
いはジエチルエーテルなどを加えて溶媒置換すると、よ
り極性の高い溶液が得られる。
ビストリメチルシリルアミド溶液から、さらに反応溶媒
を適宜に留出し、それとともにテトラヒドロフランある
いはジエチルエーテルなどを加えて溶媒置換すると、よ
り極性の高い溶液が得られる。
【0017】このようなナトリウムビストリメチルシリ
ルアミド溶液は、N−トリメチルシリル系化合物の合成
に、あるいは強力な塩基剤として、有機合成に効果的に
用いることができる。N−トリメチルシリル系化合物
は、N−トリメチルシリルアルドイミンなどに代表さ
れ、一般式(CH3 )3 Si−NR2 などで示すことが
できる。
ルアミド溶液は、N−トリメチルシリル系化合物の合成
に、あるいは強力な塩基剤として、有機合成に効果的に
用いることができる。N−トリメチルシリル系化合物
は、N−トリメチルシリルアルドイミンなどに代表さ
れ、一般式(CH3 )3 Si−NR2 などで示すことが
できる。
【0018】
【作用】本発明は、125℃以上の沸点を有する非プロ
トン性溶媒を反応溶媒に用いている。その結果、溶媒を
留出させないでも、反応液から未反応のヘキサメチルジ
シラザンを安全に留出することができる。
トン性溶媒を反応溶媒に用いている。その結果、溶媒を
留出させないでも、反応液から未反応のヘキサメチルジ
シラザンを安全に留出することができる。
【0019】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明のナ
トリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法に
よると、未反応のヘキサメチルジシラザンのほとんど残
らない高純度のナトリウムビストリメチルシリルアミド
溶液を、短時間に安全に容易に製造できる。
トリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法に
よると、未反応のヘキサメチルジシラザンのほとんど残
らない高純度のナトリウムビストリメチルシリルアミド
溶液を、短時間に安全に容易に製造できる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 実施例1 撹拌機、温度計、還流冷却器、滴下ロートを1リットル
のガラスフラスコに装着し、そのガラスフラスコ内にナ
トリウムアミドを39.0g(1.0モル)、o−キシ
レンを800ミリリットル導入し、100℃まで加熱し
た。次いで、そのガラスフラスコ内にヘキサメチルジシ
ラザン177.5g(1.1モル)を30分かけて滴下
し、その後も継続的に144℃で10時間還流した。次
いで、蒸留装置を用い、過剰のヘキサメチルジシラザン
を完全に留出した。これにより、ナトリウムビストリメ
チルシリルアミドのo−キシレン溶液920ミリリット
ルが得られた。中和滴定したところ、ナトリウムビスト
リメチルシリルアミドの濃度は1.03モル/リットル
であることが分かった。
のガラスフラスコに装着し、そのガラスフラスコ内にナ
トリウムアミドを39.0g(1.0モル)、o−キシ
レンを800ミリリットル導入し、100℃まで加熱し
た。次いで、そのガラスフラスコ内にヘキサメチルジシ
ラザン177.5g(1.1モル)を30分かけて滴下
し、その後も継続的に144℃で10時間還流した。次
いで、蒸留装置を用い、過剰のヘキサメチルジシラザン
を完全に留出した。これにより、ナトリウムビストリメ
チルシリルアミドのo−キシレン溶液920ミリリット
ルが得られた。中和滴定したところ、ナトリウムビスト
リメチルシリルアミドの濃度は1.03モル/リットル
であることが分かった。
【0021】実施例2 実施例1と同様にして反応液を得、濾過した後、蒸留装
置に移して反応液の量が350ミリリットルになるまで
o−キシレンを留出し、溶液中のナトリウムビストリメ
チルシリルアミドの濃度を濃縮した。さらに、得られた
この濃縮液にテトラヒドロフランを570ミリリットル
加えた。これにより、o−キシレンとテトラヒドロフラ
ンとの1:3混合溶媒にナトリウムビストリメチルシリ
ルアミドが溶解している溶液935ミリリットルが得ら
れた。この溶液を中和滴定したところ、ナトリウムビス
トリメチルシリルアミドの濃度は1.01モル/リット
ルであることが分かった。
置に移して反応液の量が350ミリリットルになるまで
o−キシレンを留出し、溶液中のナトリウムビストリメ
チルシリルアミドの濃度を濃縮した。さらに、得られた
この濃縮液にテトラヒドロフランを570ミリリットル
加えた。これにより、o−キシレンとテトラヒドロフラ
ンとの1:3混合溶媒にナトリウムビストリメチルシリ
ルアミドが溶解している溶液935ミリリットルが得ら
れた。この溶液を中和滴定したところ、ナトリウムビス
トリメチルシリルアミドの濃度は1.01モル/リット
ルであることが分かった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 幹夫 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内
Claims (2)
- 【請求項1】 125℃以上の沸点を有する非プロトン
性溶媒中でナトリウムアミドとヘキサメチルジシラザン
とを反応させ、残存するヘキサメチルジシラザンを留出
することを特徴とするナトリウムビストリメチルシリル
アミド溶液の製造方法。 - 【請求項2】 非プロトン性溶媒がキシレンである請求
項1に記載のナトリウムビストリメチルシリルアミド溶
液の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4214857A JP2766135B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4214857A JP2766135B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0665260A true JPH0665260A (ja) | 1994-03-08 |
JP2766135B2 JP2766135B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=16662705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4214857A Expired - Fee Related JP2766135B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2766135B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006038329A1 (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Toyo Kasei Kogyo Company Limited | トリメチルシリルアジドの製造方法 |
US8956876B2 (en) | 2011-03-25 | 2015-02-17 | TAS Project Co. Ltd | Method for quantitatively detecting 8-OXO 2′-deoxyguanosine in aqueous sample solution with high sensitivity |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101492466B (zh) * | 2009-03-10 | 2011-09-07 | 陕西大生化学科技有限公司 | 六甲基二硅烷胺钠溶液的制备方法 |
-
1992
- 1992-08-12 JP JP4214857A patent/JP2766135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006038329A1 (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Toyo Kasei Kogyo Company Limited | トリメチルシリルアジドの製造方法 |
US7781603B2 (en) | 2004-09-30 | 2010-08-24 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Method for producing trimethylsilyl azide |
US8956876B2 (en) | 2011-03-25 | 2015-02-17 | TAS Project Co. Ltd | Method for quantitatively detecting 8-OXO 2′-deoxyguanosine in aqueous sample solution with high sensitivity |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2766135B2 (ja) | 1998-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Bonin et al. | Dioxazaborocanes: old adducts, new tricks | |
RU2600741C2 (ru) | Способы получения 1,5,7-триазабицикло[4.4.0]-дец-5-eha по реакции дизамещённого карбодиимида и дипропилентриамина | |
JPS6218540B2 (ja) | ||
Keithellakpam et al. | A Simple and efficient procedure for the Knoevenagel condensation catalyzed by [MeHMTA] BF 4 ionic liquid | |
JPH0665260A (ja) | ナトリウムビストリメチルシリルアミド溶液の製造方法 | |
KR940005955B1 (ko) | 크실렌단위를 함유하는 폴리아릴알칸 올리고머의 조성물 및 그의 제조방법 | |
JPS61161224A (ja) | 有機弗化物の製造方法 | |
US9108968B2 (en) | Methods for producing 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene by reaction of a disubstituted carbodiimide and dipropylene triamine | |
JP4102465B2 (ja) | ベンゾフェノンイミン反応器流出液から水およびアンモニアを除去する方法 | |
JPS5877830A (ja) | ヨ−ドベンゼルの製造法 | |
CN107438594B (zh) | 一种用于合成环酰胺的有效的工艺 | |
US4588837A (en) | Process for the preparation of fluorocarboxylic acids | |
Gardner et al. | A Method of Coupling Organic Radicals by Means of the Grignard Reagent: A Correction | |
SU727634A1 (ru) | Способ получени -(2-аза-2-нитроалкил)-амидов | |
JPH1059935A (ja) | N−置換マレイミド類の製造方法 | |
KR820002078B1 (ko) | N-니트로소 화합물의 탈니트로소화 방법 | |
JP2864985B2 (ja) | トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法 | |
JP2000327685A (ja) | シリル化されたアニリン誘導体の製造方法 | |
JP3484561B2 (ja) | 4−トリメチルシロキシ−3−ペンテン−2−オンの製造方法 | |
EP0065356B1 (en) | A method for purification of cyclopentenolones | |
SU1129200A1 (ru) | Способ получени металлилацетата | |
JP3149652B2 (ja) | O,o’−ジアシル酒石酸無水物の製造方法 | |
JP4023922B2 (ja) | 高純度1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法 | |
James et al. | Synthesis and Reactions of α-Cyanogramine1 | |
JPH0532590A (ja) | ニトロフエノール類の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |