JPH0661524B2 - 凹凸模様を有する化粧材の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様を有する化粧材の製造方法に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕

従来、立体感のある凹凸模様を有する化粧材を製造する
方法として、化粧材基材に直刷り法や熱転写法にて絵柄
層を設け、更にエンボス角を施す方法が一般的に知られ
ている。この方法はその基材が表面平滑なものに対して
はシャープに盛り上がった凹凸形状や絵柄層の形成に限
界がある等の難点があることを除けば特に支障なく採用
されていた。しかし、化粧基材が凹凸部や曲部等の曲表
面を有するものに対しては適用困難であった。即ち、印
刷手段やエンボス加工自体が通常全体が平面状の対象物
に対して行われているため、曲表面のある基材に対して
はそのままの仕様形態では適用できないためである。ま
た一方、現在では平板状の基材のみならず、曲表面を有
する基材に対しても立体感のある美麗な凹凸模様を付す
ことが試みられており、その期待に応え得る化粧材の製
造方法が望まれていた。

本発明は上記の点に鑑みなされたもので、化粧材基材が
各種の曲表面を有する形態のものであっても、所望の凹
凸形状が簡便に付与でき、しかも多様な意匠付けも容易
に行う得る化粧材の製造方法を提供することを目的とす
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の製造方法は、基本形に、下記(a)〜(e)の工程を
順に行うことを特徴とするものである。

(a)表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの剥
離性面に必要に応じて着色層を設け、且つ上記シートの
表裏いずれかの面若しくは着色層上に電離放射線遮蔽性
模様を設けた転写シートを準備する工程。

(b)上記転写シートを、略均一な厚さの電離放射線硬化
性樹脂層を介在させて、曲表面を有する化粧材基材に重
ね合わせる工程。

(c)電離放射線を照射して電離放射線遮蔽性模様のない
部分に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工
程。

(d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬化
性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに付
着させて除去して凹部を形成するとともに、硬化した電
離放射線硬化性樹脂からなる凸部を形成する工程。

(e)凹部に残存した未硬化の樹脂をそのままの状態か或
いは必要に応じて所定量除去した状態で電離放射線を照
射して硬化させた後、ワイピング処理を行って凹部のみ
に着色を施す工程。

〔作用〕

本発明によれば、曲表面を有する化粧材基材に電離放射
線硬化性樹脂層を介して転写シートを適宜重ね合わせて
転写を行うことにより、電離放射線遮蔽性模様のある部
分では電離放射線硬化性樹脂が硬化せずに電離放射線透
過性シートの剥離によって除去され、電離放射線遮蔽性
模様のない部分では電離放射線硬化性樹脂が硬化して残
る。その結果、化粧材基材の凹凸表面の所定箇所に凹凸
形状が形成される。しかも本発明では上記凹凸形状が付
されると共に、該凹凸形状の凹部をワイピング処理にて
着色すえることにより多様な意匠が付された化粧材が得
られる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面に基き説明する。

第１図は本発明製造方法の一実施例を示す工程図であ
り、第２図は本発明の他の実施例を示す工程図である。
本発明方法では先ず第１図(a)や第２図(a)に例示するよ
うな転写シート１を準備する。この転写シート１は第１
図(a)に図示の如く電離放射線透過性シート２、着色層
３及び電離放射線遮蔽性模様４により構成される。尚、
着色層は必須のものではないため、第２図(a)に例示の
如く設けなくともよい。

上記電離放射線遮蔽性模様４は、電離放射線を照射した
際に電離放射線を遮蔽するためのものであるから、その
形成位置としては第１図(a)中、電離放射線透過性シー
ト２の上面又は下面、もしくは着色層３の下面であって
もよい。

電離放射線透過性シート２は一般的に、厚さが５〜２０
０μｍ、好ましくは２５〜１００μｍ程度の電離放射線
透過性を有するシート又はフィルムよりなり、電離放射
線が紫外線の場合には、例えばポリエステル、ポリアミ
ド（ナイロン等）、ポリプロピレン、ポリエチレン等の
ポリオレフィン、フッ素系樹脂のシート又はフィルム等
が挙げられるが、紫外線透過性に影響のある顔料等を含
まないものが好ましい。電離放射線が電子線の場合に
は、電子線の透過性が高いのであまり制約がなく、上記
した紫外線を透過する性質のあるシート又はフィルムは
原則的に使用でき、更に紙等の表面にポリオレフィン系
樹脂のエクストルージョンコートや、シリコーン、メラ
ミン等の樹脂コートを行い離型処理を施したものも使用
できる。

またシート２は、転写シートを後述の化粧材基材の曲面
形状（凹凸や曲部等）に追従させて重ね合わせるように
使用する場合には特に可撓性を有するものが好ましく、
例えば、厚さが６〜５０μｍ程度の、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフ
タレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル、
ナイロン等のポリアミド、三酢酸セルロース、ポリアク
リレート、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、エ
チレンビニルアルコール共重合体、ビニロン等からなる
フィルム、又はこれらの２種以上の積層フィルム等が用
いられる。また化粧材基材が曲板形状である場合、シー
ト２はその曲面形状に沿い易いように薄手のシートや若
干伸長性のあるシート材質等を使用することが好まし
い。更に、転写シートをＯＶＬ成型転写法を適用して使
用する場合には熱可塑性を有するものが望ましく、例え
ば、ポリオレフィン、ポリアミド、ビニロン、エチレン
ビニルアルコール共重合体等からなるフィルム又はこれ
らの２種以上の積層フィルムが使用される。

上記シート２は必要に応じて設ける着色層３を転写可能
に支持するため、少なくとも着色層を支持する側の面は
剥離性を有する剥離性面である必要があり、素材自体が
剥離性を有さない場合には剥離性の樹脂若しくは組成物
を塗布する等して表面剥離性として使用する。

着色層３は、化粧材基材上に着色層を形成するためのも
のであり、用途に応じて種々の塗料若しくはインキを使
用して形成され、しかも電離放射線透過性のものであ
る。着色層３は均一ないわゆるベタ層として形成して
も、或いは模様状に設けてもよい。本発明では、電離放
射線遮蔽性模様によりパターン化できるのでベタ層でも
よいが、更に印刷により複雑な模様を形成しておいても
よく、その場合は着色層自体がベタ層ではなく模様層で
あってもよい。模様層は１色の印刷層であっても２色以
上の印刷層であってもよい。着色層の色としては着色透
明、艶消透明、可視光隠蔽性色を始めとした任意の色を
使用でき、また模様状の着色層の場合の柄としては木
目、石目、二文字、抽象柄等の各種のものが適用でき
る。

本発明では着色層３を電離放射線硬化性樹脂を用いて形
成することができるが、この場合、着色層３をシート２
の剥離性面に設けるとともに、遮蔽性模様４をシート２
の着色層３とは反対側の面に設けて構成される転写シー
ト１が使用される。着色層３が電離放射線硬化性樹脂に
て構成される場合、その硬化時期は特に限定されない
が、転写時に後述の電離放射線硬化性樹脂層の硬化と同
時に行うことが好ましい。

電離放射線遮蔽性模様４を形成する材料としては、電離
放射線が紫外線であるときは、紫外線を反射して遮蔽す
る物質、例えば酸化チタン、硫酸カリウム、炭酸カルシ
ウム等の充填剤、または粒径が0.3〜１０μｍ程度で隠
蔽力の大きい顔料を含有するインキ、紫外線を吸収する
物質、例えばベンゾフェノール系、サリチレート系、ベ
ンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系等の紫外線吸
収剤、光吸収性の顔料、カーボンブラックまたは無機物
とともにクェンチャー（例えば金属錯塩系もしくはヒン
ダーアミン系等）を含有するインキ等が挙げられる。ま
た電離放射線が電子線であるときは、上記したインキや
他の顔料系のものを含有するインキが挙げられる。電離
放射線遮蔽性模様４はこれらのインキを用いて通常のグ
ラビア等の印刷法により形成することができる。

次いで本発明は、上記の如き構成からなる転写シート
を、第１図(b)に示すように別に準備した電離放射線硬
化性樹脂層５を略均一な厚さに塗布して設けた、曲表面
６を有する化粧剤基材７に重ねる（第１図(c)、第２図
(b)）。この転写シート１と化粧材基材７に重ね合わせ
方は、該基材に付与すべき凹凸模様の形態によって適宜
調整され、例えば、 ｉ）基材７の曲表面６の全域に亘って所定パターンに凹
凸模様を付与する場合、転写シート１を化粧材基材７の
凹凸表面上の電離放射線硬化性樹脂層５に全面密着させ
て重ね合わせる（第１図(c)、第２図(b)参照）。この場
合、転写シート１は曲表面６の形状に完全に追従した形
態となる。

ii)基材７の曲表面における凹部に凹凸模様を付与しな
い場合、転写シート１のうち化粧材基材７の凹部に位置
する電離放射線硬化性樹脂層５には接触させず離間させ
て重ね合わせる。

上記の如き重ね合わせを実際に行うに当たっては、上記
ｉ）の場合はＯＶＬ成型転写法や、基材の曲表面形状に
対応した接触面を有する、望ましくは低硬度のゴム押圧
ロール間を通過させる方法等が適用できる。更には公知
のラッピング、真空ラミネート、真空プレスラミネー
ト、手貼り等の方法なども適用できる。これらの重ね合
わせに際しては、いずれも転写シート１と基材７との位
置合わを行い、以て基材７の曲面形状と正確に同調した
凹凸模様の付与を容易に行うことができる。上記ii)の
場合は高硬度ゴム、金属等の高硬度の押圧ロール間を通
過させる方法等が適用できる。

また上記ｉ）の如く転写シートを重ね合わせて化粧材基
材７の凹部に凹凸模様を付与させないのに好適な基材７
の曲表面形状は、その凹部の開口巾が１〜２０mm、凹部
の深さが５００μｍ以上の範囲のものである。その開口
巾や深さが上記範囲より狭かったり浅かったりするもの
では、凹部が電離放射線硬化性樹脂によって埋められて
しまい、また開口巾が上記範囲より広いものでは凹部の
底面に凹凸模様が付与されてしまう。また凹凸のエッジ
はできる限り鋭角（望ましくは９０°以下）な形状とし
て凹部底面への凹凸模様の付与が不可能なものが好まし
い。

一方、前記ii)の如く転写シートを重ね合わせて基材７
の曲表面６の全域に亘って所定の凹凸模様を付すのに好
適な曲表面形状は、転写シートが追従して密着させ易い
滑らかな凹凸や曲がった形状のものが良い。その他、平
面に近似した状態となる砂目的な微細凹凸形状のものが
良い。

上記樹脂層５を形成するための電離放射線硬化性樹脂
は、構造中にラジカル重合性の二重結合を有するポリマ
ー、オリゴマー、モノマー等を主成分とし、光重合開始
剤や増加剤、そのほか必要に応じて非反応性のポリマ
ー、有機溶剤、ワックスその他の添加剤を含有するもの
で、種々のグレードのものが市場から容易に入手でき、
本発明に使用できる。また電離放射線硬化性樹脂は、粘
度が低すぎると曲表面６における凹部、凹陥部等のみに
溜り易く塗布厚を均一にさせることが困難となり、逆に
高すぎると塗工面のレベリング不足で表面平滑性が極め
て劣るため転写シート１との重ね合わせを良好に行い難
くなる。そのため粘度が１００〜１００００cpsのもの
が好ましい。樹脂層５はグラビアコート、ロールコー
ト、フローコートもしくはスプレーコート等の公知の方
法により形成することができる。樹脂層５の厚さは３μ
ｍ〜１mm、特に３０〜２００μｍが好ましい。

また樹脂層５を構成する電離放射線硬化性樹脂として、
粘着性のものを使用してもよい。この粘着性の電離放射
線硬化性樹脂は電離放射線照射前の未硬化状態では被着
体に対して粘着性を有し、照射後の硬化状態では被着体
に強固に密着するが転写シートとは剥離性となる性質を
有する材料からなるものである。具体的には、電離放射
性硬化型化合物と粘着性を付与するために混合するポリ
マーとによって構成される。上記化合物は分子中に重合
性二重結合、好ましくはアクリロイル基又はメタクリロ
イル基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化
合物を含有し、例えば、1,4−ブチレングリコール（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサグリコールジ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレー
ト等の単量体、及びエポキシアクリレート、ウレタン変
性アクリレート、オリゴエステルアクリレート等のオリ
ゴマー等を含有する。これらは必要に応じて２種以上を
併用してもよい。粘着性ポリマーとしては、それ自体が
粘着性を有するものと、上記化合物に配合することによ
り必要な粘着性を発揮するものとがある。前者の例とし
ては、アルキル基の炭素数が１〜１２の（メタ）アクリ
ル酸アルキルエステル重合体、（メタ）アクリル酸アル
キルエスチルと（メタ）アクリル酸、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、スチレン、酢酸ビニル、（メタ）ア
クリロニトリル等の不飽和化合物との共重合体（架橋材
を用いて架橋した重合物を含む）、或いはスチレン−イ
ソプレン−スチレンブロック共重合体ゴム、スチレンブ
タジエンゴム、ニトリルブタジエンゴム等のゴム類を主
体とするゴム系粘着物質などが挙げられる。また後者の
例としては、飽和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリブ
チラール樹脂などが挙げられる。

上記電離放射線硬化型化合物と粘着性ポリマーとの配合
割合は、８０：２０〜１０：９０、好ましくは７０：３
０〜３０：７０（いずれも重合比）である。上記化合物
が８０％を超えると電離放射線照射前の未硬化状態にお
ける凝集性が劣り、側面へのはみ出しや低位部への集積
などが起きるため好ましくなく、また１０％未満でみ充
分な硬化が得られないため好ましくない。樹脂層５が紫
外線硬化型である場合、光増感剤を添加するのが好まし
く、その光増感剤は上記化合物と粘着性ポリマーとの合
計量に対して0.05〜２０重量％、好ましくは0.5〜１０
重量％の範囲で添加される。また樹脂層５は必要に応じ
て適宜顔料若しくは染料で着色してもよい。

粘着性の電離放射線硬化性樹脂を使用する場合、転写シ
ート１側に樹脂層５を塗布形成することができる。この
ように樹脂層５を転写シート１側に形成した場合、該樹
脂層上に離型性シートを積層し、転写シート１を巻回し
て保管することができ、使用に際しては離型性シートを
剥離してから使用するという形態を採ることができる。

化粧材基材７は本発明による凹凸形状（模様）を付す対
象となる表面の少なくとも一部に曲面部を有するもので
ある。具体的には、第１図(b)に例示するように全体が
曲がったものや、第２図(a)に例示するように湾曲した
表面を有するものであり、特にその形態に制約はない。
また基材７の材質としては、どのようなものでもよい
が、例えばステンレス鋼、鋼、アルミニウム、もしく
は銅等の金属の板または成形品、ガラス、大理石、陶
磁器、石膏ボード、石綿セメント板、珪酸カルシウム
板、ＧＲＣ（ガラス繊維強化セメント）等の無機質の板
または成形品、ポリエステル、メラミン、ポリ塩化ビ
ニル、ジアリルフタレート等の有機ポリマーの板、成形
品、木、合板、パーチクルボード等の木質の板または
成形品、並びに以上の各材質の複合体等が挙げられる。
これら化粧材基材７には目止め処理やプライマー処理等
の下地処理、接着性向上のための処理等を行ってもよ
い。更に基材７には必要に応じて着色層、絵柄層、金属
蒸着層を設けても、或いは絵柄印刷シートやエンボス加
工を施した絵柄印刷シートを接着剤を介してラミネート
してもよい。

前記したような好適な曲表面形状を基材７に付す方法と
しては、熱エンボス加工（適用材質：プラスチック板
など）、基材製造に際して、柔らかい段階で金型によ
り押圧した後、硬化させる方法（適用材質：無機質板、
プラスチック板など）、切削加工（適用材質：木質
板、無機質板、プラスチック板など）、機械的エンボ
ス加工（適用材質：金属板、木質板など）、凹凸形状
賦形用フィルムを使用したキャスティング成型法等を採
用できる。

次いで、本発明は第１図(c)や第２図(b)に示すように転
写シート１と基材７とを電離放射線硬化性樹脂層５を介
して重ね合わせた後、電離放射線装置８にり電離放射線
を照射する。電離放射線の代表的なものは紫外線と電子
線であるが、分子を重合、架橋させるに足りるエネルギ
ー量子を有するものであればその他のものも利用でき
る。

電離放射線の照射により、電離放射線遮蔽性模様４のな
い部分では電離放射線硬化性樹脂層５は硬化して、化粧
材基材７と硬化した電離放射線硬化性樹脂層５及び着色
層３が一体化し、一方、電離放射線遮蔽性模様４のある
部分では電離放射線硬化性樹脂層５は未硬化のままに置
かれる。この際、着色層３が電離放射線硬化樹脂にて形
成されている場合、上記照射により同時に硬化がなさ
れ、遮蔽性模様４のない部分に相当する着色層部分が実
際に硬化される。

次いで電離放射線照射後、電離放射線透過性シート２を
剥離する（第１図(d)、第２図(c)）。これにより、上記
の硬化して一体化した部分は基材７側に転写されて残
り、樹脂層５の未硬化部分では、未硬化の電離放射線硬
化性樹脂５ａがシート２に付着した状態で該シートの剥
離とともに除去される。その結果、同図に示すように、
少量の未硬化の電離放射線硬化性樹脂５ａが残留した凹
部９と、硬化した電離放射線硬化性樹脂５ｂよりなる凸
部10とからなる凹凸模様が形成される。

上記凹凸模様を形成した後、凹部９に残存する未硬化の
樹脂５ａを第１図の実施例の如く残存状態のままか、或
いは第２図の実施例（同図(d)）の如く所定量除去した
状態（同図中、凹部９ａ）で、電離放射線を照射して硬
化せしめる。

最後に、本発明方法は第１図(e)や第２図(e)に示すよう
にワイピング処理により凹部９（９ａ）に着色を施し、
以て凹凸模様を有する化粧材12を製造し得る。図中、11
は上記処理により塗工される着色インキ層を示す。

本発明におけるワイピング処理は曲表面を有する基材７
に対して可能な手法であれば、如何なる方法も適用でき
る。代表的な方法としては、第３図〜第５図に例示する
ような、基材７の曲表面形状に合致する接触面13を有す
るドクターブレード（堰）、回転ロール等からなるワイ
ピング処理用具14を使用する方法が好ましい。以下、そ
のワイピング処理方法について詳述する。

第３図〜第５図に例示のワイピング処理方法はいずれ
も、まず基材７の表面全面にロールコーター、フローコ
ーター、スプレーコーター等の適宜手段により着色イン
キ11を塗布した後、 第３図や第４図に示すような固定設置されたドクター
ブレード15に対して基材７を接触面13に当接するように
移動させることにより、凹部以外に付着しているインキ
を掻き取る。

第５図に示すような定位置で回転する回転ロール16に
対して基材７を接触面13に当接するように移動させるこ
とにより、凹部以外に付着しているインキを掻き取る。

上記、におけるドクターブレード15や回転ロール
16を適宜組合わせて併用し、インキの掻き取りを行う。

これによって図示の如く、着色インキ11は凹部９のみに
残される。

上記着色インキの塗布は、基材が垂直面がない形態のも
のに対してはフローコート等が好ましく、垂直面やきわ
めて複雑な形状部分がある形態のものに対してはスプレ
ーコート等が好ましい。また上記以外の塗布方法とし
て、ワイピング処理用治具の直前にインキを基材全面に
行き渡るように滴下させたりしてもよい。上記回転ロー
ル16は通常基材の移送方向と逆向きに回転させることが
好ましい。また着色インキを全面に塗布し乾燥させた
後、回転ロールとしてサンダーロールを使用して凸部表
面のインキを削り取るようにしてワイピング処理を行っ
てもよい。

本発明方法は上記ワイピング処理を行った後、その全面
に透明又は半透明の合成樹脂からなる保護層17を塗布形
成する。上記樹脂の材質は目的用途等に応じて適宜選定
され、例えば熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が
用いられる。この保護層17を形成することにより表面物
性に優れた化粧材12を得ることができる。

本発明では各種複雑な曲面や全体形状からなる化粧基材
７を使用するため、例えば前記電離放射線の照射は第６
図に示すように複数の照射装置８を適宜配設させて各種
方向から行うことが好ましい。尚この際、複数の各照射
装置は遮蔽性模様が確実に機能するよう配慮して設置す
る。また、前記したように未硬化の樹脂５ａを除去する
（第２図(d)）方法としては、第７図に示すように複数
本のブラッシングロール18a〜ｄを備え、しかもその回
転軸の角度が調節して設置できる装置等を採用すること
が好ましい。また上記樹脂の除去を効率良く行うために
は、予め溶剤を処理面に塗布した後、上記操作を行えば
よい。溶剤の塗布はロールコーター、フローコーター等
にて行う。

以下、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。

実施例１ 離型性のある厚さ５０μｍのポリエステルフィルム（東
レ（株）製）の片面に、着色パールインキ（諸星インキ
（株）製）をグラビア印刷法にて乾燥後の厚みが３μｍ
となるようにベタ状に印刷した後、この上に紫外線遮蔽
性インキ（諸星インキ（株）製）を版深８０μｍのグラ
ビア版を用いて印刷して遮蔽性模様を形成し、転写シー
トを作成した。

別途、第１図(b)に示すような曲板形状を有するＡＢＳ
樹脂製基材（表面に0.1mm厚の白色ＰＶＣシートをラミ
ネートしてある）の表面に下記組成からなる粘着性の紫
外線硬化性塗料を厚みが１００μｍとなるようにフロー
コートした。

ポリエステル樹脂 （東洋紡績（株）製バイロン） ３５重量部 エポキシアクリレート （昭和高分子（株）製リポキシＳＰ） ７０重量部 酢酸ビニル樹脂 １０重量部 ベンゾフェノン （日本化薬（株）製KAYACURE BP） １０重量部 ハイドロキノン 0.０１重量部 次いで、上記転写シートを上記曲板基材のコート面に追
従するように重ね合わせた後、８０Ｗ／cmのオゾンレス
型紫外線ランプを５灯設置した照射装置中を２０ｍ／分
の速度で通過させて紫外線照射を行った。その照射後、
ポリエステルフィルムを剥離してから再度、同じ上記照
射装置ラインを３０ｍ／分の速度で通過させ、凹部に残
存する未硬化の樹脂を硬化させた。

しかる後、第４図に示すようなワイピング処理方法にて
二液硬化型ウレタン系着色インキを凹部に塗工した。最
後に、表面全体に紫外線硬化性塗料を厚みが５μｍとな
るようにスプレー塗装し、上記照射装置ラインを２０ｍ
／分の速度で通過させ、化粧材を得た。

その化粧材は所望通りの位置に凹凸形状が付されてお
り、表面物性に優れたものであった。またパール発色す
る凸部と着色された凹部とを有する美麗な凹凸模様を備
えたものであった。

実施例２ 厚さ２５μｍのポリエステルフィルムに紫外線遮蔽模様
としてウレタン系の黒色インクにて木目導管柄をグラビ
ア印刷した転写シートを作成した。

別途、化粧材基材として第２図(a)に示すような曲表面
を有するＭＤＦ基材７に、図示の如き木目模様20をグラ
ビア印刷した厚さ0.１mmのＰＶＣシート21を曲面に沿っ
てラミネートしたものを準備した。

次いで上記化粧材基材の表面にスプレーにて紫外線硬化
性塗料を６０μｍ厚にコートした後、このコート面に上
記転写シートを、印刷面が接し且つ基材の曲表面に追従
するように重ね合わせた。

しかる後、第６図に示すような紫外線照射装置ラインを
通過させた後、ポリエステルフィルムを剥離し、第２図
(c)に示すように導管部に相当する位置に若干の凹部を
形成せしめた。

次に表面にトルエンをロールコーターにて塗布した後、
第７図に示すようなブラッシングロールラインを通過さ
せて、凹部に残存する未硬化樹脂を所定量除去してより
深い導管部（凹部）とし、再度上記照射装置ラインを通
過させ残存する僅かな未硬化樹脂を硬化せしめた。

次いでフローコート法にて表面全体に着色インキを塗布
した後、第５図に示すような回転ゴムロールを基材の移
動方向とは逆向する向きに回転させ凸部に付着するイン
キをかき取った。更に上記ゴムロールと同様の形状を有
するサンダーロールを用いて凸部のインキのかぶりを完
全に除去した。

最後に、表面全体に紫外線硬化性塗料を厚みが１０μｍ
となるようにスプレー塗装し、上記照射装置ラインを通
過させ、第２図(e)に示すような化粧材を得た。

その化粧材は付与された凹凸模様の導管部となる深めの
着色凹部と、基材の木目印刷模様とにより天然木に酷似
した外観を呈するものであり、しかも表面物性に優れた
ものであった。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明製造方法によれば化粧材基
材が曲表面を有する形態のものにもかかわらず、所望の
凹凸形状（模様）を簡便に且つ確実に付すことができ
る。しかもワイピング処理により上記凹凸形状の凹部の
みを着色できるため多様な意匠付けすることができる。
従って、立体感があり意匠性に優れた美麗な凹凸模様を
有する曲表面の化粧材が得られる。

例えば、本発明では上記曲面基材上の凹凸模様における
凹部にワイピング処理により着色を施せるため、その着
色を施さないものでは下地（基材の表面）が透視されて
意匠性が劣る面があったことを克服できる。即ち、木目
模様を付す場合には、導管部となる凹部が着色を施さな
いとその周囲部に比べ淡色の外観となってしまうが、本
発明によれば凹部のみに所望の着色を施せるためリアル
感に富んだ木目調の意匠外観を化粧材基材に付与でき
る。また抽象柄を付す場合であっても幅広い色の表現が
可能となった（具体的には同じ着色層、絵柄層を基材に
付与した場合でも、ワイピング処理により着色を変える
ことにより異なった色彩、配色が得られる）。

また、転写シートの重ね合わせ方を適宜調整することに
より、例えば曲表面基材の凸部表面のみに同調した凹凸
模様を付与することができ、特にこの態様によればタイ
ル／目地調、スタッコ調、リシン調等の優れた意匠を付
した化粧材の製造が１回の転写工程にて簡単に行うこと
ができる。また例えば、基材自体の凹凸模様と転写シー
トにって付与する凹凸模様とを任意の位置に適宜設定す
ることができ、その結果、両者の相乗効果による立体感
に優れた美麗な凹凸模様を付した多種多様の化粧材の製
造が可能となる。

更に、着色層を電離放射線硬化性樹脂にて構成すること
により、表面保護層を別途形成しなくとも耐摩耗性、耐
薬品性等の表面物性に優れた化粧材を簡便に製造し得る
ことができる。

また更に粘着性の電離放射線硬化性樹脂を使用すること
により、化粧材基材の凹凸面や曲面などに該樹脂を塗布
して樹脂層を形成した場合、側面へのはみ出しや凹凸面
の傾斜部、垂直部における液ダレ、液溜まりが生じにく
く、偏肉のない略均一な層厚の樹脂層を形成することが
でき、その後の製造工程での加工や取り扱いに利便とな
る。しかも上記粘着性のものを使用すると、転写シート
側に塗布して電離放射線硬化性樹脂層を形成することも
でき、この場合には樹脂層上に離型性シートを積層し転
写シートを巻回して保管することが可能となり、化粧材
基材との重ね合わせに際しては単に離型性シートを剥が
して使用するという使用形態を採ることができる。この
ように転写シート側に樹脂層を塗布形成することによ
り、転写シート製造ラインで樹脂層の形成を同時に行え
ば、化粧材基材側への樹脂層形成の場合における転写工
程での化粧材基材毎への塗装工程を省くことができる利
点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図(a)〜(e)は本発明製造方法の一実施例を示す工程
説明図、第２図(a)〜(e)は本発明の他の実施例を示す工
程説明図、第３図、第４図、第５図はワイピング処理方
法の代表例を示す斜視図、第６図(a)、(b)は電離放射線
照射工程の一例を示す側面図とその正面図、第７図は未
硬化樹脂の除去工程の一例を示す側面図とその正面図で
ある。 １…転写シート、２…電離放射線透過性シート ３…着色層、４…電離放射線遮蔽性模様 ５…電離放射線硬化性樹脂層、６…曲表面 ７…化粧材基材、９…凹部、10…凸部 11…着色インキ層、13…接触面 14…ワイピング処理用具、17…保護層

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記(a)〜(e)の工程を順に行うことを特徴
   とする凹凸模様を有する化粧材の製造方法。 (a)表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの剥
   離性面に必要に応じて着色層を設け、且つ上記シートの
   表裏いずれかの面若しくは着色層上に電離放射線遮蔽性
   模様を設けた転写シートを準備する工程。 (b)上記転写シートを、略均一な厚さの電離放射線硬化
   性樹脂層を介在させて、曲表面を有する化粧材基材に重
   ね合わせる工程。 (c)電離放射線を照射して電離放射線遮蔽性模様のない
   部分に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工
   程。 (d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬化
   性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに付
   着させて除去して凹部を形成するとともに、硬化した電
   離放射線硬化性樹脂からなる凸部を形成する工程。 (e)凹部に残存した未硬化の樹脂をそのままの状態か或
   いは必要に応じて所定量除去した状態で電離放射線を照
   射して硬化させた後、ワイピング処理を行って凹部のみ
   に着色を施す工程。
2. 【請求項２】工程(e)におけるワイピング処理を、化粧
   材基材の曲表面形状に合致する接触面を備えたドクター
   ブレード及び／又は回転ロールを使用し、着色インキが
   凹部のみに充填塗工されるような掻き取りを行って施す
   請求項１記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方法。
3. 【請求項３】工程(b)における電離放射線硬化性樹脂層
   を形成するための樹脂材質として粘着性の電離放射線硬
   化性樹脂を使用する請求項１又は２記載の凹凸模様を有
   する化粧材の製造方法。
4. 【請求項４】工程(b)における電離放射線硬化性樹脂層
   を化粧材基材側又は転写シート側に塗布形成する請求項
   １〜３のいずれかに記載の凹凸模様を有する化粧材の製
   造方法。
5. 【請求項５】工程(b)において、転写シートを化粧材基
   材の凹凸表面上の電離放射線硬化性樹脂層に全面密着さ
   せて重ね合わせる請求項１〜４のいずれかに記載の凹凸
   模様を有する化粧材の製造方法。
6. 【請求項６】工程(b)において、転写シートを化粧材基
   材の凹部に位置する電離放射線硬化性樹脂層には接触さ
   せずに離間させて重ね合わせる請求項１〜４のいずれか
   に記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方法。
7. 【請求項７】工程(a)における転写シートとして、着色
   層を電離放射線硬化性樹脂にて形成し且つ電離放射線遮
   蔽模様を電離放射線透過性シートの着色層がある面とは
   反対の面に設けた転写シートを準備使用する請求項１〜
   ４のいずれかに記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方
   法。
8. 【請求項８】工程(e)におけるワイピング処理を行った
   後、透明又は半透明の合成樹脂からなる保護層を形成す
   る請求項１〜５のいずれかに記載の凹凸模様を有する化
   粧材の製造方法。