JPH04163126A - 凹凸模様を有する化粧材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様を有する化粧材の製造方法に関する。 〔従来の技術 及び発明が解決しようとする課題］ 従来、立体感のある凹凸模様を有する化粧材を製造する
方法として、化粧材基材に直刷り法や熱転写法にて絵柄
層を設け、更にエンボス加工を施す方法が一般的に知ら
れている。この方法はその基材が表面平滑なものに対し
てはシャープに盛り上がった凹凸形状や絵柄層の形成に
限界がある等の難点があることを除けば特に支障なく採
用されていた。しかし、化粧基材が凹凸部や曲部等の曲
表面を有するものに対しては適用困難であった。 即ち、印刷手段やエンボス加工自体が通常全体が平面状
の対象物に対して行われているため、曲表面のある基材
に対してはそのままの仕様形態では適用できないためで
ある。また一方、現在では平板状の基材のみならず、曲
表面を有する基材に対しても立体感のある美麗な凹凸模
様を付すことが試みられており、その期待に応え得る化
粧材の製造方法が望まれていた。 本発明は上記の点に鑑みなされたもので、化粧材基材が
各種の曲表面を有する形態のものであっても、所望の凹
凸形状が簡便に付与でき、しかも多様な意匠付けも容易
に行う得る化粧材の製造方法を提供することを目的とす
る。 〔課題を解決するための手段〕 本発明の製造方法は、基本的に、下記（ａ）〜（ｅ）の
工程を順に行うことを特僧とするものである。 （ａ）　　表面が剥離性を有する電離放射線透過性シー
トの剥離性面に必要に応じて着色層を設け、且つ上記シ
ートの表裏いずれかの面若しくは着色層」二に電離放射
線遮蔽性模様を設けた転写シートを準備する工程。 ０））上記転写シートを、略均一な厚さの電離放射線遮
蔽性模様層を介在させて、曲表面を有する化粧材基材に
重ね合わせる工程。 （ｃ）　　電翔ｆｈ！ｌ射線を照射して電動放射線遮蔽
性模様のない部分に相当する電離放射線遮蔽性模様層を
硬化させる工程。 ［ｄｌ　　電離放射線透過性シートを剥がして電離放射
線遮蔽性模様層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シー
トに付着さゼて除去して凹部を形成するとともに、硬化
した電離放射線遮蔽性模様からなる凸部を形成する工程
。 （ｅ）　　凹部に残存した未硬化の樹脂をそのままの状
態か或いは必要に応じて所定量除去した状態で電動放射
線を照射して硬化させた後、ワイピング処理を行って凹
部のみに着色を施す工程。 （作用） 本発明によれば、曲表面を有する化粧材基材に電離放射
線遮蔽性模様層を介して転写シートを適宜重ね合わせて
転写を行うことにより、電離放射線遮蔽性模様のある部
分では電離放射線遮蔽性模様が硬化せずに電離放射ｖＡ
透過性シートの判割によって除去され、電動放射線遮蔽
性模様のない部分では電離放射線遮蔽性模様が硬化して
残る。その結果、化粧材基材の凹凸表面の所定箇所に凹
凸形状が形成される。しかも本発明では上記凹凸形状が
付されると共に、該凹凸形状の凹部をワイピング処理に
て着色することにより多様な意匠が付された化粧材が得
られる。 （実施例） 以下、本発明の一実施例を図面に基き説明する。 第１図は本発明製造方法の一実施例を示す工程図であり
、第２図は本発明の他の実施例を示す工程図である。本
発明方法では先ず第１図（ａ）や第２図（ａ）に例示す
るような転写シートｌをｉｎする。 この転写シート１は第１図（ａ）に図示の如く電離放射
線透過性シート２、着色層３及び電離放射線遮蔽性模様
４により構成される。尚、着色層は必須のものではない
ため、第２図（ａ）に例示の如く設けなくともよい。 上記電離放射線遮蔽性模様４は、Ｎ離放射線を照射した
際に電離放射線を遮蔽するためのものであるから、その
形成位置としては第１図（ａＪ中、電離放射線透過性シ
ート２の上面又は下面、もしくは着色層３の下面であっ
てもよい。 電離放射線透過性シート２は一般的に、厚さが５〜２０
０　ｕ　ｍ、好ましくは２５〜１００μｍ程度の電離放
射１ｉ！透過性を有するシート又はフィルムよりなり、
電離放射線が紫外線の場合には、例えばポリエステル、
ポリアミド（ナイロン等）、ポリプロピレン、ポリエチ
レン等のポリオレフィン、フン素糸樹脂のシート又はフ
ィルム等が挙げられるが、紫外線ｉ３過性に影響のある
顔料等を含まないものが好ましい。電離放射線が電子線
の場合には、電子線の透過性が高いのであまり制約がな
く、上記した紫外線を透過する性質のあるシート又はフ
ィルムは原則的に使用でき、更に紙等の表面にポリオレ
フィン系樹脂のエクストルージジンコートや、シリコー
ン、メラミン等の樹脂コートを行い離型処理を施したも
のも使用できる。 またシート２は、転写シートを後述の化粧材基材の曲面
形状（凹凸や曲部等）に追従させて重ね合わせるように
使用する場合には特に可撓性を有するものが好ましく、
例えば、厚さが６〜５０μｍ程度の、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタ
レート−イソフタレート共重合体等のポリエステル、ナ
イロン等のポリアミド、三酢酸セルロース、ポリアクリ
レート、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、エチ
レンビニルアルコール共重合体、ビニロン等からなるフ
ィルム、又はこれらの２種以上の積層フィルム等が用い
られる。また化粧材基材が曲板形状である場合、シート
２はその曲面形状に沿い易いように薄手のシートや若干
伸長性のあるシート材質等を使用することカく好ましい
。更に、転写シートをＯＶＬ成型成型法写法用して使用
する場合には熱可塑性を有するものが望ましく、例えば
、ポリオレフィン、ポリアミド、ビニロン、エチレンビ
ニルアルコール共重合体等からなるフィルム又はこれら
の２種以上の積層フィルムが使用される。 」二記シート２は必要に応じて設ける着色層３を転写可
能に支持するため、少なくとも着色層を支持する側の面
は剥離性を有する剥離性面である必要があり、素材自体
が剥離性を有さない場合には剥離性の樹脂若しくは組成
物を塗布する等して表面剥離性として使用する。 着色層３は、化粧材基村上に着色層を形成するためのも
のであり、用途に応じて種々の塗料若しくはインキを使
用して形成され、しがも電離放射線透過性のものである
。着色Ｎ３は均一ないわゆるヘタ層として形成しても、
或いは模様状に設けてもよい０本発明では、電離放射線
遮蔽性模様によりパターン化できるのでヘタ層でもよい
が、更に印刷により複雑な模様を形成しておいてもよく
、その場合は着色層自体かへり層ではなく模様層であっ
てもよい。模様層は】色の印刷層であっても２色以上の
印刷層であってもよい０着色層の色としては着色透明、
艶消透明、可視光胛蒔性色を始めとした任意の色を使用
でき、また模様状の着色層の場合の柄としては木目、石
目、文字、抽象柄等の各種のものが適用できる。 本発明では着色Ｎ３を電離放射線遮蔽性模様を用いて形
成することができるが、この場合、着色層３をシート２
の剥離性面に設けるとともに、遮鈷性模様４をシート２
の着色層３とは反対側の面に設けて構成される転写シー
トｌが使用される。 着色層３が電離放射線遮蔽性模様にて構成される場合、
その硬化時期は特に限定されないが、転写時に後述の電
動放射線遮蔽性模様層の硬化と同時に行うことが好まし
い。 電離放射線遮蔽性模様４を形成する材料としては、電離
放射線が紫外線であるときは、紫外線を反射して遮賠す
る物質、例えば酸化チタン、硫酸カリウム、炭酸カルシ
ウム等の充填剤、または粒径が０．３〜１０μｍ程度で
隠蔽力の大きい顔料を含有するインキ、紫外線を吸収す
る物質、例えばヘンシフエノール系、サリチレート系、
ヘンシトリアゾール系、アクリロニトリル系等の紫外線
吸収剤、光吸収性の顔料、カーボンブラックまたは無機
物とともにクエンチャ−（例えば金属錯塩系もしくはヒ
ンダードアミン系等）を含有するインキ等が挙げられる
。また電離放射線が電子線であるときは、上記したイン
キや他の顔料系の□ものを含有するインキが挙げられる
。電離放射線遮蔽性模様４はこれらのインキを用いて通
常のグラビア等の印刷法により形成することができる。 次いで本発明は、上記の如き構成からなる転写シートを
、第１図（ｂ）に示すように別に＊ｉした電離放射線遮
蔽性模様層５を略均一な厚さに塗布して設けた、曲表面
６を有する化粧材基材７に重ねる（第１図（ｃ）、第２
図（ｂ））、この転写シート１と化粧材基材７に重ね合
わせ方は、該基材に付与ずべき凹凸模様の形態によって
適宜調整され、例えば、 ｉ）基材７の曲表面６の全域に亘って所定パターンに凹
凸模様を付与する場合、転写シートｌを化粧材基材７の
凹凸表面上のＴｉ６放射線遮蔽性模様層５に全面密着さ
せて重ね合ゎセる（第１図（ｃ）、第２図（ｂ）参照）
。この場合、転写シートｌは曲表面６の形状に完全に追
従した形態となる。 １ｉ　）　Ｍ材７の曲表面における凹部に凹凸模様を付
与しない場合、転写シート１のうち化粧材基材７の凹部
に位置する電離放射線遮蔽性模様層５には接触させず離
間させて重ね合わせる。 」二重の如き重ね合わせを実際に行うに当たっては、上
記１）の場合はＯＶＩ、成型転写法や、基材の曲表面形
状に対応した接触面を有する、望ましくは低硬度のゴム
押圧ロール間を通過させる方法等が適用できる。更には
公知のランピング、真空ラミネート、真空プレスラミネ
ート、手貼り等の方法なども適用できる。これらの重ね
合わセに際しては、いずれも転写シート１と基材７との
位置合わを行い、以て基材７の曲面形状と正確に同調し
た凹凸模様の付与を容易に行うことができる。−１−記
１１）の場合は高硬度ゴム、金属等の高硬度の押圧ロー
ル間を通過させる方法等が適用できる。 また上記ｉ）の如く転写シートを重ね合わせて化粧材基
材７の凹部に凹凸模様を付与さないのに好適な基材７の
曲表面形状は、その凹部の開口中が１〜２０１、凹部の
深さが５００μｍ以上の範囲のものである。その開口中
や深さが上記範囲より狭かったり浅かったりするもので
は、凹部が電離放射線遮蔽性模様によって埋められてし
まい、また開口中が上記範囲より広いものでは凹部の底
面に凹凸模様が付与されてしまう。また凹凸のエツジは
できる限り鋭角（望ましくは９０″以下）な形状として
凹部底面への凹凸模様の付与が不可能なものが好ましい
。 一方、前記１１）の如く転写シートを重ね合わせて基材
７の曲表面６の全域に亘って所定の凹凸模様を付すのに
好適な曲表面形状は、転写シートが追従して密着させ易
い滑らかな凹凸や曲がった形状のものが良い。その他、
平面に近位した状態となる砂目的な微細凹凸形状のもの
が良い。 上記樹脂層５を形成するための電離放射線遮蔽性模様は
、構造中にラジカル重合性の二重結合を有するポリマー
、オリゴマー、モノマー等を主成分とし、光重合開始剤
や増感剤、そのほか必要に応じて非反応性のポリマー、
有機溶剤、ワンクスその他の添加剤を含有するもので、
種々のグレードのものが市場から容易に入手でき、本発
明に使用できる。また電離放射線遮蔽性模様は、粘度が
低ずぎると曲表面６における凹部、凹陥部等のみに溜り
易く塗布厚を均一にさせることが困難となり、逆に高す
ぎると塗工面のレベリング不足で表面平滑性が極めて劣
るため転写シート１との重ね合わせを良好に行い難くな
る。そのため粘度が１００〜１００００ｃｐｓのものが
好ましい。樹脂層５はグラビアコート、ロールコート、
フローコートもしくはスプレーコート等の公知の方法に
より形成することができる。樹脂層５の厚さは３１ｔｍ
〜１ｍ、特に３０〜２００μｍが好ましい。 また樹脂層５を構成する電離放射線遮蔽性模様として、
粘着性のものを使用してもよい。この粘着性の電離放射
線遮蔽性模様は電諦放１・１線照射前の未硬化状態では
被着体に対して粘着性を有し、照射後の硬化状態では被
着体に強固に密着するが転写シートとは剥離性となる性
質を有する材料からなるものである。具体的には、電離
放射性硬化型化合物と粘着性を付与するために混合する
ポリマーとによって構成される。上記化合物は分子中に
重合性二重結合、好ましくはアクリロイル基又はメタク
リロイル基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有す
る化合物を含有し、例えば、１．４−ブチレンゲリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１．６−ヘキサゲリコール
ジ（メタ）アクリレート、不オベンチルグリコールジ（
メタ）アクリレ−１・、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、−トリメチロールプロパントリ　（
メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（
メタ）アクリレート等の単量体、及びエポキソアクリレ
ート、ウレタン変性アクリレート、オリゴエステルアク
リレート等のオリゴマー等を含有する。これらは必要に
応じて２種以上を併用してもよい。粘着性ポリマーとし
ては、それ自体が粘着性を有するものと、上記化合物に
配合することにより必要な粘着性を発揮するものとがあ
る。前者の例としては、アルキル基の炭素数が１〜１２
の（メタ）アクリル酸アルキルエステル重合体、（メタ
）アクリル酸アルキルエステルと（メタ）アクリル酸、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジメチル
アミノエヂル（メタ）アクリレート、スチレン、酢酸ビ
ニル、（メタ）アクリロニトリル等の不飽和化合物との
共重合体（架橋材を用いて架橋した重合物を含む）、或
いはスチレンーイソプレンースチレンブロンク共重合体
ゴム、スチレンブタジェンゴム、ニトリルブタジェンゴ
ム等のゴム類を主体とするゴム系粘着物質などが挙げら
れる。また後者の例としては、飽和又は不飽和ポリエス
テル樹脂、ポリブチラール樹脂などが挙げられる。 上記電離放射線硬化型化合物と粘着性ポリマーとの配合
割合は、８０：２０〜１０；９０、好ましくは７０：３
０〜３０ニア０（いずれも重合比）である。上記化合物
が８０％を越えると電離放射線照射前の未硬化状態にお
ける凝集性が劣り、側面へのはみ出しや低位部への集積
などが起きるため好ましくなく、また１０％未満でみ充
分な硬化が得られないため好ましくない。樹脂層５が紫
外線硬化型である場合、光増感剤を添加するのが好まし
く、その光増感剤は上記化合物と粘着性ポリマーとの合
計量に対して０．０５〜２０重量％、好ましくは０．５
〜ｌＯ重量％の範囲で添加される。 また樹脂層５は必要に応じて適宜顔料若しくは染料で着
色してもよい。 粘着性の電離放射線遮蔽性模様を使用する場合、転写シ
ート１側に樹脂層５を塗布形成することができる。この
ように樹脂層５を転写シートＩ側に形成した場合、該樹
脂層上に離型性シートを積層し、転写シート１を巻回し
て保管することができ、使用に際しては離型性シートを
剥離してから使用するという形態を採ることができる。 化粧料基材７は本発明による凹凸形状（模様）を付す対
象となる表面の少なくとも−・部に曲面部を有するもの
である。具体的には、第１図（ｂ）に例示ずように全体
が曲がったものや、第２図（ａｌに例示するように湾曲
した表面を有するものであり、特にその形態に制約はな
い。また基材７の材質としては、どのようなものでもよ
いが、例えば■ステンレス鋼、鋼、アルミニウム、もし
くは銅等の金属の板または成形品、■ガラス、大理石、
陶磁器、石膏ボード、石綿セメント板、珪酸カルシウム
板、ＧＲＣ（ガラス繊維強化セメント）等の無機質の板
または成形品、■ポリエステル、メラミン、ポリ塩化ビ
ニル、ジアリルフタレート等の有機ポリマーの板、成形
品、■木、合板、パーチクルボード等の木質の板または
成形品、並びに以上の各材質の複合体等が挙げられる。 これら化粧材基材７には目止め処理やプライマー処理等
の下地処理、接着性向上のための処理等を行ってもよい
。 更に基材７には必要に応じて着色層、絵柄層、金属蒸着
層を設けても、或いは絵柄印刷シートやエンボス加工を
施した絵柄印刷シートを接着剤を介してラミネートして
もよい。 前記したような好適な曲表面形状を基材７に付す方法と
しては、■熱エンボス加工（適用材質ニブラスチック板
など）、■基材製造に際して、柔らかい段階で金型によ
り押圧した後、硬化させる方法（適用材質：無機質板、
プラスチック板など）、■切削加工（適用材質：木質板
、無機質板、プラスチック板など）、■機械的エンボス
加工（ｉＭ用材質：金属板、木質板など）、■凹凸形状
賦形用フィルムを使用したキャスティング成型法等を採
用できる。 次いで、本発明は第１図（ｃ１や第２図（ｔ））に示す
ように転写シート１と基材７とを電離放射線遮蔽性模様
層５を介して重ね合わせた後、電離放射線装Ｗ８により
電離放射線を照射する。電離放射線の代表的なものは紫
外線と電子線であるが、分子を重合、架橋させるに足り
るエネルギー量子を有するものであればその他のものも
利用できる。 電離放射線の照射により、電離放射線遮蔽性模様４のな
い部分では電離放射線遮蔽性模様層５は硬化して、化粧
材基材７と硬化した電離放射線遮蔽性模様層５及び着色
層３が一体化し、一方、電離放射線遮蔽性模様４のある
部分では電離放射線遮蔽性模様層５は未硬化のままに置
かれる。この際、着色層３が電離放射線遮蔽性模様にて
形成されている場合、上記照射により同時に硬化がなさ
れ、遮蔽性模様４のない部分に相当する着色層部分が実
際に硬化される。 次いで電離放射線照射後、電離放射線透過性シート２を
剥離する（第１図（ｄ）、第２図（ｃ））。これにより
、上記の硬化して一体化した部分は基材７側に転写され
て残り、樹脂層５の未硬化部分では、未硬化の電離放射
線遮蔽性模様５ａがシート２に付着した状態で該シート
の剥離とともに除去される。その結果、同図に示すよう
に、少量の未硬化の電離放射線遮蔽性模様５ａが残留し
た凹部９と、硬化した電離放射線遮蔽性模様５ｂよりな
る凸部１０とからなる凹凸模様が形成される。 」１記凹凸模様を形成した後、凹部９に残存する未硬化
の樹脂５ａを第１図の実施例の如く残存状態のままか、
或いは第２図の実施例（同図（ｄ））の如く所定量除去
した状態（同図中、凹部９ａ）で、電離放射線を照射し
て硬化せしめる。 最後に、本発明方法は第１図（ｃ）や第２図（ｅ）に示
すようにワイピング処理により凹部９（９ａ）に着色を
施し、以て凹凸模様を有する化粧材１２を製造し得る。 図中、１１は上記処理により塗工される着色インキ層を
示す。 本発明におけるワイピング処理は曲表面を有する基材７
に対して可能な手法であれば、如何なる方法も適用でき
る。代表的な方法としては、第３図〜第５図に例示する
ような、基材７の曲表面形状に合致する接触面１３を有
するドクタープレー１′（堰）、回転ロール等からなる
ワイピング処理用具１４を使用する方法が好ましい。以
下、そのワイピング処理方法について詳述する。 第３回〜第５図に例示のワイピング処理方法はいずれも
、まず基材７の表面全面にロールコータ−、フローコー
ター、スプレーコーター等の！宜手段により着色インキ
１１を塗布した後、■　第３図や第４図に示すような固
定設置されたドクターブレード１５に対して基材７を接
触面１３に当接するように移動させることにより、凹部
以外に付着しているインキを掻き取る。 ■　第５図に示すような定位置で回転する回転ロール１
６に対して基材７を接触面１３に当接するように移動さ
せることにより、凹部以外に付着しているインキを掻き
取る。 ■　上記■、■におけるドクターブレードＩ５や回転ロ
ール１６を適宜組合わせて併用し、インキの掻き取りを
行う。 こ゛れによっこし１示の如く、着色インキ１１は凹部９
のみに残される。 Ｙ、記−４ｉｆハ・イ゛２ノ４−の塗昂シ、１、基材が
垂

【白１ｆ１】がない形態のもの！二対してはフｏ−ニ
ド−１−等が好；４、ｊく、垂直面やきわめｉｌＴ？ｉ
ｆ雑な形状部分がある形態σ）ものに対し−Ｃはスブし
一−＝＋−１・等が好ま１−２い。また上記以外の塗布
力性とし５て、ワイピング処理用治其の直前乙、＝イン
４−を２゜（材全面を託行き渡るよ一、１．：、滴トさ
一１！たりＬ’てもよい。上記回転ロー　）目（ｌは適
者を阜材の移送力向と逆向き（こ１ｉη転さ〜すること
が好まし２い。また着色インキを全面に塗布し幹：燥さ
ｌた後、回転ロールとし、７１１ンダー１」−ルを使用
り、て凸部表面のインキを削り取るよう＆’ｌてリイビ
ニ／グ処理を行−１でもよい。 、４発明方ｄ、は上記ワイピング処理を行、−９た後、
イの全面Ｕ′透明ヌは半透明の合成樹脂からなる保護層
１７を塗肴１形成４る。−１記樹脂のキ４質は目的用途
等に応１１．て適宜ｊバ’ｉｊＭされ、例えば熱硬化Ｐ
ｉ　ｇｌ脂、電離放射線硬化ｒ［樹脂等が用いられる。 、でθ）６４１層１７を形成する、−とにより表面物↑
：ｌ！こ借れた化粧材１２を得ることがＣきる。 本発明では名種複雑な曲面や全体＞ｔａ扶り仔）なる化
か１括１．ｔ　７を使用゛４るため、例λば前記型Ｅｌ
ｆ　Ｂ、’ｌ射綜の照射は第〔３図に示寸ようＣ，二複
数の■１射茅置ε）を適宜配設さｌ−て名、１１１！力
向から行・）、′で１−′が好Ｊｔ。 い。向この隙、袂数の洛照りＩ′４１ｉ１置は遮酷↑：
１模様が確実に機能するよ・）配扉し゛ζ訟置゛４る。 Ｊた、１ｊ（１記したように未硬化の樹脂ε）ａを時、
去−６イ１（第：２図（ｄ））方法とし、では、第７図
に小１よく弓、゛代数；トのプランジング「トール１８
　ａ−ｄを備、：Ｘ、！かも子の回φム軸の釣用が訣ｉ
　１！ｎ　ｕ−（、設置できる′！ｔ！、置−９装抹用
するご乏が好ｔｌ、い。また１記樹Ｊ１１７の除去４す
Ｊ率良く行・）ため乙こは、予め溶剤を処理ｉｉｉ　＆
：、　ｑ布１−７た後、１−記操作を行えば。１、い。 溶剤のｒｔ　＄ｌｔ　ＩＩ　−ル：Ｉ−ター、フロー：
１−夕〜等にてｈ・）。 以１・、■ｕ本的な実施例を）′４＜ばて不発明４更（
５，島ｚｔ細に説明する６ 実施例１ 乱型牲のある厚さ５０　Ｂ　ｍのポリエステルフイルｌ
、（東１／　ｆｉ＠製）の片面ｉ；ｒ、、着色バールイ
ンキ（諸星仁ｚｔｉ力製）灸ゲ・ノ１′う′印刷法にＣ
乾燥後の１′Ｉみが３〃■１となるよ・）に−・、夕状
ｌ、ご印刷ｊ、また飢、−の１′に紫外線遮蔭性・イン
４　（諸量イニ・・４−９助製）を版深１１０７７　ｍ
のグラビア版を用い−こ印刷し、−Ｃ遮祿ｒ［模様を形
成ｌ５２、転写シー１・を１１成ｊ、また。 別途１、第１４ｃｔ））に示−４ような曲板形状を有−
４るΔｒ３　Ｓ樹１１Ｕ　ｔＪ　＋、を材（表面（、、
’：　０．　ｌ　ｍｍ厚の白色Ｐ　Ｖ　ＣシーＩをラミ
ネー　１．　Ｌ　”ｉｒある）の表面６、−手記＆１１
成からなる粘着性の紫！Ａ線硬化性塗料をｌソみが１０
０μｍηとなるようにフ１１−゛貰−）Ｉ、た。 ボリコ、ステル樹Ｂ）１ （東汀紡績＃菊製ハイ［１ン）　　　　　３５小量部コ
ポ４−シアクリｌ／−！・ （昭和高分子συ製リすキ・’、／　Ｓ　Ｐ　）　　７
０重り部酢Ｐｉ、ヒ−Ｓ　ルｇ４１］ｉ４　　　　　　
　　１０１！　ｉｔ部ヘンゾフェノ゛／′ （し１本化薬■製ＫＡＹＡＣＩＩＲＥ　［ｔＰ　）　　
　　ｌ　０重量部ハイ１′ｒ１キノン　　　　　　　０
．０１重量部次いで、−Ｆ記転写か　１をＬ起曲（ル基
材の−１−１・曲に追（イするよ・５４．１車ね合ね一
１！た後、８０Ｗ／蓮のオゾン！・人型紫り１線ランプ
４０灯設置１、た照射装置中を２０ｍ／分の速度で連ｊ
ｂさｌこ紫り１線照射を行った。ぞの照ｌｆ後、ポリ丁
スう一ルフィルムを剥＋ｌでから再度、回し、−１−記
照射装置ツインを３０ｍ／分の速度で通過さ・ｌ」、凹
部Ｇ、−残存４゛る未硬化の樹脂を硬化さ−けた。 しかる後、第４図に示４ようなり・イピング処■τ方法
に−Ｃ重液硬化型つＬ・タン系着色イン−１−を凹部（
こ塗丁し、た。最移・に、表面全体ム１で緊“り（線硬
化Ｍ塗料を厚みが５１ｔｒ口となる、１ン）ＬこスブＬ
／−１”Ｉｇ　ｆ−、、上記照射製置う・インを２０口
ｌ／分の速度−ｔ′−通過さ・ｌ、化粧材を得た。 その化粧材は所望通りの（＋７置？１５凹凸ｎ＜状が付
されこおり、表面物に［に優れたもの”と・あ、、た。 Ｊゴーパール発色する凸部−一着色された凹部とを有“
４る美麗な凹凸模様を備えたものてあ１．た。 実施例２ 厚さ２５　ｌＩｍのポリエステルフィルＪ、、　＜紫夕
１線遮除模様と１、て・°ルタン系の黒色インクにＣ本
Ｅｌ導管納をグラＬ’ア印刷１．た転与シーＬを作成し
た。 別途、化粧材基材として第２図（ａ）に示すような曲表
面を有するＭＤＦＩ材７に、図示の如き木目模様２０を
グラビア印刷した厚さ０．１ｗのＰＶＣシート２Ｉを曲
面に沿ってラミネートしたものを準備した。 次いで上記化粧材基材の表面にスプレーにて紫外線硬化
性塗料を６０μｍ厚にコートした後、このコート面に上
記転写シートを、印刷面が接し刊つ基材の曲表面に追従
するように重ね合わせた。 しかる後、第６図に示すような紫外線照射装置ラインを
通過させた後、ポリエステルフィルムを剥離し、第２図
（ｃ）に示すように導管部に相当する位置に若干の凹部
を形成せしめた。 次に表面にトルエンをロールコータ−にて塗布した後、
第７図に示すようなブラッシングロールラインを通過さ
セて、凹部に残存する未硬化樹脂を所定量除去してより
深い導管部（凹部）とし、再度上記照射装置ラインを通
過させ残存する僅かな未硬化樹脂を硬化せしめた。 次いでフし１−コート法にて表面全体に着色インキを塗
布した後、第５図に示すような回転ゴムロールを基材の
移動方向とは逆向する向きに回転させ凸部に付着するイ
ンキをかき取った。更に上記ゴムロール七同様の形状を
有するサンダーロールを用いて凸部のインキのかふりを
完全に除去した。 最後に、表面全体に紫外線硬化性塗料を厚みが１０μｍ
となるようにスプレー塗装し、上記照射装置ラインを通
過さゼ、第２図（ｅ）に示すような化粧材を得た。 その化粧材は付与された凹凸模様の導管部となる深めの
着色凹部と、基材の木目印刷模様とにより天然木に酷似
した外観を呈するものであり、しかも表面物性に優れた
ものであった。 Ｃ発明の効果３ 以上説明したように、本発明製造方法によれば化粧材基
材が曲表面を有する形態のものにもがかわらず、所望の
凹凸形状（模様）を簡便にＵつ確実に付すことができる
。しかもワイピング処理により上記凹凸形状の凹部のみ
を着色できるため多様な意匠付けすることができる。従
って、立体感があり意匠性に優れた美麗な凹凸模様を有
する曲表面の化粧材が得られる。 例えば、本発明では上記曲面基材」二の凹凸模様におけ
る凹部にワイピング処理により着色を施せるため、その
着色を施さないものでは下地（基材の表面）が透視され
て意匠性が劣る面があったことを克服できる。即ち、木
目模様を付す場合には、導管部となる凹部が着色を施さ
ないとその周囲部に比べ淡色の外観となってしまうが、
本発明によれば凹部のみに所望の着色を施せるためリア
ル惑に冨んだ木目調の意匠外観を化粧材基材に付与でき
る。また抽象柄を付す場合であっても幅広い色の表現が
可能となった（具体的には同し着色層、絵柄層を基材に
付与した場合でも、ワイピング処理による着色を変える
ことにより異なった色彩、配色が得られる）。 また、転写シートの重ね合わせ方を適宜調整することに
より、例えば曲表面基材の凸部表面のみに同調した凹凸
模様を付与することができ、特にこの態様によればタイ
ル／目地調、スタッコ調、リジン調等の優れた意匠を付
した化粧材の製造が１回の転写工程にて簡単に行うこと
ができる。また例えば、基材自体の凹凸模様と転写シー
トにって付与する凹凸模様とを任意の位置に適宜設定す
ることができ、その結果、両者の相乗効果による立体感
に優れた美麗な凹凸模様を付した多種多様の化粧材の製
造が可能となる。 更に、着色層を電離放射線遮蔽性模様にて構成すること
により、表面保護層を別途形成しなくとも耐摩耗性、耐
薬品性等の表面物性に優れた化粧材を簡便に製造し得る
ことができる。 また更ムこ粘着性の電離放射線遮蔽性模様を使用するこ
とにより、化粧材基材の凹凸面や曲面などに該樹脂を塗
布して樹脂層を形成した場合、側面へのはみ出しや凹凸
面の傾斜部、垂直部における液ダレ、液溜まりが生しに
＜＜、偏肉のない略均一な層厚の樹脂層を形成すること
ができ、その後の製造工程での加工や取り扱いに利便と
なる。しかも上記粘着性のものを使用すると、転写シー
ト側に塗布して電離放射線遮蔽性模様層を形成する、−
ａモー’ｔｒ　ｆｉ、ｓ、’、’、、、Ｏｔｉ　合ｃ＝
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基月側・・、の樹脂層）［？成の場合にお（・する転）
；１程での化粧月基材毎・・・の塗シ５１稈を省く、−
ｙがごきる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（・１）・、・（（・）は本発明冒造方法の・実
ｈ１ト１例に示す上程説明図、第２図にｉ）−・（（・
）は本発明の他の実施例を示す一■稈説明図、第；３図
、第４図、第５）図はワイピング処理力法の代表例を小
ｔ＄１視し１、第〔；図（ａ）、０））はＩｊ　ｌｔ［
ｈシ射＆！！！照射−１稈の−・例を来電（１層曲図−
・そのｉ−Ｅ’、、　ｕｉｉ図、第７し１に１未硬化樹
脂の除去−［稈の・例灸示−４側面図点イ（１７）　ｊ
ＬＩＩ！図で、２る。 ト・・φノロ与パ・−１シト・・電離ｈ（射線透過ｒト
・−ＩＪ（・・・着色層　　　４・・型部ｆ　Ｊｉ、に
射綿遮仙ｉ：目ぐ様５・・・電離放射線硬化性樹１指層
　〔；・・ｒｌＩ２を曲７・・・化糾１４Ｗ−材　９・
・凹部　　ｌＯ・・・ｌ！Ｆｌ　６１（１１・・・着色
イン４層　　　　　ｌ；３・・・接触面１４・・・ワイ
ピング処理用具　　１１・・・保護層９　凹部　　１０
・・凸部 第　　３　　図

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記（ａ）〜（ｅ）の工程を順に行うことを特徴
   とする凹凸模様を有する化粧材の製造方法。 （ａ）表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの
   剥離性面に必要に応じて着色層を設け、且つ上記シート
   の表裏いずれかの面若しくは着色層上に電離放射線遮蔽
   性模様を設けた転写シートを準備する工程。 （ｂ）上記転写シートを、略均一な厚さの電離放射線硬
   化性樹脂層を介在させて、曲表面を有する化粧材基材に
   重ね合わせる工程。 （ｃ）電離放射線を照射して電離放射線遮蔽性模様のな
   い部分に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる
   工程。 （ｄ）電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
   化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
   付着させて除去して凹部を形成するとともに、硬化した
   電離放射線硬化性樹脂からなる凸部を形成する工程。 （ｅ）凹部に残存した未硬化の樹脂をそのままの状態か
   或いは必要に応じて所定量除去した状態で電離放射線を
   照射して硬化させた後、ワイピング処理を行って凹部の
   みに着色を施す工程。
2. （２）工程（ｅ）におけるワイピング処理を、化粧材基
   材の曲表面形状に合致する接触面を備えたドクターブレ
   ード及び／又は回転ロールを使用し、着色インキが凹部
   のみに充填塗工されるような掻き取りを行って施す請求
   項１記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方法。
3. （３）工程（ｂ）における電離放射線硬化性樹脂層を形
   成するための樹脂材質として粘着性の電離放射線硬化性
   樹脂を使用する請求項１又は２記載の凹凸模様を有する
   化粧材の製造方法。
4. （４）工程（ｂ）における電離放射線硬化性樹脂層を化
   粧材基材側又は転写シート側に塗布形成する請求項１〜
   ３のいずれかに記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方
   法。
5. （５）工程（ｂ）において、転写シートを化粧材基材の
   凹凸表面上の電離放射線硬化性樹脂層に全面密着させて
   重ね合わせる請求項１〜４のいずれかに記載の凹凸模様
   を有する化粧材の製造方法。
6. （６）工程（ｂ）において、転写シートを化粧材基材の
   凹部に位置する電離放射線硬化性樹脂層には接触させず
   に離間させて重ね合わせる請求項１〜４のいずれかに記
   載の凹凸模様を有する化粧材の製造方法。
7. （７）工程（ａ）における転写シートとして、着色層を
   電離放射線硬化性樹脂にて形成し且つ電離放射線遮蔽模
   様を電離放射線透過性シートの着色層がある面とは反対
   の面に設けた転写シートを準備使用する請求項１〜４の
   いずれかに記載の凹凸模様を有する化粧材の製造方法。
8. （８）工程（ｅ）におけるワイピング処理を行った後、
   透明又は半透明の合成樹脂からなる保護層を形成する請
   求項１〜５のいずれかに記載の凹凸模様を有する化粧材
   の製造方法。