JPH065415Y2 - スパッタリング装置 - Google Patents

スパッタリング装置

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JPH065415Y2
JPH065415Y2 JP15074887U JP15074887U JPH065415Y2 JP H065415 Y2 JPH065415 Y2 JP H065415Y2 JP 15074887 U JP15074887 U JP 15074887U JP 15074887 U JP15074887 U JP 15074887U JP H065415 Y2 JPH065415 Y2 JP H065415Y2
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JP
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substrate
sputtering
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target
back plate
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JP15074887U
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佳興 横山
映介 上田
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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