JPH065219A - イオン源装置 - Google Patents

イオン源装置

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JPH065219A
JPH065219A JP18858692A JP18858692A JPH065219A JP H065219 A JPH065219 A JP H065219A JP 18858692 A JP18858692 A JP 18858692A JP 18858692 A JP18858692 A JP 18858692A JP H065219 A JPH065219 A JP H065219A
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JP
Japan
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filaments
filament
ion source
source device
parallel
Prior art date
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Pending
Application number
JP18858692A
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English (en)
Inventor
Koji Miyake
浩二 三宅
Hideaki Tawara
英明 田原
Katsuo Matsubara
克夫 松原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH065219A publication Critical patent/JPH065219A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プラズマの生成効率を向上し、フイラメント
の寿命を長くする。 【構成】 少なくとも2本の直線状のフイラメント1を
平行に配置し、両フイラメント1にそれぞれ逆方向の加
熱電流が流れるように両フイラメント1の電流導入端子
2をフイラメント電源3に接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱フイラメントをカソ
ードとしたイオン源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のバケット型のイオン源装置は、図
3に示すように、2本の直線状のフイラメント1を平行
に配置し、両フイラメント1の電流導入端子2をフイラ
メント電源3に接続し、両フイラメント1に同方向の加
熱電流を流している。また、図4に示すように、ヘアピ
ン形状のフイラメント4の場合も、その電流導入端子2
をフイラメント電源3に接続している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の図3に示す装置
の場合、フイラメント1の通電電流により環状磁場がつ
くられ、この環状磁場によりフイラメント1からのエミ
ッション電子が抑制され、放電放率の低下をきたし、大
電流の通電を要してフイラメント寿命の低下をまねき、
フイラメント通電電流が100A程度以上になると、環
状磁場による電子抑制効果が顕著になる。
【0004】また、図4に示す装置の場合ヘアピン形状
のフイラメント4により発生する磁場を相殺するが、熱
フイラメントの材質が通常タングステン,タンタル等の
高融点金属のため、ヘアピン形状のフイラメント4を作
るために特殊加工を要し、高価になるという問題点があ
る。本発明は、前記の点に留意し、フイラメント電流に
よる環状磁場を相殺し、プラズマの生成効率を向上し、
フイラメントの寿命を長くするようにしたイオン源装置
を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のイオン源装置は、少なくとも2本の直線状
のフイラメントを平行に配置し、両フイラメントにそれ
ぞれ逆方向の加熱電流が流れるように両フイラメントの
電流導入端子をフイラメント電源に接続したものであ
る。
【0006】
【作用】前記のように構成された本発明のイオン源装置
は、2本の直線状のフイラメントが平行に配置され、そ
の両フイラメントにそれぞれ逆方向の加熱電流が流され
るため、両フイラメントそれぞれが形成する環状磁場が
相殺され、フイラメントからのエミッション電子が環状
磁場によりトラップされることなく放出され、プラズマ
の生成が効率よく行われ、フイラメントの寿命も長くな
り、かつ、フイラメントの形状が簡単で安価である。
【0007】
【実施例】実施例について図1及び図2を参照して説明
する。それらの図において図1と同一符号は同一もしく
は相当するものを示す。 (実施例1)実施例1を示した図1は、平行に配置した
2本の直線状のフイラメント1に、それぞれ逆方向の加
熱電流が流れるように、両フイラメント1の両端の電流
導入端子2をフイラメント電源3に接続したものであ
る。
【0008】(実施例2)実施例2を示した図2はイオ
ン源の大型化に伴った場合であり、平行に配置した2本
の直線状のフイラメント1の両端と,中間の等間隔の位
置にそれぞれ電流導入端子2を設け、一方のフイラメン
ト1の一方の端部から各端子に順にフイラメント電源の
+極,−極,+極,…を接続し、他方のフイラメント1
の同じ一方の端部から各端子に順にフイラメント電源の
−極,+極,−極,…を接続したものである。
【0009】この場合、フイラメント1の形状が簡単で
フイラメント1の取り付け,交換の作業が容易である。
なお、フイラメント1の中間の端子の位置は、必ずしも
等間隔である必要はなく、この場合、フイラメント電源
の出力を変えればよい。また、フイラメント1は2本に
限らず3本以上であってもよいのは勿論である。
【0010】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載する効果を奏する。本発明のイ
オン源装置は、2本の直線状のフイラメント1が平行に
配置され、その両フイラメント1にそれぞれ逆方向の加
熱電流が流されるため、両フイラメント1それぞれが形
成する環状磁場が相殺され、フイラメント1からのエミ
ッション電子を環状磁場によりトラップされることなく
放出することができ、プラズマの生成効率を向上するこ
とができ、フイラメント1の寿命を長くでき、かつ、フ
イラメント1の形状が簡単で安価にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の斜視図である。
【図2】実施例2の斜視図である。
【図3】従来例の斜視図である。
【図4】他の従来例の斜視図である。
【符号の説明】
1 フイラメント 2 電流導入端子 3 フイラメント電源

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも2本の直線状のフイラメント
    を平行に配置し、前記両フイラメントにそれぞれ逆方向
    の加熱電流が流れるように前記両フイラメントの電流導
    入端子をフイラメント電源に接続したイオン源装置。
JP18858692A 1992-06-22 1992-06-22 イオン源装置 Pending JPH065219A (ja)

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