JPH065087A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH065087A
JPH065087A JP16607092A JP16607092A JPH065087A JP H065087 A JPH065087 A JP H065087A JP 16607092 A JP16607092 A JP 16607092A JP 16607092 A JP16607092 A JP 16607092A JP H065087 A JPH065087 A JP H065087A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
erase
memory cell
circuit
signal
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP16607092A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Okawa
実 大川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP16607092A priority Critical patent/JPH065087A/ja
Publication of JPH065087A publication Critical patent/JPH065087A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明はフラッシュメモリのテスト動作時
の消去時間を短縮できるような不揮発性半導体記憶装置
を提供することを主要な特徴とする。 【構成】 メモリセルアレイ1が消去されたか否かを判
定回路で判定し、この判定回路30の判定出力に応じ
て、判定回路30はメモリセルアレイ1が消去されてい
れば消去禁止モード信号を出力し、メモリセルアレイ1
が消去されていなければ消去可能モード信号を出力し、
さらにモード信号発生回路40は外部からの制御信号に
応じて、判定回路30の出力に関係なく消去パルス制御
信号を発生する。したがって、テスト動作時に消去開始
から消去完了直前までは通常動作時の消去ベリファイを
行なわないので、通常より早く消去を終了することがで
き、また、その後消去完了までは通常動作時の消去ベリ
ファイを行なうようにしたので、十分なマージンを持ち
過消去されることなく消去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は不揮発性半導体記憶装
置に関し、特に、電気的に一括消去可能なフラッシュメ
モリのような不揮発性半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は特開平4−64996号に開示さ
れたフラッシュEEPROMの全体のブロック図であ
る。図5を参照して、メモリセルアレイ1の周辺にはY
ゲート2とソース線スイッチ3とXデコーダ4とYデコ
ーダ5とが設けられている。Xデコーダ4およびYデコ
ーダ5にはアドレスレジスタ6が接続され、外部から入
力されたアドレス信号が入力される。メモリセルアレイ
1にはYゲート2を介して書込回路7とセンスアンプ8
とが接続される。書込回路7とセンスアンプ8は入出力
バッファ9に接続される。
【0003】さらに、プログラム電圧発生回路10とベ
リファイ電圧発生回路11とが設けられていて、外部か
ら供給された電源Vcc,Vppとは異なる電圧が発生
され、この電圧がYゲート2とXデコーダ4などに与え
られる。外部から入力されたデータにより、動作モード
の設定を行なうコマンドレジスタ12とコマンドデコー
ダ13が設けられていて、さらに制御回路14には外部
から制御信号/WE,/CE,/OEが与えられる。
【0004】さらに、立上がり検出回路29と判定回路
30とラッチ回路31と立下がり検出回路32とが設け
られる。立上がり検出回路29はソース線スイッチ3に
与えられるVppの立上がりを検出し、判定回路30は
消去ベリファイモード時に、読出データが「1」である
か否かを判定する。ラッチ回路31はソース線スイッチ
3を制御し、立下がり検出回路32は消去パルスの終了
を検出する。
【0005】図6は図5に示したメモリセルの断面図で
ある。図6を参照して、メモリセルは半導体基板15上
に形成されたフローティングゲート16とコントロール
ゲート17とソース拡散領域18とドレイン拡散領域1
9とを含む。フローティングゲート16と基板15との
間の酸化膜厚はたとえば100Åぐらいに薄く、トンネ
ル現象を利用したフローティングゲート16の電子の移
動を可能している。メモリセル1の動作は次のようにな
る。
【0006】すなわち、プログラム時には、ドレイン1
9に6.5V程度のプログラム電圧が与えられ、コント
ロールゲート17にはVpp(12V)が与えられ、ソ
ース18は接地される。このため、メモリセル1がオン
して電流が流れる。このとき、ドレイン19の近傍でア
バランシェ降伏が生じ、電子,ホール対が発生する。ホ
ールは基板15を通じて接地電位に流れ、電子はチャネ
ル方向に流れてドレイン19に流れ込む。そして、一部
の電子はフローティングゲート16とドレイン19との
間の電界で加速されてフローティングゲート16に注入
される。このようにして、メモリセル1のしきい値電圧
を上げる。これを情報「0」の記憶と定義される。
【0007】一方、消去はドレイン19をオープンに
し、コントロールゲート17を接地し、ソース18にV
ppを印加して行なわれる。ソース18とフローティン
グゲート16との間の電位差のため、トンネル現象が生
じ、フローティングゲート16中の電子の引抜きが起こ
る。このようにして、メモリセル1のしきい値が下が
る。これを情報「1」の記憶と定義する。
【0008】図7は図5に示したメモリセルアレイの構
成を示す図である。図7を参照して、メモリセルアレイ
1はそのドレインがビット線24に接続され、コントロ
ールゲートはワード線25に接続されている。ワード線
25はXデコーダ4に接続され、ビット線24はYデコ
ーダ5の出力がそのゲートに入力されるYゲートトラン
ジスタ26を介してI/O線27に接続される。I/O
線27にはセンスアンプ8および書込回路7が接続さ
れ、ソース線28はソース線スイッチ3に接続されてい
る。
【0009】次に、図5ないし図7を参照して、従来の
フラッシュEEPROMの動作について説明する。ま
ず、図7に示した点線で囲まれたメモリセル1にデータ
を書込む場合の動作について説明する。外部から入力さ
れたデータに応じて、書込回路7が活性化され、I/O
線27にプログラム電圧が供給される。同時に、アドレ
ス信号によりYデコーダ5およびXデコーダ4を介して
Yゲート26,ワード線25が選択され、Vppがメモ
リセル1に印加される。ソース線28はプログラム時に
はソース線スイッチ3により接地される。このようにし
て、図7中の1個のセルのみに電流が流れ、ホットエレ
クトロンが発生し、そのしきい値電圧が高くなる。
【0010】次に、読出動作について説明する。アドレ
ス信号はYデコーダ5とXデコーダ4とによってデコー
ドされ、選択されたYゲート26とワード線25が
「H」レベルとなる。このとき、ソース線28はソース
線スイッチ3によって接地される。このようにして、メ
モリセルにデータが書込まれてそのしきい値が高けれ
ば、メモリセル1のコントロールゲートにワード線25
から「H」レベル信号が与えられてもメモリセル1はオ
ンせず、ビット線24からソース線28に電流が流れな
い。
【0011】一方、メモリセルが消去されているときに
は、逆にメモリセル1はオンするため、ビット線24か
らソース線28に電流が流れる。メモリセルを介して電
流が流れるか否かをセンスアンプ8で検出し、読出デー
タ「1」,「0」が得られる。このようにして、フラッ
シュEEPROMのデータの書込および読出が行なわれ
る。
【0012】次に、消去動作について説明する。まず、
Vppが立上げられ、その立上がりが立上がり検出回路
29によって検出される。この検出信号に応じてラッチ
回路31がリセットされ、その出力/ENが「H」レベ
ルとなる。その後、書込が行なわれ、プログラムパルス
モード信号PRSが立上がり、ラッチ回路31が接地さ
れ、/ENが「L」レベルとなる。このタイミングにお
いて消去が可能となる。
【0013】次に、プログラムベリファイコマンドが入
力され、プログラムベリファイが行なわれ、読出が実行
される。次に、実際の消去に入る。消去コマンド信号E
RSが入力され、書込イネーブル信号/WEの立上がり
と共に消去パルス制御信号ERSが「H」レベルとな
り、ソース線スイッチ3を介してソース線28にVpp
が印加される。次に、消去ベリファイコマンドが入力さ
れ、書込イネーブル信号/WEの立上がりと共に消去ベ
リファイモードが設定され、同時に消去コマンド信号E
RSが立下がり、消去パルスが終了する。このとき、消
去コマンド信号ERSの立下がりによってパルスが発生
されてラッチ回路31がリセットされ、その出力/EN
が「H」レベルにされて消去禁止モードとなる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従来のフラッシュメモ
リは上述のごとく構成されていたので、フラッシュメモ
リの製造工程における良品を選別するために行なうテス
ト時においても、実使用時と同じ消去フローを行なわな
ければならず、テスト時間が長くなるという問題点があ
った。
【0015】それゆえに、この発明の主たる目的は、テ
スト時の消去時間を短縮し得る不揮発性半導体記憶装置
を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】この発明に係る不揮発性
半導体記憶装置は、少なくとも行および列方向にアレイ
状に配置された複数個のメモリセルと、外部から入力さ
れたアドレス信号をデコードして行および列方向の選択
を行なうXデコーダおよびYデコーダと、メモリセルに
記憶された情報が第1の論理であるかあるいは第2の論
理であるかを判定するセンスアンプと、メモリセルが消
去されたか否かを判定する消去状態判定回路と、消去状
態判定回路の出力に応答して、メモリセルが消去されて
いれば消去禁止モード信号を出力し、メモリセルが消去
されていなければ消去可能モード信号を出力するモード
信号発生回路を備え、電気的に情報の書込,消去が可能
であって、モード信号発生回路は、テスト動作時に、外
部からの制御信号に応答して、消去状態判定回路の出力
に関係なく消去パルス制御信号を発生するように構成さ
れる。
【0017】より好ましくは、不揮発性半導体記憶装置
において、テスト動作時に消去開始から消去完了直前ま
では消去ベリファイを行なわずに、消去状態判定回路の
出力に関係なく消去パルス制御信号が発生する機能によ
り消去を行ない、その後消去完了までは消去ベリファイ
を行ない、通常の消去を行なう。
【0018】
【作用】この発明における不揮発性半導体記憶装置は、
テスト動作時に、たとえばテスト用消去コマンドを入力
すれば、それに応じて消去状態判定回路の出力に関係な
く消去パルス制御信号を発生するので、消去ベリファイ
を行なわなくてもよく、結果的に消去時間を短縮でき
る。
【0019】さらに、予め製造工程のばらつきを考慮し
た消去完了までの最少必要消去パルス数がわかっている
場合、テスト動作時に、消去開始から消去完了直前まで
は消去ベリファイを行なわずに消去状態判定回路の出力
に関係なく消去パルス制御信号が発生する機能により消
去を行ない、その後消去完了までは消去ベリファイを行
ない、通常の消去を行なうので、十分なマージンを持
ち、過消去されることなく消去できる。
【0020】
【実施例】図1はこの発明の一実施例のブロック図であ
る。この図1に示したフラッシュメモリは、前述の図5
に示したラッチ回路31に代えてモード信号発生回路4
0が設けられ、それ以外の構成は図5と同じである。
【0021】図2は図1に示した立上がり検出回路とモ
ード信号発生回路のブロック図である。図2を参照し
て、判定回路30はNANDゲート33とANDゲート
34とを含む。NANDゲート33はその入力がセンス
アンプ8の出力に接続され、読出データがすべて「1」
であるか否かを検出する。NANDゲート33の出力は
ANDゲート34に与えられる。ANDゲート34に
は、さらに消去ベリファイ信号VERと消去コマンド信
号ERSが与えられる。ANDゲート34はNANDゲ
ート33の出力を消去ベリファイ時(VER=「H」)
に出力イネーブル信号/OEが「H」レベルのときに出
力する。
【0022】判定回路30の出力はORゲート41の一
方入力端に与えられ、他方入力端にはプログラムモード
信号PRSが与えられる。そして、ORゲート41は判
定回路30の出力が「H」レベルのときか、プログラム
モードのとき(PRS=「H」)に「H」レベル信号を
ラッチ回路47に出力する。ラッチ回路47はNORゲ
ート42と44とによって構成されたR−Sフリップフ
ロップからなっている。
【0023】立上がり検出回路29および立下がり検出
回路32の検出出力はORゲート43を介してラッチ回
路47に与えられる。すなわち、ORゲート43は立上
がり検出回路29または消去コマンド信号ERSの立下
がり時に「H」レベル信号を出力し、ラッチ回路47を
リセットする。
【0024】ラッチ回路47の出力は消去コマンド信号
ERSと共に、ANDゲート45に与えられる。AND
ゲート45はラッチ回路47の出力が「H」レベルのと
きに消去コマンド信号ERSとして「H」レベル信号を
出力する。ANDゲート45の出力は、テスト用消去コ
マンド信号と共にORゲート46に入力される。そし
て、通常の消去コマンド信号ERSがANDゲート45
に入力されると、/EN信号が「H」レベルであれば、
消去パルス制御信号がその出力からORゲート46を介
して出力され、/EN信号が「L」レベルであれば消去
パルス制御信号は発生されない。一方、テスト用消去コ
マンド信号がORゲート46に与えられると、/EN信
号に関係なく消去パルス制御信号が出力される。
【0025】図3は図1に示したコマンドデコーダの回
路図である。図3において、外部コマンドは入力データ
DI0BないしDI7B(20H)として、図1の出力
バッファ9からコマンドレジスタ12を介してコマンド
デコーダ13に与えられる。コマンドデコーダ13に入
力された入力データDI0BないしDI7BはNAND
ゲート131ないし134に入力され、NANDゲート
131と132の出力はNORゲート135を介してN
ANDゲート137の一方入力端に与えられ、NAND
ゲート133と134の出力はNORゲート136を介
してNANDゲート137の他方入力端に与えられる。
NANDゲート137の出力はインバータ138で反転
され、NチャネルMOSトランジスタ139とPチャネ
ルMOSトランジスタ140とからなるスイッチ回路を
介してラッチ134にラッチされ、NチャネルMOSト
ランジスタ141とPチャネルMOSトランジスタ14
2とからなるスイッチ回路を介してラッチ回路145に
ラッチされる。
【0026】NチャネルMOSトランジスタ139のゲ
ートにはDLAT1信号が与えられ、PチャネルMOS
トランジスタ140のゲートにはDLAT1Bが与えら
れ、NチャネルMOSトランジスタ141のゲートには
DLAT2信号が与えられ、PチャネルMOSトランジ
スタ142のゲートにはDLAT2B信号が与えられ
る。これらのDLAT1,DLAT1BおよびDLAT
2,DLAT2Bは制御信号/WEの第1および第2の
立上がりで発生され、入力データ信号をラッチ回路13
4,135に取込むためのパルス信号である。ラッチ回
路143の入力側にはNチャネルMOSトランジスタ1
44が接続され、ラッチ回路145の入力側にはNチャ
ネルMOSトランジスタ146が接続される。これらの
NチャネルMOSトランジスタ144,146はそれぞ
れのゲートに与えられているリセット信号に応じて、ラ
ッチ回路143,145の内容をリセットする。ラッチ
回路134,135のデータはNORゲート147を介
して消去コマンドとして出力される。
【0027】なお、テスト用消去コマンド信号を出力す
る回路も図3と同様にして構成されるが、入力データ信
号DI0BないしDI7Bが与えられるNANDゲート
131ないし133のうち、NANDゲート133の一
方入力にインバータ150が接続されており、入力デー
タDI0B〜DI7Bが24Hのときテスト用消去コマ
ンドとされる。
【0028】図4はこの発明の一実施例の動作を説明す
るためのフロー図である。
【0029】次に、この発明の一実施例の具体的な動作
について説明する。ステップ(図示ではSPと略称す
る)SP1において、電源VccとVppが立上げら
れ、ステップSP2においてすべてのバイトが「00
H」であるか否かが判別される。すべてのバイトが「0
0H」でなければ、メモリセルアレイ1の全ビットに
「0」の書込を行なうために、すべてのバイトに「00
H」がプログラムされる。そして、ステップSP4にお
いて、アドレスの最初の位置が決定され、ステップSP
5においてXの値が0に設定される。
【0030】次に、ステップSP6において、制御信号
/WEが立下げられ、続いて制御信号/WEの立上がり
でテスト用消去セットアップ指令が書込まれる。続い
て、制御信号/WEが再度立下げられ、続く制御信号/
WEの立上がりでテスト用消去コマンドが書込まれる。
このとき、ステップSP8において、チップ内部に設け
られたタイマにより、10msecだけ遅延され、一定
期間消去パルスが発生され、ステップSP9においてX
がプラス1される。ステップSP10においてXが製造
工程のばらつきを考慮した消去完了までの最少必要消去
パルス数Nになったか否かが判別され、Nでなければス
テップSP6〜SP9の動作が繰返される。
【0031】次に、ステップSP11〜SP23におい
て、通常動作時と同様の消去過程を経て消去が行なわれ
る。すなわち、SP11において、消去セットアップ指
令が書込まれ、ステップSP12において消去コマンド
を書込み、ステップSP13において10msecだけ
遅延した後、ステップSP14においてXがプラス1さ
れる。ステップSP15において消去ベリファイ指令が
書込まれ、ステップSP16において6μsecだけ遅
延され、ステップSP17においてXが1000になっ
たか否かが判別される。Xが1000になっていれば、
ステップSP18において消去が十分であるか否かが判
別され、消去が十分でなければ装置不良とされる。Xが
1000でなければ、ステップSP19に消去が十分で
あるか否かが判別され、十分でなければステップSP1
1〜SP17の動作が繰返される。ステップSP18ま
たはSP19において消去が十分であることが判別され
ると、ステップSP20においてラストアドレスである
か否かが判別され、ラストアドレスでなければステップ
SP21において次のアドレスに進み、ラストアドレス
であればステップSP22において読出指令を書込み、
ステップSP23において電源Vppを立下げる。
【0032】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、テス
ト動作時に消去開始から消去完了直前までは通常動作時
の消去ベリファイを行なわないようにしたので、通常よ
り早く消去を終了することができ、また、その後消去完
了までは通常動作時の消去ベリファイを行なうようにし
たので、十分なマージンを持ち過消去されることなく消
去できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例のブロック図である。
【図2】図1に示した立上がり検出回路とノード信号発
生回路のブロック図である。
【図3】図1に示したコマンドデコーダの回路図であ
る。
【図4】この発明の一実施例の動作を説明するためのフ
ロー図である。
【図5】この発明の先行技術となるフラッシュEEPR
OMの全体のブロック図である。
【図6】図5に示したメモリセルの断面図である。
【図7】図5に示したメモリセルアレイの構成を示す図
である。
【符号の説明】
1 メモリセルアレイ 2 Yゲート 3 ソース線スイッチ 4 Xデコーダ 5 Yデコーダ 6 アドレスレジスタ 7 書込回路 8 センスアンプ 9 入出力バッファ 10 プログラム電圧発生回路 11 ベリファイ電圧発生回路 12 コマンドレジスタ 13 コマンドデコーダ 14 制御回路 29 立上がり検出回路 30 判定回路 32 立下がり検出回路 40 ノード信号発生回路 47 ラッチ回路
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年4月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】次に、プログラムベリファイコマンドが入
力され、プログラムベリファイが行なわれ、読出が実行
される。次に、実際の消去に入る。消去コマンド信号が
入力され、書込イネーブル信号/WEの立上がりと共に
消去パルス制御信号ERSが「H」レベルとなり、ソー
ス線スイッチ3を介してソース線28にVppが印加さ
れる。次に、消去ベリファイコマンドが入力され、書込
イネーブル信号/WEの立上がりと共に消去ベリファイ
モードが設定され、同時に消去コマンド信号ERSが立
下がり、消去パルスが終了する。このとき、消去コマン
ド信号ERSの立下がりによってパルスが発生されてラ
ッチ回路31がリセットされ、その出力/ENが「H」
レベルにされて消去禁止モードとなる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】図2は図1に示した立上がり検出回路とモ
ード信号発生回路のブロック図である。図2を参照し
て、判定回路30はNANDゲート33とANDゲート
34とを含む。NANDゲート33はその入力がセンス
アンプ8の出力に接続され、読出データがすべて「1」
であるか否かを検出する。NANDゲート33の出力は
ANDゲート34に与えられる。ANDゲート34に
は、さらに消去ベリファイ信号VERと消去コマンド信
号ERSが与えられる。ANDゲート34はNANDゲ
ート33の出力を消去ベリファイ時(VER=「H」)
に出力イネーブル信号OEが「H」レベルのときに出力
する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】立上がり検出回路29および立下がり検出
回路32の検出出力はORゲート43を介してラッチ回
路47に与えられる。すなわち、ORゲート43はVp
pの立上がりまたは消去コマンド信号ERSの立下がり
時に「H」レベル信号を出力し、ラッチ回路47をリセ
ットする。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】図3は図1に示したコマンドデコーダの回
路図である。図3において、外部コマンドは入力データ
DI0BないしDI7B(20H)として、図1の出力
バッファ9からコマンドレジスタ12を介してコマンド
デコーダ13に与えられる。コマンドデコーダ13に入
力された入力データDI0BないしDI7Bが与えられ
NANDゲート131ないし133のうち、NAND
ゲート133の一方入力にインバータ150が接続され
ており、NANDゲート131と132の出力はNOR
ゲート135を介してNANDゲート137の一方入力
端に与えられ、NANDゲート133と134の出力は
NORゲート136を介してNANDゲート137の他
方入力端に与えられる。NANDゲート137の出力は
インバータ138で反転され、NチャネルMOSトラン
ジスタ139とPチャネルMOSトランジスタ140と
からなるスイッチ回路を介してラッチ143にラッチさ
れ、NチャネルMOSトランジスタ141とPチャネル
MOSトランジスタ142とからなるスイッチ回路を介
してラッチ回路145にラッチされる。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】NチャネルMOSトランジスタ139のゲ
ートにはDLAT1信号が与えられ、PチャネルMOS
トランジスタ140のゲートにはDLAT1Bが与えら
れ、NチャネルMOSトランジスタ141のゲートには
DLAT2信号が与えられ、PチャネルMOSトランジ
スタ142のゲートにはDLAT2B信号が与えられ
る。これらのDLAT1,DLAT1BおよびDLAT
2,DLAT2Bは制御信号/WEの第1および第2の
立上がりで発生され、入力データ信号をラッチ回路1
,15に取込むためのパルス信号である。ラッチ回
路143の入力側にはNチャネルMOSトランジスタ1
44が接続され、ラッチ回路145の入力側にはNチャ
ネルMOSトランジスタ146が接続される。これらの
NチャネルMOSトランジスタ144,146はそれぞ
れのゲートに与えられているリセット信号に応じて、ラ
ッチ回路143,145の内容をリセットする。ラッチ
回路143,15のデータはNORゲート147を介
して消去コマンドとして出力される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】なお、テスト用消去コマンド信号を出力す
る回路も図3と同様にして構成されるが、たとえば入力
データ信号DI0BないしDI7Bが与えられるNAN
Dゲート131ないし133のうち、NANDゲート1
の一方入力にインバータ15が接続されており、
入力データDI0B〜DI7Bが24Hのときテスト用
消去コマンドとされる。
【手続補正7】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正9】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正10】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも行および列方向にアレイ状に
    配置された複数個のメモリセルと、外部から入力された
    アドレス信号をデコードして行および列方向のメモリセ
    ルの選択を行なうXデコーダおよびYデコーダと、前記
    メモリセルに記憶された情報が第1の論理であるかある
    いは第2の論理であるかを判定するセンスアンプと、前
    記メモリセルが消去されたか否かを判定する消去状態判
    定回路と、前記消去状態判定回路の出力に応答して、前
    記メモリセルが消去されていれば消去禁止モード信号を
    出力し、前記メモリセルが消去されていなければ消去可
    能モード信号を出力するモード信号発生回路を備えた電
    気的に情報の書込,消去が可能な不揮発性半導体記憶装
    置において、 前記モード信号発生回路は、テスト動作時に、外部から
    の制御信号に応答して、前記消去状態判定回路の出力に
    関係なく消去パルス制御信号を発生することを特徴とす
    る、不揮発性半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 さらに、テスト動作時に、消去開始から
    消去完了直前までは消去ベリファイを行なわずに、前記
    消去状態判定回路の出力に関係なく消去パルス制御信号
    に応じて消去を行ない、その後消去完了までは消去ベリ
    ファイを行ない、通常の消去を行なうことを特徴とす
    る、請求項1の不揮発性半導体記憶装置。
JP16607092A 1992-06-24 1992-06-24 不揮発性半導体記憶装置 Withdrawn JPH065087A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16607092A JPH065087A (ja) 1992-06-24 1992-06-24 不揮発性半導体記憶装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16607092A JPH065087A (ja) 1992-06-24 1992-06-24 不揮発性半導体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH065087A true JPH065087A (ja) 1994-01-14

Family

ID=15824425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16607092A Withdrawn JPH065087A (ja) 1992-06-24 1992-06-24 不揮発性半導体記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH065087A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0887894A (ja) * 1994-09-20 1996-04-02 Mitsubishi Electric Corp 不揮発性半導体記憶装置
US5590075A (en) * 1994-06-07 1996-12-31 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. Method for testing an electrically erasable and programmable memory device
US7496810B2 (en) 2001-10-24 2009-02-24 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device and its data writing method
US9330871B2 (en) 2012-11-29 2016-05-03 Fujitsu Component Limited Relay

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5590075A (en) * 1994-06-07 1996-12-31 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. Method for testing an electrically erasable and programmable memory device
JPH0887894A (ja) * 1994-09-20 1996-04-02 Mitsubishi Electric Corp 不揮発性半導体記憶装置
US7496810B2 (en) 2001-10-24 2009-02-24 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device and its data writing method
US9330871B2 (en) 2012-11-29 2016-05-03 Fujitsu Component Limited Relay

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7298654B2 (en) Non-volatile memory device and associated method of erasure
US5831905A (en) Method for controlling erasure of nonvolatile semiconductor memory
US5287317A (en) Non-volatile semiconductor memory device with over-erasing prevention
JP2001057088A (ja) Nand型不揮発性メモリ
JP3080744B2 (ja) 電気的に書き込み一括消去可能な不揮発性半導体記憶装置
JPH05128878A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP2003173690A (ja) 半導体記憶装置及びその駆動方法
JP3709606B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置及びベリファイ方法
JP2002230981A (ja) 不揮発性半導体メモリ装置およびその消去方法
JP3143161B2 (ja) 不揮発性半導体メモリ
TW200411665A (en) Method of erasing data of nonvolatile semiconductor memory unit
US5563824A (en) Nonvolatile semiconductor memory device and method of erasing stored data thereof
JPH065087A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH0562484A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP3993665B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH0750096A (ja) 半導体記憶装置
JPH05159586A (ja) フラッシュeeprom
JPH04159696A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP3110395B2 (ja) ベリファイ装置
JPS60247899A (ja) 電気的書込み・消去可能不揮発性半導体メモリ
JPH08203286A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH07122083A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH04206094A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP3181708B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置の動作方法
JPH06131890A (ja) 不揮発性半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990831