JPH0644464B2 - ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 - Google Patents
ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法Info
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- JPH0644464B2 JPH0644464B2 JP58184990A JP18499083A JPH0644464B2 JP H0644464 B2 JPH0644464 B2 JP H0644464B2 JP 58184990 A JP58184990 A JP 58184990A JP 18499083 A JP18499083 A JP 18499083A JP H0644464 B2 JPH0644464 B2 JP H0644464B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガ
ラス板の製造方法に関する。
ラス板の製造方法に関する。
陰極線管、プラズマデイスプレイ、液晶表示素子、エレ
クトロクロミツク表示素子などのデイスプレイの表示面
にガラスが用いられているが、このガラス面が室内灯な
どの光を反射して利用者の眼に映るという好ましくない
現象を示す。
クトロクロミツク表示素子などのデイスプレイの表示面
にガラスが用いられているが、このガラス面が室内灯な
どの光を反射して利用者の眼に映るという好ましくない
現象を示す。
この光の反射は、第１図に示すようにガラスＢに外来光
１が入射すると、表面反射光２と内面反射光４とが生じ
る。このうち表面反射光２を減少させる方法としては、
ガラス表面をMgF2や透明な高分子化合物などの層で１層
又は多層に被覆し、この被覆層の厚みを所望の厚みとす
ることによつて、これらの被覆層の表面からの反射光と
前記ガラスからの表面反射光２とを干渉させ、反射光を
弱める方法がある。
１が入射すると、表面反射光２と内面反射光４とが生じ
る。このうち表面反射光２を減少させる方法としては、
ガラス表面をMgF2や透明な高分子化合物などの層で１層
又は多層に被覆し、この被覆層の厚みを所望の厚みとす
ることによつて、これらの被覆層の表面からの反射光と
前記ガラスからの表面反射光２とを干渉させ、反射光を
弱める方法がある。
しかし、この方法を内面反射光４の減少に用いることは
できない。なぜならば、陰極線管のフエースプレート内
面は、けい光体が塗布されている。けい光体の塗布は、
通常感光性組成物中にけい光体を分散した塗料をフエー
スプレート内面に塗布し、所望部に露光し、現象して露
光部以外の部分の塗料を除き、焼付けてけい光体のみを
フエースプレートに付着させる。それ故、前記の被覆膜
をあらかじめフエースプレート内面に設けておいても焼
付けの工程で焼去されたり、変質したり、形状が変化し
たりして反射光を減少させることができなくなる。表面
反射光の場合は、上記焼付け後にガラス表面に被覆層を
設けることが可能であるので前述の如く表面反射光２を
減少させることができる。
できない。なぜならば、陰極線管のフエースプレート内
面は、けい光体が塗布されている。けい光体の塗布は、
通常感光性組成物中にけい光体を分散した塗料をフエー
スプレート内面に塗布し、所望部に露光し、現象して露
光部以外の部分の塗料を除き、焼付けてけい光体のみを
フエースプレートに付着させる。それ故、前記の被覆膜
をあらかじめフエースプレート内面に設けておいても焼
付けの工程で焼去されたり、変質したり、形状が変化し
たりして反射光を減少させることができなくなる。表面
反射光の場合は、上記焼付け後にガラス表面に被覆層を
設けることが可能であるので前述の如く表面反射光２を
減少させることができる。
また、液晶表示素子やエレクトロニクロミツク表示素子
は、透明電極をガラス内面に形成する必要がある。この
際あらかじめ被覆膜を設けておいても、電極形成のため
の薬液により、また加熱によつて同様に被覆膜が反射光
減少の効果を示さなくなる。
は、透明電極をガラス内面に形成する必要がある。この
際あらかじめ被覆膜を設けておいても、電極形成のため
の薬液により、また加熱によつて同様に被覆膜が反射光
減少の効果を示さなくなる。
これとは別にガラス板内面をフツ酸などで粗面とし、反
射光を乱反射させることも提案されている。しかしこの
場合凹凸の高さが低いのであまり効果がない。また物理
的力を加えガラス板に傷をつけ、反射光を乱反射させる
案もある。この場合も凹凸の高さを十分大きくすると、
ガラス板の強度が低下し、製品を組立てる際の障害とな
る。
射光を乱反射させることも提案されている。しかしこの
場合凹凸の高さが低いのであまり効果がない。また物理
的力を加えガラス板に傷をつけ、反射光を乱反射させる
案もある。この場合も凹凸の高さを十分大きくすると、
ガラス板の強度が低下し、製品を組立てる際の障害とな
る。
本発明の目的は、反射光を低減させたデイスプレイの製
造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法を提供する
ことにある。
造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法を提供する
ことにある。
本発明のデイスプレイ用ガラス板は、少なくともその一
面に上記ガラスに近い屈折率をもち、凹凸を有する無機
物質の層を設けたことを特徴とする。これらの無機物質
は、実質的に無色透明であることが好ましい。このよう
な物質は多くは誘電体である。これらの無機物質の層
は、第２図に示すように一面はガラスの内面と密着さ
せ、他方の面に凸凹を形成せしめる。このような凹凸を
有することにより内面反射光が減少することを説明す
る。
面に上記ガラスに近い屈折率をもち、凹凸を有する無機
物質の層を設けたことを特徴とする。これらの無機物質
は、実質的に無色透明であることが好ましい。このよう
な物質は多くは誘電体である。これらの無機物質の層
は、第２図に示すように一面はガラスの内面と密着さ
せ、他方の面に凸凹を形成せしめる。このような凹凸を
有することにより内面反射光が減少することを説明す
る。
第１図において、入射光３に対する内面反射光４の強度
の割合Ｒは、Ｒ＝{(nB-nC)/(nB+nC)}2で表わされる。
（入射角がＯ°のとき）ここでｎＢ，ｎＣは、それぞれ
ガラス、真空中又は空気の屈折率である。通常のガラス
の屈折率は1.5、真空中又は空気の屈折率は1.0であるか
ら、Ｒ＝0.04となる。このことは、入射光３の４％が、
内面反射されることを意味している。
の割合Ｒは、Ｒ＝{(nB-nC)/(nB+nC)}2で表わされる。
（入射角がＯ°のとき）ここでｎＢ，ｎＣは、それぞれ
ガラス、真空中又は空気の屈折率である。通常のガラス
の屈折率は1.5、真空中又は空気の屈折率は1.0であるか
ら、Ｒ＝0.04となる。このことは、入射光３の４％が、
内面反射されることを意味している。
第２図にガラスに近い屈折率をもつ無機物質を、ガラス
の界面上に凹凸状薄層として形成したガラス面板に、入
射した光の経路を示した。第２図において、入射光３に
対する内面反射光４の強度の割合Ｒ′は、Ｒ′＝{(nB-n
D)/(nB+nD)}2で表わされる。ここでｎＢ，ｎＤはそれぞ
れガラス、無機物質の屈折率がある。この関係式から|n
B-nD|が小さいほど内面反射光４の入射光３に対する強
度の割合は小さくなり、凹凸状膜への入射光８が増加す
ることになる。入射光８は、透過光５と散乱光７に分か
れるため、内面反射光が低減できる。以上が本発明の原
理である。
の界面上に凹凸状薄層として形成したガラス面板に、入
射した光の経路を示した。第２図において、入射光３に
対する内面反射光４の強度の割合Ｒ′は、Ｒ′＝{(nB-n
D)/(nB+nD)}2で表わされる。ここでｎＢ，ｎＤはそれぞ
れガラス、無機物質の屈折率がある。この関係式から|n
B-nD|が小さいほど内面反射光４の入射光３に対する強
度の割合は小さくなり、凹凸状膜への入射光８が増加す
ることになる。入射光８は、透過光５と散乱光７に分か
れるため、内面反射光が低減できる。以上が本発明の原
理である。
以上述べた本発明の原理から、ガラスの内面反射を低減
するには、ガラスに近い屈折率をもつ無機物質を選択す
ること及びこれを凹凸状薄層として、ガラス界面上に形
成することが不可欠である。以下に無機物質の選択につ
いて述べる。内面反射を低減するためには、少なくとも
｜ｎＢ−ｎＤ｜＜｜ｎＢ−ｎＣ｜を満たすことが必要で
ある。実用的には、ガラスの内面反射を５０％以下にす
ることが好ましく、２５％以下にすることがより好まし
い。このためには、前記の式Ｒ′＝{(nB-nD)/(nB+nD)}2
から計算して、ガラス自体の屈折率の値にもよるが、無
機物質の屈折率がガラスの屈折率に対して−0.4から＋
0.6の範囲にあることが好ましく、−0.3から＋0.4の範
囲にあることがより好ましい。
するには、ガラスに近い屈折率をもつ無機物質を選択す
ること及びこれを凹凸状薄層として、ガラス界面上に形
成することが不可欠である。以下に無機物質の選択につ
いて述べる。内面反射を低減するためには、少なくとも
｜ｎＢ−ｎＤ｜＜｜ｎＢ−ｎＣ｜を満たすことが必要で
ある。実用的には、ガラスの内面反射を５０％以下にす
ることが好ましく、２５％以下にすることがより好まし
い。このためには、前記の式Ｒ′＝{(nB-nD)/(nB+nD)}2
から計算して、ガラス自体の屈折率の値にもよるが、無
機物質の屈折率がガラスの屈折率に対して−0.4から＋
0.6の範囲にあることが好ましく、−0.3から＋0.4の範
囲にあることがより好ましい。
このような物質で、かつ水に実質的に不溶のものとし
て、Ｓｉ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｔｉ及びＺ
ｒからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化
物又は水酸化物がある。もちろん酸化物と水酸化物の混
合物でもよい。これらの物質の中で、SiO2は屈折率が1.
46であり、ガラスの屈折率1.5〜1.7と近いのでもつとも
好ましい。
て、Ｓｉ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｔｉ及びＺ
ｒからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の酸化
物又は水酸化物がある。もちろん酸化物と水酸化物の混
合物でもよい。これらの物質の中で、SiO2は屈折率が1.
46であり、ガラスの屈折率1.5〜1.7と近いのでもつとも
好ましい。
これらの物質からなる層は、前述のように凹凸状の薄層
であることが必要である。もしこの層が平坦であれば、
この層と空気又は真空中との界面から内面反射が生じ、
内面反射光減少の効果がなくなる。これを第３図を用い
て説明する。後述する実施例に示すように、水ガラスと
ポリビニルアルコールと水との混合物をガラス板上に回
転塗布し、熱風乾燥、水洗して凹凸状薄層を形成した。
この際、回転塗布の速度、時間を制御することによつ
て、形成された塗膜の厚みを制御できる。それによつて
凹凸の深さも種々のものを製造することができる。もち
ろん、全部の凹凸が完全に同じ深さをもつものでなく平
均した値である。内面反射率は、Ｈｅ−Ｎｅレーザを用
い、所定の角度の反射光の強度を測定すれば、表面反射
光の影響をほとんど受けず、内面反射光の強度のみを測
定できる。第３図にみられるように、凹凸の深さが大き
い程内面反射光の強度は小さくなる。凹凸の深さを約0.
07μｍ以上とすると、内面反射光の強度の凹凸のないガ
ラス板のそれに対する比率（以下内面反射率という）は
５０％以下となり好ましい。さらに約0.2μｍ以上とす
ると内面反射率は２５％以下となるのでより好ましい。
であることが必要である。もしこの層が平坦であれば、
この層と空気又は真空中との界面から内面反射が生じ、
内面反射光減少の効果がなくなる。これを第３図を用い
て説明する。後述する実施例に示すように、水ガラスと
ポリビニルアルコールと水との混合物をガラス板上に回
転塗布し、熱風乾燥、水洗して凹凸状薄層を形成した。
この際、回転塗布の速度、時間を制御することによつ
て、形成された塗膜の厚みを制御できる。それによつて
凹凸の深さも種々のものを製造することができる。もち
ろん、全部の凹凸が完全に同じ深さをもつものでなく平
均した値である。内面反射率は、Ｈｅ−Ｎｅレーザを用
い、所定の角度の反射光の強度を測定すれば、表面反射
光の影響をほとんど受けず、内面反射光の強度のみを測
定できる。第３図にみられるように、凹凸の深さが大き
い程内面反射光の強度は小さくなる。凹凸の深さを約0.
07μｍ以上とすると、内面反射光の強度の凹凸のないガ
ラス板のそれに対する比率（以下内面反射率という）は
５０％以下となり好ましい。さらに約0.2μｍ以上とす
ると内面反射率は２５％以下となるのでより好ましい。
凹凸の深さはいかに大きくても内面反射率減少の点から
はさしつかえないが、けい光体塗料の塗布、電極形成な
どの点からあまり大きくない方が好ましい。この点か
ら、凹凸の深さが1.5μｍを越えると、内面反射率はそ
れ以上あまり低下しない。それ故凹凸の深さは1.5μｍ
以下が好ましい。また、約1.0μｍ〜1.5μｍの間では、
内面反射率低減の効果はわずかであるので、凹凸の深さ
が1.0μｍ以下がより好ましい。
はさしつかえないが、けい光体塗料の塗布、電極形成な
どの点からあまり大きくない方が好ましい。この点か
ら、凹凸の深さが1.5μｍを越えると、内面反射率はそ
れ以上あまり低下しない。それ故凹凸の深さは1.5μｍ
以下が好ましい。また、約1.0μｍ〜1.5μｍの間では、
内面反射率低減の効果はわずかであるので、凹凸の深さ
が1.0μｍ以下がより好ましい。
本発明は、上記凹凸を有する無機物質層を、ガラスの表
面反射光減少に用いることも含まれる。それ故、上記物
質層をガラス板の外側の面及び／又は内面の面に設ける
ことができる。しかし、後述の実施例から明らかなよう
に内面反射光減止に用いる方がより効果が大きい。
面反射光減少に用いることも含まれる。それ故、上記物
質層をガラス板の外側の面及び／又は内面の面に設ける
ことができる。しかし、後述の実施例から明らかなよう
に内面反射光減止に用いる方がより効果が大きい。
次に、凹凸状薄層の形成方法について述べる。凹凸状薄
層は、水溶性高分子化合物と水ガラスまたは、水溶性金
属塩化物との混合水溶液を、ガラス面板上に塗布し、加
熱またはアルカリ蒸気に曝すことによつて形成できる。
この場合、原料として用いる無機物質は最初透明でなく
とも、加熱などの処理により最終的に実質的に透明にな
るものならさしつかえない。
層は、水溶性高分子化合物と水ガラスまたは、水溶性金
属塩化物との混合水溶液を、ガラス面板上に塗布し、加
熱またはアルカリ蒸気に曝すことによつて形成できる。
この場合、原料として用いる無機物質は最初透明でなく
とも、加熱などの処理により最終的に実質的に透明にな
るものならさしつかえない。
とくにポリビニルアルコールと、水ガラスを用いた系に
おいては、ガラス板上に塗布後、加熱乾燥するだけで凹
凸状薄層が形成された。これは、乾燥過程においてポリ
ビニルアルコールと水ガラスの相分離が起こり、ガラス
板上にSiO2の凹凸状薄層が形成されたものと考えられ
る。このようにして形成したSiO2の凹凸状薄層は、水に
対して不溶性であり、機械的強度も実用的に耐えるもの
である。水に対する不溶化の機構の詳細は不明である
が、加熱乾燥により水ガラスのSi(OH)4が脱水縮合し、S
iO2が数分子結合した構造をとるためと考えられる。上
に述べた凹凸状薄層を形成したガラス面板の内面反射率
を、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光を用いて測定したところ、著し
く低減していることが判つた。ポリビニルアルコールの
代わりに、メチルセルローズ、アルギン酸プロピレング
リコールエステル、イソブチレン／無水マレイン酸共重
合体、メチルビニルエーテル／無水マレイン酸共合体な
どの水溶性高分子化合物を用いてもポリビニルアルコー
ルを用いたときと同様に、ガラスの内面反射率を低減で
きた。しかしポリビニルアルコールを用いたときは、凹
凸状薄層が透明であるのに対し、その他の水溶性高分子
では凹凸状薄層がわずかに白濁する場合がある。このた
め、ブラウン管等のガラス・パネルの内面反射光低減に
は、水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールが適
している。
おいては、ガラス板上に塗布後、加熱乾燥するだけで凹
凸状薄層が形成された。これは、乾燥過程においてポリ
ビニルアルコールと水ガラスの相分離が起こり、ガラス
板上にSiO2の凹凸状薄層が形成されたものと考えられ
る。このようにして形成したSiO2の凹凸状薄層は、水に
対して不溶性であり、機械的強度も実用的に耐えるもの
である。水に対する不溶化の機構の詳細は不明である
が、加熱乾燥により水ガラスのSi(OH)4が脱水縮合し、S
iO2が数分子結合した構造をとるためと考えられる。上
に述べた凹凸状薄層を形成したガラス面板の内面反射率
を、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光を用いて測定したところ、著し
く低減していることが判つた。ポリビニルアルコールの
代わりに、メチルセルローズ、アルギン酸プロピレング
リコールエステル、イソブチレン／無水マレイン酸共重
合体、メチルビニルエーテル／無水マレイン酸共合体な
どの水溶性高分子化合物を用いてもポリビニルアルコー
ルを用いたときと同様に、ガラスの内面反射率を低減で
きた。しかしポリビニルアルコールを用いたときは、凹
凸状薄層が透明であるのに対し、その他の水溶性高分子
では凹凸状薄層がわずかに白濁する場合がある。このた
め、ブラウン管等のガラス・パネルの内面反射光低減に
は、水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールが適
している。
ポリビニルアルコールとZn,Al,In,Sn,Pb,Ti,Zrの塩化物
を用いた系においては、ガラス面板上に塗布後、アンモ
ニア蒸気に数分間曝し、水洗することにより凹凸状誘電
体層が形成できた。これは、金属塩化物とアンモニア蒸
気との反応により、金属水酸化物が形成されたことによ
り、ガラス板上に凹凸状薄層が形成されたものと考えら
れる。このようにして形成した凹凸状薄層は、内面反射
率低減に効果はあるが、凹凸膜がわずかに白色となる場
合がある。
を用いた系においては、ガラス面板上に塗布後、アンモ
ニア蒸気に数分間曝し、水洗することにより凹凸状誘電
体層が形成できた。これは、金属塩化物とアンモニア蒸
気との反応により、金属水酸化物が形成されたことによ
り、ガラス板上に凹凸状薄層が形成されたものと考えら
れる。このようにして形成した凹凸状薄層は、内面反射
率低減に効果はあるが、凹凸膜がわずかに白色となる場
合がある。
次に水溶性高分子化合物と水ガラスと混合重量比と、内
面反射率との関係を、第４図を用いて説明する。
面反射率との関係を、第４図を用いて説明する。
第４図は、水溶性高分子化合物と水ガラス（固形分、以
下同じ）の混合重量比と、内面反射率との関係を示した
図である。第４図から内面反射率は、高分子化合物の種
類にもよるが、水溶性高分子化合物と水ガラスの混合重
量比が3:97ないし75:25の範囲において、凹凸状薄層の
ないガラスの内面反射率の約1/2となり、効果のあるこ
とが判る。また水溶性高分子化合物と水ガラスの混合重
量比が8:92から55:45の範囲においては、内面反射率が
約２５％以下となり、さらに好ましいことが判る。この
傾向は、水溶性金属塩化物を用いる場合もほぼ同じであ
る。
下同じ）の混合重量比と、内面反射率との関係を示した
図である。第４図から内面反射率は、高分子化合物の種
類にもよるが、水溶性高分子化合物と水ガラスの混合重
量比が3:97ないし75:25の範囲において、凹凸状薄層の
ないガラスの内面反射率の約1/2となり、効果のあるこ
とが判る。また水溶性高分子化合物と水ガラスの混合重
量比が8:92から55:45の範囲においては、内面反射率が
約２５％以下となり、さらに好ましいことが判る。この
傾向は、水溶性金属塩化物を用いる場合もほぼ同じであ
る。
本発明が、ブラウン管フエーンプレートの反射率低減等
に応用された場合、凹凸状薄層が均一に形成されなかつ
たときには、容易に再生できることが望まれる。従来行
なわれている方法では、再生が困難であつたが、本発明
では、凹凸状薄層が、フツ化水素酸に溶解するものが多
いため再生が容易にできるものが多い。
に応用された場合、凹凸状薄層が均一に形成されなかつ
たときには、容易に再生できることが望まれる。従来行
なわれている方法では、再生が困難であつたが、本発明
では、凹凸状薄層が、フツ化水素酸に溶解するものが多
いため再生が容易にできるものが多い。
水ガラス、水溶性高分子化合物及び水からなる組成物に
おいて、水溶性高分子化合物の種類を変えると、凹凸状
薄層のある程度形状が変わり、反射率もある程度は変化
する。これは、水溶性高分子化合物の種類によつて、水
ガラスとの相溶性が異なるために起こるものと考えられ
る。
おいて、水溶性高分子化合物の種類を変えると、凹凸状
薄層のある程度形状が変わり、反射率もある程度は変化
する。これは、水溶性高分子化合物の種類によつて、水
ガラスとの相溶性が異なるために起こるものと考えられ
る。
以下、本発明を実施例を用いて説明する。
実施例１ 水ガラス（東京応化製，登録商標オーカシールＡ）１０
ｇと、ポリビニルアルコール（１０ｗｔ％水溶液）１０
ｇと水３０ｇから成る組成物をガラス板上に１００ｒｐ
ｍで回転塗布し、熱風乾燥後、水洗することによつて、
深さ約1.0μｍの凹凸状薄層を形成した。凹凸状薄層を
形成したガラス板の内面反射率を、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光
を用いて測定したところ、凹凸状薄層のないガラスの反
射率の1/20に低減していた。
ｇと、ポリビニルアルコール（１０ｗｔ％水溶液）１０
ｇと水３０ｇから成る組成物をガラス板上に１００ｒｐ
ｍで回転塗布し、熱風乾燥後、水洗することによつて、
深さ約1.0μｍの凹凸状薄層を形成した。凹凸状薄層を
形成したガラス板の内面反射率を、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光
を用いて測定したところ、凹凸状薄層のないガラスの反
射率の1/20に低減していた。
実施例２ 塩化亜鉛２５ｇとポリビニルアルコール（１０ｗｔ％水
溶液）５ｇと水４０ｇから成る組成物を、ガラス板上に
実施例１と同条件で塗布、乾燥後、アンモニア蒸気に２
分間曝し、次いで水洗することによつて、深さ約0.5μ
ｍの凹凸状薄層を形成した。実施例１と同様の方法で、
内面反射率を測定したところ、凹凸状薄層のないガラス
板の内面反射率の1/10に低減していた。
溶液）５ｇと水４０ｇから成る組成物を、ガラス板上に
実施例１と同条件で塗布、乾燥後、アンモニア蒸気に２
分間曝し、次いで水洗することによつて、深さ約0.5μ
ｍの凹凸状薄層を形成した。実施例１と同様の方法で、
内面反射率を測定したところ、凹凸状薄層のないガラス
板の内面反射率の1/10に低減していた。
実施例３ 塩化第２スズ２水塩2.5ｇとポリビニルアルコール（１
０ｗｔ％水溶液）５ｇと水42.5ｇから成る組成物を、ガ
ラス板上に、実施例１と同条件で塗布後、実施例２と同
条件でアンモニア蒸気に曝し深さ約0.25μｍの凹凸状薄
層を形成した。実施例１と同様の方法で、内面反射率を
測定したところ、凹凸状薄層のないガラス板の内面反射
率の1/3のに低減していた。
０ｗｔ％水溶液）５ｇと水42.5ｇから成る組成物を、ガ
ラス板上に、実施例１と同条件で塗布後、実施例２と同
条件でアンモニア蒸気に曝し深さ約0.25μｍの凹凸状薄
層を形成した。実施例１と同様の方法で、内面反射率を
測定したところ、凹凸状薄層のないガラス板の内面反射
率の1/3のに低減していた。
実施例４ 塩化アルミニウム2.5ｇとポリビニルアルコール（１０
ｗｔ％水溶液）５ｇと水42.5ｇから成る組成物を、実施
例１と同条件で塗布後、実施例２と同条件でアンモニア
蒸気に曝し深さ約0.2μｍの凹凸状薄層を形成し、実施
例１と同様の方法で、内面反射率を測定したところ、凹
凸状薄層のないガラス板の内面反射率の2/5に低減して
いた。
ｗｔ％水溶液）５ｇと水42.5ｇから成る組成物を、実施
例１と同条件で塗布後、実施例２と同条件でアンモニア
蒸気に曝し深さ約0.2μｍの凹凸状薄層を形成し、実施
例１と同様の方法で、内面反射率を測定したところ、凹
凸状薄層のないガラス板の内面反射率の2/5に低減して
いた。
実施例５ 塩化鉛１ｇとポリビニルアルコール（１０ｗｔ％水溶
液）2.5ｇと水46.5ｇから成る組成物を用いて、実施例
２と同条件で、ガラス板上に深さ約0.2μｍの凹凸状薄
層を形成し、内面反射率を測定したところ、凹凸状薄層
のないときの内面反射率の2/5に低減していた。
液）2.5ｇと水46.5ｇから成る組成物を用いて、実施例
２と同条件で、ガラス板上に深さ約0.2μｍの凹凸状薄
層を形成し、内面反射率を測定したところ、凹凸状薄層
のないときの内面反射率の2/5に低減していた。
実施例６ 水ガラス５ｇとメチルセルローズ（１ｗｔ％水溶液）２
５ｇと、水３０ｇから成る組成物を用いて、実施例１と
同条件で、深さ約0.5μｍの凹凸状薄層の形成及び内面
反射測定を行なつたところ、凹凸状薄層のないときの内
面反射率の1/10に低減していた。
５ｇと、水３０ｇから成る組成物を用いて、実施例１と
同条件で、深さ約0.5μｍの凹凸状薄層の形成及び内面
反射測定を行なつたところ、凹凸状薄層のないときの内
面反射率の1/10に低減していた。
実施例７ 水ガラス５ｇとアルギン酸プロピレングルコールエステ
ル（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと、水２０ｇから成る組成
物を用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.3μｍの凹
凸状薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたところ凹
凸状薄層のないときの内面反射率の1/2に低減してい
た。
ル（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと、水２０ｇから成る組成
物を用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.3μｍの凹
凸状薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたところ凹
凸状薄層のないときの内面反射率の1/2に低減してい
た。
実施例８ 水ガラス５ｇとイソブチレン／無水マレイン酸共重合体
（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと水２０ｇから成る組成物を
用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.2μｍの凹凸状
薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたところ、凹凸
状薄層のないときの内面反射率の1/2に低減していた。
（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと水２０ｇから成る組成物を
用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.2μｍの凹凸状
薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたところ、凹凸
状薄層のないときの内面反射率の1/2に低減していた。
実施例９ 水ガラス５ｇとメチルビニルエーテル／無水マレイン酸
共重合体（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと、水２０ｇから成
る組成物を用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.2μ
ｍの凹凸状薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたと
ころ、凹凸状薄層のないときの内面反射率の2/5に低減
していた。
共重合体（１ｗｔ％水溶液）２５ｇと、水２０ｇから成
る組成物を用いて、実施例１と同条件で、深さ約0.2μ
ｍの凹凸状薄層の形成及び内面反射率測定を行なつたと
ころ、凹凸状薄層のないときの内面反射率の2/5に低減
していた。
実施例１０ 水ガラス８ｇとポリビニルアルコール（１０ｗｔ％水溶
液）7.5ｇと水34.5ｇから成る組成物をガラス板上に１
００ｒｐｍで回転塗布し、加熱乾燥後、水洗することに
よつて約0.8μｍの深さの凹凸状薄層を形成した。凹凸
状薄層を形成したガラス板の表面反射率を、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザを用いて測定したところ、凹凸状薄層のないガラ
スの表面反射率の１２％に低減していた。
液）7.5ｇと水34.5ｇから成る組成物をガラス板上に１
００ｒｐｍで回転塗布し、加熱乾燥後、水洗することに
よつて約0.8μｍの深さの凹凸状薄層を形成した。凹凸
状薄層を形成したガラス板の表面反射率を、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザを用いて測定したところ、凹凸状薄層のないガラ
スの表面反射率の１２％に低減していた。
本発明によれば、今まで困難であつた、ガラスの表面及
び内面反射を、安価な材料を用いて、しかも簡単な工程
（塗布−乾燥−水洗）で、低減できるのでガラスの内面
反射が問題となつている陰極線管、プラズマデイスプレ
イ管、液晶表示素子等の製品の品質向上に効果がある。
び内面反射を、安価な材料を用いて、しかも簡単な工程
（塗布−乾燥−水洗）で、低減できるのでガラスの内面
反射が問題となつている陰極線管、プラズマデイスプレ
イ管、液晶表示素子等の製品の品質向上に効果がある。
第１図歯、従来のガラス板の部分断面図、第２図は、本
発明のガラス板の部分断面図、第３図及び第４図は、本
発明を説明するための図である。 １…外来光、２…表面反射光、３…入射光、４…内面反
射光、５…透過光、６…反射光、７…散乱光、８…凹凸
状膜への入射光。
発明のガラス板の部分断面図、第３図及び第４図は、本
発明を説明するための図である。 １…外来光、２…表面反射光、３…入射光、４…内面反
射光、５…透過光、６…反射光、７…散乱光、８…凹凸
状膜への入射光。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭57−51221（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭44−11150（ＪＰ，Ｙ１) 実公 昭50−26277（ＪＰ，Ｙ１) 特許155661（ＪＰ，Ｃ２) 米国特許2490662（ＵＳ，Ａ)
Claims (14)
- 【請求項１】ガラス板で構成された表示面上にけい光体
膜を形成する工程と、上記けい光体膜側の面を内側にし
てデイスプレイを組み立てる工程を有するデイスプレイ
の製造方法において、上記表示面として、予め表面に凹
凸を有する無機物質層が形成されたものを用い、上記け
い光体膜は上記無機物質層上に形成され、上記無機物質
層は少なくとも上記ガラス板を準備する工程、ガラス又
は水溶性金属塩化物であってこれらを水に不溶化させた
ときに上記ガラスの屈折率に近い屈折率を有する無機物
質に変化する物質と、水溶性高分子化合物との水溶液を
上記ガラス板に塗布して塗膜とする工程、水ガラス又は
水溶性金属塩化物を水に不溶の無機物質に変化させる工
程、および上記水溶性高分子化合物を除去し上記無機物
質に凹凸を生ぜしめる工程により形成されたものである
ことを特徴とするデイスプレイの製造方法。 - 【請求項２】上記無機物質層の凹凸は、平均して０．０
７μｍ以上の深さに形成する特許請求の範囲第１項記載
のデイスプレイの製造方法。 - 【請求項３】上記無機物質層の凹凸は、平均して０．０
７μｍ以上１．５μｍ以下の深さに形成する特許請求の
範囲第１項記載のデイスプレイの製造方法。 - 【請求項４】上記無機物質層の凹凸は、平均して０．２
μｍ以上１．０μｍ以下の深さに形成する特許請求の範
囲第１項記載のデイスプレイの製造方法。 - 【請求項５】上記無機物質の屈折率は、上記ガラスの屈
折率に対して−０．４から＋０．６の範囲の値である特
許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか一項に記載の
デイスプレイの製造方法。 - 【請求項６】上記無機物質の屈折率は、上記ガラスの屈
折率に対して−０．３から＋０．４の範囲の値である特
許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか一項に記載の
デイスプレイの製造方法。 - 【請求項７】上記無機物質は、Ｓｉ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｉ
ｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，ＴｉおよびＺｒからなる群から選ばれ
た少なくとも１種の元素の酸化物または水酸化物からな
る特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれか一項に記
載のデイスプレイの製造方法。 - 【請求項８】上記無機物質はＳｉＯ２である特許請求の
範囲第７項記載のデイスプレイの製造方法。 - 【請求項９】ガラス板を準備する工程、水ガラス又は水
溶性金属塩化物であってこれらを水に不溶化させたとき
に上記ガラスの屈折率に近い屈折率を有する無機物質に
変化する物質と、水溶性高分子化合物との水溶液を上記
ガラス板に塗布して塗膜とする工程、水ガラス又は水溶
性金属塩化物を水に不溶の無機物質に変化させる工程、
上記水溶性高分子化合物を除去し上記無機物質に凹凸を
生ぜしめる工程を有することを特徴とするデイスプレイ
用ガラス板の製造方法。 - 【請求項１０】上記水に不溶の無機物質に変化させる工
程は、加熱することによって行なうものである特許請求
の範囲第９項記載のデイスプレイ用ガラス板の製造方
法。 - 【請求項１１】上記水に不溶の無機物質に変化させる工
程は、アルカリ蒸気にさらすことによって行なうもので
ある特許請求の範囲第９項記載のデイスプレイ用ガラス
板の製造方法。 - 【請求項１２】上記水に不溶の無機物質に変化する物質
は水ガラスである特許請求の範囲第９項記載のデイスプ
レイ用ガラス板の製造方法。 - 【請求項１３】上記水溶性高分子化合物はポリビニルア
ルコールである特許請求の範囲第９項乃至第１２項のい
ずれか一項に記載のデイスプレイ用ガラス板の製造方
法。 - 【請求項１４】上記水溶性高分子化合物と、上記水ガラ
スの固形分又は上記水溶性金属塩化物との比は、重量比
で３対９７から７５対２５の範囲にある特許請求の範囲
第９項乃至第１３項のいずれか一項に記載のデイスプレ
イ用ガラス板の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58184990A JPH0644464B2 (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 |
| KR1019840006123A KR850003370A (ko) | 1983-10-05 | 1984-10-04 | 디스플레이용 유리판 및 그 제조방법 |
| NL8403043A NL8403043A (nl) | 1983-10-05 | 1984-10-05 | Glasplaat voor presentatiedoeleinden en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke glasplaat. |
| DE19843436618 DE3436618A1 (de) | 1983-10-05 | 1984-10-05 | Glasplatte fuer anzeigevorrichtungen und verfahren zu ihrer herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58184990A JPH0644464B2 (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6077150A JPS6077150A (ja) | 1985-05-01 |
| JPH0644464B2 true JPH0644464B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=16162859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58184990A Expired - Fee Related JPH0644464B2 (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644464B2 (ja) |
| KR (1) | KR850003370A (ja) |
| DE (1) | DE3436618A1 (ja) |
| NL (1) | NL8403043A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3538167A1 (de) * | 1985-10-26 | 1987-04-30 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Farbbildwiedergabevorrichtung |
| GB2185140B (en) * | 1986-01-02 | 1989-10-25 | Rca Corp | Arrangement to minimize reflected ambient light in a display |
| EP0247599B1 (en) * | 1986-05-29 | 1993-08-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Anti-reflection plate for display device |
| JPH088080B2 (ja) * | 1986-12-24 | 1996-01-29 | 株式会社東芝 | 陰極線管及び陰極線管の製造方法 |
| DE3872084T2 (de) * | 1987-06-29 | 1992-12-03 | Asahi Keiki Seisakusho Ageo Kk | Zeichnungsapparat. |
| JP2735214B2 (ja) * | 1988-03-04 | 1998-04-02 | 株式会社東芝 | 表示装置の製造方法 |
| GB9119674D0 (en) * | 1991-09-14 | 1991-10-30 | Monymusk Land Comp | Cladding panels for the optimised transmission of electromagnetic including solar radiation |
| JPH05182510A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-23 | Asami Denki Kk | ワイヤ吊り装置 |
| DE69616757T2 (de) * | 1995-12-06 | 2002-08-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Verfahren zur herstellung eines mit metalloxid beschichteten glassubstrates und ein glassubstrat für eine elektronische anzeige |
| JP4430194B2 (ja) | 1999-05-31 | 2010-03-10 | 日本板硝子株式会社 | 透明積層体およびこれを用いたガラス物品 |
| JP2001060708A (ja) | 1999-06-18 | 2001-03-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透明積層体およびこれを用いたガラス物品 |
| JP2001060702A (ja) | 1999-06-18 | 2001-03-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光電変換装置用基板およびこれを用いた光電変換装置 |
| RU2686792C1 (ru) * | 2018-07-19 | 2019-04-30 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова" | Способ получения покрытия на блочном пеностекле |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2490662A (en) | 1946-09-21 | 1949-12-06 | Rca Corp | Skeletonizing glass |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE736411C (de) * | 1939-05-28 | 1943-06-19 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Verfahren zur AEnderung des Reflexionsvermoegens optischer Glaeser |
| AT232212B (de) * | 1960-12-23 | 1964-03-10 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Verfahren zum Herstellen lichtstreuender Überzüge auf festen Gegenständen, insbesondere Gläsern |
| DE1222629B (de) * | 1961-12-18 | 1966-08-11 | Claude Paz E Visseaux | Verfahren zur Aufbringung einer Leuchtstoff-schicht auf Glasoberflaechen |
| JPS4411150Y1 (ja) * | 1965-08-02 | 1969-05-08 | ||
| JPS5026277U (ja) * | 1973-07-03 | 1975-03-26 | ||
| US4273826A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-16 | Owens-Illinois, Inc. | Process of making glass articles having antireflective coatings and product |
| DE3141957A1 (de) * | 1981-10-22 | 1983-08-18 | Klaus Dr. 8264 Waldkraiburg Scholz | Verfahren und mittel zur beseitigung optischer reflexe auf glatten oberflaechen |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP58184990A patent/JPH0644464B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-10-04 KR KR1019840006123A patent/KR850003370A/ko not_active Application Discontinuation
- 1984-10-05 NL NL8403043A patent/NL8403043A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-10-05 DE DE19843436618 patent/DE3436618A1/de active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2490662A (en) | 1946-09-21 | 1949-12-06 | Rca Corp | Skeletonizing glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL8403043A (nl) | 1985-05-01 |
| DE3436618C2 (ja) | 1987-02-05 |
| JPS6077150A (ja) | 1985-05-01 |
| DE3436618A1 (de) | 1985-04-25 |
| KR850003370A (ko) | 1985-06-17 |
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