JPS63162549A - 光学薄膜を形成したガラス - Google Patents
光学薄膜を形成したガラスInfo
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- JPS63162549A JPS63162549A JP61308829A JP30882986A JPS63162549A JP S63162549 A JPS63162549 A JP S63162549A JP 61308829 A JP61308829 A JP 61308829A JP 30882986 A JP30882986 A JP 30882986A JP S63162549 A JPS63162549 A JP S63162549A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は耐摩耗性の高い光学多層薄膜を形成したガラス
に関し、建築用等の窓材、レンズ等の光学部品などに適
用されるものである。
に関し、建築用等の窓材、レンズ等の光学部品などに適
用されるものである。
〈従来の技術とその問題点〉
ガラスの表面を種々の薄膜で覆い、材料に所望の特性を
付加させることは公知であり、例えば、ガラス衣直にT
lO2膜を形成することによりガラスの赤外反射性を高
めた熱縁反射ガラスや、TiO□、5in2の交互多層
膜を形成することによりガラス表面の可視光線反射を減
じた無反射ガラスなどはよく知られるところである。
付加させることは公知であり、例えば、ガラス衣直にT
lO2膜を形成することによりガラスの赤外反射性を高
めた熱縁反射ガラスや、TiO□、5in2の交互多層
膜を形成することによりガラス表面の可視光線反射を減
じた無反射ガラスなどはよく知られるところである。
これらの薄膜は通常スパッタリング等のPVDやCvD
などの蒸着法により形成されることが多いが、近年金属
アルコキシドのゾル溶液を基板に塗装し、その加水分解
により酸化物膜とする技術(以下ゾル−ゲル法と呼ぶ)
が注目されている。この方法によれば前記蒸着法で得ら
れる薄膜以上にガラスとの付着性の良い酸化物薄膜を容
易に得ることができ、例えばSiO2、TiO2、Zr
O2、Al2O3あるいはB2O3などが特に有効な薄
膜材料として用いられる。
などの蒸着法により形成されることが多いが、近年金属
アルコキシドのゾル溶液を基板に塗装し、その加水分解
により酸化物膜とする技術(以下ゾル−ゲル法と呼ぶ)
が注目されている。この方法によれば前記蒸着法で得ら
れる薄膜以上にガラスとの付着性の良い酸化物薄膜を容
易に得ることができ、例えばSiO2、TiO2、Zr
O2、Al2O3あるいはB2O3などが特に有効な薄
膜材料として用いられる。
このゾル−ゲル法には特開昭56−63846号に開示
されるように所望の組成の金属酸化物の前駆体である金
属元素を含むアルコキシド溶液中に、ガラス基板を浸漬
した後一定速度で引き上げて塗膜を形成する引上法、た
てかけたガラス基板上部から溶液を流し拡げるオーバー
フロー法、ゴムロールにて溶液をガラス基板上に押し拡
げるローラーコート法、回転する基板上に液を滴下させ
て流延するスピンコード法あるいはオフセット印刷法、
スクリーン印刷法等があり、塗装後熱処理を行なうこと
によって、いずれも緻密かつ均質な酸化物薄膜を有する
ガラスが得られる。
されるように所望の組成の金属酸化物の前駆体である金
属元素を含むアルコキシド溶液中に、ガラス基板を浸漬
した後一定速度で引き上げて塗膜を形成する引上法、た
てかけたガラス基板上部から溶液を流し拡げるオーバー
フロー法、ゴムロールにて溶液をガラス基板上に押し拡
げるローラーコート法、回転する基板上に液を滴下させ
て流延するスピンコード法あるいはオフセット印刷法、
スクリーン印刷法等があり、塗装後熱処理を行なうこと
によって、いずれも緻密かつ均質な酸化物薄膜を有する
ガラスが得られる。
しかしながらこのようにして得られたガラスは単層膜を
形成した場合は、ガラス基板との密着性もよく強固な膜
となるが、異種の薄膜を積層し多層膜を形成した場合に
は、PVD法、OVD法はもとよりゾル−ゲル法におい
ても薄膜相互の密層性が充分に上りに<<、使用過程で
剥離し易いという欠点を有しておシ、実用上満足するま
でには至っていない。
形成した場合は、ガラス基板との密着性もよく強固な膜
となるが、異種の薄膜を積層し多層膜を形成した場合に
は、PVD法、OVD法はもとよりゾル−ゲル法におい
ても薄膜相互の密層性が充分に上りに<<、使用過程で
剥離し易いという欠点を有しておシ、実用上満足するま
でには至っていない。
なお、特開昭59−190240号にはガラス基板に物
理的、化学的手法、具体的にはスパッタリングあるいは
真空蒸着法により5102膜とC80□膜よシなる多層
膜を形成するにおいて、その層間にAl2O3、ZrO
2の少なくとも1種による拡散層を形成することにより
相互の密着性を向上させることが開示されているが、拡
散層とはいえ前記5102、CeO2とは異なる第3の
金属酸化物膜を形成することは、当然構造的、あるいは
熱特性等物性的に異質のものが介入することとなるから
光分密着性を向上し得るものではない。
理的、化学的手法、具体的にはスパッタリングあるいは
真空蒸着法により5102膜とC80□膜よシなる多層
膜を形成するにおいて、その層間にAl2O3、ZrO
2の少なくとも1種による拡散層を形成することにより
相互の密着性を向上させることが開示されているが、拡
散層とはいえ前記5102、CeO2とは異なる第3の
金属酸化物膜を形成することは、当然構造的、あるいは
熱特性等物性的に異質のものが介入することとなるから
光分密着性を向上し得るものではない。
本発明は、従来技術の欠点を解消し、ゾル−ゲル法で形
成する多層膜の膜相互の密着性を向上させ、実用上満足
し得る薄膜を形成したガラスを提供するものである。
成する多層膜の膜相互の密着性を向上させ、実用上満足
し得る薄膜を形成したガラスを提供するものである。
〈発明の構成〉
本発明は金属酸化物薄膜を積層形成したガラスにおいて
、少なくとも最外層とその内側の異種の金属酸化物薄膜
間にその中間組成を有する金4酸化物薄膜を介在させ、
かつこれら金属酸化物薄膜が金属アルコキシド溶液中膜
の加水分解による酸化物薄膜であることを特徴とし、前
記中間組成を有する金属酸化物薄膜が5i02、TiO
2、ZrO2、Al2O3、B2O3のいずれか二種以
上よりなるものである。
、少なくとも最外層とその内側の異種の金属酸化物薄膜
間にその中間組成を有する金4酸化物薄膜を介在させ、
かつこれら金属酸化物薄膜が金属アルコキシド溶液中膜
の加水分解による酸化物薄膜であることを特徴とし、前
記中間組成を有する金属酸化物薄膜が5i02、TiO
2、ZrO2、Al2O3、B2O3のいずれか二種以
上よりなるものである。
既述した多層膜において膜相互の密着性が不充分な理由
としては、同種の薄膜を積層した場合には、このような
不都合は認められず、積層する薄膜の組成が異なる場合
にのみ密着強度低下が生ずることから、薄膜相互の熱膨
張等物性の差が大きいこと、本質的に構造の異なる薄膜
間に光分な結合が形成されていないことなどが推察され
る。
としては、同種の薄膜を積層した場合には、このような
不都合は認められず、積層する薄膜の組成が異なる場合
にのみ密着強度低下が生ずることから、薄膜相互の熱膨
張等物性の差が大きいこと、本質的に構造の異なる薄膜
間に光分な結合が形成されていないことなどが推察され
る。
本発明者らは異種薄膜間の組成の差による種種の構造上
、物性上の差を緩和する中間層を形成することにより、
膜相互の密着性を向上できるという観点から鋭意検討の
結果、本発明を完成するに至ったものである。
一本発明の中間組成を有する金属酸化物薄膜とは、例示
すればTiO□薄膜と5i02薄膜を積層させるに際し
、それらの均一混合組成であるTi O2・SiO□薄
膜をその間に介在させ、したがってTiO2と5i02
が相互拡散した形で薄膜を形成させることをいう。特に
ゾル−ゲル法においてはチタニウム−アルコキシドとシ
リコン−アルコキシドの混合溶液の調製はきわめて容易
であるから結果として5102とTiO□が分子単位で
均一に混合した状態の薄膜が得られ、それはSiO□膜
、TiO2膜に良好に密着する。一方、例えばPvD法
によりこのような中間組成を有する金属薄膜を形成する
にはTiO□原料粉末と、5in2原料粉末を混合した
ものを蒸着処理する訳であるが、原料粉末の粒度には限
りがあり分子単位的に均一に混合することは不可能であ
って結果として微視的にTiO□粒とSiO□粒が不均
一に散在した状態となり、均一な中間組成的物性を得る
ことはできず、したがって密着性も充分とはいえない。
、物性上の差を緩和する中間層を形成することにより、
膜相互の密着性を向上できるという観点から鋭意検討の
結果、本発明を完成するに至ったものである。
一本発明の中間組成を有する金属酸化物薄膜とは、例示
すればTiO□薄膜と5i02薄膜を積層させるに際し
、それらの均一混合組成であるTi O2・SiO□薄
膜をその間に介在させ、したがってTiO2と5i02
が相互拡散した形で薄膜を形成させることをいう。特に
ゾル−ゲル法においてはチタニウム−アルコキシドとシ
リコン−アルコキシドの混合溶液の調製はきわめて容易
であるから結果として5102とTiO□が分子単位で
均一に混合した状態の薄膜が得られ、それはSiO□膜
、TiO2膜に良好に密着する。一方、例えばPvD法
によりこのような中間組成を有する金属薄膜を形成する
にはTiO□原料粉末と、5in2原料粉末を混合した
ものを蒸着処理する訳であるが、原料粉末の粒度には限
りがあり分子単位的に均一に混合することは不可能であ
って結果として微視的にTiO□粒とSiO□粒が不均
一に散在した状態となり、均一な中間組成的物性を得る
ことはできず、したがって密着性も充分とはいえない。
中間組成としての異種金属酸化物の比率はうニジないし
6:4が妥当であり、これを超えると構造的、物性的に
一方に偏り過ぎ、光分満足し得る密着性が得られない。
6:4が妥当であり、これを超えると構造的、物性的に
一方に偏り過ぎ、光分満足し得る密着性が得られない。
又、膜厚は特に限定するものではなく、異種の金属酸化
物薄膜間に介在し、相互に密着するうえで0.01μm
オーダ又はそれ以上あればよく、0.4μmを越える必
要はない。
物薄膜間に介在し、相互に密着するうえで0.01μm
オーダ又はそれ以上あればよく、0.4μmを越える必
要はない。
〈実施例および比較例〉
以下実施例および比較例に基づき本発明を詳述する。
(比較例1)
3wn厚のソーダ石灰ガラス基板上にゾル−ゲル法を用
い第1表に示すようなTiO□−8iO□−Ti02の
3層から成る薄膜系を形成した。TiO2の原料には市
販の試薬、チタニウム−テトライソプロポキシド[、T
i(OlSO(:!、H,)、:]を用いSin□の原
料には同じく市販の試薬、ケイ酸エチル(Si (OC
2Hs)4)を用いた。これらの金属アルコキシド1m
01に溶媒としてエタノールを2〜20 molの範囲
、加水分解用の蒸留水1〜20 molの範囲の割合で
適宜混合し少量の塩酸を加え粘度及び加水分解速度の調
整されたアルコキシド溶液を得た。マスキングテープで
片面のみマスキングしたガラスをチタニウム−アルコキ
シド溶液中に静かに浸漬した後、3〜+ 5 (:im
i nの範囲の適宜速度で引き上げて塗膜を形成した。
い第1表に示すようなTiO□−8iO□−Ti02の
3層から成る薄膜系を形成した。TiO2の原料には市
販の試薬、チタニウム−テトライソプロポキシド[、T
i(OlSO(:!、H,)、:]を用いSin□の原
料には同じく市販の試薬、ケイ酸エチル(Si (OC
2Hs)4)を用いた。これらの金属アルコキシド1m
01に溶媒としてエタノールを2〜20 molの範囲
、加水分解用の蒸留水1〜20 molの範囲の割合で
適宜混合し少量の塩酸を加え粘度及び加水分解速度の調
整されたアルコキシド溶液を得た。マスキングテープで
片面のみマスキングしたガラスをチタニウム−アルコキ
シド溶液中に静かに浸漬した後、3〜+ 5 (:im
i nの範囲の適宜速度で引き上げて塗膜を形成した。
このガラス基板からマスキングテープを除去し乾燥炉に
て200℃、5分間塗膜を乾燥後、再度マスク面をテー
プでマスキングし、次にシリコン−アルコキシド溶液さ
らにチタニウム−アルコキシド溶液にて同様の操作をく
り返した。この様にして3層から成る乾燥膜を形成後、
基板を600℃で2分間焼成し3層の酸化物膜形成ガラ
スとした。得られたガラスの膜厚と屈折率は第1表に示
すとおりである。
て200℃、5分間塗膜を乾燥後、再度マスク面をテー
プでマスキングし、次にシリコン−アルコキシド溶液さ
らにチタニウム−アルコキシド溶液にて同様の操作をく
り返した。この様にして3層から成る乾燥膜を形成後、
基板を600℃で2分間焼成し3層の酸化物膜形成ガラ
スとした。得られたガラスの膜厚と屈折率は第1表に示
すとおりである。
この薄膜系は、基板に垂直な入射光に対し、500〜5
10nmの波長で反射率およそ50%のピークを形成し
緑色のみを選択的に反射する選択反射鏡の特性を有して
いた。
10nmの波長で反射率およそ50%のピークを形成し
緑色のみを選択的に反射する選択反射鏡の特性を有して
いた。
極く薄い膜相互の密着性を測定するためには通例摩耗試
験が行なわれる。すなわち比較的硬度の小さい材料を膜
表面に面接し往復摺動させるものであり、繰返し摺動す
ることにより、膜間の結合度すなわち密着性の不充分な
ところからの剥離が生ずることとなり、したがって剥離
が生ずるまでの摺動回数から密着性が測定できる。
験が行なわれる。すなわち比較的硬度の小さい材料を膜
表面に面接し往復摺動させるものであり、繰返し摺動す
ることにより、膜間の結合度すなわち密着性の不充分な
ところからの剥離が生ずることとなり、したがって剥離
が生ずるまでの摺動回数から密着性が測定できる。
しかして前記反射鏡を摩耗試験機によシ#40の綿邪で
IooyA肩の荷重をかけ、I OCMの距離を30回
/min往復摺動させて摩耗テストを実施しだところ、
およそ1000回程度の摩耗で膜の剥離現象が生じた。
IooyA肩の荷重をかけ、I OCMの距離を30回
/min往復摺動させて摩耗テストを実施しだところ、
およそ1000回程度の摩耗で膜の剥離現象が生じた。
(災7殉例1)
第2表に示すような膜構成とし、比較例1のTlO2と
5102の間にそれぞれTiO2: 5in2のモル比
が1:1となるようなTiO2・SiO□混合膜を形成
するようにした。TiO2膜、EfiO□膜の調整は比
較例1と同様であり、混合膜はあらかじめ原料のチタニ
ウム−アルコキシドとシリコン−アルコキシドを酸化物
モル比でl:1となるように混合し、この混合アルコキ
シドに比較例1に示す調合範囲でエタノール、蒸留水、
少量の塩酸を加え調製した。塗膜操作は比較例1と同様
であり、第1層から順次第5層まで塗膜し加熱した。
5102の間にそれぞれTiO2: 5in2のモル比
が1:1となるようなTiO2・SiO□混合膜を形成
するようにした。TiO2膜、EfiO□膜の調整は比
較例1と同様であり、混合膜はあらかじめ原料のチタニ
ウム−アルコキシドとシリコン−アルコキシドを酸化物
モル比でl:1となるように混合し、この混合アルコキ
シドに比較例1に示す調合範囲でエタノール、蒸留水、
少量の塩酸を加え調製した。塗膜操作は比較例1と同様
であり、第1層から順次第5層まで塗膜し加熱した。
混合膜の屈折率はおよそ1.80〜1.85でTiO2
の屈折率2.20とSiO□の屈折率1.45のほぼ中
間の値を持ち混合時の屈折率に加成性が認められた。
の屈折率2.20とSiO□の屈折率1.45のほぼ中
間の値を持ち混合時の屈折率に加成性が認められた。
こうして得られた5層の薄膜系においても、基板に垂直
な入射光に対し500〜510nmの波長でおよそ50
%の反射ピークを有する緑色の選択反射鏡の特性を示し
た。
な入射光に対し500〜510nmの波長でおよそ50
%の反射ピークを有する緑色の選択反射鏡の特性を示し
た。
この反射鏡で比較例1と同様の摩耗テストを実施しだと
ころ、5000回の摩耗でも膜の剥離は認められず耐摩
耗性が格段と向上したことが認められた。
ころ、5000回の摩耗でも膜の剥離は認められず耐摩
耗性が格段と向上したことが認められた。
また第3表に示す様に、TiO□とSiO□の薄膜間で
最外層の内側のみに前記の混合膜を設けた薄膜系におい
ても緑色の選択反射性を示す反射鏡が得られ、5000
回の摩耗テストで最外層膜の表面の一部が削られて極く
わずか反射(透過)色調に変化が認められたものの剥離
は示さず、耐摩耗性が向上したことが確認された。これ
は最外層の膜厚にもよるが、最外層とその内側の層との
密着性の影響が大きいことを示唆している。
最外層の内側のみに前記の混合膜を設けた薄膜系におい
ても緑色の選択反射性を示す反射鏡が得られ、5000
回の摩耗テストで最外層膜の表面の一部が削られて極く
わずか反射(透過)色調に変化が認められたものの剥離
は示さず、耐摩耗性が向上したことが確認された。これ
は最外層の膜厚にもよるが、最外層とその内側の層との
密着性の影響が大きいことを示唆している。
(実施例2)
第4表に示すような5i02−5i02 ・ZrO2−
zro2の3層から成る薄膜系を形成した。5i02の
原料はケイ酸エチル、ZrO□の原料はジルコニウムテ
トラブトキシド〔zr(OC4H3)4〕であり文中間
組成物としてのZrO2、SiO□には酸化物モル比が
6:4となるように前記シリコンおよびジルコニウム−
アルコキシドを調整し、それぞれエタノール、水および
少量の塩酸を混合しアルコキシド溶液を調製した。塗膜
操作は実施例1と同様であり、第1層から順次第3層ま
で塗膜し加熱して3層膜を形成したガラスを得た。該膜
形成したガラスは約500n[付近の波長(緑色)の光
を選択的に反射する特性を有していた。これを実施例1
と同様に耐摩耗テストをしたところ5000回の摩耗で
も膜の剥離は認められなかった。
zro2の3層から成る薄膜系を形成した。5i02の
原料はケイ酸エチル、ZrO□の原料はジルコニウムテ
トラブトキシド〔zr(OC4H3)4〕であり文中間
組成物としてのZrO2、SiO□には酸化物モル比が
6:4となるように前記シリコンおよびジルコニウム−
アルコキシドを調整し、それぞれエタノール、水および
少量の塩酸を混合しアルコキシド溶液を調製した。塗膜
操作は実施例1と同様であり、第1層から順次第3層ま
で塗膜し加熱して3層膜を形成したガラスを得た。該膜
形成したガラスは約500n[付近の波長(緑色)の光
を選択的に反射する特性を有していた。これを実施例1
と同様に耐摩耗テストをしたところ5000回の摩耗で
も膜の剥離は認められなかった。
(比較例2)
比較のために第1衣とほぼ類似の薄膜系を真空蒸着法に
て成膜したガラスについても同様な摩耗テストを行なっ
たがおよそ1ooO回の摩耗にて色調の変化や剥離現象
が生じた。
て成膜したガラスについても同様な摩耗テストを行なっ
たがおよそ1ooO回の摩耗にて色調の変化や剥離現象
が生じた。
(比較例3)
さらに比較のために第3表と類似の薄膜系を真空蒸着法
にて成膜した。最外層のTiO2と第2層の5i02間
にはTlO2原料および51o2原料をモル比で1=1
となるように混合し、この混合粉末を真空蒸着に処しT
iO□・5102中間層を形成した。
にて成膜した。最外層のTiO2と第2層の5i02間
にはTlO2原料および51o2原料をモル比で1=1
となるように混合し、この混合粉末を真空蒸着に処しT
iO□・5102中間層を形成した。
こうして得られた薄膜形成ガラスについて同様に摩耗テ
ストを実施したが2000回の摩耗で剥離が生じた。
ストを実施したが2000回の摩耗で剥離が生じた。
〈発明の効果〉
以上詳述したように、本発明によればゾル−ゲル法によ
り光学薄膜を積層形成したガラスにおいて、これ迄欠点
とされていた光学薄膜の耐摩耗強度を飛躍的に向上させ
ることが可能となり、建築用、車輌用その他光学部品な
どとして実用に充分耐えることができるという効果を奏
するものである。
り光学薄膜を積層形成したガラスにおいて、これ迄欠点
とされていた光学薄膜の耐摩耗強度を飛躍的に向上させ
ることが可能となり、建築用、車輌用その他光学部品な
どとして実用に充分耐えることができるという効果を奏
するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)金属酸化物薄膜を積層形成したガラスにおいて、少
なくとも最外層とその内側の異種の金属酸化物薄膜間に
、その中間組成を有する金属酸化物薄膜を介在させ、か
つこれら金属酸化物薄膜が金属アルコキシド溶液塗膜の
加水分解による酸化物薄膜であることを特徴とする光学
薄膜を形成したガラス。 2)中間組成を有する金属酸化物薄膜がSiO_2、T
iO_2、ZrO_2、Al_2O_3、B_2O_3
のいずれか二種以上よりなることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の光学薄膜を形成したガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61308829A JPS63162549A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 光学薄膜を形成したガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61308829A JPS63162549A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 光学薄膜を形成したガラス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63162549A true JPS63162549A (ja) | 1988-07-06 |
Family
ID=17985804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61308829A Pending JPS63162549A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 光学薄膜を形成したガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63162549A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02253202A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Toshiba Glass Co Ltd | 光学膜 |
JPH05330856A (ja) * | 1992-06-01 | 1993-12-14 | Central Glass Co Ltd | 低反射ガラス |
US6340711B1 (en) | 1996-08-30 | 2002-01-22 | Showa Denko K.K. | Particles aqueous dispersion and film of titanium oxide and preparation thereof |
US6394613B1 (en) * | 1997-08-07 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-fogging and anti-reflection optical article |
JP2002234710A (ja) * | 2001-02-06 | 2002-08-23 | Nittetsu Mining Co Ltd | 金属酸化物膜およびその製造方法 |
CN102503168A (zh) * | 2011-09-23 | 2012-06-20 | 四川大学 | 镀有三层增透膜的太阳能电池封装玻璃及其制备方法 |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP61308829A patent/JPS63162549A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02253202A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Toshiba Glass Co Ltd | 光学膜 |
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US6479031B2 (en) | 1996-08-30 | 2002-11-12 | Showa Denko Kk | Particles, aqueous dispersion and film of titanium oxide, and preparation thereof |
US6774147B2 (en) | 1996-08-30 | 2004-08-10 | Showa Denko K.K. | Particles, aqueous dispersion and film of titanium oxide, and preparation thereof |
US7368183B2 (en) | 1996-08-30 | 2008-05-06 | Showa Denko K.K. | Particles, aqueous dispersion and film of titanium oxide, and preparation thereof |
US6394613B1 (en) * | 1997-08-07 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-fogging and anti-reflection optical article |
JP2002234710A (ja) * | 2001-02-06 | 2002-08-23 | Nittetsu Mining Co Ltd | 金属酸化物膜およびその製造方法 |
CN102503168A (zh) * | 2011-09-23 | 2012-06-20 | 四川大学 | 镀有三层增透膜的太阳能电池封装玻璃及其制备方法 |
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