JPH02253202A - 光学膜 - Google Patents
光学膜Info
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- JPH02253202A JPH02253202A JP1075988A JP7598889A JPH02253202A JP H02253202 A JPH02253202 A JP H02253202A JP 1075988 A JP1075988 A JP 1075988A JP 7598889 A JP7598889 A JP 7598889A JP H02253202 A JPH02253202 A JP H02253202A
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- optical film
- film
- aluminum oxide
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- titanium oxide
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- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は不均質性がなく、かつ適当に高い屈折率を有す
る光学膜を提供するものである。
る光学膜を提供するものである。
（従来の技術）
従来から多層反射防止膜において、高屈折率物質として
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ□）が幅広く使用されている
。しかしながら、酸化ジルコニウムは膜厚が厚くなるに
従って結晶性が進み（不均質性と称する。）、屈折率が
変化するという欠点を有する。このため第５図に示す３
Ｍ反射防止膜の場合理論的に得られる反射率曲線と実際
に真空蒸着法で得られた製品の反射率曲線とでは異なる
ことが多い。このことを第６図に示す。図は横軸に波長
をｎ１１の単位でとり、縦軸に反射率を％の単位でとっ
たもので、実線は実際の製品の分光反射率曲線。
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ□）が幅広く使用されている
。しかしながら、酸化ジルコニウムは膜厚が厚くなるに
従って結晶性が進み（不均質性と称する。）、屈折率が
変化するという欠点を有する。このため第５図に示す３
Ｍ反射防止膜の場合理論的に得られる反射率曲線と実際
に真空蒸着法で得られた製品の反射率曲線とでは異なる
ことが多い。このことを第６図に示す。図は横軸に波長
をｎ１１の単位でとり、縦軸に反射率を％の単位でとっ
たもので、実線は実際の製品の分光反射率曲線。
破線は理論的に計算した分光反射率曲線を示し、両回線
には大きな差がある。
には大きな差がある。
このため、このような酸化ジルコニウムの不均質性をな
くすため、酸化ジルコニウムに酸化チタン（Ｔｉｅ、
）を添加して酸化ジルコニウムの不均質性を除去する手
段が採用された。
くすため、酸化ジルコニウムに酸化チタン（Ｔｉｅ、
）を添加して酸化ジルコニウムの不均質性を除去する手
段が採用された。
（発明が解決しようとする課題）
上記酸化ジルコニウムに酸化チタンを添加してなる光学
膜は酸化ジルコニウムを主成分とするため、不均質性を
完全に除去することができず、未だ不満足なものであっ
た。
膜は酸化ジルコニウムを主成分とするため、不均質性を
完全に除去することができず、未だ不満足なものであっ
た。
そこで、本発明の課題は不均質性がなくかつ適当に高い
屈折率を有する光学膜を提供することである。
屈折率を有する光学膜を提供することである。
（課題を解決するための手段）
本発明は基体上に酸化アルミニウム（ＡＬ Ｏａ ）が
１５〜８０重量％、残余が酸化チタン（ＴｉＯｘ ）か
らなる薄膜を形成したことにより不均質性がなく、かつ
屈折率が適当に高い光学膜を提供するものである。
１５〜８０重量％、残余が酸化チタン（ＴｉＯｘ ）か
らなる薄膜を形成したことにより不均質性がなく、かつ
屈折率が適当に高い光学膜を提供するものである。
（作 用）
酸化チタンはたとえば酸素雰囲気中で蒸着することによ
り、不均質のない良好な光学膜が得られる。しかしなが
ら酸化チタンは屈折率ｎが２．３５で酸化ジルコニウム
の屈折率ｎの２．０５よりはるかに高く、通常、多層反
射防止膜など特殊な用途には不適当である。そこで、化
学的耐久性が優れ、不均質性がなく、屈折率ｎが１．６
０である酸化アルミニウムを適量添加して酸化ジルコニ
ウムと同程度の屈折率ｎを有し、不均質性のない光学膜
を得た。
り、不均質のない良好な光学膜が得られる。しかしなが
ら酸化チタンは屈折率ｎが２．３５で酸化ジルコニウム
の屈折率ｎの２．０５よりはるかに高く、通常、多層反
射防止膜など特殊な用途には不適当である。そこで、化
学的耐久性が優れ、不均質性がなく、屈折率ｎが１．６
０である酸化アルミニウムを適量添加して酸化ジルコニ
ウムと同程度の屈折率ｎを有し、不均質性のない光学膜
を得た。
（実施例）
以下１本発明の詳細を実施例によって説明する。
本発明者は真空蒸着法により、硬質ガラス製板状基体表
面に酸化チタンと酸化アルミニウムとを混合被着して両
酸化物の割合いが種々異なる多くの光学膜を形成し、膜
組成と屈折率との関係を調査した。まず、蒸着条件を次
に示す。
面に酸化チタンと酸化アルミニウムとを混合被着して両
酸化物の割合いが種々異なる多くの光学膜を形成し、膜
組成と屈折率との関係を調査した。まず、蒸着条件を次
に示す。
１、真空度 ｌＸｌ０−’〜５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ（
酸素導入）２、基板温度 ２５０〜３００℃ ３、蒸発源 電子ビーム ４、蒸発剤 両酸化物の混合物 このようにして得られた光学膜につき屈折率ｎを測定し
、この結果を第１図に示す。図は横軸に酸化チタンと酸
化アルミニウムとの合計を１００とする酸化アルミニウ
ムの含有比を重量％でとり、縦軸に屈折率ｎをとったも
ので、曲線は関連を示す０図において、酸化アルミニウ
ムが１５ないし８０重量％の範囲において、含有比と屈
折率とが直線的に比例することが判明した。このことか
ら、酸化ジルコニウムと同じ屈折率２．０５を得るには
酸化チタン６２重量％、酸化アルミニウム３８重量％の
含有比に構成すればよいことが解る。
酸素導入）２、基板温度 ２５０〜３００℃ ３、蒸発源 電子ビーム ４、蒸発剤 両酸化物の混合物 このようにして得られた光学膜につき屈折率ｎを測定し
、この結果を第１図に示す。図は横軸に酸化チタンと酸
化アルミニウムとの合計を１００とする酸化アルミニウ
ムの含有比を重量％でとり、縦軸に屈折率ｎをとったも
ので、曲線は関連を示す０図において、酸化アルミニウ
ムが１５ないし８０重量％の範囲において、含有比と屈
折率とが直線的に比例することが判明した。このことか
ら、酸化ジルコニウムと同じ屈折率２．０５を得るには
酸化チタン６２重量％、酸化アルミニウム３８重量％の
含有比に構成すればよいことが解る。
つぎに、この含有比の酸化物を用い、第２図に示す３層
反射膜に構成した。このものは硬質ガラス板表面にガラ
ス板側から順に酸化アルミニウム膜、上述した酸化チタ
ン６２重量％、酸化アルミニウム３８重量％からなる光
学膜およびふっ化マグネシウム−を順に積層したもので
、第５図に示した従来の３層反射防止膜の酸化ジルコニ
ウム膜をそのまま上述の光学膜に置き換えたものである
。この第２図の３層反都防止膜の反射率特性を第３図に
示す０図は横軸に波長をｎ■の単位でとり、縦軸に反射
率Ｒを％の単位で取ったもので１曲線は分光反射率曲線
を示す、この第３図から本発明の光学膜を用いたものの
分光反射率特性は第６図に示した理論的な分光反射率特
性と極めて良く一致し区別が付は難いことが解る。この
ことはこの３層反射防止膜を構成する各膜、特に酸化チ
タンと酸化アルミニウムとからなる光学膜の不均質性が
なく、またこの光学膜の屈折率が酸化ジルコニウムの屈
折率に極めて近似していることを示している。
反射膜に構成した。このものは硬質ガラス板表面にガラ
ス板側から順に酸化アルミニウム膜、上述した酸化チタ
ン６２重量％、酸化アルミニウム３８重量％からなる光
学膜およびふっ化マグネシウム−を順に積層したもので
、第５図に示した従来の３層反射防止膜の酸化ジルコニ
ウム膜をそのまま上述の光学膜に置き換えたものである
。この第２図の３層反都防止膜の反射率特性を第３図に
示す０図は横軸に波長をｎ■の単位でとり、縦軸に反射
率Ｒを％の単位で取ったもので１曲線は分光反射率曲線
を示す、この第３図から本発明の光学膜を用いたものの
分光反射率特性は第６図に示した理論的な分光反射率特
性と極めて良く一致し区別が付は難いことが解る。この
ことはこの３層反射防止膜を構成する各膜、特に酸化チ
タンと酸化アルミニウムとからなる光学膜の不均質性が
なく、またこの光学膜の屈折率が酸化ジルコニウムの屈
折率に極めて近似していることを示している。
しかも、５回にわたり同じ膜構成で成膜し、同様にして
分光反射率特性を調査したところ、いずれも同じ特性を
得た。
分光反射率特性を調査したところ、いずれも同じ特性を
得た。
つぎに、上記第２１に示した３層反射防止膜において、
第１層である酸化アルミニウム膜の代りに酸化チタン２
０重量％、酸化アルミニウム８０重量％からなる光学膜
に置き換えた。この第１層の光学膜の屈折率ｎを第１図
から引けば１．６３となり、これは酸化アルミニウムの
屈折率１．６０よりわずかに高い、そこで、この３層反
射防止膜の分光反射率特性を調査し、その結果を第４・
図に示した６図は横軸に波長をｎ論の単位でとり、縦軸
に反射率Ｒを％の単位でとったもので、曲線は分光反射
率曲線を示す、この第４図から解るように、第１層の酸
化アルミニウム膜を上述の酸化チタン２０重量％、酸化
アルミニウム８０重量％からなる光学膜に置換えたこと
により、第１層の屈折率ｎが向上して反射防止効果が改
善された。しかも、この第１層も不均質性がほとんどな
かった。
第１層である酸化アルミニウム膜の代りに酸化チタン２
０重量％、酸化アルミニウム８０重量％からなる光学膜
に置き換えた。この第１層の光学膜の屈折率ｎを第１図
から引けば１．６３となり、これは酸化アルミニウムの
屈折率１．６０よりわずかに高い、そこで、この３層反
射防止膜の分光反射率特性を調査し、その結果を第４・
図に示した６図は横軸に波長をｎ論の単位でとり、縦軸
に反射率Ｒを％の単位でとったもので、曲線は分光反射
率曲線を示す、この第４図から解るように、第１層の酸
化アルミニウム膜を上述の酸化チタン２０重量％、酸化
アルミニウム８０重量％からなる光学膜に置換えたこと
により、第１層の屈折率ｎが向上して反射防止効果が改
善された。しかも、この第１層も不均質性がほとんどな
かった。
なお、上述の実施例においては酸化チタンと酸化アルミ
ニウムとを同時に真空蒸着して光学膜を形成したが１本
発明はこれに限らず他の製造方法、たとえば有機金属化
合物の塗布焼成方法や気相分解生長法などでもよい、ま
た、得られた本発明の光学膜の用途には限定がされない
。
ニウムとを同時に真空蒸着して光学膜を形成したが１本
発明はこれに限らず他の製造方法、たとえば有機金属化
合物の塗布焼成方法や気相分解生長法などでもよい、ま
た、得られた本発明の光学膜の用途には限定がされない
。
このように１本発明の光学膜は基体上に酸化アルミニウ
ムが１５〜８０重量％で残余が酸化チタンからなる薄膜
を形成したので不均質性のほとんどない適当屈折率の光
学膜を形成でき、反射防止膜など多様な用途に適する。
ムが１５〜８０重量％で残余が酸化チタンからなる薄膜
を形成したので不均質性のほとんどない適当屈折率の光
学膜を形成でき、反射防止膜など多様な用途に適する。
第１図は本発明の光学膜の一実施例の酸化アルミニウム
の含有量と屈折率ｎとの関係を示すグラフ、第２図は上
記実施例光学膜の適用例の模型的拡大断面図、第３図は
この適用例の分光反射率特性を示すグラフ、第４図は他
の適用例の分光反射率特性を示すグラフ、第５図は従来
の光学膜の一適用例の模型的拡大断面図、第６図は同じ
く分光反射率特性を示すグラフである。 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 〒皮表 （ｎｍ） 第 図 ７反問 （ｎｍ） 第 図 −Ａ１２０３ 言１比 （土量２） 波長 （ｔｌ ｍ ）
の含有量と屈折率ｎとの関係を示すグラフ、第２図は上
記実施例光学膜の適用例の模型的拡大断面図、第３図は
この適用例の分光反射率特性を示すグラフ、第４図は他
の適用例の分光反射率特性を示すグラフ、第５図は従来
の光学膜の一適用例の模型的拡大断面図、第６図は同じ
く分光反射率特性を示すグラフである。 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 〒皮表 （ｎｍ） 第 図 ７反問 （ｎｍ） 第 図 −Ａ１２０３ 言１比 （土量２） 波長 （ｔｌ ｍ ）
Claims (1)
- 基体上に酸化アルミニウムが１５ないし８０重量％で残
余が酸化チタンからなる薄膜を形成したことを特徴とす
る光学膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1075988A JPH02253202A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光学膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1075988A JPH02253202A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光学膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02253202A true JPH02253202A (ja) | 1990-10-12 |
Family
ID=13592157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1075988A Pending JPH02253202A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光学膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02253202A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626721B2 (ja) * | 1973-03-05 | 1981-06-20 | ||
| JPS6128027A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-07 | Howa Mach Ltd | 紡糸製造装置 |
| JPS63162549A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-06 | Central Glass Co Ltd | 光学薄膜を形成したガラス |
-
1989
- 1989-03-28 JP JP1075988A patent/JPH02253202A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626721B2 (ja) * | 1973-03-05 | 1981-06-20 | ||
| JPS6128027A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-07 | Howa Mach Ltd | 紡糸製造装置 |
| JPS63162549A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-06 | Central Glass Co Ltd | 光学薄膜を形成したガラス |
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