JP3517264B2 - 耐湿性反射防止膜 - Google Patents
耐湿性反射防止膜Info
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Description
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品に好適な反射防止膜に関する。 【０００２】 【従来技術及びその問題点】従来、光学機器を構成する
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
としては、例えば、低屈折率材料としてＭｇＦ2 、高屈
折率材料としてＺｒＯ2 を用いた２層反射防止膜が用い
られており、ＢＫ７（屈折率１．５２）光学ガラス基板
上に設計波長５５０ｎｍで光学膜厚約２１６ｎｍのＺｒ
Ｏ2 から成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＭｇＦ
2 から成る第二層を順次形成した反射防止膜が使用され
てきた。 【０００３】しかしながら、このような従来の反射防止
膜は、その表面に水滴が生じるような高湿度雰囲気で
は、水滴が長時間かけて蒸発した場合に水滴が存在した
部分に白い曇り状のフローマークが残り、このフローマ
ークはアルコール等の溶剤で拭き取っても簡単には落ち
ないという問題点があった。 【０００４】 【発明の目的】本発明は、上記の従来技術の問題点を解
消し、高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に
蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることがで
きる反射防止膜を提供することを目的とする。 【０００５】 【発明の概要】本発明は、反射防止膜を耐湿性の高い材
料から構成し、大気側の最外層を特定の高屈折率材料か
ら構成することによって上記目的を達成したものであ
る。すなわち、本発明の耐湿性反射防止膜は、光学ガラ
ス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であ
って、ＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る高屈折率材料層
と、ＳｉＯ2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側
最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする。 【０００６】反射防止膜を構成する材料を検討するた
め、様々な高屈折率材料及び低屈折率材料を用いて光学
ガラス（ＢＫ７ガラス）基板上に光学膜厚約１４０ｎｍ
の膜を真空蒸着法によって形成し、各膜面の耐湿試験を
行なった。すなわち、膜面に純水から成る水滴を載せ、
温度６５℃、相対湿度９５％の雰囲気中に１４時間放置
した後、その膜面の外観を観察した。次いで、その膜面
をアルコールで拭き取り、膜面の外観を評価した。外観
は、下記の基準で評価し、結果を表１に示す。 【０００７】水滴蒸発後の外観 ×：大きなフローマークが残る。 △：小さなフローマークが多数残る。 ○：小さなフローマークが残る。 アルコール拭き取り後の外観 ×：変化なし。 △：フローマークが薄く残る。 ○：フローマークが殆ど見えない。 ◎：フローマークは見えない。 【０００８】 【表１】 【０００９】反射防止膜を形成するには、高屈折率材料
と低屈折率材料との最低２種類の組合せが必要であり、
表１中の高屈折率材料はＡｌ2 Ｏ3 、Ｙ2 Ｏ3 、ＨｆＯ
2 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 であり、低屈折
率材料はＳｉＯ2 及びＭｇＦ2 である。したがって、耐
湿性の優れたコート材料としては、表１から高屈折率材
料としてはＨｆＯ2 及びＴａ2 Ｏ5 が好適であり、低屈
折率材料としてはＳｉＯ2 が好適であることが判る。ま
た、従来、反射防止膜の構成は、通常、大気側最外層を
低屈折率材料とするのが一般的であるが、表１に示した
耐湿試験の結果から、低屈折率材料のＳｉＯ2 よりは、
高屈折率材料のＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5を最外層とする
ことが好ましいことが判る。 【００１０】本発明の反射防止膜は、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム
アシスト法など、任意の方法で形成することができる。
各層に好適な膜厚は、使用した光学ガラス基板、各層の
材料の種類などに応じて適宜選定することができる。 【００１１】 【００１２】具体的には、本発明は、光学ガラス基板上
に、設計波長５５０ｎｍで光学膜厚１５０〜４７０ｎｍ
のＨｆＯ２ 又はＴａ２ Ｏ５ から成る第一層、光学
膜厚４５〜１５０ｎｍのＳｉＯ２ から成る第二層、光
学膜厚６５〜２００ｎｍのＨｆＯ２ 又はＴａ２ Ｏ５
から成る第三層、光学膜厚４０〜１２０ｎｍのＳｉＯ
２ から成る第四層及び光学膜厚２０〜１００ｎｍのＨ
ｆＯ２ 又はＴａ２ Ｏ５ から成る第五層を順次形成
して構成された反射防止膜を提供するものである。 【００１３】 【作用】耐湿性の優れたＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 を高屈
折率材料とし、耐湿性の比較的優れたＳｉＯ2 を低屈折
率材料として用いて反射防止膜を構成し、さらに大気側
最外層にＳｉＯ2 より耐湿性の優れた高屈折率材料のＨ
ｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 を使用することにより、優れた耐
湿性を有する反射防止膜が得られる。 【００１４】 【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。 【００１５】参考例 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚約１２１ｎｍのＨｆ
Ｏ２ から成る第一層、光学膜厚約７３ｎｍのＳｉＯ
２ から成る第二層及び光学膜厚約５０ｎｍのＨｆＯ
２ から成る第三層を順次形成して反射防止膜を作製し
た。 【００１６】実施例１ 屈折率１．５２のＢＫ光学ガラス基板を２５０℃に加熱
し、真空蒸着装置により光学膜厚約２９８ｎｍのＴａ
２ Ｏ５ から成る第一層、光学膜厚約９０ｎｍのＳｉ
Ｏ２ から成る第二層、光学膜厚約１２６ｎｍのＴａ
２ Ｏ５ から成る第三層、光学膜厚約７５ｎｍのＳｉ
Ｏ２ から成る第四層及び光学膜厚約５３ｎｍの又はＴ
ａ２ Ｏ５ から成る第五層を順次形成して反射防止膜
を作製した。 【００１７】比較例１ 屈折率１．５２のＢＫガラス基板を２５０℃に加熱し、
真空蒸着装置により光学膜厚約２１６ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＭｇＦ2 から
成る第二層を順次形成して反射防止膜を作製した。 【００１８】比較例２ 屈折率１．５２のＢＫガラス基板を２５０℃に加熱し、
真空蒸着装置により光学膜厚約２１６ｎｍのＨｆＯ2 か
ら成る第一層及び光学膜厚約１０８ｎｍのＳｉＯ2 から
成る第二層を順次形成して反射防止膜を作製した。 【００１９】上記の実施例及び比較例で得た各反射防止
膜の分光反射率特性を測定し、それぞれ図１〜図４に示
す。いずれも設計波長５５０ｎｍを中心に波長幅４５〜
９７ｎｍで反射率０．５％以下という反射防止特性を示
していることが判る。 【００２０】耐湿試験 上記の実施例及び比較例で得た各反射防止膜上に純水か
ら成る水滴を載せ、温度６５℃、相対湿度９５％、１４
時間の耐湿試験を行い、結果を表２に示す。なお、評価
方法及び評価基準は、前記と同じである。 【００２１】 【表２】 【００２２】表２に示した結果から明らかなとおり、本
発明の反射防止膜は、従来の反射防止膜に比較して著し
く耐湿性に優れている。 【００２３】 【発明の効果】本発明の反射防止膜は、高い反射防止効
果を有するとともに、優れた耐湿性を有しているので、
高湿度雰囲気で用いられる光学部品への反射防止膜に最
適である。
図である。 【図２】実施例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。 【図３】比較例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。 【図４】比較例２で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎ
ｍで光学膜厚１５０〜４７０ｎｍのＨｆＯ２ 又はＴａ
２ Ｏ５ から成る第一層、光学膜厚４５〜１５０ｎｍ
のＳｉＯ２ から成る第二層、光学膜厚６５〜２００ｎ
ｍのＨｆＯ２ 又はＴａ２ Ｏ５ から成る第三層、光
学膜厚４０〜１２０ｎｍのＳｉＯ２ から成る第四層及
び光学膜厚２０〜１００ｎｍのＨｆＯ２ 又はＴａ２
Ｏ５ から成る第五層を順次形成して構成されたことを
特徴とする耐湿性反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02543094A JP3517264B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 耐湿性反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02543094A JP3517264B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 耐湿性反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07234302A JPH07234302A (ja) | 1995-09-05 |
| JP3517264B2 true JP3517264B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=12165764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02543094A Expired - Lifetime JP3517264B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 耐湿性反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3517264B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1810609B1 (en) | 2004-10-01 | 2013-12-04 | Hoya Corporation | Lens for intraocular observation and contact lens for vitreous operation |
| JP5022654B2 (ja) * | 2006-09-25 | 2012-09-12 | パナソニック株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
| JP5358300B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2013-12-04 | 株式会社トプコン | 反射防止膜を有する光学素子及び医療用光学機器 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP02543094A patent/JP3517264B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07234302A (ja) | 1995-09-05 |
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