JPH03246501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH03246501A JPH03246501A JP2042337A JP4233790A JPH03246501A JP H03246501 A JPH03246501 A JP H03246501A JP 2042337 A JP2042337 A JP 2042337A JP 4233790 A JP4233790 A JP 4233790A JP H03246501 A JPH03246501 A JP H03246501A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、OA機器や光通信、光情報処理、光応用製造
装置や測定器あるいはカメラなどの光学機器等を構成す
る光学部品に対して施される反射防止膜に関する。
装置や測定器あるいはカメラなどの光学機器等を構成す
る光学部品に対して施される反射防止膜に関する。
従来からレンズ、プリズムなどの光学部品に対しては、
有害な表面反射を低減させるために反射防止層を設ける
ことが一般に行われている。
有害な表面反射を低減させるために反射防止層を設ける
ことが一般に行われている。
特にレーザ応用光学部品に対しては反射防止が重要であ
り、たとえばその表面にMgF2からなる単層構成の反
射防止膜、あるいは高屈折率の材料と低屈折率の材料と
からなる2層構成のVコートと呼ばれる低反射を目的と
した反射防止膜が施されることが普通である。
り、たとえばその表面にMgF2からなる単層構成の反
射防止膜、あるいは高屈折率の材料と低屈折率の材料と
からなる2層構成のVコートと呼ばれる低反射を目的と
した反射防止膜が施されることが普通である。
上記のような構成の反射防止膜にあっては、MgF2等
の単層構成の場合には反射率が1.3%以上であって、
反射防止膜としての性能が充分でない。
の単層構成の場合には反射率が1.3%以上であって、
反射防止膜としての性能が充分でない。
また2層構成の場合には、中心波長域での反射率を0.
2%以下にすることが可能であるものの、ここから離れ
た波長域では反射率が急激に増大するという問題があっ
た。
2%以下にすることが可能であるものの、ここから離れ
た波長域では反射率が急激に増大するという問題があっ
た。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、広い
波長域にわたって優れた反射防止特性を有する反射防止
膜を提供することを目的としたものである。
波長域にわたって優れた反射防止特性を有する反射防止
膜を提供することを目的としたものである。
かかる本発明の目的は、屈折率が1.60〜1.64の
範囲内にある誘電体材料からなる第1層と、LazO3
+ Ndz03またはY2O3からなる第2層と、Mg
F2またはSin、からなる第3層とを、光学部品の表
面側から順次積層してなる光学部品の反射防止膜によっ
て達成することができる。
範囲内にある誘電体材料からなる第1層と、LazO3
+ Ndz03またはY2O3からなる第2層と、Mg
F2またはSin、からなる第3層とを、光学部品の表
面側から順次積層してなる光学部品の反射防止膜によっ
て達成することができる。
本発明の反射防止膜を光学部品の表面上に形成するには
、まず第1層として、たとえば真空蒸着法やイオンブレ
ーティング法などの薄膜形成技術を用いて、屈折率が1
.60〜1.64の範囲内にある誘電体材料からなる層
を光学部品の表面上に形成する。このような第1層とし
て用いるに適した誘電体材料としては、例えばAl2O
:lとZrO,との混合物、NdF、、CeF 、、L
aF3などを挙げることができる。
、まず第1層として、たとえば真空蒸着法やイオンブレ
ーティング法などの薄膜形成技術を用いて、屈折率が1
.60〜1.64の範囲内にある誘電体材料からなる層
を光学部品の表面上に形成する。このような第1層とし
て用いるに適した誘電体材料としては、例えばAl2O
:lとZrO,との混合物、NdF、、CeF 、、L
aF3などを挙げることができる。
次にこの第1層に重ねて、同様な方法によってLaz0
3. Na2o3またはY2O3からなる第2層を形成
し、更にその上にMgF2またはSiO□からなる第3
層を同様にして順次に形成する方法によるのがよい。
3. Na2o3またはY2O3からなる第2層を形成
し、更にその上にMgF2またはSiO□からなる第3
層を同様にして順次に形成する方法によるのがよい。
このようにして形成された反射防止膜は第1図に示すよ
うに、光学部品aの上に第1Nb、第2層C1第3層d
の順に積層構造をとっている。
うに、光学部品aの上に第1Nb、第2層C1第3層d
の順に積層構造をとっている。
上記のようにして形成された本発明の反射防止膜は、耐
久性の優れた成膜材料を用いて、広い波長域にわたって
安定した光学特性を有するものである。
久性の優れた成膜材料を用いて、広い波長域にわたって
安定した光学特性を有するものである。
〔実施例1〕
光学硝子部品(BK7、屈折率:1.51)を精密洗浄
したのち真空蒸着装置内に取り付け、装置内を排気しな
がら部品を約300℃に加熱し、真空度2X10−’
トールの条件下で、電子ビームを用いてAha3とZ
rO2との混合物(■オプトロン製、0M−4、屈折率
:1.64)を光学的膜厚が195nmとなるように蒸
着した。この膜厚は波長λが850nmの光に対して0
.23λに相当するものである。
したのち真空蒸着装置内に取り付け、装置内を排気しな
がら部品を約300℃に加熱し、真空度2X10−’
トールの条件下で、電子ビームを用いてAha3とZ
rO2との混合物(■オプトロン製、0M−4、屈折率
:1.64)を光学的膜厚が195nmとなるように蒸
着した。この膜厚は波長λが850nmの光に対して0
.23λに相当するものである。
次に同様な方法で上記の第1層の上に、La20.1(
屈折率:1.8)の第2層を同様に光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記の第2
層の上に、MgFz(7屈折率:1.37)の第3層を
同様に光学的膜厚が195nmとなるように蒸着して、
3層構成の反射防止膜を得た。
屈折率:1.8)の第2層を同様に光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記の第2
層の上に、MgFz(7屈折率:1.37)の第3層を
同様に光学的膜厚が195nmとなるように蒸着して、
3層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第1図に示すが、700〜900nmの波長域
にわたって反射率が0.25%以下であった。
た結果を第1図に示すが、700〜900nmの波長域
にわたって反射率が0.25%以下であった。
〔実施例2〕
実施例1と同様な光学硝子部品の表面に、実施例1と同
様な方法に従って、NdFz(屈折率:1.6)の第1
層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着した。
様な方法に従って、NdFz(屈折率:1.6)の第1
層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着した。
次に同様な方法で上記の第1層の上に、Nd203(屈
折率:1.79)の第2層を同様に光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着し、更に上記の第2層の上に、実
施例1と同様なMgF2の第3層を光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着して、3層構成の反射防止膜を得
た。
折率:1.79)の第2層を同様に光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着し、更に上記の第2層の上に、実
施例1と同様なMgF2の第3層を光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着して、3層構成の反射防止膜を得
た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第2図に示すが、700〜9゜Onmの波長域
にわたって反射率が0.47%以下であった。
た結果を第2図に示すが、700〜9゜Onmの波長域
にわたって反射率が0.47%以下であった。
〔実施例3〕
実施例1と同様な光学硝子部品の表面に、実施例1と同
様な方法に従って、CeF z (屈折率=1.61)
の第1層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着し
た。
様な方法に従って、CeF z (屈折率=1.61)
の第1層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着し
た。
次に同様な方法で上記の第1層の上に、Y2O。
(屈折率:1.83)の第2層を同様に光学的膜厚が1
95r+mとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記
の第2層の上に、5rOz (屈折率:1.45)の第
3層を同様に光学的膜厚が195nmとなるように蒸着
して、3層構成の反射防止膜を得た。
95r+mとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記
の第2層の上に、5rOz (屈折率:1.45)の第
3層を同様に光学的膜厚が195nmとなるように蒸着
して、3層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第3図に示すが、700〜900nmの波長域
にわたって反射率が0.6%以下であった。
た結果を第3図に示すが、700〜900nmの波長域
にわたって反射率が0.6%以下であった。
〔比較例1〕
実施例1と同様な光学硝子部品の表面に、実施例1と同
様な方法に従って、MgF20層を光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着して、反射防止膜を形成した。
様な方法に従って、MgF20層を光学的膜厚が195
nmとなるように蒸着して、反射防止膜を形成した。
こうして得た単層構成の反射防止膜について分光反射特
性を測定した結果は、第4回に示すように分光反射率が
1.3%以上であった。
性を測定した結果は、第4回に示すように分光反射率が
1.3%以上であった。
〔比較例2〕
実施例1と同様な光学硝子部品の表面に、実施例Iと同
様にしてA1□03とZrO2との混合物を光学的膜厚
が195t+mとなるように蒸着した。
様にしてA1□03とZrO2との混合物を光学的膜厚
が195t+mとなるように蒸着した。
次に同様な方法で上記の第1層の上に、MgF、の第2
層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着して、2
層構成の反射防止膜を得た。
層を光学的膜厚が195nmとなるように蒸着して、2
層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た2層構成の反射防止膜について分光反射特
性を測定したところ、第5図に示すように、反射率は中
心波長の780nm付近では約0.1%であるものの、
中心波長から外れると急激に悪化している。
性を測定したところ、第5図に示すように、反射率は中
心波長の780nm付近では約0.1%であるものの、
中心波長から外れると急激に悪化している。
本発明の反射防止膜は、広い波長域の範囲にわたって残
存反射率が小さいのみならず、膜材料として耐久性の良
いものを用いているので、安定した光学特性を維持する
ことができる。
存反射率が小さいのみならず、膜材料として耐久性の良
いものを用いているので、安定した光学特性を維持する
ことができる。
第1図は本発明の反射防止膜の構造を示す断面図である
。 第2図ないし第4図はそれぞれ本発明の実施例工ないし
実施例3の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第5図および第6図はそれぞれ比較例1および比較例2
の反射防止膜の分光反射特性図である。 a・・・光学部品、 b・・・第1層、 C・・・第2層、 d ・・・ 第3層。
。 第2図ないし第4図はそれぞれ本発明の実施例工ないし
実施例3の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第5図および第6図はそれぞれ比較例1および比較例2
の反射防止膜の分光反射特性図である。 a・・・光学部品、 b・・・第1層、 C・・・第2層、 d ・・・ 第3層。
Claims (1)
- 屈折率が1.60〜1.64の範囲内にある誘電体材料
から、なる第1層と、La_2O_3、Nd_2O_3
またはY_2O_3からなる第2層と、MgF_2また
はSiO_2からなる第3層とを、光学部品の表面側か
ら順次積層してなる光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2042337A JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2042337A JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03246501A true JPH03246501A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12633200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2042337A Pending JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03246501A (ja) |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2042337A patent/JPH03246501A/ja active Pending
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