JPH02250001A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH02250001A JPH02250001A JP1070377A JP7037789A JPH02250001A JP H02250001 A JPH02250001 A JP H02250001A JP 1070377 A JP1070377 A JP 1070377A JP 7037789 A JP7037789 A JP 7037789A JP H02250001 A JPH02250001 A JP H02250001A
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- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＯＡ機器や光通信、光情報処理、カメラなど
の光学応用機器等を構成する光学部品に対して施される
反射防止膜に関する。
の光学応用機器等を構成する光学部品に対して施される
反射防止膜に関する。
従来から、レンズ、プリズムなどの光学部品には、その
表面の反射を防止するために反射防止層を設けることが
行われている。
表面の反射を防止するために反射防止層を設けることが
行われている。
このような光学部品に対する反射防止層は、−般にフッ
化マグネシウムなどからなる単層構造、または高屈折率
層と低屈折率層を組み合わせた多層構造の膜として、た
とえば真空蒸着法などにより形成されることが多い。特
に適用される光がレーザである場合には波長が単一であ
るので、コストの面から単層膜が主として利用されてい
る。しかし、かかる単層膜は入射角が小さいときは反射
率も低い値を示すが、入射角が大きくなるにつれて反射
率が高（なり、また同時にＳ偏光成分の反射率も一層高
い値をとるという欠点があった。
化マグネシウムなどからなる単層構造、または高屈折率
層と低屈折率層を組み合わせた多層構造の膜として、た
とえば真空蒸着法などにより形成されることが多い。特
に適用される光がレーザである場合には波長が単一であ
るので、コストの面から単層膜が主として利用されてい
る。しかし、かかる単層膜は入射角が小さいときは反射
率も低い値を示すが、入射角が大きくなるにつれて反射
率が高（なり、また同時にＳ偏光成分の反射率も一層高
い値をとるという欠点があった。
ところで、最近のＯＡ機器などではレーザ応用光学系が
多く利用され、これらに用いられている光学部品に対し
ては単に反射率が低いだけではなく、入射角が大きいと
きも反射率が高くならずまたＳ偏光成分とＰ偏光成分の
反射率の差も大きくならないような反射防止膜を設ける
ことが求められている。
多く利用され、これらに用いられている光学部品に対し
ては単に反射率が低いだけではなく、入射角が大きいと
きも反射率が高くならずまたＳ偏光成分とＰ偏光成分の
反射率の差も大きくならないような反射防止膜を設ける
ことが求められている。
このような事情のもとで、本発明は、入射角が大きい場
合でも反射率が低くまたＳ偏光成分とＰ偏光成分の反射
率の差も小さくて、構成の単純な反射防止膜を提供しよ
うとするものである。
合でも反射率が低くまたＳ偏光成分とＰ偏光成分の反射
率の差も小さくて、構成の単純な反射防止膜を提供しよ
うとするものである。
かかる本発明の目的は、イツトリアまたはランタニアか
らなる第１層とシリカからなる第２層とを順次積層して
なり、該第１層と該第２層との光学的膜厚がそれぞれ下
記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎ１ｙｎ！は波長λの
光に対するそれぞれ第１層、第２層の屈折率、ｄ、、ｄ
、はそれぞれ第１層。
らなる第１層とシリカからなる第２層とを順次積層して
なり、該第１層と該第２層との光学的膜厚がそれぞれ下
記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎ１ｙｎ！は波長λの
光に対するそれぞれ第１層、第２層の屈折率、ｄ、、ｄ
、はそれぞれ第１層。
第２層の膜厚である。
で表される範囲内のｎ、ｄ、とｎｚ ｄ、の値を有する
ことを特徴とする光学部品の反射防止膜によって達成す
ることができる。
ことを特徴とする光学部品の反射防止膜によって達成す
ることができる。
本発明の反射防止膜を光学部品の表面上に形成するには
、まずイツトリアまたはランタニアからなる第１層をた
とえば真空蒸着法やイオンブレーティング法、スパッタ
リング法などの成膜技術を用いて形成するが、その厚さ
は適用する光の波長をλ、第１Ｎの屈折率をｎｌ、第１
層の膜厚をｄ。
、まずイツトリアまたはランタニアからなる第１層をた
とえば真空蒸着法やイオンブレーティング法、スパッタ
リング法などの成膜技術を用いて形成するが、その厚さ
は適用する光の波長をλ、第１Ｎの屈折率をｎｌ、第１
層の膜厚をｄ。
とするときに、光学的膜厚すなわちｎ、ｄ、が０゜２８
λ〜０．３０λの範囲に入るように制御することが必要
である。
λ〜０．３０λの範囲に入るように制御することが必要
である。
つぎに第２層として、前記と同様な方法で第１層の上に
シリカの層を形成する。このときの第２層の厚さは、前
記と同様な意味での光学的膜厚が０．２５λ〜０．３３
λの範囲に入るように制御する必要がある。
シリカの層を形成する。このときの第２層の厚さは、前
記と同様な意味での光学的膜厚が０．２５λ〜０．３３
λの範囲に入るように制御する必要がある。
このようにしてイツトリアまたはランタニアからなる層
とシリカからなる層とを順次積層して形成された本発明
の反射防止膜は、格段に優れた光学特性を有するもので
ある。
とシリカからなる層とを順次積層して形成された本発明
の反射防止膜は、格段に優れた光学特性を有するもので
ある。
〔実施例１〕
光学硝子基板（ＢＫ７ 、ｎ、： １．５１）を精密洗
浄したのち真空蒸着装置内に取り付け、基板の加熱温度
２８０ ”Ｃ前後、真空度Ｉ Ｘ １０−’ トール
の条件下で、ランタニア（ｎ：１．８）の層を前記基板
の表面上に、光学的膜厚が２５０ｎｍとなるように蒸着
した。
浄したのち真空蒸着装置内に取り付け、基板の加熱温度
２８０ ”Ｃ前後、真空度Ｉ Ｘ １０−’ トール
の条件下で、ランタニア（ｎ：１．８）の層を前記基板
の表面上に、光学的膜厚が２５０ｎｍとなるように蒸着
した。
次に、同様な方法でシリカ（ｎ：１．４５）の層を、ラ
ンタニアの層のうえに光学的膜厚が２１Ｏｎ＋ｍとなる
よう蒸着して、２層の反射防止膜を形成した。
ンタニアの層のうえに光学的膜厚が２１Ｏｎ＋ｍとなる
よう蒸着して、２層の反射防止膜を形成した。
こうして得た反射防止膜を構成する２層の膜の光学的膜
厚は、波長λが８３０ｎｎ＋の光に対して、それぞれ第
１層が０．３０λ、第２層が０．２５λとなっている。
厚は、波長λが８３０ｎｎ＋の光に対して、それぞれ第
１層が０．３０λ、第２層が０．２５λとなっている。
更に、この反射防止膜に対して光を入射させて入射角θ
が４６°のときの反射特性を測定したところ、極めて優
れた反射防止性能を有していることが分かった。その結
果を第１図に示すが、１は平均反射率、２はＰ偏光成分
の反射率、３はＳ偏光成分の反射率で、いずれも１％以
下であり、それぞれの反射率の差も小さい。
が４６°のときの反射特性を測定したところ、極めて優
れた反射防止性能を有していることが分かった。その結
果を第１図に示すが、１は平均反射率、２はＰ偏光成分
の反射率、３はＳ偏光成分の反射率で、いずれも１％以
下であり、それぞれの反射率の差も小さい。
（実施例２〕
ポリゴンミラー防塵硝子（ＦＬ２フロート硝子、ｎｄ
：１．５２）の表面に、実施例１と同様な膜形成条件で
、イツトリア（ｎ：１．８）の層を光学的膜厚が２１０
ｎｍとなるよう蒸着し、つぎに、イツトリアの層のうえ
にシリカ（ｎ：１．４５）の層を光学的膜厚が２２５ｎ
ｍとなるよう蒸着して、２層の反射防止膜を形成した。
：１．５２）の表面に、実施例１と同様な膜形成条件で
、イツトリア（ｎ：１．８）の層を光学的膜厚が２１０
ｎｍとなるよう蒸着し、つぎに、イツトリアの層のうえ
にシリカ（ｎ：１．４５）の層を光学的膜厚が２２５ｎ
ｍとなるよう蒸着して、２層の反射防止膜を形成した。
こうして得た反射防止膜は、構成する２層の膜の光学的
膜厚が、波長λが７５０ｎｍの光に対してそれぞれ第１
Ｎは０．２８λ、第２層は０．３０λとなっている。
膜厚が、波長λが７５０ｎｍの光に対してそれぞれ第１
Ｎは０．２８λ、第２層は０．３０λとなっている。
また、この膜に対する光の入射角θが４６°のときの反
射特性を測定した結果は、第２図に示すとおり、反射率
はいずれも１％以下であり、またそれぞれの反射率の差
も小さくて、極めて優れた反射防止性能を有していた。
射特性を測定した結果は、第２図に示すとおり、反射率
はいずれも１％以下であり、またそれぞれの反射率の差
も小さくて、極めて優れた反射防止性能を有していた。
（対照例〕
実施例１の光学硝子基板を用い、実施例１と同様にして
、フッ化マグネシウム層を厚さ２００ｎｍとなるように
蒸着し、単層膜の反射防止膜を形成した。
、フッ化マグネシウム層を厚さ２００ｎｍとなるように
蒸着し、単層膜の反射防止膜を形成した。
この反射防止膜に対して光の入射角θが４６゜のときの
反射特性を測定したところ、第３図に示すように、平均
反射率は約２．２％でありまたＳ偏光成分の反射率は４
．４％にも達している。
反射特性を測定したところ、第３図に示すように、平均
反射率は約２．２％でありまたＳ偏光成分の反射率は４
．４％にも達している。
本発明の反射防止膜は、広い波長範囲にわたって反射率
が低いばかりでなく、光の反射率が高くなる入射角θが
４６°付近においても有効な反射防止性能を有しており
、簡単な構成であって製造コストも低いという利点があ
る。
が低いばかりでなく、光の反射率が高くなる入射角θが
４６°付近においても有効な反射防止性能を有しており
、簡単な構成であって製造コストも低いという利点があ
る。
第１図および第２図はそれぞれ本発明の実施例１および
実施例２の反射防止膜の反射特性図であり、 第３図は対照例の反射防止膜の反射特性図である。
実施例２の反射防止膜の反射特性図であり、 第３図は対照例の反射防止膜の反射特性図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 イットリアまたはランタニアからなる第１層とシリカか
らなる第２層とを順次積層してなり、該第１層と該第２
層との光学的膜厚がそれぞれ下記の式； ０．２８λ＜ｎ＿１ｄ＿１＜０．３０λ、 および ０．２５λ＜ｎ＿２ｄ＿２＜０．３３λ 但し、λは適用される光の波長、ｎ＿１、ｎ＿２は波長
λの光に対するそれぞれ第１層、第２層の屈折率、ｄ＿
１、ｄ＿２はそれぞれ第１層、第２層の膜厚である。 で表される範囲内のｎ＿１ｄ＿１とｎ＿２ｄ＿２の値を
有することを特徴とする光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070377A JPH02250001A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070377A JPH02250001A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250001A true JPH02250001A (ja) | 1990-10-05 |
Family
ID=13429692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1070377A Pending JPH02250001A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02250001A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209923A (ja) * | 2008-02-18 | 2008-09-11 | Olympus Corp | 画像表示装置 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP1070377A patent/JPH02250001A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209923A (ja) * | 2008-02-18 | 2008-09-11 | Olympus Corp | 画像表示装置 |
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