JPH07287101A - 耐湿反射防止膜 - Google Patents
耐湿反射防止膜Info
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- JPH07287101A JPH07287101A JP6078694A JP7869494A JPH07287101A JP H07287101 A JPH07287101 A JP H07287101A JP 6078694 A JP6078694 A JP 6078694A JP 7869494 A JP7869494 A JP 7869494A JP H07287101 A JPH07287101 A JP H07287101A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた
後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ること
ができる反射防止膜を提供すること。 【構成】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎｍで
光学膜厚２３４〜３１６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第一
層、光学膜厚４３〜５８ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5
から成る第二層、光学膜厚３４〜４６ｎｍのＳｉＯ2 か
ら成る第三層、光学膜厚１１３〜１５３ｎｍのＨｆＯ2
又はＴａ2 Ｏ5 から成る第四層、光学膜厚１１５〜１５
５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層及び光学膜厚５〜１５
ｎｍのパーフルオロアルキルシラザンから成る第六層を
順次形成して構成されたことを特徴とする耐湿反射防止
膜である。
後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ること
ができる反射防止膜を提供すること。 【構成】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎｍで
光学膜厚２３４〜３１６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第一
層、光学膜厚４３〜５８ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5
から成る第二層、光学膜厚３４〜４６ｎｍのＳｉＯ2 か
ら成る第三層、光学膜厚１１３〜１５３ｎｍのＨｆＯ2
又はＴａ2 Ｏ5 から成る第四層、光学膜厚１１５〜１５
５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層及び光学膜厚５〜１５
ｎｍのパーフルオロアルキルシラザンから成る第六層を
順次形成して構成されたことを特徴とする耐湿反射防止
膜である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学機器を構成するレ
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品に好適な反射防止膜に関する。
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品に好適な反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】従来、光学機器を構成する
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
としては、例えば、光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2 Ｏ3 か
ら成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 から成る
第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る第三層
をＢＫ７光学ガラス基板（屈折率＝１．５２）上に順次
形成した反射防止膜を使用していた。しかしながら、こ
のような従来の反射防止膜は、その表面に水滴が生じる
ような高湿度雰囲気では、水滴が長時間かけて蒸発した
場合に水滴が存在した部分に白い曇り状のフローマーク
が残り、このフローマークはアルコール等の溶剤で拭き
取っても簡単には落ちないという問題点があった。
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
としては、例えば、光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2 Ｏ3 か
ら成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 から成る
第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る第三層
をＢＫ７光学ガラス基板（屈折率＝１．５２）上に順次
形成した反射防止膜を使用していた。しかしながら、こ
のような従来の反射防止膜は、その表面に水滴が生じる
ような高湿度雰囲気では、水滴が長時間かけて蒸発した
場合に水滴が存在した部分に白い曇り状のフローマーク
が残り、このフローマークはアルコール等の溶剤で拭き
取っても簡単には落ちないという問題点があった。
【０００３】
【発明の目的】本発明は、上記の従来技術の問題点を解
消し、高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に
蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることがで
きる反射防止膜を提供することを目的とする。
消し、高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に
蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることがで
きる反射防止膜を提供することを目的とする。
【０００４】
【発明の概要】本発明は、耐湿性の高い高屈折率材料で
あるＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 と耐湿性に優れた低屈折率
材料であるＳｉＯ2 とを組み合わせて反射防止膜を構成
し、さらに最外層上に撥水性の高分子材料であるパーフ
ルオロアルキルシラザンから成る層を形成することによ
り上記目的を達成したものである。
あるＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 と耐湿性に優れた低屈折率
材料であるＳｉＯ2 とを組み合わせて反射防止膜を構成
し、さらに最外層上に撥水性の高分子材料であるパーフ
ルオロアルキルシラザンから成る層を形成することによ
り上記目的を達成したものである。
【０００５】すなわち、本発明の耐湿反射防止膜は、光
学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎｍで光学膜厚２３
４〜３１６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第一層、光学膜厚４
３〜５８ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第二
層、光学膜厚３４〜４６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１１３〜１５３ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2
Ｏ5 から成る第四層、光学膜厚１１５〜１５５ｎｍのＳ
ｉＯ2 から成る第五層及び光学膜厚５〜１５ｎｍのパー
フルオロアルキルシラザンから成る第六層を順次形成し
て構成されたことを特徴とする。
学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎｍで光学膜厚２３
４〜３１６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第一層、光学膜厚４
３〜５８ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第二
層、光学膜厚３４〜４６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１１３〜１５３ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2
Ｏ5 から成る第四層、光学膜厚１１５〜１５５ｎｍのＳ
ｉＯ2 から成る第五層及び光学膜厚５〜１５ｎｍのパー
フルオロアルキルシラザンから成る第六層を順次形成し
て構成されたことを特徴とする。
【０００６】本発明の反射防止膜において、第六層を構
成するパーフルオロアルキルシラザンとしては、充分な
撥水性と成膜性を有するものであれば、特に制限はない
が、アルキル基の炭素数が１〜４のものが好ましい。具
体的には、パーフルオロメチルシラザンやパーフルオロ
ジエチルシラザンなどが挙げられる。
成するパーフルオロアルキルシラザンとしては、充分な
撥水性と成膜性を有するものであれば、特に制限はない
が、アルキル基の炭素数が１〜４のものが好ましい。具
体的には、パーフルオロメチルシラザンやパーフルオロ
ジエチルシラザンなどが挙げられる。
【０００７】上記のように、耐湿性の高い高屈折率材料
であるＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 と耐湿性に優れた低屈折
率材料であるＳｉＯ2 とを用いて５層からなる反射防止
膜を形成し、さらに高湿度雰囲気に曝されても反射防止
膜表面に水滴が生じにくいように撥水性を有するパーフ
ルオロアルキルシラザンから成る第六層を最外層に形成
することによって優れた耐湿性を有する反射防止膜が得
られる。
であるＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 と耐湿性に優れた低屈折
率材料であるＳｉＯ2 とを用いて５層からなる反射防止
膜を形成し、さらに高湿度雰囲気に曝されても反射防止
膜表面に水滴が生じにくいように撥水性を有するパーフ
ルオロアルキルシラザンから成る第六層を最外層に形成
することによって優れた耐湿性を有する反射防止膜が得
られる。
【０００８】本発明の反射防止膜を構成する各層は、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、イオンビームアシスト法など、任意の方法で形成す
ることができる。
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、イオンビームアシスト法など、任意の方法で形成す
ることができる。
【０００９】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。
【００１０】実施例１ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＨｆＯ2 から成
る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＨｆＯ2 から成る第四層、光
学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を順次形成
した後、該ガラス基板を８０℃まで冷却し、光学膜厚１
０ｎｍのパーフルオロメチルシラザンから成る第六層を
形成して反射防止膜を作製した。
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＨｆＯ2 から成
る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＨｆＯ2 から成る第四層、光
学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を順次形成
した後、該ガラス基板を８０℃まで冷却し、光学膜厚１
０ｎｍのパーフルオロメチルシラザンから成る第六層を
形成して反射防止膜を作製した。
【００１１】実施例２ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＴａ2Ｏ5 から
成る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＴａ2 Ｏ5 から成る第四層、
光学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を形成し
た後、該ガラス基板を８０℃まで冷却し、光学膜厚１０
ｎｍのパーフルオロメチルシラザンから成る第六層を順
次形成して反射防止膜を作製した。
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＴａ2Ｏ5 から
成る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＴａ2 Ｏ5 から成る第四層、
光学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を形成し
た後、該ガラス基板を８０℃まで冷却し、光学膜厚１０
ｎｍのパーフルオロメチルシラザンから成る第六層を順
次形成して反射防止膜を作製した。
【００１２】比較例１ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2
Ｏ3 から成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る
第三層を順次形成して反射防止膜を作製した。
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2
Ｏ3 から成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る
第三層を順次形成して反射防止膜を作製した。
【００１３】比較例２ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2
Ｏ3 から成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る
第三層を順次形成した後、該ガラス基板を８０℃まで冷
却し、第三層上に光学膜厚１０ｎｍのパーフルオロメチ
ルシラザンから成る第四層を形成して反射防止膜を作製
した。
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚１３８ｎｍのＡｌ2
Ｏ3 から成る第一層、光学膜厚２７５ｎｍのＺｒＯ2 か
ら成る第二層、光学膜厚１３８ｎｍのＭｇＦ2 から成る
第三層を順次形成した後、該ガラス基板を８０℃まで冷
却し、第三層上に光学膜厚１０ｎｍのパーフルオロメチ
ルシラザンから成る第四層を形成して反射防止膜を作製
した。
【００１４】比較例３ 屈折率１．５２のＢＫ７光学ガラス基板を２５０℃に加
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＨｆＯ2 から成
る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＨｆＯ2 から成る第四層、光
学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を順次形成
して反射防止膜を作製した。
熱し、真空蒸着装置により光学膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
2 から成る第一層、光学膜厚５０ｎｍのＨｆＯ2 から成
る第二層、光学膜厚４０ｎｍのＳｉＯ2 から成る第三
層、光学膜厚１３３ｎｍのＨｆＯ2 から成る第四層、光
学膜厚１３５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層を順次形成
して反射防止膜を作製した。
【００１５】実施例１、実施例２及び比較例１で得られ
た反射防止膜の分光反射率特性をそれぞれ図１、図２及
び図３に示す。これらの図から明らかなとおり、反射防
止膜は、いずれも設計波長５５０ｎｍを中心に波長幅１
５０〜２９０ｎｍで反射率０．５％以下という５°入射
分光反射率特性を示している。
た反射防止膜の分光反射率特性をそれぞれ図１、図２及
び図３に示す。これらの図から明らかなとおり、反射防
止膜は、いずれも設計波長５５０ｎｍを中心に波長幅１
５０〜２９０ｎｍで反射率０．５％以下という５°入射
分光反射率特性を示している。
【００１６】耐湿試験 上記の実施例及び比較例で得た各反射防止膜上に純水か
ら成る水滴を載せ、温度６５℃、相対湿度９５％の雰囲
気中に１４時間放置した後、その膜面の外観を観察し
た。次いで、その膜面をアルコールで拭き取り、膜面の
外観を評価した。外観は、下記の基準で評価し、結果を
表１に示す。
ら成る水滴を載せ、温度６５℃、相対湿度９５％の雰囲
気中に１４時間放置した後、その膜面の外観を観察し
た。次いで、その膜面をアルコールで拭き取り、膜面の
外観を評価した。外観は、下記の基準で評価し、結果を
表１に示す。
【００１７】水滴蒸発後の外観 ×：大きなフローマークが残る。 ○：小さなフローマークが残る。 アルコール拭き取り後の外観 ×：変化なし。 △：フローマークが殆ど見えない。 ○：フローマークは見えない。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１から判るように、耐湿性に優れた高屈
折率材料であるＨｆＯ2 又はＴａ2Ｏ5 と耐湿性に優れ
た低屈折率材料であるＳｉＯ2 とを組み合わせて反射防
止特性を付与し、さらにパーフルオロアルキルシラザン
から成る最外層を用いた撥水性を付与した本発明の反射
防止膜は、従来の反射防止膜に比べて著しく耐湿性が向
上している。
折率材料であるＨｆＯ2 又はＴａ2Ｏ5 と耐湿性に優れ
た低屈折率材料であるＳｉＯ2 とを組み合わせて反射防
止特性を付与し、さらにパーフルオロアルキルシラザン
から成る最外層を用いた撥水性を付与した本発明の反射
防止膜は、従来の反射防止膜に比べて著しく耐湿性が向
上している。
【００２０】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、設計波長５５０
ｎｍを中心に波長幅１５０ｎｍで反射率０．５％以下
の、高い反射防止効果を示すと共に優れた耐湿効果を有
しているので、高湿度雰囲気で用いられる光学部品への
反射防止膜に最適である。
ｎｍを中心に波長幅１５０ｎｍで反射率０．５％以下
の、高い反射防止効果を示すと共に優れた耐湿効果を有
しているので、高湿度雰囲気で用いられる光学部品への
反射防止膜に最適である。
【図１】実施例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
性図である。
【図２】実施例２で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
性図である。
【図３】比較例１で作製した反射防止膜の分光反射率特
性図である。
性図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 光学ガラス基板上に、設計波長５５０ｎ
ｍで光学膜厚２３４〜３１６ｎｍのＳｉＯ2 から成る第
一層、光学膜厚４３〜５８ｎｍのＨｆＯ2 又はＴａ2 Ｏ
5 から成る第二層、光学膜厚３４〜４６ｎｍのＳｉＯ2
から成る第三層、光学膜厚１１３〜１５３ｎｍのＨｆＯ
2 又はＴａ2 Ｏ5 から成る第四層、光学膜厚１１５〜１
５５ｎｍのＳｉＯ2 から成る第五層及び光学膜厚５〜１
５ｎｍのパーフルオロアルキルシラザンから成る第六層
を順次形成して構成されたことを特徴とする耐湿反射防
止膜。 - 【請求項２】 パーフルオロアルキルシラザンのアルキ
ル基が、炭素数１〜４のアルキル基である請求項１記載
の耐湿反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07869494A JP3481997B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 耐湿反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07869494A JP3481997B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 耐湿反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07287101A true JPH07287101A (ja) | 1995-10-31 |
| JP3481997B2 JP3481997B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=13668981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07869494A Expired - Fee Related JP3481997B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 耐湿反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3481997B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09258004A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Ulvac Japan Ltd | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6660392B2 (en) * | 2000-12-08 | 2003-12-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Anti-reflection film and optical members using the same |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP07869494A patent/JP3481997B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09258004A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Ulvac Japan Ltd | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6660392B2 (en) * | 2000-12-08 | 2003-12-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Anti-reflection film and optical members using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3481997B2 (ja) | 2003-12-22 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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