JPH0636986A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0636986A JPH0636986A JP18682992A JP18682992A JPH0636986A JP H0636986 A JPH0636986 A JP H0636986A JP 18682992 A JP18682992 A JP 18682992A JP 18682992 A JP18682992 A JP 18682992A JP H0636986 A JPH0636986 A JP H0636986A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foreign matter
- excitation light
- light
- fluorescence
- photomask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 縮小投影露光装置内でフォトマスクの異物検
査を行う場合に光透過性の異物を検出できるようにす
る。 【構成】 紫外線を発光する励起光光源１と、励起光波
長域以外の光を遮光する励起光照射フィルタ４と、蛍光
波長域以外の光を遮光する蛍光透過フィルタ７と、蛍光
分光光度器８と、異物検査処理部９とを備え、フォトマ
スク５の表面に付着した光透過性異物６に励起光を照射
し、異物が発光する蛍光を蛍光分光光度器８で受光して
異物を検出する。
査を行う場合に光透過性の異物を検出できるようにす
る。 【構成】 紫外線を発光する励起光光源１と、励起光波
長域以外の光を遮光する励起光照射フィルタ４と、蛍光
波長域以外の光を遮光する蛍光透過フィルタ７と、蛍光
分光光度器８と、異物検査処理部９とを備え、フォトマ
スク５の表面に付着した光透過性異物６に励起光を照射
し、異物が発光する蛍光を蛍光分光光度器８で受光して
異物を検出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面にフォトレジスト
が塗布された半導体基板に所定のパターンを転写する縮
小投影露光におけるフォトマスクの異物検査に利用す
る。
が塗布された半導体基板に所定のパターンを転写する縮
小投影露光におけるフォトマスクの異物検査に利用す
る。
【０００２】本発明は、透明基板上に形成された金属膜
または金属酸化膜からなる光遮断用パターンを有する半
導体装置用フォトマスクの異物検査において、光透過性
の異物を誤検出することなく容易に検出できる縮小投影
露光装置に関する。
または金属酸化膜からなる光遮断用パターンを有する半
導体装置用フォトマスクの異物検査において、光透過性
の異物を誤検出することなく容易に検出できる縮小投影
露光装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】従来の縮小投影露光装置のフォトマスク
異物検査部は、図３に示すようにレーザ発光体１３と、
レーザを走査する振動ミラー２と、スキャナ３と、異物
によって散乱されたレーザの散乱光１５を受光するフォ
トマル１６と、このフォトマル１６で検出した信号を基
にフォトマスク５上のパターンと異物とを識別し異物の
有無や異物の付着した位置および異物の大きさを演算処
理する異物検査処理部９とを備えていた。
異物検査部は、図３に示すようにレーザ発光体１３と、
レーザを走査する振動ミラー２と、スキャナ３と、異物
によって散乱されたレーザの散乱光１５を受光するフォ
トマル１６と、このフォトマル１６で検出した信号を基
にフォトマスク５上のパターンと異物とを識別し異物の
有無や異物の付着した位置および異物の大きさを演算処
理する異物検査処理部９とを備えていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなフォトマス
ク異物検査部では、レーザの散乱光によって異物の有無
を検知する処理を行っているため、フォトマスクに光透
過性の異物（たとえば有機被膜）が付着していても、照
射されたレーザ光は散乱されず検出することが困難であ
った。また、散乱光の検出感度を向上させて異物の検出
を試みると、フォトマスクに設けられた光遮断用パター
ンが異物とみなされて誤検出してしまう問題があった。
ク異物検査部では、レーザの散乱光によって異物の有無
を検知する処理を行っているため、フォトマスクに光透
過性の異物（たとえば有機被膜）が付着していても、照
射されたレーザ光は散乱されず検出することが困難であ
った。また、散乱光の検出感度を向上させて異物の検出
を試みると、フォトマスクに設けられた光遮断用パター
ンが異物とみなされて誤検出してしまう問題があった。
【０００５】本発明はこのような問題を解決するもの
で、誤検出することなくフォトマスクに付着した光透過
性の異物を容易に検出することができる装置を提供する
ことを目的とする。
で、誤検出することなくフォトマスクに付着した光透過
性の異物を容易に検出することができる装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、励起光を発す
る励起光光源と、この励起光光源からの励起光を被検査
物上を走査して照射するスキャナに取付けられた振動ミ
ラーと、被検査物上の異物によって散乱された散乱光を
受光する受光手段と、この受光手段が受光し検出した信
号に基づき異物を識別する異物検査処理部とを備えた縮
小投影露光装置において、前記励起光光源は紫外線を発
する光源であり、前記受光手段は被検査物の発する蛍光
を検出する手段を含むことを特徴とする。
る励起光光源と、この励起光光源からの励起光を被検査
物上を走査して照射するスキャナに取付けられた振動ミ
ラーと、被検査物上の異物によって散乱された散乱光を
受光する受光手段と、この受光手段が受光し検出した信
号に基づき異物を識別する異物検査処理部とを備えた縮
小投影露光装置において、前記励起光光源は紫外線を発
する光源であり、前記受光手段は被検査物の発する蛍光
を検出する手段を含むことを特徴とする。
【０００７】前記蛍光を検出する手段は、前記振動ミラ
ーからの励起光の特定波長以下の短波長領域光を透過す
る励起光照射フィルタを備え、前記受光手段として、特
定波長以上の長波長領域に属する蛍光を透過する蛍光透
過フィルタと、この蛍光透過フィルタからの蛍光を検出
する蛍光分光光度器とを備え、前記異物検査処理部に、
フォトマスク上の異物が発光する蛍光に基づく検査結果
を演算する手段を含み、フォトマスクの裏面に励起光を
照射するために前記スキャナおよび前記振動ミラーと、
前記励起光照射フィルタとを備えることができる。
ーからの励起光の特定波長以下の短波長領域光を透過す
る励起光照射フィルタを備え、前記受光手段として、特
定波長以上の長波長領域に属する蛍光を透過する蛍光透
過フィルタと、この蛍光透過フィルタからの蛍光を検出
する蛍光分光光度器とを備え、前記異物検査処理部に、
フォトマスク上の異物が発光する蛍光に基づく検査結果
を演算する手段を含み、フォトマスクの裏面に励起光を
照射するために前記スキャナおよび前記振動ミラーと、
前記励起光照射フィルタとを備えることができる。
【０００８】
【作用】有機物は一般に紫外光で励起すると蛍光を発す
る性質がある。異物の多くは有機物である。この性質を
利用して、可視光以降の長波長の光のような励起光とし
て不要な波長域、および異物に吸収されなかった励起光
のような異物が発する蛍光以外の不要な波長域を遮光
し、異物が発する蛍光の波長および光強度を検知するこ
とにより、被検査物に付着した光透過性の異物を検出す
る。また、金属膜または金属酸化膜からなるフォトマス
クの光遮断用パターンと励起光波長とが異なっているた
めに、照射する励起光波長を容易に選択することがで
き、光遮断用パターンが異物であるとして誤検出してし
まうことをなくし検出精度を向上させることができる。
る性質がある。異物の多くは有機物である。この性質を
利用して、可視光以降の長波長の光のような励起光とし
て不要な波長域、および異物に吸収されなかった励起光
のような異物が発する蛍光以外の不要な波長域を遮光
し、異物が発する蛍光の波長および光強度を検知するこ
とにより、被検査物に付着した光透過性の異物を検出す
る。また、金属膜または金属酸化膜からなるフォトマス
クの光遮断用パターンと励起光波長とが異なっているた
めに、照射する励起光波長を容易に選択することがで
き、光遮断用パターンが異物であるとして誤検出してし
まうことをなくし検出精度を向上させることができる。
【０００９】
【実施例】次に、本発明実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
【００１０】（第一実施例）図１は本発明第一実施例の
構成を示す分解斜視図である。
構成を示す分解斜視図である。
【００１１】本発明第一実施例は、励起光を発する励起
光光源１と、この励起光光源１からの励起光を被検査物
上を走査して照射するスキャナ３に取付けられた振動ミ
ラー２と、被検査物上の異物によって散乱された散乱光
を受光する受光手段と、この受光手段が受光し検出した
信号に基づきフォトマスク５上のパターンと異物とを識
別し、異物の有無、異物の付着した位置、および異物の
大きさを演算する異物検査処理部９とを備え、励起光光
源１は紫外線を発する光源であり、前記受光手段は被検
査物の発する蛍光を検出する手段を含み、この蛍光を検
出する手段は、振動ミラー２からの励起光の特定波長以
下の短波長領域光を透過する励起光照射フィルタ４を備
え、前記受光手段として、特定波長以上の長波長領域に
属する蛍光を透過する蛍光透過フィルタ７と、この蛍光
透過フィルタ７からの蛍光を検出する蛍光分光光度器８
とを備え、異物検査処理部９に、フォトマスク５上の異
物が発光する蛍光に基づく検査結果を演算する手段を含
む。
光光源１と、この励起光光源１からの励起光を被検査物
上を走査して照射するスキャナ３に取付けられた振動ミ
ラー２と、被検査物上の異物によって散乱された散乱光
を受光する受光手段と、この受光手段が受光し検出した
信号に基づきフォトマスク５上のパターンと異物とを識
別し、異物の有無、異物の付着した位置、および異物の
大きさを演算する異物検査処理部９とを備え、励起光光
源１は紫外線を発する光源であり、前記受光手段は被検
査物の発する蛍光を検出する手段を含み、この蛍光を検
出する手段は、振動ミラー２からの励起光の特定波長以
下の短波長領域光を透過する励起光照射フィルタ４を備
え、前記受光手段として、特定波長以上の長波長領域に
属する蛍光を透過する蛍光透過フィルタ７と、この蛍光
透過フィルタ７からの蛍光を検出する蛍光分光光度器８
とを備え、異物検査処理部９に、フォトマスク５上の異
物が発光する蛍光に基づく検査結果を演算する手段を含
む。
【００１２】励起光光源１からの励起光は、振動ミラー
２およびスキャナ３を通してフォトマスク５の表面に励
起光を照射する。励起光照射フィルタ４は励起光として
不要な波長域を遮光し、この励起光照射フィルタ４の選
択により検査対象を絞り込む。励起光照射フィルタ４を
透過した励起光１０はフォトマスク５上に付着した光透
過性異物６に照射される。
２およびスキャナ３を通してフォトマスク５の表面に励
起光を照射する。励起光照射フィルタ４は励起光として
不要な波長域を遮光し、この励起光照射フィルタ４の選
択により検査対象を絞り込む。励起光照射フィルタ４を
透過した励起光１０はフォトマスク５上に付着した光透
過性異物６に照射される。
【００１３】異物が発した蛍光および異物に吸収されな
かった励起光１１は蛍光透過フィルタ７を通り蛍光１２
のみが透過して蛍光分光光度器８に入光する。蛍光分光
光度器８が蛍光の有無およびその波長や光強度を検知
し、異物検査処理部９が付着した異物の位置および異物
の大きさを演算処理する。
かった励起光１１は蛍光透過フィルタ７を通り蛍光１２
のみが透過して蛍光分光光度器８に入光する。蛍光分光
光度器８が蛍光の有無およびその波長や光強度を検知
し、異物検査処理部９が付着した異物の位置および異物
の大きさを演算処理する。
【００１４】（第二実施例）図２は本発明第二実施例の
構成を示す分解斜視図である。
構成を示す分解斜視図である。
【００１５】本発明第二実施例は、第一実施例の構成に
加えて、フォトマスク５の裏面に励起光を照射するため
のスキャナ３′および振動ミラー２′と、励起光照射フ
ィルタ４′を備える。
加えて、フォトマスク５の裏面に励起光を照射するため
のスキャナ３′および振動ミラー２′と、励起光照射フ
ィルタ４′を備える。
【００１６】この第二実施例の第一実施例との相違点
は、フォトマスク５の表面と裏面との双方に励起光を照
射することにあり、そのために振動ミラー２′とスキャ
ナ３′と、励起光照射フィルタ４′と、蛍光透過フィル
タ７′とを備える。異物検査処理部９はフォトマスク５
の表面または裏面どちらに異物が付着しているかを検出
することが可能となり、検出感度をさらに向上させるこ
とができる。
は、フォトマスク５の表面と裏面との双方に励起光を照
射することにあり、そのために振動ミラー２′とスキャ
ナ３′と、励起光照射フィルタ４′と、蛍光透過フィル
タ７′とを備える。異物検査処理部９はフォトマスク５
の表面または裏面どちらに異物が付着しているかを検出
することが可能となり、検出感度をさらに向上させるこ
とができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、励
起光光源と、励起光照射フィルタと、蛍光透過フィルタ
と、蛍光分光光度器と、異物検査演算ユニットを備えて
おり、異物の検出は異物が発する蛍光の有無およびその
波長や光強度の検知処理を行うことにより、誤検出する
ことなくフォトマスクに付着した光透過性の異物を容易
に検出することができる効果がある。
起光光源と、励起光照射フィルタと、蛍光透過フィルタ
と、蛍光分光光度器と、異物検査演算ユニットを備えて
おり、異物の検出は異物が発する蛍光の有無およびその
波長や光強度の検知処理を行うことにより、誤検出する
ことなくフォトマスクに付着した光透過性の異物を容易
に検出することができる効果がある。
【図１】本発明第一実施例の構成を示す分解斜視図。
【図２】本発明第二実施例の構成を示す分解斜視図。
【図３】従来例の構成を示す分解斜視図。
１ 励起光光源 ２、２′ 振動ミラー ３、３′ スキャナ ４、４′ 励起光照射フィルタ ５ フォトマスク ６ 光透過性異物 ７、７′ 蛍光透過フィルタ ８ 蛍光分光光度器 ９ 異物検査処理部 １０ 励起光 １１ 蛍光および吸収されなかった励起光 １２ 蛍光 １３ レーザ発光体 １４ レーザ光 １５ 散乱光 １６ フォトマル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｎ 21/88 Ｅ 8304−2Ｊ Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｓ 7369−2Ｈ
Claims (3)
- 【請求項１】 励起光を発する励起光光源と、 この励起光光源からの励起光を被検査物上を走査して照
射するスキャナに取付けられた振動ミラーと、 被検査物上の異物によって散乱された散乱光を受光する
受光手段と、 この受光手段が受光し検出した信号に基づき異物を識別
する異物検査処理部とを備えた縮小投影露光装置におい
て、 前記励起光光源は紫外線を発する光源であり、 前記受光手段は被検査物の発する蛍光を検出する手段を
含むことを特徴とする縮小投影露光装置。 - 【請求項２】 前記蛍光を検出する手段は、前記振動ミ
ラーからの励起光の特定波長以下の短波長領域光を透過
する励起光照射フィルタを備え、 前記受光手段として、特定波長以上の長波長領域に属す
る蛍光を透過する蛍光透過フィルタと、この蛍光透過フ
ィルタからの蛍光を検出する蛍光分光光度器とを備え、 前記異物検査処理部に、フォトマスク上の異物が発光す
る蛍光に基づく検査結果を演算する手段を含む請求項１
記載の縮小投影露光装置。 - 【請求項３】 フォトマスクの裏面に励起光を照射する
ための前記スキャナおよび前記振動ミラーと、前記励起
光照射フィルタとを備えた請求項１または２記載の縮小
投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18682992A JPH0636986A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18682992A JPH0636986A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636986A true JPH0636986A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16195346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18682992A Pending JPH0636986A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636986A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100767837B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2007-10-17 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치, 디바이스제조방법 및 그 디바이스 |
| JP2012217382A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Fuji Electric Co Ltd | 微生物検出装置 |
| JP2013501228A (ja) * | 2009-08-04 | 2013-01-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 対象検査システムおよび方法 |
-
1992
- 1992-07-14 JP JP18682992A patent/JPH0636986A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100767837B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2007-10-17 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치, 디바이스제조방법 및 그 디바이스 |
| JP2013501228A (ja) * | 2009-08-04 | 2013-01-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 対象検査システムおよび方法 |
| US9122178B2 (en) | 2009-08-04 | 2015-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Object inspection systems and methods |
| JP2012217382A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Fuji Electric Co Ltd | 微生物検出装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4188538B2 (ja) | 免疫クロマト試験片の測定装置 | |
| JPH11502302A (ja) | 対象物の射影を得るために透過性放射線を用いる画像化方法及び装置 | |
| US4031399A (en) | Fluorometer | |
| KR970000781B1 (ko) | 이물 검사 장치 | |
| WO2001077680A1 (fr) | Procede de mesure pour bande d'essai immunochromatographique | |
| JPH0636986A (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| JPS61182238A (ja) | レジスト等有機化合物残渣検査装置 | |
| JP4213252B2 (ja) | 光学的検査装置 | |
| JP3228372B2 (ja) | 蛍光検出装置 | |
| JP3095856B2 (ja) | 外観検査用投光装置 | |
| JPH05215688A (ja) | 透光性物体中の散乱体検出方法及びその装置 | |
| JP2936644B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JPH0518901A (ja) | ウエーハ表面検査装置 | |
| JP2948353B2 (ja) | ガラス板の表面欠陥検査方法および検査装置 | |
| JPH07128250A (ja) | 半導体装置製造用フォトマスクの異物検査装置 | |
| JP2004205419A (ja) | Ｏｓｌ素子検知装置およびｏｓｌ素子検知方法 | |
| JPH03269405A (ja) | 蛍光顕微鏡 | |
| JPH1123469A (ja) | 蛍光免疫測定装置 | |
| JPS60167327A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH08327798A (ja) | 蓄積性蛍光体の読取り方法及びその装置 | |
| JPS57132078A (en) | 2-dimensional radiation detector | |
| JPH06333125A (ja) | 蛍光検出装置 | |
| JPS6144309A (ja) | プリント基板上の配線パターンの検査装置 | |
| JPH06324151A (ja) | 放射能分布検出方法及び装置 | |
| JP2002340825A (ja) | 蛍光線分析装置及び蛍光線分析方法 |