JPH06324151A - 放射能分布検出方法及び装置 - Google Patents
放射能分布検出方法及び装置Info
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- JPH06324151A JPH06324151A JP11295393A JP11295393A JPH06324151A JP H06324151 A JPH06324151 A JP H06324151A JP 11295393 A JP11295393 A JP 11295393A JP 11295393 A JP11295393 A JP 11295393A JP H06324151 A JPH06324151 A JP H06324151A
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- Japan
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- phosphor
- radioactivity
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 不確定形状の被測定物である放射性廃棄物の
表面の放射能汚染の分布を測定でき、かつ二次汚染が生
じない放射能分布検出方法及び装置を提供する。 【構成】 被測定物１１に蛍光体を塗布した後、撮影装
置２９により被測定物１１の表面から発せられる蛍光の
分布を検出する。被測定物１１から発せられる放射線に
より塗布された蛍光体が発光するので、放射能の分布に
応じて蛍光体が発光する。従って、蛍光体の発光分布を
測定することにより、被測定物１１表面の放射能の分布
を測定できる。
表面の放射能汚染の分布を測定でき、かつ二次汚染が生
じない放射能分布検出方法及び装置を提供する。 【構成】 被測定物１１に蛍光体を塗布した後、撮影装
置２９により被測定物１１の表面から発せられる蛍光の
分布を検出する。被測定物１１から発せられる放射線に
より塗布された蛍光体が発光するので、放射能の分布に
応じて蛍光体が発光する。従って、蛍光体の発光分布を
測定することにより、被測定物１１表面の放射能の分布
を測定できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射能分布検出方法及
び装置、特に原子炉の解体などにより生ずる放射性廃棄
物表面の放射能の分布を測定する方法及び装置に関す
る。
び装置、特に原子炉の解体などにより生ずる放射性廃棄
物表面の放射能の分布を測定する方法及び装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】不確定な形状の放射性廃棄物の放射能汚
染の測定は、従来より放射線サーベイメータや表面汚染
計などにより検出するのが一般的である。ところが、こ
れらにより放射能汚染の検出を行った場合には、放射能
汚染の存在及びその程度を検出することはできるが、汚
染の分布を検出することはできない。そこで、最近で
は、イメージインテンシファイアの前面に蛍光体層を設
けて検出する方法や、あるいはＸ線フィルムやイメージ
ングプレートなどを用いて二次元的な放射能分布を積分
して検出する方法などが提案されている。
染の測定は、従来より放射線サーベイメータや表面汚染
計などにより検出するのが一般的である。ところが、こ
れらにより放射能汚染の検出を行った場合には、放射能
汚染の存在及びその程度を検出することはできるが、汚
染の分布を検出することはできない。そこで、最近で
は、イメージインテンシファイアの前面に蛍光体層を設
けて検出する方法や、あるいはＸ線フィルムやイメージ
ングプレートなどを用いて二次元的な放射能分布を積分
して検出する方法などが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の測定方法では、被測定物に密着して放射能分布の検出
を行う必要があるため、当該被測定物が平面的な形状で
ある必要があり、原子炉の解体時などに生ずる不確定な
形状の放射性廃棄物の放射能汚染の分布を測定すること
は困難であるという問題があった。
の測定方法では、被測定物に密着して放射能分布の検出
を行う必要があるため、当該被測定物が平面的な形状で
ある必要があり、原子炉の解体時などに生ずる不確定な
形状の放射性廃棄物の放射能汚染の分布を測定すること
は困難であるという問題があった。
【０００４】また、被測定物である汚染物質に長期にＸ
線フィルムなどを密着するため、これがそのまま二次汚
染物となり、汚染が拡大する一因となるという問題もあ
る。更に、上記の測定方法は、検出範囲が比較的小さい
という問題もある。
線フィルムなどを密着するため、これがそのまま二次汚
染物となり、汚染が拡大する一因となるという問題もあ
る。更に、上記の測定方法は、検出範囲が比較的小さい
という問題もある。
【０００５】本発明は、以上のような課題に鑑みなされ
たものであり、立体で不確定な形状の放射性廃棄物の表
面の放射能分布を測定でき、同時に測定により二次汚染
が生じないような放射能分布検出方法及び装置を提供す
ることを目的とする。
たものであり、立体で不確定な形状の放射性廃棄物の表
面の放射能分布を測定でき、同時に測定により二次汚染
が生じないような放射能分布検出方法及び装置を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明に係る放射能分布検出方法において
は被測定物である放射性廃棄物に直接蛍光体を塗布し、
この蛍光体が塗布された被測定物から発せられる蛍光の
分布を測定することにより、被測定物の表面の放射能分
布を検出することを特徴とする。
するために、本発明に係る放射能分布検出方法において
は被測定物である放射性廃棄物に直接蛍光体を塗布し、
この蛍光体が塗布された被測定物から発せられる蛍光の
分布を測定することにより、被測定物の表面の放射能分
布を検出することを特徴とする。
【０００７】より具体的には、被測定物に蛍光体を塗布
し、被測定物から発せられる蛍光の分布を検出すること
により、被測定物が有する放射能の分布を検出すること
を特徴とする。
し、被測定物から発せられる蛍光の分布を検出すること
により、被測定物が有する放射能の分布を検出すること
を特徴とする。
【０００８】なお、蛍光体の塗布は、例えばスプレー等
を用いれば、塗布の際に塗布手段が被測定物に接触する
ことなく蛍光体の塗布を行えるので、二次汚染を防止す
ることが可能となる。また、蛍光体が塗布された被測定
物から発せられる蛍光の分布は、ＣＣＤ等を用いて画像
化することにより測定することが可能である。
を用いれば、塗布の際に塗布手段が被測定物に接触する
ことなく蛍光体の塗布を行えるので、二次汚染を防止す
ることが可能となる。また、蛍光体が塗布された被測定
物から発せられる蛍光の分布は、ＣＣＤ等を用いて画像
化することにより測定することが可能である。
【０００９】また、本発明に係る放射能分布検出装置に
おいては、被測定物に蛍光体を塗布する手段と、蛍光体
が塗布された被測定物から発せられる蛍光の分布を検出
する手段と、を有し、被測定物の放射能分布を蛍光分布
に変換して検出することを特徴とする。
おいては、被測定物に蛍光体を塗布する手段と、蛍光体
が塗布された被測定物から発せられる蛍光の分布を検出
する手段と、を有し、被測定物の放射能分布を蛍光分布
に変換して検出することを特徴とする。
【００１０】
【作用】被測定物に塗布される蛍光体は、被測定物から
発せられる放射線により発光する。この一方で、蛍光体
は放射線が照射されなければ発光しない。
発せられる放射線により発光する。この一方で、蛍光体
は放射線が照射されなければ発光しない。
【００１１】従って、以上のような構成を有する本発明
においては、被測定物に蛍光体が塗布されると、被測定
物から発せられる放射線により、放射線が発せられる個
所の蛍光体が発光する。このため、蛍光体の発光分布を
測定すれば、被測定物の放射能分布を測定することが可
能となる。
においては、被測定物に蛍光体が塗布されると、被測定
物から発せられる放射線により、放射線が発せられる個
所の蛍光体が発光する。このため、蛍光体の発光分布を
測定すれば、被測定物の放射能分布を測定することが可
能となる。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明の好適な実施例に係る放射能
分布検出装置の構成を示すブロック図である。
分布検出装置の構成を示すブロック図である。
【００１３】本実施例に係る放射能分布検出装置は、放
射性廃棄物である被測定物１１に蛍光体を塗布する蛍光
体塗布装置１２と、蛍光体が塗布された被測定物１１か
ら発せられる蛍光を集光する光学レンズ１３と、この光
学レンズの位置決めを制御する位置決め制御装置１４
と、光学レンズ１３により集光された光のうち被測定物
１１に塗布された蛍光体の蛍光のみを通過させるバンド
パスフィルタ１５とを有している。フィルタ１５を通過
した光は、実施例においては、ＣＣＤ撮像素子１８にお
いて電気信号に変換される。ここで変換された光は、最
終的には表示装置２３でその分布が表示される。
射性廃棄物である被測定物１１に蛍光体を塗布する蛍光
体塗布装置１２と、蛍光体が塗布された被測定物１１か
ら発せられる蛍光を集光する光学レンズ１３と、この光
学レンズの位置決めを制御する位置決め制御装置１４
と、光学レンズ１３により集光された光のうち被測定物
１１に塗布された蛍光体の蛍光のみを通過させるバンド
パスフィルタ１５とを有している。フィルタ１５を通過
した光は、実施例においては、ＣＣＤ撮像素子１８にお
いて電気信号に変換される。ここで変換された光は、最
終的には表示装置２３でその分布が表示される。
【００１４】以上のような構成を有する本実施例の放射
能分布検出装置の動作について説明する。
能分布検出装置の動作について説明する。
【００１５】まず、被測定物１１の測定位置に光学レン
ズ１３を移動し、被測定物１１の表面放射能分布を検出
する際の基準点が設定される。光学レンズ１３の移動
は、位置決め制御装置１４により行う。基準点を設定し
た後、蛍光体塗布装置１２から被測定物１１に蛍光体を
噴霧し、蛍光体の塗布を行う。蛍光体塗布装置１２の移
動は、位置決め制御装置１４により行う。
ズ１３を移動し、被測定物１１の表面放射能分布を検出
する際の基準点が設定される。光学レンズ１３の移動
は、位置決め制御装置１４により行う。基準点を設定し
た後、蛍光体塗布装置１２から被測定物１１に蛍光体を
噴霧し、蛍光体の塗布を行う。蛍光体塗布装置１２の移
動は、位置決め制御装置１４により行う。
【００１６】蛍光体が塗布された被測定物１１におい
て、放射能の存在する部分は、蛍光体が発光する。この
一方で、放射能の存在しない部分は、蛍光体は発光しな
い。発せられた蛍光は、光学レンズ１３により集光され
る。集光された蛍光はフィルタ１５を通過し、ここで当
該蛍光以外の光が除去される。フィルタ１５を通過した
蛍光はイメージインテンシファイア１７により増幅さ
れ、ＣＣＤ撮像素子１８に入力される。この場合に、蛍
光強度が十分に大きく、イメージインテンシファイア１
７を通す必要がない場合には、フィルタ１５から出た光
をそのまま直接ＣＣＤ撮像素子１８に入力する。低雑音
型のＣＣＤ撮像素子を用いた場合には、イメージインテ
ンシファイア１７を介せず直接入力し、長時間検出をす
ることも可能である。ＣＣＤ撮像素子１８から出力され
た画像情報は、Ａ／Ｄ回路１９及びメモリ２０を介して
コンピュータ２１に入力される。このコンピュータ２１
では各種の画像処理や計測処理が行われ、この結果が表
示装置２３に表示される。このときに、位置決め制御装
置１４により基準点が定められているため、この基準点
に基づき被測定物１１から発せられる蛍光の分布が検出
され、被測定物１１表面の放射能汚染の分布が明らかに
なる。
て、放射能の存在する部分は、蛍光体が発光する。この
一方で、放射能の存在しない部分は、蛍光体は発光しな
い。発せられた蛍光は、光学レンズ１３により集光され
る。集光された蛍光はフィルタ１５を通過し、ここで当
該蛍光以外の光が除去される。フィルタ１５を通過した
蛍光はイメージインテンシファイア１７により増幅さ
れ、ＣＣＤ撮像素子１８に入力される。この場合に、蛍
光強度が十分に大きく、イメージインテンシファイア１
７を通す必要がない場合には、フィルタ１５から出た光
をそのまま直接ＣＣＤ撮像素子１８に入力する。低雑音
型のＣＣＤ撮像素子を用いた場合には、イメージインテ
ンシファイア１７を介せず直接入力し、長時間検出をす
ることも可能である。ＣＣＤ撮像素子１８から出力され
た画像情報は、Ａ／Ｄ回路１９及びメモリ２０を介して
コンピュータ２１に入力される。このコンピュータ２１
では各種の画像処理や計測処理が行われ、この結果が表
示装置２３に表示される。このときに、位置決め制御装
置１４により基準点が定められているため、この基準点
に基づき被測定物１１から発せられる蛍光の分布が検出
され、被測定物１１表面の放射能汚染の分布が明らかに
なる。
【００１７】ここで、被測定物１１への蛍光体の塗布
は、例えば図２に示すように蛍光体スプレー２５を用い
て行うことが好適である。蛍光体を塗布する方法とし
て、例えば“はけ塗り”による方法もあるが、この場合
にはその“はけ”自体が二次汚染物となってしまうた
め、二次汚染防止の観点からは好ましくない。蛍光体ス
プレー２５を用いて蛍光体の塗布を行った場合には、塗
布手段が被測定物１１に直接接触しないので二次汚染を
効果的に防止できる。被測定物１１自体は廃棄物である
ので、蛍光体を塗布し測定が終了した後、適切な方法で
廃棄される。このように、被測定物１１は最終的に廃棄
されてしまうので、塗布された蛍光体を洗い流す必要は
ない。
は、例えば図２に示すように蛍光体スプレー２５を用い
て行うことが好適である。蛍光体を塗布する方法とし
て、例えば“はけ塗り”による方法もあるが、この場合
にはその“はけ”自体が二次汚染物となってしまうた
め、二次汚染防止の観点からは好ましくない。蛍光体ス
プレー２５を用いて蛍光体の塗布を行った場合には、塗
布手段が被測定物１１に直接接触しないので二次汚染を
効果的に防止できる。被測定物１１自体は廃棄物である
ので、蛍光体を塗布し測定が終了した後、適切な方法で
廃棄される。このように、被測定物１１は最終的に廃棄
されてしまうので、塗布された蛍光体を洗い流す必要は
ない。
【００１８】蛍光体の塗布により、被測定物１１の表面
には蛍光体層２７が形成される。被測定物１１からα線
あるいは低エネルギーのβ線が発せられる場合には、こ
れらは透過力が弱いので、蛍光体層２７を厚くすると当
該厚い蛍光体層２７によりその発散が抑えられる。被測
定物１１に塗布される蛍光体としては、例えばＺｎＳ
（Ａｇ）、Ｙ2 ＳｉＯ5 （Ｅｕ）あるいはＣｓＩ（Ｔ
ｌ）などがある。なお、本実施例に使用できる蛍光体
は、これらに限られることなく、放射線により発光する
ものであれば、いかなるものをも用いることができる。
この場合に、蛍光が可視光の領域にある場合には、放射
能の存在を肉眼で識別することができ、その取扱いに対
する直接的な警告を発するようになる。
には蛍光体層２７が形成される。被測定物１１からα線
あるいは低エネルギーのβ線が発せられる場合には、こ
れらは透過力が弱いので、蛍光体層２７を厚くすると当
該厚い蛍光体層２７によりその発散が抑えられる。被測
定物１１に塗布される蛍光体としては、例えばＺｎＳ
（Ａｇ）、Ｙ2 ＳｉＯ5 （Ｅｕ）あるいはＣｓＩ（Ｔ
ｌ）などがある。なお、本実施例に使用できる蛍光体
は、これらに限られることなく、放射線により発光する
ものであれば、いかなるものをも用いることができる。
この場合に、蛍光が可視光の領域にある場合には、放射
能の存在を肉眼で識別することができ、その取扱いに対
する直接的な警告を発するようになる。
【００１９】図３には、本実施例に係る装置を用いて実
際に被測定物１１の放射能分布を測定する状態が図示さ
れている。この実施例において、測定のノイズとなる他
の光を遮蔽するために暗幕２８が用いられている。この
暗幕２８は、ノイズとなる光と蛍光の波長が著しく異な
る場合には用いる必要がない。測定にあたっては、被測
定物１１に蛍光体が塗布されてから暗幕２８で囲い、そ
の後撮影装置２９を所定の位置に移動させる。撮影装置
２９の移動は、位置決め制御装置１４により行う。撮影
装置２９には、その先端に光学レンズ１３が備えられ、
内部にはフィルタ１５やＣＣＤ撮像素子１８などが備え
られている。なお、被測定物１１表面の放射能分布の測
定方法は、既に述べたのでここでは省略する。
際に被測定物１１の放射能分布を測定する状態が図示さ
れている。この実施例において、測定のノイズとなる他
の光を遮蔽するために暗幕２８が用いられている。この
暗幕２８は、ノイズとなる光と蛍光の波長が著しく異な
る場合には用いる必要がない。測定にあたっては、被測
定物１１に蛍光体が塗布されてから暗幕２８で囲い、そ
の後撮影装置２９を所定の位置に移動させる。撮影装置
２９の移動は、位置決め制御装置１４により行う。撮影
装置２９には、その先端に光学レンズ１３が備えられ、
内部にはフィルタ１５やＣＣＤ撮像素子１８などが備え
られている。なお、被測定物１１表面の放射能分布の測
定方法は、既に述べたのでここでは省略する。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る放射
能分布検出方法及び装置においては、非常に簡単な方法
で不確定な形状の放射性廃棄物の表面の放射能汚染の分
布を測定することが可能となる、この場合に、測定にあ
たって二次汚染物が生じないので、放射能汚染の飛散や
拡大を防止することが可能となる。更に、被測定物がα
線や低エネルギーのβ線で汚染されている場合には、塗
布された蛍光体層が放射線の吸収層を兼ねることとなる
ので、外部被曝の防止にも役立つという副次的な効果を
有している。
能分布検出方法及び装置においては、非常に簡単な方法
で不確定な形状の放射性廃棄物の表面の放射能汚染の分
布を測定することが可能となる、この場合に、測定にあ
たって二次汚染物が生じないので、放射能汚染の飛散や
拡大を防止することが可能となる。更に、被測定物がα
線や低エネルギーのβ線で汚染されている場合には、塗
布された蛍光体層が放射線の吸収層を兼ねることとなる
ので、外部被曝の防止にも役立つという副次的な効果を
有している。
【図１】本発明の好適な一実施例に係る放射能分布検出
装置の構成を示すブロック図である。
装置の構成を示すブロック図である。
【図２】被測定物への蛍光体の塗布を説明するための図
である。
である。
【図３】被測定物の放射能分布を検出する際の状態を説
明するための図である。
明するための図である。
１１ 被測定物 １２ 蛍光体塗布装置 １３ 光学レンズ １４ 位置決め制御装置 １５ バンドパスフィルタ １７ イメージインテンシファイア １８ ＣＣＤ撮像素子 １９ Ａ／Ｄ回路 ２０ メモリ ２１ コンピュータ ２３ 表示装置 ２５ 蛍光体スプレー ２７ 蛍光体層 ２８ 暗幕 ２９ 撮影装置
Claims (2)
- 【請求項１】 被測定物に蛍光体を塗布し、蛍光体が塗
布された被測定物から発せられる蛍光の分布を検出する
ことにより、被測定物が有する放射能の分布を検出する
放射能分布検出方法。 - 【請求項２】 被測定物に蛍光体を塗布する手段と、 蛍光体が塗布された被測定物から発せられる蛍光の分布
を検出する手段と、 を有し、被測定物の放射能分布を蛍光分布に変換して検
出することを特徴とする放射能分布検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11295393A JPH06324151A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 放射能分布検出方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11295393A JPH06324151A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 放射能分布検出方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06324151A true JPH06324151A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=14599669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11295393A Pending JPH06324151A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 放射能分布検出方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06324151A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004020409A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Toshiba Corp | 放射線管理モニタ |
| JP2009506327A (ja) * | 2005-08-26 | 2009-02-12 | ローレンス リヴァーモア ナショナル セキュリティ，エルエルシー | 腐食を検出するための塗料、並びに、腐食、化学侵襲、及び放射性侵襲の警告方法 |
| JP2012198223A (ja) * | 2005-08-26 | 2012-10-18 | Lawrence Livermore National Security Llc | 腐食を検出するための塗料、並びに、腐食、化学侵襲、及び放射性侵襲の警告方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01185477A (ja) * | 1988-01-20 | 1989-07-25 | Taisei Corp | 放射性汚染を検出する材料と検出方法 |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP11295393A patent/JPH06324151A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01185477A (ja) * | 1988-01-20 | 1989-07-25 | Taisei Corp | 放射性汚染を検出する材料と検出方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004020409A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Toshiba Corp | 放射線管理モニタ |
| JP2009506327A (ja) * | 2005-08-26 | 2009-02-12 | ローレンス リヴァーモア ナショナル セキュリティ，エルエルシー | 腐食を検出するための塗料、並びに、腐食、化学侵襲、及び放射性侵襲の警告方法 |
| JP2012198223A (ja) * | 2005-08-26 | 2012-10-18 | Lawrence Livermore National Security Llc | 腐食を検出するための塗料、並びに、腐食、化学侵襲、及び放射性侵襲の警告方法 |
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