JPH06340682A - 置換されたジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン類 - Google Patents

置換されたジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン類

Info

Publication number
JPH06340682A
JPH06340682A JP3354619A JP35461991A JPH06340682A JP H06340682 A JPH06340682 A JP H06340682A JP 3354619 A JP3354619 A JP 3354619A JP 35461991 A JP35461991 A JP 35461991A JP H06340682 A JPH06340682 A JP H06340682A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon atoms
group
alkyl group
phenyl
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3354619A
Other languages
English (en)
Inventor
Rita Pitteloud
ピッテラウド リタ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPH06340682A publication Critical patent/JPH06340682A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
    • C08K5/5393—Phosphonous compounds, e.g. R—P(OR')2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07F9/657163—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being bound to at least one carbon atom
    • C07F9/65719—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being bound to at least one carbon atom the ring phosphorus atom and, at least, one ring oxygen atom being part of a (thio)phosphonous acid derivative

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 次式Ｉ 【化１】 （Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立してＣ１〜１８ア
ルキル基、炭素原子数Ｃ５〜１２シクロアルキル基、フ
ェニル基、Ｃ１〜４アルキル置換フェニル基、フェニル
−Ｃ１〜４アルキル基、Ｒ3 はＨ、メチル基、ｎは１ま
たは２、ｎが１のとき、ＡはＣ１〜３０アルキル基、Ｃ
５〜１２シクロアルキル基、フェニル−Ｃ１〜４アルキ
ル基、または−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−により中
断されたＣ２〜１８アルキル基、ｎが２のとき、Ａは直
接結合、Ｃ１〜１２アルキレンまたは−ＮＲ−，−Ｓ−
若しくは−Ｏ−により中断されたＣ２〜１２アルキレン
を表わす）で表わされる化合物。 【効果】 光に誘導され、熱および／または酸化分解に
対して有機材料、特にポリオレフィンを安定化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な置換されたジベ
ンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン、有
機材料を安定化するためのそれらの使用方法、及びこれ
らの化合物を含有する組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオ
キサホスフィットは、有機ポリマー用加工安定剤として
数年間、知られてきた（参照ＣＡ−Ａ−１１５９８４
５）。最近、芳香族基によりリン原子で置換され、そし
て１２位に硫黄原子を含むか、またはベンゼン環でヒド
ロキシル基を有するジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕
ジオキサホスシンが、合成樹脂およびポリオレフィン用
安定剤として開示された（米国特許第３２９７６３１
号、ソ連第８９７７９７号、特開昭４６−１７８９６
号）。芳香族基を介して結合するビス−ジベンゾ〔ｄ，
ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスシンはこの用途（米国
特許第４４８１３１７号）を提案する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】リン原子にアルキル基
またはアルアルキル基を有し、アルキレン基を介して結
合されるこの類の化合物が、驚いたことに、有機材料の
ための良好な安定剤、特に合成ポリマー用加工安定剤で
あることが見い出された。
【０００４】
【課題を解決するための手段】特に、本発明は、次式Ｉ
【化２】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して炭素原
子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基、フェニル基、または炭素原子数
１ないし４のアルキル置換されたフェニル基、またはフ
ェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、
Ｒ3 は水素原子またはメチル基を表わし、ｎは１または
２を表わし、ｎが１のとき、Ａは炭素原子数１ないし３
０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
キル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル
基、または−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−により中断
された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を表わし、
ｎが２のとき、Ａは直接結合、炭素原子数１ないし１２
のアルキレンまたは−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−に
より中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレンを
表わす（Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基また
はフェニル基を表わす）〕で表わされる化合物に関す
る。
【０００５】アルキル基として定義されたＲ1 及びＲ2
は、分枝状または非分枝状基でありうる。記号”Ｃ”に
付いた数値範囲は可能な炭素原子の数を示す。それゆ
え、炭素原子数１ないし１８のアルキル基として定義さ
れたＲ1 及びＲ2 は代表的に、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、２−エ
チルブチル基、イソアミル基、１−メチルペンチル基、
１，３−ジメチルブチル基、１，１，３，３−テトラメ
チルブチル基、１−メチルヘキシル基、イソヘプチル
基、１−メチルヘプチル基、１，１，３−トリメチルヘ
キシル基、または１−メチルウンデシル基である。１な
いし８個の炭素原子を含むアルキル基が好ましく、１な
いし４個の炭素原子を含む基が特に好ましい。
【０００６】炭素原子数１ないし３０のアルキル基とし
て定義されたものは、炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基に与えられた意味に加えて、代表的にはイコシル
基、ヘンイコシル基、ドコシル基またはトリアコンチル
基である。好ましくは、Ａは炭素原子数１ないし２２の
アルキル基、もっとも好ましくは炭素原子数１ないし１
８のアルキル基である。
【０００７】炭素原子数１ないし１２のアルキレンとし
て定義されたものは、代表的にメチレン、エチレン、１
−メチルエチレン、プロピレン、１−メチルプロピレ
ン、２−メチルプロピレン、ｎ−ブチレン、２−メチル
ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オク
チレン、２−エチルヘキシレン、２−エチルブチレン、
１−メチルペンチレン、１，３−ジメチルブチレン、
１，１，３，３−テトラメチルブチレン、１−メチルヘ
キシレン、１−メチルヘプチレン、デシレンまたはドデ
シレンである。
【０００８】Ａが−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−によ
り中断されるとき、好ましくは構造単位−ＣＨ2 −ＣＨ
2 −Ｏ−，−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｓ−または−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2−ＮＲ−が形成される。鎖は、基−ＮＲ−，−Ｓ−
及び−Ｏ−の１個または数個により中断されうる。
【０００９】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基として定義されたＲ1 及びＲ2 は、代表的にシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、シクロデシル基、及びシクロドデシル基
を含む。シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシ
クロヘプチル基が好ましく、シクロヘキシル基は特に好
ましい。
【００１０】フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基として定義されたＲ1 及びＲ2及びＡは、代表的に
ベンジル基、フェニルエチル基、３−フェニルプロピル
基、α−メチルベンジル基、及びα，α−ジメチルベン
ジル基である。ベンジル基が好ましい。
【００１１】炭素原子数１ないし４のアルキル置換され
たフェニル基として定義されたＲ1及びＲ2 は、代表的
にメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチル
フェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、
イソプロピルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−
第三ブチルフェニル基、またはメチルジ−第三ブチルフ
ェニル基を含む。アルキル基の数は好ましくは１ないし
３、代表的には１または２である。アルキル置換基の炭
素原子の全数は好ましくは１ないし１２、特に１ないし
６である。
【００１２】特に好ましい式Ｉの化合物において、Ｒ2
はＲ1 に対してメタ位である。特に好ましいＲ1 及びＲ
2 はアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル
基である。
【００１３】有益な式Ｉの化合物は、Ｒ1 及びＲ2 がそ
れぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フ
ェニル基、または炭素原子数１ないし４のアルキル置換
されたフェニル基、またはフェニル−炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表わし、Ｒ3 は水素原子またはメチ
ル基を表わし、ｎは１または２を表わし、ｎが１のと
き、Ａは炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原
子数５ないし１２のシクロアルキル基、または−ＮＲ
−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−により中断された炭素原子数
２ないし１８のアルキル基を表わし、ｎが２のとき、Ａ
は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン、ま
たは−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−により中断された
炭素原子数２ないし１２のアルキレン（Ｒは炭素原子数
１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表わす）
で表わされる化合物である。
【００１４】好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ1 及びＲ2 が
それぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、また
はフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
し、Ｒ3 は水素原子またはメチル基を表わし、ｎは１ま
たは２を表わし、そしてＡは炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基または炭素原子数１ないし１２のアルキレンを表わ
す化合物である。
【００１５】特に好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ1 及びＲ
2 がそれぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、
またはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を
表わし、Ｒ3 は水素原子またはメチル基を表わし、ｎは
１を表わし、Ａは炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、またはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わす化合物である。
【００１６】特に興味がある式Ｉの化合物は、Ｒ1 及び
Ｒ2 がそれぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表わし、ｎは１または２を表わし、Ａは炭
素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル−炭素原
子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし
８のアルキレンを表わす化合物、及びＲ1 及びＲ2 がそ
れぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキル
基を表わし、ｎは１または２を表わし、Ａは炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、または炭素原子数１ないし
８のアルキレン基を表わす化合物、特にＲ1 及びＲ2 が
それぞれ互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基を表わし、ｎは１を表わし、Ａは炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、またはフェニル−炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表わす化合物である。
【００１７】式Ｉの化合物は光に誘導され、熱および／
または酸化分解に対して有機材料を安定化するのに非常
に適する。従って、本発明はそのような反応を受けやす
い有機材料、及び少なくとも１個の式Ｉの化合物を含む
組成物、及び上記の種類の分解に対する有機材料を保護
するための安定剤として式Ｉの化合物を使用する方法に
関する。
【００１８】そのような材料の例を以下に示す。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−
１−エン、ポリメチルペンテ−１−エン、ポリイソプレ
ンまたはポリブタジエン、同様にシクロオレフィン、例
えばシクロペンテンまたはノルボルエンのポリマー、ポ
リエチレン（必要ならば架橋されうる）、例えば高密度
ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）及び線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。
【００１９】２．上記１に挙げたポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレ
ンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤ
ＰＥ）及び種々のタイプのポリエチレンの混合物。（例
えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２０】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互もしくは他のビニルモノマーとのコポリマー、例え
ばエチレン−プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエ
チレン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）の混合物、プロピレン−ブテ−１−エン
コポリマー、エチレン−ヘキセンコポリマー、エチレン
−メチルペンテンコポリマー、エチレン−ヘプテンコポ
リマー、エチレン−オクテンコポリマー、プロピレン−
ブタジエンコポリマー、イソブチレン−イソプレンコポ
リマー、エチレン−アルキルアクリレートコポリマー、
エチレン−アルキルメタクリレートコポリマー、エチレ
ン−アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン−ビ
ニルアセテートコポリマー、又はエチレン−アクリル酸
コポリマー及びそれらの塩（アイソマー）、並びにエチ
レンとプロピレンとジエン、例えばヘキサジエン、ジシ
クロペンタジエン、またはエチリデンノルボルネンとの
ターポリマー、そしてさらに、そのようなコポリマーと
相互に、及び上記１で挙げたポリマーとの混合物、例え
ば、ポリプロピレン／エチレン／プロピレンコポリマ
ー、ＬＤＰＥ／ＥＶＡ，ＬＤＰＥ／ＥＡＡ，ＬＬＤＰＥ
／ＥＶＡ及びＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。
【００２１】３ａ．α−オレフィンと一酸化炭素のラン
ダムまたは交互コポリマー。 ３ｂ．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）で
あり、そこからの水素化変成を含むもの。（例えば粘着
性樹脂）。
【００２２】４．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチ
レン）及びポリ（α−メチルスチレン）。
【００２３】５．スチレンもしくはα−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／無水マレ
イン酸、及びスチレン／アクリロニトリル／メチルアク
リレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば
ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン−プ
ロピレン−ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合
物、及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレ
ン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／ス
チレン、スチレン／エチレン−ブチレン／スチレン、又
はスチレン／エチレン−プロピレン／スチレン。
【００２４】６．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン／スチレンコポリマーまたはポリブ
タジエン／アクリロニトリルコポリマーにスチレン、及
びポリブタジエンにスチレンとアクリロニトリル（また
はメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン
及び無水マレイン酸またはマレイミド；ポリブタジエン
にスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸ま
たはマレイミド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンに
スチレンとアルキルアクリレートまたはメタクリレー
ト、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチ
レンとアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートま
たはポリアルキルメタクリレートにスチレンとアクリロ
ニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチ
レンとアクリロニトリル、及びそれらと前記５で挙げた
コポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ，ＭＢＳ，ＡＳＡ
またはＡＥＳポリマーとして知られるもの。
【００２５】７．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポ
リマー、及びエピクロロヒドリンホモ−及びコポリマ
ー、好ましくはハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化
ビニル、及びポリ弗化ビニリデン；並びにそれらのコポ
リマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポ
リマー。
【００２６】８．α，β−不飽和酸、及びその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリ
ロニトリル。
【００２７】９．上記８に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル−ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル−ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル−ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマー、またはアク
リロニトリル−ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアク
リロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンタ
ーポリマー。
【００２８】10．不飽和アルコール及びアミン、又はア
シル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ
イン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタ
レートまたはポリアリルメラミン；及びそれらと上記１
に挙げたオレフィンとのコポリマー。
【００２９】11．環状エーテルのホモポリマー及びコポ
リマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００３０】12. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレン、及びコモノマーとしてエチレンオキシドを有す
るポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レートまたはＭＢＳで変成されたポリアセタール。
【００３１】13．ポリフェニレンオキシド及びスルフィ
ド、及びそれらとスチレンポリマーまたはポリアミドの
混合物。
【００３２】14．一方で末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステル及びポリブタジエン、他方で脂肪族も
しくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウ
レタン、並びにその前駆物質。
【００３３】15．ジアミン及びジカルボン酸から、及び
／又はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミ
ド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６
／１０、ポリアミド６／９、ポリアミド６／１２及び４
／６、ポリアミド１１、ポリアミド１２及びｍ−キシレ
ン、ジアミン及びアジピン酸の縮合により得られた芳香
族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル
酸及び／又はテレフタル酸から、及び変成剤としてのエ
ラストマー、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキ
サメチレンテレフタルアミド、またはポリ−ｍ−フェニ
レン−イソフタルアミドを必要に応じて使用して製造さ
れたポリアミド；前述したポリアミドとポリオレフィン
のコポリマー、オレフィンコポリマー、イオノマーまた
は化学的に結合された、又はグラフト化されたエラスト
マー；又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレ
ングリコールとのブロックコポリマー；及びさらにＥＰ
ＤＭまたはＡＢＳで変成されたポリアミド、又はコポリ
アミド；及び加工の間、縮合されたポリアミド（ＲＩＭ
ポリアミド系）。
【００３４】16．ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド
−イミド及びポリベンゾイミダゾール。
【００３５】17．ジカルボン酸及びジオールから、及び
／又はヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンか
ら誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４
−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリ
ヒドロキシベンゾエート、並びに末端水酸基を有するポ
リエーテルから誘導されるブロックポリエーテルエステ
ル；及び、さらにポリカーボネートまたはＭＢＳで変成
されたポリエステル。
【００３６】18．ポリカーボネートおよびポリエステル
カーボネート。
【００３７】19．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
【００３８】20．一方でアルデヒドから、及び他方でフ
ェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素
／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒ
ド樹脂。
【００３９】21．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００４０】22．飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価ア
ルコールとのコポリエステルから、ビニル化合物を架橋
剤として誘導された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハ
ロゲン含有、難燃変成樹脂。
【００４１】23．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステルアクリレートから誘導された架橋アクリル樹脂。
【００４２】24．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【００４３】25．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。
【００４４】26．セルロースのような天然ポリマー、ゴ
ム、ゼラチン及びそれらの化学変成した同族誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース及び酪酸
セルロース、及びセルロースエーテル、例えばメチルセ
ルロース、並びにロジン樹脂およびそれらの誘導体。
【００４５】27．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭ
またはＡＢＳ，ＰＶＣ／ＥＶＡ，ＰＶＣ／ＡＢＳ，ＰＶ
Ｃ／ＭＢＳ，ＰＣ／ＡＢＳ，ＰＢＴＰ／ＡＢＳ，ＰＣ／
ＡＳＡ，ＰＣ／ＰＢＴ，ＰＶＣ／ＣＰＥ，ＰＶＣ／アク
リレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ，ＰＣ／熱可塑性Ｐ
ＵＲ，ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ，ＰＰＥ
／ＨＩＰＳ，ＰＰＥ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ，ＰＡ／ＰＰ及びＰＡ／ＰＰＥ。
【００４６】28．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動
物または植物脂肪、オイル及びワックスまたは合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）に基づいたオイル、ワックス及び
脂肪、並びに例えば紡糸製剤として用いられているいか
なる重量比での合成エステルと鉱油との混合物、そして
それらの水性エマルジョン。
【００４７】29．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００４８】本発明の組成物は、式Ｉの化合物を０．０
１ないし１０重量％、代表的には０．０５ないし５重量
％、好ましくは０．０５ないし３及び０．１ないし２重
量％都合良く含む。組成物は１個またはそれ以上の式Ｉ
の化合物を含み、重量パーセントは該化合物の全量に基
づく。評価は式Ｉの化合物無しの有機材料の全量に基づ
く。
【００４９】有機材料への混合は、業界で慣用されてい
る方法により式Ｉの化合物と他の最適な添加剤と材料と
のブレンドにより、または式Ｉの化合物の材料への適用
により行われる。有機材料がポリマー、特に合成ポリマ
ーのとき、混合は成形品の製造の前または間に行われる
か、または溶解若しくは分散された化合物を必要に応じ
て、溶媒の連続蒸発をしてポリマーに適用することによ
り行われる。
【００５０】エラストマーの場合、これらはラッテクス
として安定化されうる。ポリマへの式Ｉの化合物を混合
する他の方法は、相当するモノマーの重合の前、間また
は直後に、または架橋前に該化合物を添加することを含
む。式Ｉの化合物はカプセル化された形態で添加されう
る（例えば、ワックス、オイルまたはポリマーで）。式
Ｉの化合物が重合前または間に添加されるとき、該化合
物はポリマーの鎖長の調節剤〔鎖調節剤（chain termin
ators)〕として作用する。式Ｉの化合物またはそれらの
混合物は、安定化されるべき合成樹脂にこれらの化合物
を含むマスターバッチの形態で、代表的に２．５ないし
２５重量％の濃度で添加されうる。
【００５１】式Ｉの化合物は以下の方法により好適に混
合される： −エマルジョンまたは懸濁液（例えばラテックスまたは
エマルジョンポリマーを得る） −添加化合物またはポリマー混合物を混合する間の乾燥
混合物 −加工装置（例えば押し出し機、内部混合機等）への直
接添加による −溶液または溶解物
【００５２】本発明のポリマー組成物は種々の形態で使
用されるか、または種々の製品、例えばシート、繊維、
リボン、成形品、異形材、または塗料用結合剤、接着剤
またはパテに加工される。
【００５３】保護されるべき有機材料は、好ましくは天
然、半合成または、特に合成ポリマーである。熱可塑性
樹脂、好ましくはポリオレフィンを保護することが特に
有効である。この点について、加工安定剤（熱安定剤）
として式Ｉの化合物の優れた効果は特記されるべきであ
る。このために、ポリマー加工の前または間に有効に添
加される。しかし、他のポリマー（例えば、エラストマ
ー）または潤滑剤及び光誘導された、および／または熱
酸化分解のような分解に対する油圧用流体を安定化する
ことができる。エラストマーの例は、可能な有機材料の
上記リストに見い出されるだろう。
【００５４】適当な潤滑剤および油圧用流体は例えば、
鉱油または合成油またはその混合物に基づく。潤滑剤は
当業者に公知であり、関連した技術文献、例えば、Diet
er Klamann氏著、"Schmierstoffe und verwandte Produ
kte"(Lubricants and Related Products),Verlag Chemi
e,Weinheim,1982 年、Schewe-kobek氏著、"Das Schmier
mittel-Taschenbuch"(The Lubricant Handbook),Dr.Alf
red Huthig-Verlag 著、Heidelberg、1974年、及び"Ull
manns Enzyklopadie der technischen Chemie"(Encyclo
pedia of Industrial Chemistry),13 巻、p.85-94(Verl
ag Chemie,Weinheim,1977 年) に記載されている。
【００５５】本発明はさらに、安定剤として式Ｉの化合
物を有機材料に混合または適用することによる、酸化、
熱および／または化学線の分解に対する有機材料の保護
方法に関する。新規化合物の添加において、特に本発明
の組成物が有機、好ましくは合成ポリマーを含むとき、
本発明の組成物は他の慣用添加剤を含みうる。
【００５６】そのような他の添加剤を以下に示す。１．酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メチルフェノール、2-
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジシクロペンチル-4- メチルフェノー
ル、2-( α−メチルシクロヘキシル）-4,6- ジメチルフ
ェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノール、
2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- メトキシメチルフェノール及び2,6-ジノニル-4
- メチルフェノール。
【００５７】1.2.アルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メトキシフェノール、
2,5-ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5-ジ−第三アミル
ヒドロキノンおよび2,6-ジフェニル-4- オクタデシルオ
キシフェノール。
【００５８】1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ル 例えば、2,2'- チオビス（6-第三ブチル-4- メチルフェ
ノール）、2,2'- チオビス（4-オクチルフェノール）、
4,4'- チオビス（6-第三ブチル-3- メチルフェノール）
および4,4'- チオビス（6-第三ブチル-2- メチルフェノ
ール）。
【００５９】1.4.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4- メチル
フェノール）、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4-
エチルフェノール）、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス（4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル）、2,2'- メチレンビス（6-ノニル-4- メチルフェノ
ール）、2,2'- メチレンビス（4,6-ジ第三ブチルフェノ
ール) 、2,2'-エチリデン- ビス(4,6- ジ第三ブチルフ
ェノール) 、2,2'- エチリデンビス（6-第三ブチル-4-
イソブチルフェノール) 、2,2'- メチレンビス〔6-( α
−メチルベンジル）-4- ノニルフェノール〕、2,2'- メ
チレンビス〔6-( α，α−ジメチルベンジル）-4- ノニ
ルフェノール〕、4,4'- メチレンビス（2,6-ジ−第三ブ
チルフェノール）、4,4'- メチレンビス（６−第三ブチ
ル-2- メチルフェノール）、1,1-ビス（5-第三ブチル-4
- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、2,6-ビス−
(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジル）-4
- メチルフェノール、1,1,3-トリス（5-第三ブチル-4-
ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、1,1-ビス（5-
第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）-3-n-
ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス
〔3,3-ビス（3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシフェニル）
ブチレート〕、ビス（3-第三ブチル-4- ヒドロキシ-5-
メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、及びビス−
〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベンジ
ル）-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレー
ト。
【００６０】1.5.ベンジル化合物 例えば、1,3,5-トリス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシベンジル）-2,4,6-トリメチルベンゼン、ビス-(3,5
-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル）スルフィ
ド、イソオクチル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス（4-第三ブチル-3-
ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル）ジチオールテレフ
タレート、1,3,5-トリス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、1,3,5-トリス（4-
第三ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5-ジ
−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネートのカ
ルシウム塩及び1,3,5-トリス（3,5-ジシクロヘキシル-4
- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート。
【００６１】1.6.アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸4-ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4-ヒドロキシアニリド、2,4-ビス（オクチルメルカプ
ト）-6-(3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシアニリノ）-s
- トリアジン、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニル）−カルバミン酸オクチルエステル。
【００６２】1.7.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（3,5-ジ−第三ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレングリ
コール、N,N'- ビス-(ヒドロキシエチル) 蓚酸ジアミ
ド。
【００６３】1.8.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレングリ
コール、N,N'- ビス-(ヒドロキシエチル) 蓚酸ジアミ
ド。
【００６４】1.9.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（3,5-ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸エステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレングリ
コール、N,N'- ビス-(ヒドロキシエチル) 蓚酸ジアミ
ド。
【００６５】1.10. β−（3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'
- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミンおよびN,N'- ビス
（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル）ヒドラジン。
【００６６】２．紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2-（2'- ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル 例えば5'- メチル、3',5'-ジ第三ブチル、5'- 第三ブチ
ル、5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル) 、5-クロロ-3',
5'- ジ第三ブチル、5-クロロ-3'-第三ブチル-5'-メチ
ル、3'- 第二ブチル-5'-第三ブチル、4'- オクトキシ、
3',5'-ジ第三アミルおよび3',5'-ビス-(α, α- ジメチ
ルベンジル）誘導体。
【００６７】2.2. 2-ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4-ヒドロキシ、4-メトキシ、4-オクトキシ、4-デ
シルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキシ、4,
2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,4'-ジメ
トキシ誘導体。
【００６８】2.3.必要に応じて置換された安息香酸のエ
ステル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル）
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ
−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキ
シ安息香酸エステル及び3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
【００６９】2.4.アクリレート 例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸のエ
チルエステル又は、イソオクチルα−シアノ−β，β−
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケ
イ皮酸のメチルエステル又はブチルエステル、メチルα
−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、N-（β
−カルボメトキシ−β−シアノビニル）-2- メチルイン
ドリン。
【００７０】2.5.ニッケル化合物 例えば2,2'- チオ−ビス〔4-(1,1,3,3- テトラメチルブ
チル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば、１：１ま
たは１：２錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシ
ルジエタノールアミンを有してよい錯体、ニッケルジブ
チルジチオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例え
ばメチル、又はエチルエステルのニッケル塩、ケトオキ
シム、例えば2-ヒドロキシ-4- メチルフェニルウンデシ
ルケトオキシムのニッケル錯体、および場合により、付
加配位子を含んでよい1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒ
ドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００７１】2.6.立体障害性アミン 例えばビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル）セ
バケート、ｎ−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4-ヒドロ
キシベンジル−マロン酸−ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチ
ルピペリジル）エステル、１-(2-ヒドロキシエチル)-2,
2,6,6-テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合物、N,N'- ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4-
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと4-第三オクチル
アミノ-2,6- ジクロロ-1,3,5- トリアジンとの縮合物、
テトラキス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)-1,
2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、1,1'-(1,2-エタンジイ
ル) ビス(3,3,5,5- テトラメチルピペラジノン) 、ビス
（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル) スクシネート、
ビス（1-オクチルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリ
ジル) セバケート。
【００７２】2.7.蓚酸ジアミド 例えば4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジ
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2,2'- ジ
ドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2-エトキ
シ-2'-エチルオサニリド、N,N'- ビス(3- ジメチルアミ
ノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5- 第三ブチ
ル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキシ-2'-エチ
ル-5,4'-ジ第三ブトオキサニリドとの混合物、及びオル
ト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサニリドの混合
物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサニリドの混合
物。
【００７３】2.8. 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-
トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オ
クチルオキシ- フェニル-4,6- ビス(2,4- ジメチルフェ
ニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2,4- ジヒドロキシフェニ
ル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジ
ン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ-4- プロピルオキシフェニ
ル)-6-(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、
2-(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビ
ス(4- メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒド
ロキシ-4- ドデシルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジ
メチルフェニル) -1,3,5- トリアジン。
【００７４】３．金属不活性化剤 例えばN,N'−ジフェニル蓚酸ジアミド、N-サリチラル-
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾールおよびビス（ベン
ジリデン）蓚酸ジヒドラジド。
【００７５】４．ホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4-ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4-ジ
−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4-ジ−第三ブチルフェニル）4,4'
- ジフェニレンジホスホニット、3,9-ビス(2,4- ジ第三
ブチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9- ジホ
スファスピロ〔5.5 〕ウンデカン。
【００７６】５．過酸化物スカベンジャー 例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウ
リル酸エステル、ステアリル酸エステル、ミリスチン酸
エステル又はトリデシル酸エステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、又は2-メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキ
ス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７７】６．ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ素及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。
【００７８】７．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、カリ
ウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート、また
は亜鉛ピロカテコレート。
【００７９】８．核剤 例えば、4-第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。
【００８０】９．充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
【００８１】10. その他の添加物 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、および発泡剤。
【００８２】特別な補助安定剤と共に式Ｉの化合物を使
用するのが好ましい。特記されるべき補助安定剤は、フ
ェノール性抗酸化剤（例えば、項１．１ないし１．１０
として上記に列挙されたもの）、ステアレート（上記の
項７として列挙されたもの）、ホスフィット及びホスホ
ニット（例えば、上記の項４として列挙されたもの）及
びベンゾフラン−２−オン誘導体、特に米国特許第４３
２５８６３号と米国特許第４３３８２４４号に開示され
た物が適当であり、次式
【化３】 〔式中、Ｒ’1 はフェニル基または、１８個以下の炭素
原子を一緒にもつ１ないし３個のアルキル基により置換
されたフェニル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数２ないし１８のアルコキシカルボニル
基または塩素原子を表わし、Ｒ’2 及びＲ’4 はそれぞ
れ互いに独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または塩素
原子を表わし、Ｒ’3 は、Ｒ’2 もしくはＲ’4 と同じ
意味を表わすか、または次式
【化４】 または−Ｄ−Ｅ｛Ｒ’6 は水素原子、炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、酸素原子または硫黄原子により中
断された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、３ない
し１６個の炭素原子を含むジアルキルアミノアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、または１８個以下の炭素原子を一緒にもつ１ないし
３個のアルキル基により置換されたフェニル基を表わ
し、Ｘは０，１または２を表わし、置換基Ｒ’7 はそれ
ぞれ互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
フェニル基、１６個以下の炭素原子を一緒にもつ１ない
し２個のアルキル基により置換されたフェニル基、式−
Ｃ2 Ｈ4 ＯＨ，−Ｃ2 Ｈ4 −Ｏ−Ｃm Ｈ2m+1または次式
【化５】 を表わすか、または窒素原子と一緒に架橋してピペリジ
ノ基もしくはモルホリノ基を形成し、ｍは１ないし１８
を表わし、Ｒ’10は水素原子、炭素原子数１ないし２２
のアルキル基、または炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルキル基を表わし、Ａは窒素原子、酸素原子または硫
黄原子により中断された炭素原子数２ないし２２のアル
キレンを表わし、Ｒ’8 は水素原子、炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、フェニル基、１６個以下の炭素原子を一緒にもつ
１ないし２個のアルキル基により置換されたフェニル
基、またはベンジル基を表わし、Ｒ’9 は炭素原子数１
ないし１８のアルキル基を表わし、Ｄは−Ｏ−，−Ｓ
−，−ＳＯ−，−ＳＯ2 −または−Ｃ（Ｒ’11）2 −を
表わし、置換基Ｒ’11はそれぞれ独立して１６個以下の
炭素原子を一緒にもつアルキル基、フェニル基、または
次式
【化６】 または次式
【化７】 ＜Ｘ，Ｒ’6 及びＲ’7 は上記で与えられた意味を表わ
す＞で表わされる基を表わし、Ｅは次式
【化８】 ＜Ｒ’1 ，Ｒ’2 及びＲ’4 は上記で与えられた意味を
表わす＞で表わされる基を表わし、Ｒ’5 は水素原子、
炭素原子数１ないし２０のアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、塩素原子または次式
【化９】 または次式
【化１０】 ＜Ｒ’6 及びＲ’7 は上記で与えられた意味を表わす＞
で表わされる基を表わすか、またはＲ’5 はＲ’4 と一
緒になってテトラメチレン基を形成する｝で表わされる
基を表わす〕で表わされる化合物が好ましい。
【００８３】式Ｉの化合物は化学分野で使用される標準
的な方法、例えば、有機金属試薬で式ＩＩの環状ジアリ
ールホスホロクロロダイトの塩素原子を求核置換反応す
ることにより次式：
【化１１】 〔Ｍは好ましくはＬｉ，ＭｇＸまたはＺｎＸ（Ｘ＝Ｃ
ｌ，Ｂｒ，Ｉ）を表わす〕のように製造されうる。
【００８４】置換は−６０℃ないし＋１５０℃、好まし
くは−１０℃ないし＋７０℃の温度範囲で行われる。適
当な溶媒は代表的にジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ルのようなエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、
ジメトキシエタン、同様にエーテル及び脂肪族並びに芳
香族炭化水素、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、及び脂肪族炭化水素、例えば、ヘキサン及び石油エ
ーテル留分等の混合物である。
【００８５】ジアリールホスホロクロロダイト及び有機
金属試薬は、当量で都合良く使用される。少し過剰量の
有機金属試薬は例えば、１．０５ないし１．１倍過剰で
使用されうる。
【００８６】式ＩＩの化合物はそれ自体公知の方法、例
えば、次式ＩＩＩ
【化１２】 で表わされる２，２’−アルキリデンビスフェノールを
三塩化リンで、不活性非プロトン性溶媒中、２０ないし
２００℃の温度範囲で反応することにより製造される。
【００８７】式ＩＩＩのビスフェノールは、式Ａ−ＰＣ
ｌ2 またはＡ（ＰＣｌ2 ）2 のリン化合物とそれらを、
有機塩基の存在下に反応させることにより式Ｉの化合物
を製造するために直接使用されうる。式ＩＩＩのフェノ
ールは公知であるか、または標準の方法により容易に得
られる。
【００８８】本発明は以下の実施例により、より詳細に
説明され、明細書中、特記しない限り、すべての部及び
パーセントは重量による。
【実施例】実施例１： ２，１０−ジメチル−４，８−ジ第三ブチ
ル−６−ｎ−オクチル−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕
〔１，３，２〕ジオキサホスホシンの製造 ａ）コンデンサー、温度計及び攪拌器を備えた１．５ｌ
のスルホン化フラスコに、３４０．２ｇの２，２’−メ
チレンビス−（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、９６ｍｌの三塩化リン、１７０ｍｌのｏ−ジクロ
ロベンゼンおよび７．８ｇのトリフェニルホスフィンを
入れ、この混合物を５０℃に加熱し、その結果、塩酸を
放出する。この温度で１．５時間後、反応混合物を１７
０℃に加熱し、窒素の弱蒸気を混入させながら、約１時
間攪拌する。５０℃に冷却後、２００ｍｌのヘキサンを
添加し、そのため、生成物が結晶化し始める。バッチを
室温に冷却し、沈澱を吸引ろ過により集め、５０ｍｌの
ヘキサンで２回洗浄し、真空下５０℃で乾燥する。 収量：２，１０−ジメチル−４，８−ジ第三ブチル−６
−クロロ−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕
ジオキサホスホシン３０７ｇ（理論値の７６％），融点
１６３〜１６５℃。
【００８９】ｂ）窒素下、２．９５ｇのマグネシウム削
り屑を、温度計、コンデンサー、滴下漏斗及び窒素吸入
口を備えた２５０ｍｌの三首フラスコに置く。約５ｍｌ
のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）及び１ｍｌの１−オク
チルクロリドと一緒に一時的に加熱することにより、グ
リニャール反応を開始する。３０ｍｌのＴＨＦで希釈
後、２０ｍｌのＴＨＦに溶解した他の１９．７ｇの１−
オクチルクロリドを、穏やかな還流が保たれるように滴
下する。添加が完了したとき、茶色の溶液を室温で約１
時間攪拌する。グリニャール化合物の濃度は約１．４５
モル／ｌ（滴定により測定される）である。
【００９０】ｃ）窒素下、４７ｇの２，１０−ジメチル
−４，８−ジ第三ブチル−６−クロロ−１２Ｈ−ジベン
ゾ〔ｄ，ｇ〕−〔１，３，２〕ジオキサホスホシン
（ａ）を温度計、マグネチックスターラー及び隔膜を備
えた５００ｍｌの三首フラスコの１２０ｍｌのＴＨＦに
懸濁する。約５℃に冷却後、ｂ）で得られた溶液を窒素
圧下、両頭の射出針により添加する。冷却バッチを除去
し、反応混合物を室温で１５分間攪拌する。次いで、約
６ｍｌの硫化ナトリウム水溶液を添加し、灰色懸濁液を
フラー土のろ過により不純物を除く。結果として得られ
た溶液を蒸発により濃縮し、残渣を７０ｍｌのイソプロ
パノールから再結晶し、融点７２〜７４℃の白色粉末の
形態で標記化合物５０．１ｇ（理論値の８９％）を得
る。
【００９１】実施例２〜１５ 表１、２及び３で列挙された化合物は、実施例１に記載
された一般手順に従って製造される。
【表１】
【００９２】
【表２】
【表３】
【００９３】実施例１７：ポリプロピレンの安定化 １．３ｋｇのポリプロピレン粉末（メルトインデックス
３．２ｇ／１０分、２３０℃／２．１６ｋｇで測定）
を、０．０５％のステアリン酸カルシウム、０．０５％
のテトラキス〔３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
−フェニルプロピオニルオキシメチル〕メタンおよび
０．０５％の表４に列挙された安定剤と混合する。この
混合物をシリンダー直径２０ｍｍ、長さ４００ｍｍ、２
６０℃、２７０℃及び２８０℃のそれぞれに調節された
３つの加熱域を持つ押出機中、１００ｒｐｍで押出す。
【００９４】押し出されたものは水浴を通して引っ張る
ことにより冷却され、次いで粒状化される。粒状物は二
度目と三度目に押し出される。これらの三回の押出の
後、メルトインデックスは２３０℃／２．１６ｋｇで測
定される。結果を表４で報告する。
【表４】
【００９５】実施例１８：ポリプロピレンの安定化 約５００，０００の分子量を持つ粉末形態の１００部の
安定化されていない高密度ポリプロピレンを、０．０５
部のテトラキス〔３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニルオキシメチル〕メタンおよび
０．１部の表５に列挙された安定剤と乾燥混合する。こ
の混合物を２２０℃、５０ｒｐｍでフラベンダープラス
トグラフ中、５０分間練る。この間、混練耐性はトルク
として連続的に記録される。ポリマーの架橋は、初期の
定常後、混練時間の間、トルク中で急激な増加を生じ
る。安定剤の有効性は定常時間の長さで示される。得ら
れた値は表５で報告される。
【表５】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１月９日
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７１】２．６．立体障害性アミン 例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビ
ス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エ
ステル、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと
４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合物、テトラキス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４
−ブタンテトラオエート、１，１’−（１，２−エタン
ジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジ
ノン）、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリ
ジル）スクシネート、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式Ｉ 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して炭素原
    子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１
    ２のシクロアルキル基、フェニル基、または炭素原子数
    １ないし４のアルキル置換されたフェニル基、またはフ
    ェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、
    Ｒ3 は水素原子またはメチル基を表わし、ｎは１または
    ２を表わし、ｎが１のとき、Ａは炭素原子数１ないし３
    ０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
    キル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル
    基、または−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−により中断
    された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を表わし、
    ｎが２のとき、Ａは直接結合、炭素原子数１ないし１２
    のアルキレンまたは−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−に
    より中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレンを
    表わす（Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基また
    はフェニル基を表わす）〕で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】 Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して
    炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５な
    いし１２のシクロアルキル基、フェニル基、または炭素
    原子数１ないし４のアルキル置換されたフェニル基、ま
    たはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
    わし、Ｒ3 は水素原子またはメチル基を表わし、ｎは１
    または２を表わし、ｎが１のとき、Ａは炭素原子数１な
    いし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシク
    ロアルキル基または−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは−Ｏ−に
    より中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を
    表わし、ｎが２のとき、Ａは直接結合、炭素原子数１な
    いし１２のアルキレンまたは−ＮＲ−，−Ｓ−若しくは
    −Ｏ−により中断された炭素原子数２ないし１２のアル
    キレン（Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基また
    はフェニル基を表わす）で表わされる請求項１記載の化
    合物。
  3. 【請求項３】 Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して
    炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ない
    し７のシクロアルキル基、またはフェニル−炭素原子数
    １ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ3 は水素原子また
    はメチル基を表わし、ｎは１または２を表わし、そして
    Ａは炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル−
    炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１
    ないし１２のアルキレンを表わす請求項１記載の化合
    物。
  4. 【請求項４】 Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して
    炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ない
    し７のシクロアルキル基、またはフェニル−炭素原子数
    １ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ3 は水素原子また
    はメチル基を表わし、ｎは１を表わし、Ａは炭素原子数
    １ないし１８のアルキル基またはフェニル−炭素原子数
    １ないし４のアルキル基を表わす請求項３記載の化合
    物。
  5. 【請求項５】 Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して
    炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、ｎは１ま
    たは２を表わし、Ａは炭素原子数１ないし１８のアルキ
    ル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基ま
    たは炭素原子数１ないし８のアルキレンを表わす請求項
    ３記載の化合物。
  6. 【請求項６】 Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ互いに独立して
    炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、Ａは炭素
    原子数１ないし１８のアルキル基、またはフェニル−炭
    素原子数１ないし４のアルキル基を表わす請求項４記載
    の化合物。
  7. 【請求項７】 分解を受けやすい有機材料と、少なくと
    も１個の請求項１記載の式Ｉの化合物を含む組成物。
  8. 【請求項８】 有機材料が天然、半合成または合成ポリ
    マーである請求項７記載の組成物。
  9. 【請求項９】 有機材料が合成ポリマー、好ましくは熱
    可塑性ポリマーである請求項７記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 ポリマーがポリオレフィンである請求
    項９記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 ホスフィット及びホスホニット、フェ
    ノール性抗酸化剤、ステアレート、及び置換されたベン
    ゾフラン−２−オンからなる群から選ばれた他の添加剤
    を含む請求項７記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 酸化、熱および／または化学線の分解
    を受けやすい有機材料を安定化するための請求項１記載
    の式Ｉの化合物の使用方法。
  13. 【請求項１３】 天然、半合成または合成ポリマーを安
    定化するための請求項１２記載の使用方法。
  14. 【請求項１４】 熱可塑性ポリマー、好ましくはポリオ
    レフィンを安定化するための請求項１３記載の使用方
    法。
  15. 【請求項１５】 有機材料に、安定剤として請求項１記
    載の式Ｉの化合物を混合または適用することからなる、
    酸化、熱および／または化学線の分解に対して該材料を
    安定化するための方法。
  16. 【請求項１６】 合成ポリマー、好ましくはポリオレフ
    ィンを安定化するための請求項１５記載の方法。
JP3354619A 1990-12-21 1991-12-19 置換されたジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン類 Pending JPH06340682A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH407990 1990-12-21
CH4079/90-0 1990-12-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06340682A true JPH06340682A (ja) 1994-12-13

Family

ID=4269432

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3354619A Pending JPH06340682A (ja) 1990-12-21 1991-12-19 置換されたジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン類

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPH06340682A (ja)
BE (1) BE1004533A3 (ja)
CA (1) CA2058156A1 (ja)
DE (1) DE4141884A1 (ja)
FR (1) FR2670786A1 (ja)
GB (1) GB2250990A (ja)
IT (1) IT1252573B (ja)
NL (1) NL9102152A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW360677B (en) * 1994-12-22 1999-06-11 Ciba Sc Holding Ag HALS phosphoramides as stabilisers
CN1052981C (zh) * 1996-01-11 2000-05-31 中国农业大学 1,3,2－二氧磷杂环辛烷类化合物——一类杀菌剂

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4481317A (en) * 1983-06-07 1984-11-06 Adeka Argus Chemical Co., Ltd. Hindered bisphenol diphosphonites and stabilized synthetic resin compositions containing the same
DD238798A1 (de) * 1985-06-28 1986-09-03 Schwarzheide Synthesewerk Veb Verfahren zur herstellung von fuenfbindigen hydroxyalkylphenylsubstituierten phosphororganischen verbindungen
AU635537B2 (en) * 1989-05-20 1993-03-25 Clariant Gmbh Arylesters of phosphonous acid, process for preparing them and their use to stabilize plastics, in particular polyolefin moulding materials
JP2663182B2 (ja) * 1989-10-27 1997-10-15 コニカ株式会社 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料

Also Published As

Publication number Publication date
BE1004533A3 (fr) 1992-12-08
GB2250990A (en) 1992-06-24
FR2670786A1 (fr) 1992-06-26
NL9102152A (nl) 1992-07-16
DE4141884A1 (de) 1992-06-25
GB9126777D0 (en) 1992-02-12
CA2058156A1 (en) 1992-06-22
ITMI913438A1 (it) 1993-06-20
ITMI913438A0 (it) 1991-12-20
IT1252573B (it) 1995-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5315238B2 (ja) 安定剤としての液体ホスフィットブレンド
JP2920445B2 (ja) 非対称亜リン酸アリールエステル
JPH05230050A (ja) ビスベンゾフラン−２−オン
JP2923681B2 (ja) ３―フェニルベンゾフラン―２―オン類
JPH05202018A (ja) チオメチル化されたベンゾフラン−２−オン
EP0670842B1 (en) Beta crystalline modification of 2,2',2''-nitrilo triethyl-tris-(3,3',5,5'-tetra-tert-butyl-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl) phosphite]
BE1008476A5 (fr) Composes piperidiques, composition stabilisee par ces composes, procede les utilisant et leur utilisation pour stabiliser une matiere organique.
DE69307734T2 (de) Amorphe feste modifikation von 2,2', 2"-nitrilo(triäthyl-tris-(3,3, 5,5'-tetra-tert-butyl-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl)phosphit
US5414033A (en) Phenyl phosphites for use as stabilizers for organic materials
JPH05208984A (ja) Ｎ−メチル化ビス−４−ピペリジルホスフィット
JPS62240650A (ja) 置換アミノキシ−プロパノエ−ト及び該化合物を含有する安定化された有機物質
JPH01135891A (ja) １，３，２−オキサザホスホリジンの脂肪族エステルおよび該化合物により安定化された有機材料組成物
US5109043A (en) Process for the preparation of organophosphorus derivatives of 2,4-di-tert-butylphenol, of 4,4'-dihalomagnesium compounds of biphenyl and the use of the organophosphorus derivatives for the stabilization of polyolefin molding
US5250592A (en) Isoindolinone compounds as stabilizers for organic materials
JPH07116114B2 (ja) Ｎ，ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）ヒドロキシルアミンエステル及び該化合物を含有する安定化組成物
JPH06340682A (ja) 置換されたジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジオキサホスホシン類
AU656255B2 (en) Novel cycloalkylidene bisphenol phosphites
JPH01163158A (ja) ヒドロキシルアミンエステル及びそれらの安定剤としての使用法
JP2589486B2 (ja) イソシアヌル酸誘導体及び該化合物からなる安定剤
JPH03123757A (ja) 安定剤としてのヒドロキシフェニルカルボン酸エステル
JP2683589B2 (ja) ピペリジン化合物
JP3268471B2 (ja) ジフェニル酢酸誘導体
JP2542216B2 (ja) 組成物及び有機材料の安定化方法
US5670642A (en) Hals phosphoramides as stabilisers
JP2533342B2 (ja) 置換された１，３，４―オキサチアゾ―ル―２―オン安定剤