JPH06338021A

JPH06338021A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH06338021A
Application number: JP12596293A
Authority: JP
Inventors: Seiichi Ogata; 誠一小形; Tadashi Saito; 正斎藤; Takashi Sugano; 丘菅野; Shinji Takahashi; 伸司高橋
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-05-27
Filing date: 1993-05-27
Publication date: 1994-12-06

Abstract

(57)【要約】【目的】隣接イレーズの低減を図ると共に再生出力の
向上を達成可能となす高密度磁気記録に適した製造歩留
まりの高い磁気ヘッドを提供することを目的とする。【構成】磁気コア基板１，２の突合わせ面が磁気ギャ
ップｇに対して斜めに形成され、その傾斜面７，８上に
金属磁性膜３，４が成膜されてなる一対の磁気コア半体
５，６が、互いの金属磁性膜３，４の端面同士を突合わ
せその突合わせ面間に磁気ギャップｇを形成すると共に
融着ガラス１２により接合一体化されてなる磁気ヘッド
において、上記磁気ギャップｇのトラック幅をＴｗとし
たときに、Ｔｗ≦１３μｍであり、且つ上記融着ガラス
１２と金属磁性膜３，４との間に膜厚が０．０５μｍ〜
０．２μｍの非磁性金属又はその合金よりなる保護膜１
３，１４が形成されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）等に搭載して有用な磁気ヘッドに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、８ミリビデオテープレコーダに
用いられる磁気ヘッドとしては、磁性フェライトよりな
る磁気コア基板の突合わせ面側に形成された傾斜面上に
金属磁性膜を成膜してなる一対の磁気コア半体が、その
傾斜面上に成膜された金属磁性膜の端面同士を突合わせ
融着ガラスにより接合一体化されることにより、その突
合わせ面間に磁気ギャップを構成したものが提案されて
いる。

【０００３】かかる磁気ヘッドでは、上記傾斜面上に成
膜された斜め膜である金属磁性膜の突合わせ面の対向幅
によって、上記磁気ギャップのトラック幅が規制される
ようになっている。したがって、この磁気ヘッドでは、
上記傾斜面上に成膜された金属磁性膜の膜厚を制御する
ことによって、簡単にトラック幅制御することができ、
狭トラック化に有利である。

【０００４】しかしながら、この磁気ヘッドでは、金属
磁性膜が融着ガラスと接触するため、該融着ガラスによ
って金属磁性膜が侵食される虞がある。特に、この磁気
ヘッドのように、金属磁性膜の突合わせ面の対向幅によ
って磁気ギャップのトラック幅を規制する場合、ギャッ
プのエッジ部分の侵食によりトラック幅が減少するとい
う不都合がある。トラック幅の減少は、高密度記録化の
妨げとなるから、これを防止する必要がある。

【０００５】そこで従来においては、融着ガラスによる
金属磁性膜の侵食を防止するために、該融着ガラスと金
属磁性膜の介面に侵食防止用の保護膜を介在させること
が行われている。かかる保護膜としては、例えばＣｒ／
Ｔａ₂Ｏ₅／Ｃｒの順にこれら非磁性材料よりなる金属
膜を、上記金属磁性膜上に成膜したものが提案されてい
る。

【０００６】上記保護膜うち、融着ガラスと接する側の
最上層のＣｒ膜は、該融着ガラスによる金属磁性膜の侵
食を防止する働きをする。真ん中に介在されるＴａ₂Ｏ
₅膜は、融着ガラスと金属磁性膜の熱膨張係数の差によ
るガラスのヒビ割れを防止する機能をする。そてし、下
層のＣｒ膜は、金属磁性膜とＴａ₂Ｏ₅膜との密着力を
向上させる働きをするようになっている。

【０００７】このように、金属磁性膜と融着ガラスとの
介面に上記構成からなる保護膜を介在させることによっ
て、該融着ガラスによる金属磁性膜の侵食を防止するこ
とができ、トラック幅の減少を抑えることができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、高密度磁気
記録を達成するためには、各磁気コア半体の傾斜面上に
設けられる金属磁性膜の突合わせ作業（トラック位置合
わせ作業）を行う際に、一方の磁気コア半体の金属磁性
膜に対して、これと対向する他方の磁気コア半体の金属
磁性膜とのなす角度（以下、単にトラックエッジの開き
角と称する。）を９０゜以上となるようにする必要があ
る。トラックエッジの開き角を９０゜以上とすれば、記
録時において媒体に記録されているトラックパターンの
隣接するパターン部分における情報信号を磁気ギャップ
のエッジ部で消去してしまうこと，つまり隣接イレーズ
が無くなる。

【０００９】しかし、上述の磁気ヘッドにおいては、保
護膜が１μｍ程度と厚くしかも金属膜であることから、
主コアとなる金属磁性膜と該保護膜の境界部分の識別が
困難となる。このため、トラックエッジの開き角を９０
゜以上となるようにトラック合わせする作業が困難とな
り、トラック位置ずれによる歩留まりの低下が発生す
る。特に、狭トラック化すればする程、トラック合わせ
作業が困難になって、記録密度の低下が増大する。

【００１０】そこで本発明は、かかる従来の技術的な課
題に鑑みて提案されたものであって、隣接イレーズの低
減を図ると共に再生出力の向上を達成可能となす高密度
磁気記録に適した製造歩留まりの高い磁気ヘッドを提供
することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、磁気コア基板の突合わせ面が磁気ギャ
ップに対して斜めに形成され、その傾斜面上に金属磁性
膜が成膜されてなる一対の磁気コア半体が、互いの金属
磁性膜の端面同士を突合わせその突合わせ面間に磁気ギ
ャップを形成すると共に融着ガラスにより接合一体化さ
れてなる磁気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップのトラ
ック幅をＴｗとしたときに、Ｔｗ≦１３μｍであり、且
つ上記融着ガラスと金属磁性膜との間に膜厚が０．０５
μｍ〜０．２μｍの非磁性金属又はその合金よりなる保
護膜が形成されていることを特徴とする。

【００１２】また、本発明に係る磁気ヘッドにおいて
は、保護膜をＣｒとしたことを特徴とする。

【００１３】

【作用】本発明の磁気ヘッドにおいては、融着ガラスに
よる金属磁性膜の侵食を防止する保護膜として、膜厚の
薄いＣｒよりなる非磁性金属膜を用いているので、膜厚
の厚い金属膜を用いたヘッドに比べてトラック位置合わ
せ作業が容易に行える。したがって、トラックエッジの
開き角を９０゜以上となるように位置合わせするとが容
易に行え、その結果、記録時における隣接イレーズの低
減が図れ、また製造歩留まりが向上する。

【００１４】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、保
護膜としてＣｒのみからなる単層膜を使用しているが、
金属磁性膜の膜厚が薄い（トラック幅１３μｍ以下であ
る）ために、該金属磁性膜と融着ガラスとの熱膨張係数
の差から生ずる該融着ガラスのヒビ割れを防止するＴａ
₂Ｏ₅膜を介在させなくとも、上記融着ガラスのヒビ割
れは発生しない。

【００１５】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施
例は、８ミリビデオテープレコーダに搭載される磁気ヘ
ッドに本発明を適用したものである。本実施例の磁気ヘ
ッドは、図１に示すように、磁性フェライトよりなる磁
気コア基板１，２とこの磁気コア基板１，２の突合わせ
面にそれぞれ被着形成される金属磁性膜３，４とからな
る一対の磁気コア半体５，６とによって閉磁路が構成さ
れ、その金属磁性膜３，４の突合わせ面間に記録再生ギ
ャップとして動作するアジマスを有した磁気ギャップｇ
が形成されてなっている。

【００１６】以下、本発明を適用した具体的な実施例に
ついて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実
施例は、８ミリビデオテープレコーダに搭載される磁気
ヘッドに本発明を適用したものである。本実施例の磁気
ヘッドは、図１に示すように、磁性フェライトよりなる
磁気コア基板１，２とこの磁気コア基板１，２の突合わ
せ面にそれぞれ被着形成される金属磁性膜３，４とから
なる一対の磁気コア半体５，６とによって閉磁路が構成
され、その金属磁性膜３，４の突合わせ面間に記録再生
ギャップとして動作するアジマスを有した磁気ギャップ
ｇが形成されてなっている。

【００１７】上記磁気コア基板１，２は、例えばフェラ
イト等の酸化物磁性材料からなり、主コアとして機能す
るコア断面積の少ない金属磁性膜３，４をバックアップ
する補助コアとして機能するようになっている。つま
り、金属磁性膜３，４のコア断面積が少ない分、この磁
気コア基板１，２のコアボリュームによって再生出力の
劣化を防止するようになっている。

【００１８】また、この磁気コア基板１，２の突合わせ
面は、磁気ギャップｇに対して斜めに切削して形成され
るトラック幅規制溝の第１の傾斜面７，８と第２の傾斜
面９，１０とによって尖頭形状となされている。上記第
１の傾斜面７，８は、図４に示すように、磁気ギャップ
形成面に対して４０゜なる角度で形成されている。実際
には、第１の傾斜面７，８の傾斜角度は、この上に成膜
される金属磁性膜３，４と磁気ギャップ形成面とのなす
角度とされている。一方、第２の傾斜面９，１０は、磁
気ギャップ形成面に対して９０゜なる角度で形成されて
いる。

【００１９】なお、一方の磁気コア基板１の突合わせ面
には、コイルを巻装させるための巻線溝１１が断面略コ
字状をなす溝としてコア厚方向に貫通して設けられてい
る。

【００２０】一方、金属磁性膜３，４は、上記磁気コア
基板１，２の突合わせ面のうち、第１の傾斜面７，８上
にのみ、フロント側よりバック側に亘って連続した膜と
して被着形成されている。但し、巻線溝１１が形成され
る部分は除く。

【００２１】上記金属磁性膜３，４には、高い飽和磁束
密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、かかる強磁性材料としては従来から公知のも
のがいずれも使用でき、結晶質，非結晶質を問わない。

【００２２】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ
−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系
合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ
系合金等の強磁性金属材料、或いはＦｅ−Ｇａ−Ｓｉ系
合金、さらには上記Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金の耐蝕性や
耐摩耗性の一層の向上を図るために、Ｆｅ，Ｇａ，Ｃｏ
（Ｆｅの一部をＣｏで置換したものを含む。），Ｓｉを
基本組成とする合金に、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎ
ｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，
Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖの少なくとも１種を添加し
たものであってもよい。

【００２３】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上
の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからなる
合金、またはこれを主成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファス
合金）等も使用される。

【００２４】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術がいずれも採用される。

【００２５】また、上記金属磁性膜３，４は、前記強磁
性合金材料の単層膜であってもよいが、例えばＳｉＯ
₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₃ ，ＺｒＯ₂ ，Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の絶縁膜を介
して何層にも積層した積層膜とするようにしてもよい。
積層膜とすることにより、高周波数領域での渦電流の損
失を回避することができる。なお、本実施例では、金属
磁性膜３，４として、センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）
よりなる膜を用いた。

【００２６】そして、上記のように構成された一対の磁
気コア半体５，６は、第１の傾斜面７，８上に成膜され
た金属磁性膜３，４の端面同士をトラック位置合わせし
ながら突合わされ、該磁気ギャップｇの両端縁の空隙部
分に融着ガラス１２を充填することによって接合一体化
され、その金属磁性膜３，４間に磁気ギャップｇを形成
するようになっている。このときの磁気ギャップｇのト
ラック幅Ｔｗは、高密度磁気記録を目的として、１３μ
ｍ以下となされている。本実施例では、トラック幅Ｔｗ
を１３μｍとするために、金属磁性膜３，４の膜厚を１
６μｍとした。また、高密度磁気記録化を達成すべく磁
気ギャップｇのギャップ長を０．２２μｍとした。

【００２７】そして特に、本実施例の磁気ヘッドにおい
ては、上記融着ガラス１２による金属磁性膜３，４の侵
食を防止することを目的として図２（ａ）に示すよう
に、当該融着ガラス１２と金属磁性膜３，４との間に、
その膜厚が０．０５μｍ〜０．２μｍ程度と非常に薄い
非磁性金属又はその合金よりなる保護膜１３，１４が形
成されている。

【００２８】ここでの保護膜１３，１４は、トラック幅
Ｔｗが１３μｍ以下と非常に狭い，つまり金属磁性膜
３，４の膜厚が薄いため、融着ガラス１２と金属磁性膜
３，４との熱膨張係数の差によって発生する融着ガラス
１２のヒビ割れが問題とならず、膜厚の薄い単層膜から
なる非磁性金属膜又はその合金よりなる膜で十分に上記
融着ガラス１２から金属磁性膜３，４を保護することが
できる。

【００２９】なお、上記保護膜１３，１４には、Ｃｒ膜
の他にＳｉ，Ａｌ，Ｔｉ等よりなる非磁性金属又はその
合金よりなる膜が使用できる。本実施例では、上記保護
膜１３，１４として、膜厚が０．２μｍのＣｒ膜を使用
した。

【００３０】上述のように、融着ガラス１２による金属
磁性膜３，４の侵食を防止する保護膜１３，１４として
膜厚の薄い単層膜からなる非磁性金属又はその合金より
なる膜を使用すれば、該保護膜１３，１４が金属膜であ
ることによる金属磁性膜３，４と上記保護膜１３，１４
との境界部分の確認が困難であっても、Ｃｒ／Ｔａ₂Ｏ
₅／Ｃｒの３層からなる積層膜を保護膜とする従来ヘッ
ドに比べて、その膜厚が薄い分、トラック位置合わせが
高精度に行える。したがって、トラックずれによる製造
歩留まりを大幅に向上させることができる。

【００３１】上記膜厚の薄い非磁性金属又はその合金よ
りなる単層膜を保護膜１３，１４として用いることによ
り、トラック位置合わせが容易に行え、また融着ガラス
１２にヒビ割れが生じないことについては、以下の実験
に基づく。

【００３２】先ず、トラックエッジの開き角θが、図２
（ａ）ないし図２（ｃ）に示すように、それぞれ１３０
゜，９０゜，４０゜となるようにトラック位置合わせし
た後ガラス融着を行った。図２（ａ）で示す磁気ヘッド
は、互いの金属磁性膜３，４の突合わせ位置がちょうど
一致したジャストトラックである。なお、この磁気ヘッ
ドでは、保護膜１３，１４として０．２μｍのＣｒ膜、
金属磁性膜３，４として１６μｍのセンダスト膜を用
い、トラック幅を１３μｍ，ギャップ長を０．２２μｍ
となるようにした。

【００３３】同様にして、図３（ａ）ないし図３（ｃ）
に示すように、保護膜としてＣｒ／Ｔａ₂Ｏ₅／Ｃｒを
用いた他は、先のヘッドと同様にトラックエッジの開き
角θを１３０゜，９０゜，４０゜となるようにトラック
位置合わせした後ガラス融着を行った。なお、金属磁性
膜３，４上に成膜される下層のＣｒ膜１５，１６の膜厚
は０．２μｍ、中間層のＴａ₂Ｏ₅膜１７，１８の膜厚
は０．６μｍ、上層のＣｒ膜１９，２０の膜厚は０．２
μｍとした。また、この磁気ヘッドでは、先の磁気ヘッ
ドと同様に、金属磁性膜３，４として膜厚が１６μｍの
センダスト膜を用い、トラック幅を１３μｍ，ギャップ
長を０．２２μｍとした。

【００３４】なお、上記トラックエッジの開き角θは、
金属磁性膜３，４のエッジのラインで計測すべきである
が、図２及び図３に示す磁気ヘッドではいずれも金属磁
性膜３，４上に成膜される膜が金属膜であるＣｒである
ことから、当該Ｃｒと金属磁性膜３，４との分離が光学
的に困難であるために、今回はこれらのＣｒ膜を含めた
形でトラックエッジの開き角θを定義した。

【００３５】次に、ガラス融着が終了した後、磁気記録
媒体との摺動面を円筒研磨した後、当該摺動面の検査を
行った。その結果、Ｃｒの単層膜を保護膜１３，１４と
した磁気ヘッドとＣｒ／Ｔａ₂Ｏ₅／Ｃｒよりなる積層
膜を保護膜とした磁気ヘッド共に、投入チップ数に対し
て、融着ガラス１２にヒビが入ったものが僅か５％以内
と非常に良い結果が得られた。

【００３６】膜厚の薄いＣｒよりなる単層膜を使用して
も、融着ガラス１２にヒビが入らなかったのは、金属磁
性膜３，４の膜厚が１３μｍと非常に薄いためであると
考えられる。

【００３７】次に、上記金属磁性膜３，４の融着ガラス
１２による侵食について調べてみた。その結果、両ヘッ
ド共に金属磁性膜３，４の融着ガラス１２による侵食は
無かった。

【００３８】次いで、上記のようにして作成された各磁
気ヘッドについて、記録時における隣接イレーズ量を測
定してみた。隣接イレーズ量を測定するに当たっては、
記録された信号のトラックピッチ（Ｔｐ）が１０μｍに
なるように改造された８ミリビデオテープレコーダと蒸
着テープ（いずれも商品名Ｈｉ８用のレコーダ，テー
プ）を用い、これにより記録時における磁気ヘッドの隣
接イレーズ量をビッターパターンで測定した。

【００３９】その結果、Ｃｒの単層膜を保護膜１３，１
４とした磁気ヘッドでも、Ｃｒ／Ｔａ₂Ｏ₅／Ｃｒより
なる積層膜を保護膜とした磁気ヘッドでも、いずれもト
ラックエッジの開き角θが１３０゜，９０゜の場合共
に、隣接イレーズ量は０．５μｍ以内と非常に良い結果
が得られた。

【００４０】しかしながら、トラックエッジの開き角θ
が４０゜である場合には、両ヘッド共に隣接イレーズ量
は２μｍ以上であった。トラックピッチＴｐが１０μｍ
に対して２μｍのイレーズ量は約２ｄＢの出力減少に相
当する。したがって、さらなる高密度記録のためにトラ
ックピッチＴｐがより狭くなった場合には、このイレー
ズ量の影響が増大するために、図２に示す磁気ヘッドを
用いる場合には、トラックエッジの開き角θが４０゜以
下のものは不適当である。

【００４１】また、トラックエッジの開き角θが４０゜
のものの投入チップ数に対する割合は、積層膜を保護膜
とした磁気ヘッドでは５０％であったのに対し、膜厚の
薄いＣｒよりなる単層膜を保護膜とした磁気ヘッドでは
僅か１０％未満であった。これは、ガラス融着前のトラ
ック合わせの際に、保護膜１３，１４と金属磁性膜３，
４との分離が光学的に困難なことによるためである。ま
た、膜厚の薄いＣｒよりなる単層膜を用いた磁気ヘッド
の方が良い結果が得られているのは、膜厚が薄い分トラ
ック位置合わせ作業がやり易いためである。したがっ
て、膜厚の薄いＣｒよりなる膜を保護膜１３，１４とし
て使用することで、製造歩留まりを向上させることがで
きる。

【００４２】次に、Ｃｒの単層膜からなる保護膜１３，
１４を用いた磁気ヘッドにおいて、Ｃｒの膜厚を０．０
３μｍ、０．０５μｍ、０．１μｍとしたときの金属磁
性膜３，４の融着ガラス１２による侵食を調べてみた。
その結果、膜厚が０．０５μｍと０．１μｍの磁気ヘッ
ドでは、膜厚を０．２μｍ厚とした前述の磁気ヘッドと
同じく、金属磁性膜３，４に侵食は生じなかった。しか
しながら、膜厚を０．０３μｍとした磁気ヘッドでは、
融着ガラス１２による金属磁性膜３，４への侵食が大き
くトラック幅の減少が著しかった。

【００４３】したがって、Ｃｒ膜の厚みは、０．０５μ
ｍ以上とすることが望ましい。一方、上限については、
０．２μｍ以下とする。０．２μｍを越えると、トラッ
ク位置合わせが困難となる。

【００４４】なお、上記Ｃｒ膜に変えてＳｉ，Ａｌ，Ｔ
ｉ等の非磁性金属又はそれらの合金膜を保護膜１３，１
４とした場合も、Ｃｒよりなる単層膜を用いた磁気ヘッ
ドと同様の作用効果が得られた。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、融着ガラスによる金属磁性
膜の侵食を防止する保護膜として、膜厚の薄いＣｒより
なる非磁性金属膜を用いているので、膜厚の厚い積層膜
を用いたヘッドに比べてトラック位置合わせが容易に行
え、隣接イレーズが問題とならないトラックエッジの開
き角９０゜以上となるようにトラック位置合わせするこ
とができ、その結果記録時における隣接イレーズの低減
を図ることができる。

【００４６】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、ト
ラック幅が１３μｍ以下と非常に狭いことから、Ｔａ₂
Ｏ₅膜を介在させなくとも、金属磁性膜と融着ガラスと
の熱膨張係数の差から生ずる該融着ガラスのヒビ割れを
防止することができる。したがって、本発明の磁気ヘッ
ドによれば、狭トラック化した場合でも、磁気記録媒体
に対して情報信号を密に書き込むことができ、高密度磁
気記録化を達成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。

【図２】図２は本発明を適用した磁気ヘッドの磁気記録
媒体摺動面部分を拡大して示す平面図であり、（ａ）は
トラックエッジの開き角θが１３０゜、（ｂ）はトラッ
クエッジの開き角θが９０゜、（ｃ）はトラックエッジ
の開き角θが４０゜である場合を示す。

【図３】図３はＣｒ／Ｔａ₂Ｏ₅／Ｃｒよりなる積層膜
を保護膜とした磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面部分を
拡大して示す平面図であり、（ａ）はトラックエッジの
開き角θが１３０゜、（ｂ）はトラックエッジの開き角
θが９０゜、（ｃ）はトラックエッジの開き角θが４０
゜である場合を示す。

【図４】図４はトラック幅規制溝における傾斜面のギャ
ップ形成面に対するなす角度を示す磁気記録媒体摺動面
部分を拡大して示す平面図である。

【符号の説明】

１，２・・・磁気コア基板３，４・・・金属磁性膜５，６・・・磁気コア半体７，８・・・第１の傾斜面９，１０・・・第２の傾斜面１１・・・巻線溝１２・・・融着ガラス１３，１４・・・保護膜

フロントページの続き (72)発明者高橋伸司東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気コア基板の突合わせ面が磁気ギャッ
プに対して斜めに形成され、その傾斜面上に金属磁性膜
が成膜されてなる一対の磁気コア半体が、互いの金属磁
性膜の端面同士を突合わせその突合わせ面間に磁気ギャ
ップを形成すると共に融着ガラスにより接合一体化され
てなる磁気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップのトラック幅をＴｗとしたときに、Ｔ
ｗ≦１３μｍであり、且つ上記融着ガラスと金属磁性膜
との間に膜厚が０．０５μｍ〜０．２μｍの非磁性金属
又はその合金よりなる保護膜が形成されていることを特
徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】保護膜はＣｒからなることを特徴とする
ことを請求項１記載の磁気ヘッド。