JPH06313870A

JPH06313870A - 基板組立装置

Info

Publication number: JPH06313870A
Application number: JP10220393A
Authority: JP
Inventors: Fukuo Yoneda; 福男米田; Shigeru Ishida; 茂石田; Haruo Sankai; 春夫三階; Katsumi Kondo; 克己近藤
Original assignee: Hitachi Techno Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority date: 1993-04-28
Filing date: 1993-04-28
Publication date: 1994-11-08
Anticipated expiration: 2016-05-28
Also published as: JP3170773B2

Abstract

(57)【要約】【目的】組立作業中に塵埃を取り込まずに基板同士を
シール剤で貼り合わせることができ、かつ、その２枚の
基板の間隔を正確な寸法に保つこと。【構成】シール剤描画ステーションＳ１と基板貼り合
わせステーションＳ２間を移動するテーブル４を設け、
その上で直交方向に移動するステージ５に基板１３を搭
載し、Ｓ１でノズル先端を下方に向けて設けた吐出機１
２からシール剤を吐出させつつステージを直交方向に移
動させてパターン描画し、Ｓ₁とＳ₂との間でシール剤を
仮乾燥し、Ｓ２で吸着テーブル１５に第２基板１４を水
平吊下げ、テーブル４をＳ２に移動させて第１基板を第
２基板の下方に配置し、両基板の対向間隔を狭めて貼り
合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は基板組立装置に係り、特
に液晶表示パネルのように２枚の基板を極めて接近させ
且つ組立作業中に塵埃を取り込まずに貼り合わすことが
できる基板組立装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示パネルは透明電極や薄膜
トランジスタアレイを付けた２枚のガラス基板を数μｍ
程度の極めて接近した間隔をもってシール剤で貼り合わ
せ、それによって形成される密閉空間に液晶を封止した
ものである。この液晶表示パネルのシール剤をガラス基
板に設ける手段として、ノズルから基板上に抵抗ペース
トを吐出させつつ基板を移動させることにより所定のパ
ターンを描画させて抵抗パターンを設ける技術を利用す
ることができ、このような従来技術として特開平２−５
２７４２号公報に記載のものがある。また従来の液晶表
示パネルの基板の組立にあたっては、シール剤を設けた
ガラス基板を搬送手段で貼り合わせ作業台に移し、そこ
で手作業で２枚のガラス基板の面方向の位置合わせを行
ってから、スペーサとなる粒子等をシール剤に含ませて
おくことによって数μｍ程度の極めて接近した間隔に２
枚のガラス基板を貼り合わせていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の液晶表
示パネルは、微細な透明電極や薄膜トランジスタアレイ
がガラス基板に設けられており、それによって構成され
る画素は極めて小さいものである。したがって組立作業
中にガラス基板上に塵埃が積もって密閉空間に塵埃が取
り込まれると、その塵埃の存在する箇所は画素欠陥とな
り、モノクロ表示パネルでは欠陥部が黒点となり、また
カラー表示パネルでは欠陥部が赤・緑・青のいずれかの
色となって、画面に表示される映像が見にくいものとな
る。この液晶表示パネルのシール剤をガラス基板に設け
る手段として、上記特開平２−５２７４２号公報に記載
のものを利用すると、そこでは基板とノズルが非接触の
状態で抵抗ペーストを吐出させ、基板を移動させて所定
の抵抗パターンを描画させており、ノズルを固定してい
ることによって基板上に塵埃が積りにくいものとなって
いる。しかしながら、ここでは抵抗パターン描画後の基
板の取扱いについては格別言及されていない。また従来
の液晶表示パネルの上記基板の組立にあたっては、シー
ル剤を設けたガラス基板を搬送手段で貼り合わせ作業台
に移し、手作業で２枚のガラス基板の位置合わせを行っ
てから貼り合わせているため、その組立作業中にガラス
基板上に塵埃が積もって、密閉空間に塵埃が取り込まれ
る度合いが非常に高いという問題があった。

【０００４】ここで、シール剤およびスペーサについて
簡単に説明する。

【０００５】シール剤としては、熱硬化形や紫外線硬化
形の接着性を有する合成樹脂が用いられるが、シール剤
の粘度が低いと、シール剤がガラス基板貼り合わせ時の
加圧力で逃げてしまい、基板間隔が所定の間隔より狭く
なるばかりでなく、予定していない部分までシール剤が
拡がって画面に表示される映像がみにくいものとなる。

【０００６】スペーサは、２枚の基板間隔を規制し、適
当な液晶層の厚さを維持するために必要なもので、液晶
パネルが大きくなればなる程必要性が増加する。また、
表示面積が大きくなればなる程均一な液晶層を確保する
ためにスペーサの全面均一散布が要求される。しかしな
がら、従来スペーサの全面均一散布技術は紹介されてい
ない。

【０００７】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、液晶表示パネルのように基板にシール剤，スペ
ーサを設けたのち２枚の基板を極めて接近させて貼り合
わせる組立作業中に塵埃を取り込まずに貼り合わすこと
ができ、かつ、２枚の基板の間隔を所望とする正確な寸
法に保って貼り合わせることができる基板組立装置を提
供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基板組立装置は、シール剤描画ステーショ
ンと基板貼り合わせステーションとの間を移動可能なテ
ーブルと、上記シール剤描画ステーションに設けられシ
ール剤を吐出する先端が下方を向いたノズルと、上記テ
ーブル上に設けられ第１の基板を搭載する少なくとも直
交方向に移動可能なステージと、上記ノズルからシール
剤を吐出させつつ上記ステージを直交方向に移動させる
ことにより上記第１の基板にシール剤を所望のパターン
で描画させる手段と、上記シール剤描画ステーションと
基板貼り合わせステーションの間に設けた上記第１の基
板上に描画されたシール剤を仮乾燥ないし高粘度する手
段と、上記テーブルが上記基板貼り合わせステーション
に移動されたときに第２の基板を上記ステージに搭載さ
れた上記第１の基板と平行でその上方になるように支持
する手段と、平行に配置された上記第１と第２の両基板
の対向間隔を狭めることにより両基板をシール剤で貼り
合わせる手段とを備えるようにしたものである。

【０００９】さらに、上記目的を達成するため、本発明
は、上記シール剤描画ステーションと基板貼り合わせス
テーションの間に、上記第１の基板上にスペーサを散布
する手段を設けるものである。

【００１０】

【作用】上記基板組立装置は、シール剤描画ステーショ
ンで上記ノズルからシール剤を吐出させつつ上記ステー
ジを直交方向に移動させつつ第１の基板にシール剤パタ
ーンを描画する工程で第１の基板の上部に動くものが存
在しないため第１の基板上に塵埃が落下しないし、また
シール剤描画後に第１の基板がステージごと基板貼り合
わせステーションに移動して第２の基板の下方に配置さ
れるため、別の搬送手段が介在されないことと第１の基
板の上部で動くものが存在しないこととによって第１の
基板の移動する工程でも第１の基板上に塵埃が落下しな
いし、さらに両基板の貼り合わせ工程では上下で平行に
配置された両基板の対向間隔を狭めることにより両基板
が貼り合わされるため両基板の間に動くものが存在しな
いことによって第１の基板上に塵埃が落下しない。この
ように組立作業の如何なる工程でも第１の基板上に塵埃
が落下しないため両基板のシール剤による貼り合わせで
形成される空間内に塵埃が取り込まれることがなく、装
置の構成も簡単にできる。

【００１１】また、シール剤描画ステーションと基板貼
り合わせステーションとの間に仮乾燥手段あるいは高粘
度手段があるので、シール剤は高粘度化して整形される
ので、シール剤形状が基板貼り合わせ時に乱れることは
ない。

【００１２】なお、シール剤は、例えば熱硬化形シール
剤の場合には熱線や赤外線を照射し、紫外線硬化形シー
ル剤の場合には紫外線を照射して仮乾燥させる。

【００１３】スペーサとしては、耐熱性，耐薬品性に優
れ、広い温度範囲で弾性体として挙動する眞球形のプラ
スチック微粒子や、無アルカリガラスを紡糸して所望の
長さに切断した繊維状のものがある。眞球状のものは、
その直径が両基板の貼り合わせ間隙に近いものが用いら
れ、繊維状のものの場合は、散布した時に繊維同志が交
差して重なることもあるが、両基板の貼り合せ時に押圧
すると、加圧力が交差部に集中し、繊維が滑って交差が
解けることが多いので、断面直径が基板貼り合わせ間隙
に近いものが用いられる。

【００１４】スペーサの散布は、スペーサをそのまま散
布する乾式や、揮発性液体中にスペーサを撹拌させてお
いて液体と共に散布する湿式がある。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１から図３によ
り説明する。

【００１６】図１は本発明による基板組立装置の一実施
例を示す液晶表示パネル組立装置のカバーを外した本体
の正面図である。図１において、液晶表示パネル組立装
置１はシール剤描画ステーションＳ１と、基板貼り合わ
せステーションＳ２との２部分から構成され、この両ス
テーションＳ１，Ｓ２は隣接して並べられている。基台
２の上方に支柱２ａで梁持された架台３があり、基台２
の上面には両ステーションＳ１，Ｓ２に亘るレール７を
備えている。このレール７上をステージ移動テーブル４
がステージ駆動モータ６により、図面上で左右に即ち両
ステーションＳ１，Ｓ２間を移動できるようになってい
る。テーブル４上にはＸＹθステージ５およびその上面
で第１のガラス基板１３を真空吸着などにより支持する
下側吸着テーブル８が載置されている。ここでＸＹθス
テージ５について説明するに、第１のガラス基板１３が
水平に搭載されているとすると、第１のガラス基板１３
を水平にＸ軸・Ｙ軸方向に移動させるとともに、第１の
ガラス基板１３を水平に回転すなわちθ軸移動させるも
のであり、もし第１のガラス基板１３がＸＹ方向に正確
に配置されるならばθ軸移動は不要である。

【００１７】上記レール７と対面するシール剤描画ステ
ーションＳ１部の架台３にはＺ軸駆動モータ９によって
上下に移動するＺ軸移動テーブル１０が設けられてい
る。このテーブル１０には光学式非接触変位計１１とノ
ズルを持つシール剤吐出機１２とが取付けられており、
そのノズル先端は下方の第１のガラス基板１３を向いて
いる。一方の上記レール７と対面する基板貼り合わせス
テーションＳ２部の架台３の上部には、さらに支柱２ｂ
で梁持された架台１８に加圧用駆動機構１７が載置さ
れ、その下方に延びたボールねじ１７ａを介して該駆動
機構１７で架台３の下側に設けられた加圧吸着テーブル
１５を上下に移動するようになっている。

【００１８】加圧吸着テーブル１５はその下面に第２の
ガラス基板１４を上記第１のガラス基板１３と平行にな
るように真空吸着などにより水平に吊り下げる形に支持
するようになっている。またこのテーブル１５には２箇
所に孔１５ａ，１５ｂが穿けられており、このテーブル
１５に穿けられた孔１５ａ，１５ｂに対応する架台３の
部署にはＣＣＤ内蔵の画像認識用カメラ１６ａ，１６ｂ
が取付けられている。この両カメラ１６ａ，１６ｂは下
方を向いており、従ってカメラ１６ａ，１６ｂはテーブ
ル１５の両孔１５ａ，１５ｂを通して第２のガラス基板
１４などの下部に存在する物体を確認することができ
る。なおこの液晶表示パネル組立装置には上記した各駆
動部の図示していない制御装置が設けられている。

【００１９】図１において、３０はシール剤仮乾燥手
段、４０はスペーサ散布手段で、架台にその下側の吸着
テーブル８上の第１のガラス基板１３に向けて固定され
ている。

【００２０】その具体的構成を図２により説明すると、
シール剤仮乾燥手段３０は、第１のガラス基板１３の幅
方向に伸びた赤外線ランプ３１とフード３２から構成さ
れ、ランプ３１のコード３３は図示していないスイッチ
に接続されている。赤外線ランプ３１はシール剤の種類
に応じて紫外線ランプであっても良い。フード３２は赤
外線の照射範囲を規定する。フード３２の下端は開放さ
れているが、ガラスカバーを配設しても良い。

【００２１】スペーサ散布手段４０は、一例としてプラ
スチック真球スペーサ２８を散布するもので、貯蔵タン
ク４１から配給弁４２を介して配給パイプ４３が基板１
３の幅方向に配設されている。配給パイプ４３には複数
の支パイプ４４があり、支パイプ４４はガラス基板１３
の幅方向に並設されている。支パイプ４４から放出され
るスペーサ２８の落下部にスペーサ受け箱４５が設けら
れている。受け箱４５の幅方向の上縁は波形になってい
る。

【００２２】図３は図１の液晶表示パネル組立装置の動
作説明用の概略図である。つぎに図２および図３により
図１の液晶表示パネル組立装置の動作および機能を説明
する。なお図３ではＸＹθステージ５および下側吸着テ
ーブル８を貼り合わせステーションＳ２に移動させた場
合を２点鎖線で示し、その各々に５φ，８φの符号を符
した。

【００２３】図３において、初めに貼り合わせステーシ
ョンＳ２にステージ移動テーブル４が基台２上のレール
７上を図１のステージ駆動モータ６により走行される
と、ＸＹθステージ５φ上の下側吸着テーブル８φ上に
アダプタ１４ａを介して第２のガラス基板１４が載置さ
れる。このアダプタ１４ａは第２のガラス基板１４の下
面が下側吸着テーブル８φに接触することを阻止するた
めのもので、第２のガラス基板１４の周縁を支持する額
縁状のものである。ここで両カメラ１６ａ，１６ｂで第
２のガラス基板１４に設けられた図示していない位置合
わせマークを読み取りつつ、第２のガラス基板１４が貼
り合わせステーションＳ２の所定位置に置かれるように
ＸＹθステージ５φを制御する。次いで図１の加圧用駆
動機構１７で加圧吸着テーブル１５を下方に移動させ
て、第２のガラス基板１４を該テーブル１５で水平に吊
り下げる形に吸着支持し、そのまま駆動機構１７で加圧
吸着テーブル１５を介して第２のガラス基板１４を上方
に移動させて待機させ、そしてアダプタ１４ａは除去さ
れる。この動作で塵埃が遊離しても塵埃を避ける必要の
ない第２のガラス基板１４上面に落下するだけで何等の
問題がない。

【００２４】次に下側吸着テーブル８φ上に第１のガラ
ス基板１３を載置し、そして第１のガラス基板１３が貼
り合わせステーションＳ２の所定位置に置かれるように
ＸＹθステージ５φを制御する。ここで第１のガラス基
板１３の位置合わせが終わったら、今度はＸＹθステー
ジ５φをシール剤描画ステーションＳ１に移動させる。
次にシール剤描画ステーションＳ１で、Ｚ軸移動テーブ
ル１０上の光学式非接触変位計１１の出力により図１の
Ｚ軸駆動モータ９を制御して、Ｚ軸移動テーブル１０上
のシール剤吐出機１２のノズル先端と下側吸着テーブル
８上の第１のガラス基板１３上面とのギャップを設定す
る。この動作でギャップ設定のためのシール剤吐出機１
２のノズル移動距離はわずかであり、これによる塵埃の
遊離は殆どない。また塵埃の遊離を極度に嫌う場合に
は、図３中に１点鎖線で示すようにシール剤吐出機１２
のＺ軸移動テーブル１０を含む駆動部を密閉し、その密
閉空間を真空引きすればよい。そしてＸＹθステージ５
を所定の描画パターンに従ってＸＹ方向に移動させつ
つ、シール剤吐出機１２のノズルからシール剤を吐出さ
せて、シール剤の第１のガラス基板１３への塗布を行
う。この描きたいシール剤パターンは図示していない。
また図示していない制御装置で所謂パソコン描画パター
ンを格納記憶させておくことによって、同じ描画パター
ンを何枚もの第１のガラス基板１３への塗布を行うこと
が可能であり、また格納データの変更で各種の描画パタ
ーンを得ることもできる。この動作でシール剤の吐出描
画中に第１のガラス基板１３の上部で動くものが存在し
ないため、第１のガラス基板１３の上面への塵埃の落下
はない。

【００２５】第１ガラス基板１３が廻送されてくると、
赤外線ランプ３１から赤外線が照射され、ガラス基板１
３上に描画されたシール剤を仮乾燥させて形の乱れを防
ぐ。次に、スペーサ散布手段４０の下に至ると、配給弁
４２が開かれ、配給パイプ４３，各支パイプ４４から受
け箱４５にスペーサ２８が落下される。受け箱４５には
波形上縁４５ａが設けられており、受け箱４５からのス
ペーサの落下個所が支パイプ４４の数より増加されてい
るので、スペーサ２８は基板１３上に波形上縁４５ａよ
り流砂の様にオーバフローして均一に散布される。配給
弁４２を各支パイプ４４に設けておくと、スペーサの受
け箱４５への供給は幅方向で時間差がなくなる。なお、
スペーサは、一例として７μｍの直径を持つプラスチッ
ク微粒子を約１万個１ｃｍ²の割合で散布する。

【００２６】ランプ３１のスイッチは、コード３３で基
板１３の上以外の個所に設け、また、配給弁４２は配給
パイプ４３の内部に配設されるので、基板１３上に駆動
部材が無く、シール剤仮乾燥手段３０，スペーサ散布手
段４０が作動しても、基板１３上に塵芥が落下しない。

【００２７】また、図４に示す様に、受け箱４５内に螺
旋状の回転体４６を配設し、受け箱４５の幅方向端に設
けた電動機４６で回転体４６を駆動して、受け箱４５内
でスペーサを移動させ、配給弁４２側の支パイプ４４と
配給パイプ４３の未端側の支パイプ４４から受け箱４５
に供給されるスペーサの時間遅れを補完しても良い。図
５は、受け箱を省略した形のスペーサ散布手段の変形例
を示す。図５において、図４に示したものと同一ないし
相当物には同一符号を付けて説明を省略する。図５に示
す変形例では、配給パイプ４３の支パイプ４４との各連
通孔４３ａにシャッター４９が設けられ、アクチュエー
タ４８で連通孔４３ａをガラス基板１３の廻送に合わせ
て開閉する様にしている。各支パイプ４４の端部４４ａ
は未広形にしてあり、個々の支パイプ４４から散布する
範囲が広域になる様にしてある。

【００２８】図６は受け箱４５の変形例を示している。
受け箱４５は、ガラス基板１３に対して傾斜して配置さ
れ、下端部側の上縁部４５ａが波形になっている。受け
箱４５には、スペーサ２８があふれない程度に供給され
ている。ガラス基板１３が廻送されてくると、受け箱４
５は図示していない震動源より振動が加えられる。する
と、スペーサ２８は自重で受け箱４５内を滑落し、波形
上縁部４５ａ付近のスペーサは押されてオーバフロー
し、ガラス基板１３上に均一に散布される。

【００２９】図５，図６の例は湿式スペーサ散布手段に
も適用することができる。なお、図６の例を湿式スペー
サ散布手段に適用する場合には、受け箱を回動させて波
形上端部４５ａを下降させると、スペーサを含んだ溶液
がオーバーフローする。

【００３０】次にＸＹθステージ５は再び貼り合わせス
テーションＳ２に移動されて、初めに第２のガラス基板
１４を抱えた加圧吸着テーブル１５の真下に位置決めさ
れる。この動作でも第１のガラス基板１３はＸＹθステ
ージ５および下側吸着テーブル８ごと第２のガラス基板
１４の下方に配置され、別の搬送手段が介在されないこ
とと、第１のガラス基板１３の上部で動くものが存在し
ないことによって、第１のガラス基板１３の移動に際し
ても第１のガラス基板１３の上面に塵埃が落下しない。
さらに別の搬送手段を必要としないので簡単な装置構成
となっている。

【００３１】次に両カメラ１６ａ，１６ｂの焦点を第１
のガラス基板１３の図示していない位置合わせマークに
合わせ、両カメラ１６ａ，１６ｂでマークを読み取りな
がらＸＹθステージ５φを駆動制御して、第１のガラス
基板１３と第２のガラス基板１４との凡その位置合わせ
を行う。そして図１の加圧用駆動機構１７で加圧吸着テ
ーブル１５を下方に徐々に移動させて、両カメラ１６
ａ，１６ｂで第２のガラス基板１４の図示していない位
置合わせマークが読み取れるようになったら、ＸＹθス
テージ５φを駆動制御して第１のガラス基板１３と第２
のガラス基板１４との正確な位置合わせを行いつつ、加
圧吸着テーブル１５をさらに徐々に下降させて２枚のガ
ラス基板１３，１４をシール剤で貼り合わせる。

【００３２】この動作で両ガラス基板１３，１４の貼り
合わせでは、両ガラス基板１３，１４の間に動くものが
存在しないことによって、第１のガラス基板１３の上面
に塵埃が落下しない。

【００３３】以上のように組立作業の如何なる工程でも
第１のガラス基板１３の上面に塵埃が落下しないため、
両ガラス基板１３，１４のシール剤による貼り合わせで
形成される空間内に塵埃が取り込まれることがない。ま
た以上のシール剤描画工程と、基板貼り合わせ工程と、
そのシール剤描画と基板貼り合わせの両ステーション間
の移動工程とは簡単なシーケンス制御で処理できるの
で、図示していない制御装置により一連の動作をプログ
ラム化してパソコンで制御してもよい。

【００３４】本発明の基板組立装置は以下の態様で実施
できる。

【００３５】第１の態様は、図１のＺ軸移動テーブル１
０に代えてＺ軸移動テーブルをＸＹθステージ５に設
け、シール剤描画ステーションＳ１部の架台３にノズル
を持つシール剤吐出機１２および光学式非接触変位計１
１を直接固定し、該Ｚ軸移動テーブルでシール剤吐出機
１２のノズル先端と下側吸着テーブル８上の第１のガラ
ス基板１３とのギャップを設定するようにしたものであ
る。この態様はシール剤描画ステーションＳ１では下側
吸着テーブル８に載置される第１の基板１３の上方に可
動部が全く存在しないため、第１の基板１３への塵埃の
落下が皆無である。第２の態様は、図１の基板貼り合
わせステーションＳ２における加圧用駆動機構１７およ
び架台１８を省略し、架台３に第２の基板１４の吸着テ
ーブル１５を直接固定して、Ｚ軸移動テーブルをＸＹθ
ステージ５に設け、該Ｚ軸移動テーブルで第２の基板１
４を上昇させて吸着テーブル１５に吸着固定し、また３
枚の基板１３，１４を貼り合わせるようにしたものであ
る。この態様は基板貼り合わせステーションＳ２では吸
着テーブル１５の上方に可動部が全く存在せず、塵埃の
第１の基板１３への落下が皆無であり、また加圧用駆動
機構１７と架台１８の省略により装置構成が一層簡略化
できる。

【００３６】第３の態様は、基板吸着機能をＸＹθステ
ージ５に設けて、下側吸着テーブル８を省略したもので
ある。この態様はステージ移動テーブル４上に乗せられ
る部材が減少して、軽量化によりステージ移動テーブル
４の走行が軽快になる。

【００３７】第４の態様はシール剤仮乾燥手段３０をス
ペーサ散布手段４０の下流側、すなわち基板貼り合わせ
ステーションＳ₂側に配置したものである。このような
配置でも、シール剤の仮乾燥は可能である。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶表示パネルのように２枚の基板を接近させてシール
剤で貼り合わせる基板組立装置での組立作業中に塵埃を
取り込まずに貼り合わすことができ、かつ、２枚の基板
の間隔を所望とする正確な寸法に保って貼り合わすこと
ができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板組立装置の一実施例を示す液
晶表示パネル組立装置のカバーを外した本体の正面図で
ある。

【図２】図１に示した装置のシール剤仮乾燥手段とスペ
ーサ散布手段の概略構成を示す図である。

【図３】図１に示した装置の動作説明用の概略図であ
る。

【図４】図２に示したスペーサ散布手段の変形例を示す
図である。

【図５】図２に示したスペーサ散布手段の他の変形例を
示す図である。

【図６】図２に示したスペーサ散布手段のさらに他の変
形例を示す図である。

【符号の説明】

４…ステージ移動テーブル、５…ＸＹθステージ、８…
下側吸着テーブル、１０…Ｚ軸移動テーブル、１２…シ
ール剤吐出機、１３…第１のガラス基板、１５…加圧吸
着テーブル、１６ａ，１６ｂ…画像認識用カメラ、２８
…スペーサ、３０…シール剤仮乾燥手段、３１…赤外線
ランプ、４０…スペーサ散布手段、４３…配給パイプ、
４８…アクチュエータ、４９…シャッタ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者石田茂茨城県竜ヶ崎市向陽台五丁目２番日立テクノエンジニアリング株式会社開発研究所内 (72)発明者三階春夫茨城県竜ヶ崎市向陽台五丁目２番日立テクノエンジニアリング株式会社開発研究所内 (72)発明者近藤克己茨城県日立市久慈町4026番地株式会社日立製作所日立研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シール剤描画ステーションと基板貼り合
わせステーションとの間を移動可能なテーブルと、上記
シール剤描画ステーションに設けられシール剤を吐出す
る先端が下方を向いたノズルと、上記テーブル上に設け
られ第１の基板を搭載する少なくとも直交方向に移動可
能なステージと、上記ノズルからシール剤を吐出させつ
つ上記ステージを直交方向に移動させることにより上記
第１の基板にシール剤を所望のパターンで描画させる手
段と、上記シール剤描画ステーションと基板貼り合わせ
ステーションとの間に設けた第１の基板上に描画された
シール剤を仮乾燥する手段と、上記テーブルが上記基板
貼り合わせステーションに移動されたときに第２の基板
を上記ステージに搭載された上記第１の基板と平行でそ
の上方になるように支持する手段と、平行に配置された
上記第１と第２の両基板の対向間隔を狭めることにより
両基板をシール剤で貼り合わせる手段とを備えたことを
特徴とする基板組立装置。
【請求項２】シール剤描画ステーションと基板貼り合
わせステーションとの間を移動可能なテーブルと、上記
シール剤描画ステーションに設けられシール剤を吐出す
る先端が下方を向いたノズルと、上記テーブル上に設け
られ第１の基板を搭載する少なくとも直交方向に移動可
能なステージと、上記ノズルからシール剤を吐出させつ
つ上記ステージを直交方向に移動させることにより上記
第１の基板にシール剤を所望のパターンで描画させる手
段と、上記シール剤描画ステーションと基板貼り合わせ
ステーションとの間に設けた第１の基板上に描画された
シール剤を高粘度化する手段と、上記テーブルが上記基
板貼り合わせステーションに移動されたときに第２の基
板を上記ステージに搭載された上記第１の基板と平行で
その上方になるように支持する手段と、平行に配置され
た上記第１と第２の両基板の対向間隔を狭めることによ
り両基板をシール剤で貼り合わせる手段とを備えたこと
を特徴とする基板組立装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の基板組立装置
において、上記シール剤描画ステーションと基板を貼り
合わせステーションとの間に、さらに上記第１の基板上
にスペーサを散布する手段を設けたことを特徴とする基
板組立装置。