JPH06310479A - 板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法 - Google Patents
板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法Info
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- JPH06310479A JPH06310479A JP12350293A JP12350293A JPH06310479A JP H06310479 A JPH06310479 A JP H06310479A JP 12350293 A JP12350293 A JP 12350293A JP 12350293 A JP12350293 A JP 12350293A JP H06310479 A JPH06310479 A JP H06310479A
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ガラスや水晶等の硬質素材を原料とする板状製
品であって、特に水晶振動子用の水晶板のように、従来
非常に小さくかつ非常に薄い素材であるため、多数の枚
数を一挙に面取り加工することが困難とされていた極小
製品用の、面取りされた板状ワークおよびそのための板
状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法に関する。 【構成】下記工程からなる板状ワークの面取り研磨およ
び鏡面研磨方法。 イ）各板状ワークを、中間に介在させた接着剤が均一の
厚みを有するよう多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）中間の接着剤を剥して板状ワークの単品を得る工
程。
品であって、特に水晶振動子用の水晶板のように、従来
非常に小さくかつ非常に薄い素材であるため、多数の枚
数を一挙に面取り加工することが困難とされていた極小
製品用の、面取りされた板状ワークおよびそのための板
状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法に関する。 【構成】下記工程からなる板状ワークの面取り研磨およ
び鏡面研磨方法。 イ）各板状ワークを、中間に介在させた接着剤が均一の
厚みを有するよう多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）中間の接着剤を剥して板状ワークの単品を得る工
程。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はガラスや水晶等の硬質
素材を原料とする板状製品であって、特に水晶振動子用
の水晶板のように、従来非常に小さくかつ非常に薄い素
材であるため、多数の枚数を一挙に面取り加工すること
が困難とされていた極小製品用の、面取りされた板状ワ
ークおよびそのための板状ワークの面取り研磨および鏡
面研磨方法に関する。
素材を原料とする板状製品であって、特に水晶振動子用
の水晶板のように、従来非常に小さくかつ非常に薄い素
材であるため、多数の枚数を一挙に面取り加工すること
が困難とされていた極小製品用の、面取りされた板状ワ
ークおよびそのための板状ワークの面取り研磨および鏡
面研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】面取りはあらゆる工業製品について広く
一般に行われている。特にガラスや水晶等の硬質素材を
原料とする水晶振動子用の水晶板のような工業製品であ
って、研磨による仕上げ工程を有する場合には、面取り
の有無が最終製品の仕上がり状態を左右する大きな要因
となっている。
一般に行われている。特にガラスや水晶等の硬質素材を
原料とする水晶振動子用の水晶板のような工業製品であ
って、研磨による仕上げ工程を有する場合には、面取り
の有無が最終製品の仕上がり状態を左右する大きな要因
となっている。
【０００３】そこで、図７に示すように板状ワーク４１
を治具４２で保持し、回転砥石４３を用いて面取りする
方法や、図８に示すように回転ドラム４４内に研磨剤４
５とともに板状ワーク４１を収納して回転させることに
より研磨する、バレル研磨手段による方法が一般に用い
られていた。
を治具４２で保持し、回転砥石４３を用いて面取りする
方法や、図８に示すように回転ドラム４４内に研磨剤４
５とともに板状ワーク４１を収納して回転させることに
より研磨する、バレル研磨手段による方法が一般に用い
られていた。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
場合は板状ワーク４１を単品で支持加工する場合がほと
んどである。この場合個々の面取り角度は自在であり加
工精度も高く維持できる利点があるものの、非常に効率
が悪く、そのため加工コストを下げることはきわめて困
難である。
場合は板状ワーク４１を単品で支持加工する場合がほと
んどである。この場合個々の面取り角度は自在であり加
工精度も高く維持できる利点があるものの、非常に効率
が悪く、そのため加工コストを下げることはきわめて困
難である。
【０００５】また、例えば特公昭５３−３９７４０号公
報には、複数個を一度に処理すべく板状ワークをスペー
サを介して重ね合わせ、線状砥石を用いて面取り加工す
る方法も開示されているが、線状砥石の細径化にはおの
ずと限界があり、板状ワークもある程度の剛性を要求さ
れるため、例えば水晶振動子のようなきわめて薄い板状
ワークには適用することができない。
報には、複数個を一度に処理すべく板状ワークをスペー
サを介して重ね合わせ、線状砥石を用いて面取り加工す
る方法も開示されているが、線状砥石の細径化にはおの
ずと限界があり、板状ワークもある程度の剛性を要求さ
れるため、例えば水晶振動子のようなきわめて薄い板状
ワークには適用することができない。
【０００６】後者のバレル研磨手段による方法では、研
磨中に回転ドラム内で板状ワーク４１を裏返して表裏両
面を研磨するものであるため、板状ワーク４１自体にあ
る程度の大きさや重量が要求される。したがって板状ワ
ーク４１の小型化には対応できない。
磨中に回転ドラム内で板状ワーク４１を裏返して表裏両
面を研磨するものであるため、板状ワーク４１自体にあ
る程度の大きさや重量が要求される。したがって板状ワ
ーク４１の小型化には対応できない。
【０００７】しかも面取り角度が大きく、約４５度に面
取りすることは困難であって往々にして断面が凸レンズ
状になってしまう。しかも板状ワーク４１どうしが接触
するために板状ワーク４１の表面に擦過傷が着きやすい
という重大な欠点がある。
取りすることは困難であって往々にして断面が凸レンズ
状になってしまう。しかも板状ワーク４１どうしが接触
するために板状ワーク４１の表面に擦過傷が着きやすい
という重大な欠点がある。
【０００８】さらに従来、例えば図９に示すオリフラ４
６を有するような形状の板状ワーク４１を得る際には、
これを無理なく一挙に面取りする手段がなかったので、
まず全体を円形に加工した後、切欠き部分の削除を行う
という加工工程を踏まなければならなかった。したがっ
てその都度所要部分の面取り加工を行なう必要があり、
非常に手間がかかっていた。しかも材料採りの際に常に
オリフラのための削除部分を含めなければならず、非常
に無駄が多かった。
６を有するような形状の板状ワーク４１を得る際には、
これを無理なく一挙に面取りする手段がなかったので、
まず全体を円形に加工した後、切欠き部分の削除を行う
という加工工程を踏まなければならなかった。したがっ
てその都度所要部分の面取り加工を行なう必要があり、
非常に手間がかかっていた。しかも材料採りの際に常に
オリフラのための削除部分を含めなければならず、非常
に無駄が多かった。
【０００９】特に水晶発振子の製造にあっては、面取り
加工がなされない状態で平面の研磨を行うとチッピング
の発生は避けられず、結果発振強度が低くて付加価値が
低く、また面取り加工を施したものでは非常にコストの
高いものとなってしまっていた。
加工がなされない状態で平面の研磨を行うとチッピング
の発生は避けられず、結果発振強度が低くて付加価値が
低く、また面取り加工を施したものでは非常にコストの
高いものとなってしまっていた。
【００１０】この発明は従来例の上記欠点を解消しよう
とするもので、サイズが小さく薄いものであっても表面
には擦過傷が着いていない高品質な、かつ低コストの板
状ワークを提供しようとするものである。
とするもので、サイズが小さく薄いものであっても表面
には擦過傷が着いていない高品質な、かつ低コストの板
状ワークを提供しようとするものである。
【００１１】さらにその表面には擦過傷が着いておら
ず、かつ低コストの板状ワークを得るための、板状ワー
クの面取り研磨および鏡面研磨方法を提供しようとする
ものである。
ず、かつ低コストの板状ワークを得るための、板状ワー
クの面取り研磨および鏡面研磨方法を提供しようとする
ものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明は下記
工程からなる板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方
法である。 イ）各板状ワークを、中間に介在させた接着剤が均一の
厚みを有するよう多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）中間の接着剤を剥して板状ワークの単品を得る工
程。
工程からなる板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方
法である。 イ）各板状ワークを、中間に介在させた接着剤が均一の
厚みを有するよう多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）中間の接着剤を剥して板状ワークの単品を得る工
程。
【００１３】さらにこの発明は、下記工程からなる板状
ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法であることもで
きる。 イ）各板状ワークを２枚の中間プレートを介して、それ
ぞれ均一の厚みの接着剤により、２枚の中間プレート間
は弱い接着力で、また板状ワークと中間プレートとの間
は強い接着力で多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）２枚の中間プレート間を剥す工程。 ホ）板状ワークから中間プレートを剥して板状ワークの
単品を得る工程。
ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法であることもで
きる。 イ）各板状ワークを２枚の中間プレートを介して、それ
ぞれ均一の厚みの接着剤により、２枚の中間プレート間
は弱い接着力で、また板状ワークと中間プレートとの間
は強い接着力で多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）２枚の中間プレート間を剥す工程。 ホ）板状ワークから中間プレートを剥して板状ワークの
単品を得る工程。
【００１４】なお、この発明の板状ワークの面取り研磨
および鏡面研磨方法は、上記工程において使用する弾性
研磨手段が、金属ワイヤ製のブラシもしくは研磨剤を含
浸させ得る研磨パッドないし布であることをも特徴とし
ている。
および鏡面研磨方法は、上記工程において使用する弾性
研磨手段が、金属ワイヤ製のブラシもしくは研磨剤を含
浸させ得る研磨パッドないし布であることをも特徴とし
ている。
【００１５】また上記板状ワークの面取り研磨および鏡
面研磨方法において、積層品の端面と弾性研磨手段と
が、直線運動で交差して研磨するようにしたことも特徴
の１つである。
面研磨方法において、積層品の端面と弾性研磨手段と
が、直線運動で交差して研磨するようにしたことも特徴
の１つである。
【００１６】さらに上記板状ワークの面取り研磨および
鏡面研磨方法において、積層品の端面と弾性研磨手段と
が、回転運動で交差して研磨するようにしたことも特徴
の１つである。
鏡面研磨方法において、積層品の端面と弾性研磨手段と
が、回転運動で交差して研磨するようにしたことも特徴
の１つである。
【００１７】
【作用】この発明は以上のように構成したので、サイズ
が小さく薄いものであっても表面には擦過傷が着いてい
ない高品質な、しかも低コストの板状ワークを提供する
ことができた。
が小さく薄いものであっても表面には擦過傷が着いてい
ない高品質な、しかも低コストの板状ワークを提供する
ことができた。
【００１８】またこの発明によれば、上記表面には擦過
傷が着いていない高品質な、しかも工程を削減して低コ
ストで板状ワークを得るための板状ワークの面取り研磨
および鏡面研磨方法を提供することができた。
傷が着いていない高品質な、しかも工程を削減して低コ
ストで板状ワークを得るための板状ワークの面取り研磨
および鏡面研磨方法を提供することができた。
【００１９】さらに、上記板状ワークの面取り研磨およ
び鏡面研磨方法において弾性研磨手段として使用する回
転ブラシは、板状ワークの寸法に合わせて自由に線形を
細径化できるため、あらゆるサイズの板状ワークに適用
することができた。
び鏡面研磨方法において弾性研磨手段として使用する回
転ブラシは、板状ワークの寸法に合わせて自由に線形を
細径化できるため、あらゆるサイズの板状ワークに適用
することができた。
【００２０】また、種々の形状の板状ワークの研磨に適
用することができ、得ようとする板状ワークの適宜段階
での研磨が可能となるので、材料の無駄を著しく減少さ
せることができ、大幅なコスト低減を実現することがで
きた。
用することができ、得ようとする板状ワークの適宜段階
での研磨が可能となるので、材料の無駄を著しく減少さ
せることができ、大幅なコスト低減を実現することがで
きた。
【００２１】
【実施例】以下、図面に基づきこの発明の板状ワークの
面取り研磨および鏡面研磨方法の実施例について詳細に
説明する。
面取り研磨および鏡面研磨方法の実施例について詳細に
説明する。
【００２２】図１および図２はこの発明を適用して得た
研磨済みの板状製品の１例を示すものである。板状製品
１は円周の一部にオリフラ２が形成されたほぼ円形をな
している。そしてその表面には擦過傷等がなく、円弧部
分から直線のオリフラ部分に至る各端面３が面取りされ
ている。なお、面取り部４は端面の両側においてほぼ均
等に面取りされており、かつ鏡面研磨された面を有して
いる。
研磨済みの板状製品の１例を示すものである。板状製品
１は円周の一部にオリフラ２が形成されたほぼ円形をな
している。そしてその表面には擦過傷等がなく、円弧部
分から直線のオリフラ部分に至る各端面３が面取りされ
ている。なお、面取り部４は端面の両側においてほぼ均
等に面取りされており、かつ鏡面研磨された面を有して
いる。
【００２３】上記面取り部４は後述の回転ブラシによっ
て得られ、またその鏡面研磨された面はバフ掛けするこ
とによって得られる。
て得られ、またその鏡面研磨された面はバフ掛けするこ
とによって得られる。
【００２４】図３はこの発明の板状ワークの面取り研磨
および鏡面研磨方法に基づく加工工程の一実施例を示す
ものである。
および鏡面研磨方法に基づく加工工程の一実施例を示す
ものである。
【００２５】先ず、水晶や特殊ガラス、セラミック等か
らなる原料ブロック３１から切り出された板状ワーク１
１は、切断による傷や歪を有しているため、１次加工と
して研削等によりこれらを除去する。次に所望の枚数の
板状ワーク１１を接着剤１２を用いて接着し、積層ブロ
ック１３を形成する。
らなる原料ブロック３１から切り出された板状ワーク１
１は、切断による傷や歪を有しているため、１次加工と
して研削等によりこれらを除去する。次に所望の枚数の
板状ワーク１１を接着剤１２を用いて接着し、積層ブロ
ック１３を形成する。
【００２６】上記積層ブロック１３の形成に際しては、
図４のように各積層ブロック１３間に中間プレート２１
を２枚介在させ、複数の積層ブロック１３が連結された
複合ブロックを得ることもできる。その場合には中間プ
レート２１間は弱く、中間プレート２１と板状ワーク１
１との間は強くなるよう考慮して接着剤１２を決定す
る。こうすることによって、切断ないし面取り後の複合
ブロック間の分離、および各積層ブロック１３からの中
間プレート２１の剥離を簡単に行なうことができる。
図４のように各積層ブロック１３間に中間プレート２１
を２枚介在させ、複数の積層ブロック１３が連結された
複合ブロックを得ることもできる。その場合には中間プ
レート２１間は弱く、中間プレート２１と板状ワーク１
１との間は強くなるよう考慮して接着剤１２を決定す
る。こうすることによって、切断ないし面取り後の複合
ブロック間の分離、および各積層ブロック１３からの中
間プレート２１の剥離を簡単に行なうことができる。
【００２７】次に積層ブロック１３の積層方向の両端の
中心部分１４に支持用の軸１５を取り付けた後、スライ
ドおよび回転機構を有する支持手段（図示せず）によっ
て保持する。矢印ａは積層ブロック１３のスライド方向
の、矢印ｂは積層ブロック１３の回転方向の動きを示し
ている。
中心部分１４に支持用の軸１５を取り付けた後、スライ
ドおよび回転機構を有する支持手段（図示せず）によっ
て保持する。矢印ａは積層ブロック１３のスライド方向
の、矢印ｂは積層ブロック１３の回転方向の動きを示し
ている。
【００２８】また上記支持手段に相対する位置には、回
転軸１６が設けられており、回転ブラシ１７等からなる
弾性研磨手段が積層ブロック１３の長さ方向に沿って、
かつ積層ブロック１３以上の長さとなるよう回転自在に
軸着されている。
転軸１６が設けられており、回転ブラシ１７等からなる
弾性研磨手段が積層ブロック１３の長さ方向に沿って、
かつ積層ブロック１３以上の長さとなるよう回転自在に
軸着されている。
【００２９】この回転ブラシ１７は、板状ワーク１１の
材質および寸法（板厚等）に応じ、その材質を金属もし
くは樹脂等の非金属類に、またその線径および起毛の長
さも自由に決定することができる。
材質および寸法（板厚等）に応じ、その材質を金属もし
くは樹脂等の非金属類に、またその線径および起毛の長
さも自由に決定することができる。
【００３０】回転ブラシ１７による積層ブロック１３の
面取り加工に際しては、回転ブラシ１７を高速回転させ
るとともに、別途研磨剤の供給手段１８から積層ブロッ
ク１３の表面方向に研磨剤１９を供給する。
面取り加工に際しては、回転ブラシ１７を高速回転させ
るとともに、別途研磨剤の供給手段１８から積層ブロッ
ク１３の表面方向に研磨剤１９を供給する。
【００３１】支持手段に支持された積層ブロック１３
は、カム研磨機構を用いて積層ブロック１３を回転ブラ
シ１７の方向に移動させたり、板状ワーク１１の糸面方
向に沿ってスライドないし回転させながら、その移動と
同期させてブラシ回転軸を高速回転させることにより、
板状ワーク１１の形状が方形であろうと円形であろうと
その形状を問わず加工できる。もちろん、上記各機構を
組み合わせることにより、外形が円形でその外周の一部
にオリフラが形成された板状ワーク１１にも簡単に適用
することができる。
は、カム研磨機構を用いて積層ブロック１３を回転ブラ
シ１７の方向に移動させたり、板状ワーク１１の糸面方
向に沿ってスライドないし回転させながら、その移動と
同期させてブラシ回転軸を高速回転させることにより、
板状ワーク１１の形状が方形であろうと円形であろうと
その形状を問わず加工できる。もちろん、上記各機構を
組み合わせることにより、外形が円形でその外周の一部
にオリフラが形成された板状ワーク１１にも簡単に適用
することができる。
【００３２】図５は、回転ブラシ１７によって積層ブロ
ック１３の各部を面取り加工する際の、積層ブロック１
３と回転ブラシ１７との関係を示すものである。
ック１３の各部を面取り加工する際の、積層ブロック１
３と回転ブラシ１７との関係を示すものである。
【００３３】（イ）は積層ブロック１３の各辺の面取り
作業を示しており、高速回転する回転ブラシ１７に突き
当てられた積層ブロック１３は、矢印ｃに示す板状ワー
ク１１の糸面方向に沿って直線的にスライドする。その
際板状ワーク１１の幅方向の中央部は所定の速さで平滑
に研磨される。一方幅方向の両端は切断時の荒れや欠け
によって中央部よりも研磨されやすく、外側の点線で示
すほぼ直角の外形から約４５度程度の良好な角度（中間
の１点鎖線で示す）に面取り加工が施される。またそれ
と同時に積層ブロック１３は、板状ワーク１１の糸面方
向に沿って板状ワーク１１から外れる位置までスライド
し、板状ワーク１１の角をもＲ加工する。
作業を示しており、高速回転する回転ブラシ１７に突き
当てられた積層ブロック１３は、矢印ｃに示す板状ワー
ク１１の糸面方向に沿って直線的にスライドする。その
際板状ワーク１１の幅方向の中央部は所定の速さで平滑
に研磨される。一方幅方向の両端は切断時の荒れや欠け
によって中央部よりも研磨されやすく、外側の点線で示
すほぼ直角の外形から約４５度程度の良好な角度（中間
の１点鎖線で示す）に面取り加工が施される。またそれ
と同時に積層ブロック１３は、板状ワーク１１の糸面方
向に沿って板状ワーク１１から外れる位置までスライド
し、板状ワーク１１の角をもＲ加工する。
【００３４】次に積層ブロック１３を矢印ｃと直交する
矢印ｄ方向にスライドさせる。この時板状ワーク１１の
約４５度に面取りされた部分は、さらにＲ加工を施され
る（内側の実線で示す）。
矢印ｄ方向にスライドさせる。この時板状ワーク１１の
約４５度に面取りされた部分は、さらにＲ加工を施され
る（内側の実線で示す）。
【００３５】（ロ）は積層ブロック１３を回転すること
によって行なわれる板状ワーク１１の角の面取り作業を
示している。
によって行なわれる板状ワーク１１の角の面取り作業を
示している。
【００３６】上記面取り作業においては、所定の位置で
上述のように回転ブラシ１７を高速回転させるととも
に、先ず軸１５で支持した積層ブロック１３を回転ブラ
シ１７の方向に移動させて、積層ブロック１３を回転ブ
ラシ１７に突き当て、次に矢印ｃに示す板状ワーク１１
の糸面方向、次いで矢印ｃと直交する矢印ｄに示す方向
に直線的にスライドさせる。この状態で別途研磨剤の供
給手段１８から積層ブロック１３の表面方向に研磨剤１
９を供給する。研磨剤１９に含有される微粒子状の砥粒
２２は、積層ブロック１３の表面とブラシ先端との当接
部分２３に流入し、実際の研磨を担当する。
上述のように回転ブラシ１７を高速回転させるととも
に、先ず軸１５で支持した積層ブロック１３を回転ブラ
シ１７の方向に移動させて、積層ブロック１３を回転ブ
ラシ１７に突き当て、次に矢印ｃに示す板状ワーク１１
の糸面方向、次いで矢印ｃと直交する矢印ｄに示す方向
に直線的にスライドさせる。この状態で別途研磨剤の供
給手段１８から積層ブロック１３の表面方向に研磨剤１
９を供給する。研磨剤１９に含有される微粒子状の砥粒
２２は、積層ブロック１３の表面とブラシ先端との当接
部分２３に流入し、実際の研磨を担当する。
【００３７】上記回転ブラシ１７による研磨工程に続い
ては、研磨剤を含浸させ得る研磨パッドないし布等から
なる弾性研磨手段による鏡面研磨を行なうことができ
る。
ては、研磨剤を含浸させ得る研磨パッドないし布等から
なる弾性研磨手段による鏡面研磨を行なうことができ
る。
【００３８】上記面取り研磨および鏡面研磨加工後、溶
剤等により接着剤を除去し、仕上げ工程のポリッシング
等を行うわけであるが、１次工程にて仕上げ工程のポリ
ッシングを含めて加工してしまうことにより、積層ブロ
ック１３から板状ワーク１１単品に分離することで仕上
げ工程を省略して最終製品とすることが可能である。
剤等により接着剤を除去し、仕上げ工程のポリッシング
等を行うわけであるが、１次工程にて仕上げ工程のポリ
ッシングを含めて加工してしまうことにより、積層ブロ
ック１３から板状ワーク１１単品に分離することで仕上
げ工程を省略して最終製品とすることが可能である。
【００３９】また、図６のように外形が円形でその外周
の一部にオリフラが形成された板状ワーク１１の取り出
しに際しては、従来は（イ）のように原板から完全な円
形に切り出し、所定の面取りを施した上でオリフラの除
去を行なって板状ワーク１１を得ていた。しかしながら
この発明においては、（ロ）のように最初からオリフラ
が形成された状態で原板からの板状ワーク１１の取り出
しを行なうことができ、効率よく原板を利用することが
できる。
の一部にオリフラが形成された板状ワーク１１の取り出
しに際しては、従来は（イ）のように原板から完全な円
形に切り出し、所定の面取りを施した上でオリフラの除
去を行なって板状ワーク１１を得ていた。しかしながら
この発明においては、（ロ）のように最初からオリフラ
が形成された状態で原板からの板状ワーク１１の取り出
しを行なうことができ、効率よく原板を利用することが
できる。
【００４０】
【考案の効果】この発明は以上のように構成したので、
サイズが小さく薄いものであっても表面には擦過傷が着
いていない高品質な、しかも低コストで板状ワークを提
供することができた。
サイズが小さく薄いものであっても表面には擦過傷が着
いていない高品質な、しかも低コストで板状ワークを提
供することができた。
【００４１】またこの発明によれば、上記面取りされた
板状ワークを、その表面には擦過傷が着いておらず、か
つ工程を削減して高品質かつ低コストで得るための板状
ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法を提供すること
ができた。
板状ワークを、その表面には擦過傷が着いておらず、か
つ工程を削減して高品質かつ低コストで得るための板状
ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法を提供すること
ができた。
【００４２】さらに、上記板状ワークの面取り研磨およ
び鏡面研磨方法において弾性研磨手段として使用する回
転ブラシは、板状ワークの寸法に合わせて自由に線形を
細径化できるため、あらゆるサイズの板状ワークに適用
することができた。
び鏡面研磨方法において弾性研磨手段として使用する回
転ブラシは、板状ワークの寸法に合わせて自由に線形を
細径化できるため、あらゆるサイズの板状ワークに適用
することができた。
【００４３】また、種々の形状の板状ワークの研磨に適
用することができ、得ようとする板状ワークの適宜段階
での研磨が可能となるので、材料の無駄を著しく減少さ
せることができ、大幅なコスト低減を実現することがで
きた。
用することができ、得ようとする板状ワークの適宜段階
での研磨が可能となるので、材料の無駄を著しく減少さ
せることができ、大幅なコスト低減を実現することがで
きた。
【図１】この発明の面取りされた板状ワークの１実施例
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図２】その要部拡大断面図である。
【図３】この発明の板状ワークの面取り研磨および鏡面
研磨方法に基づく加工工程の一実施例を示す工程図であ
る。
研磨方法に基づく加工工程の一実施例を示す工程図であ
る。
【図４】積層ブロック１３間の積層方法を示す斜視図で
ある。
ある。
【図５】回転ブラシ１７によって積層ブロック１３の各
部を面取り加工する際の、積層ブロック１３と回転ブラ
シ１７との関係を示し、（イ）は積層ブロック１３の各
辺の面取り作業を、（ロ）は積層ブロック１３の隅部の
面取り作業を示す概略図である。
部を面取り加工する際の、積層ブロック１３と回転ブラ
シ１７との関係を示し、（イ）は積層ブロック１３の各
辺の面取り作業を、（ロ）は積層ブロック１３の隅部の
面取り作業を示す概略図である。
【図６】外形が円形でその外周の一部にオリフラが形成
された板状ワーク１１の取り出し方法を示し、（イ）は
従来の、（ロ）はこの発明による原料ブロック３１から
の板状ワーク１１の取り出し方を示す平面図である。
された板状ワーク１１の取り出し方法を示し、（イ）は
従来の、（ロ）はこの発明による原料ブロック３１から
の板状ワーク１１の取り出し方を示す平面図である。
【図７】従来の単品ごとの面取り方法を示す概略断面図
である。
である。
【図８】従来のバレル研磨手段による面取り方法を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図９】従来のオリフラを有する板状ワークの加工段階
を示す平面図である。
を示す平面図である。
１ 板状製品 ２ オリフラ ３ 端面 ４ 面取り部 １１ 板状ワーク １２ 接着剤 １３ 積層ブロック １４ 中心部分 １５ 支持用の軸 １６ 回転軸 １７ 回転ブラシ １８ 研磨剤の供給手段 １９ 研磨剤 ２１ 中間プレート ２２ 微粒子状の砥粒 ２３ 当接部分 ３１ 原料ブロック
Claims (5)
- 【請求項１】 下記工程からなる板状ワークの面取り研
磨および鏡面研磨方法。 イ）各板状ワークを、中間に介在させた接着剤が均一の
厚みを有するよう多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）中間の接着剤を剥して板状ワークの単品を得る工
程。 - 【請求項２】 下記工程からなる板状ワークの面取り研
磨および鏡面研磨方法。 イ）各板状ワークを２枚の中間プレートを介して、それ
ぞれ均一の厚みの接着剤により、２枚の中間プレート間
は弱い接着力で、また板状ワークと中間プレートとの間
は強い接着力で多数積層する工程。 ロ）積層工程で得た積層品を、積層方向の両端で保持す
る工程。 ハ）回転方向が上記積層品の積層方向に対して直角をな
す弾性研磨手段により、上記積層品の端面を研磨する工
程。 ニ）２枚の中間プレート間を剥す工程。 ホ）板状ワークから中間プレートを剥して板状ワークの
単品を得る工程。 - 【請求項３】 弾性研磨手段が金属ワイヤ製のブラシも
しくは研磨剤を含浸させ得る研磨パッドないし布である
請求項１または２に記載の板状ワークの面取り研磨およ
び鏡面研磨方法。 - 【請求項４】 積層品の端面と弾性研磨手段とが、直線
運動で交差して研磨するようにした請求項１ないし３の
いずれかに記載の板状ワークの面取り研磨および鏡面研
磨方法。 - 【請求項５】 積層品の端面と弾性研磨手段とが、回転
運動で交差して研磨するようにした請求項１ないし３の
いずれかに記載の板状ワークの面取り研磨および鏡面研
磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12350293A JP3390842B2 (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12350293A JP3390842B2 (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06310479A true JPH06310479A (ja) | 1994-11-04 |
| JP3390842B2 JP3390842B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=14862211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12350293A Expired - Fee Related JP3390842B2 (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 板状ワークの面取り研磨および鏡面研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3390842B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001332949A (ja) * | 2000-05-19 | 2001-11-30 | Toshiba Corp | 弾性表面波素子の製造方法 |
| JP2002176014A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-06-21 | Sharp Corp | シリコンウエハの加工方法 |
| JP2008036737A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Epson Toyocom Corp | 光学基板の製造方法 |
| JP2008159254A (ja) * | 2008-01-28 | 2008-07-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2009256125A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Shoda Techtron Corp | 板ガラスの加工方法 |
| US7637801B2 (en) | 2000-09-28 | 2009-12-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of making solar cell |
| KR101468563B1 (ko) * | 2013-05-13 | 2014-12-03 | 주식회사 케이씨텍 | 모바일 기기의 투명 기판의 곡면가공 방법 |
| CN109834574A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-04 | 蒙马科技（深圳）有限公司 | 一种矩形玻璃分段抛光方法 |
-
1993
- 1993-04-26 JP JP12350293A patent/JP3390842B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4600938B2 (ja) * | 2008-01-28 | 2010-12-22 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2009256125A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Shoda Techtron Corp | 板ガラスの加工方法 |
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| CN109834574A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-04 | 蒙马科技（深圳）有限公司 | 一种矩形玻璃分段抛光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3390842B2 (ja) | 2003-03-31 |
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