JPH06308526A - 情報記録装置 - Google Patents
情報記録装置Info
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- JPH06308526A JPH06308526A JP5101306A JP10130693A JPH06308526A JP H06308526 A JPH06308526 A JP H06308526A JP 5101306 A JP5101306 A JP 5101306A JP 10130693 A JP10130693 A JP 10130693A JP H06308526 A JPH06308526 A JP H06308526A
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- Japan
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- layer
- liquid crystal
- recording medium
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 電極層22上に液晶相及び樹脂相とからなる
情報記録層23を積層した情報記録媒体20と電極層1
2上に光導電層13を有する光センサー10とを、少な
くとも一方を透明電極とし、スペーサー30を介して光
軸上に対向配置し、両電極間に電圧を印加した状態で情
報露光し、情報露光に応じて液晶相を配向させて情報記
録を行なう。光センサー10または情報記録媒体20の
少なくとも一方の電極層をパターン状に形成し、電極層
が形成されていない部分にスペーサーを配置する。 【効果】 電極層をパターン状に形成し、電極層が形成
されていない部分にスペーサーを配置したので、情報記
録媒体に形成された可視画像にノイズが発生せず、また
スペーサー部分に高電圧が印加されても、光センサーや
情報記録媒体が損傷を受けない上に、絶縁破壊すること
がない。またスペーサーの材質を特定すれば、画質の低
下を防止することができる。
情報記録層23を積層した情報記録媒体20と電極層1
2上に光導電層13を有する光センサー10とを、少な
くとも一方を透明電極とし、スペーサー30を介して光
軸上に対向配置し、両電極間に電圧を印加した状態で情
報露光し、情報露光に応じて液晶相を配向させて情報記
録を行なう。光センサー10または情報記録媒体20の
少なくとも一方の電極層をパターン状に形成し、電極層
が形成されていない部分にスペーサーを配置する。 【効果】 電極層をパターン状に形成し、電極層が形成
されていない部分にスペーサーを配置したので、情報記
録媒体に形成された可視画像にノイズが発生せず、また
スペーサー部分に高電圧が印加されても、光センサーや
情報記録媒体が損傷を受けない上に、絶縁破壊すること
がない。またスペーサーの材質を特定すれば、画質の低
下を防止することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高分子分散型液晶を情
報記録層とする情報記録媒体へ光情報を可視情報または
静電情報の形で記録することが可能な情報記録装置であ
って、光センサーと情報記録媒体とからなる情報記録装
置に関する。
報記録層とする情報記録媒体へ光情報を可視情報または
静電情報の形で記録することが可能な情報記録装置であ
って、光センサーと情報記録媒体とからなる情報記録装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は、従来提案されている高分子分散
型液晶を情報記録層とする情報記録媒体への情報記録方
法を説明するための図である。この種の情報記録方法
は、透明基板11上全面に透明電極層12、光導電層1
3を順次積層した光センサー10と、基板21上全面に
電極層22、高分子分散型液晶からなる情報記録層23
とを順次積層した情報記録媒体20とをスペーサ30を
介して対向配置し、両電極間に電圧を印加した状態で、
例えば光センサー側から画像露光すると、光導電層にお
ける露光された部分において光キャリヤが発生して導電
性が変化し、その部位の電界強度が変化するので、露光
量に応じた液晶の配向が得られ、情報記録媒体に画像が
形成されるものである。
型液晶を情報記録層とする情報記録媒体への情報記録方
法を説明するための図である。この種の情報記録方法
は、透明基板11上全面に透明電極層12、光導電層1
3を順次積層した光センサー10と、基板21上全面に
電極層22、高分子分散型液晶からなる情報記録層23
とを順次積層した情報記録媒体20とをスペーサ30を
介して対向配置し、両電極間に電圧を印加した状態で、
例えば光センサー側から画像露光すると、光導電層にお
ける露光された部分において光キャリヤが発生して導電
性が変化し、その部位の電界強度が変化するので、露光
量に応じた液晶の配向が得られ、情報記録媒体に画像が
形成されるものである。
【0003】しかしながら、この情報記録装置にあって
は、光センサーと情報記録媒体の全面に電極層を設けて
おり、スペーサーとしてポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフイルム等を使用してその間隙を一
定になるようにしているが、このような構成ではスペー
サー部分に高電圧が印加され、特にスペーサー端面や、
またスペーサーに突起や傷等があるとその部分より表面
電流が生じたり、また異常放電が生じ、光センサーや情
報記録媒体が損傷を受け、絶縁破壊の原因となってい
る。特に、この情報記録装置にあっては、液晶の配向に
より情報を記録するものであるので、このような絶縁破
壊が生じると、光センサーや情報記録媒体の再使用が不
可能になるという問題の他に、情報記録媒体に形成され
た可視画像にノイズが発生するという重大な問題が生じ
る。
は、光センサーと情報記録媒体の全面に電極層を設けて
おり、スペーサーとしてポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフイルム等を使用してその間隙を一
定になるようにしているが、このような構成ではスペー
サー部分に高電圧が印加され、特にスペーサー端面や、
またスペーサーに突起や傷等があるとその部分より表面
電流が生じたり、また異常放電が生じ、光センサーや情
報記録媒体が損傷を受け、絶縁破壊の原因となってい
る。特に、この情報記録装置にあっては、液晶の配向に
より情報を記録するものであるので、このような絶縁破
壊が生じると、光センサーや情報記録媒体の再使用が不
可能になるという問題の他に、情報記録媒体に形成され
た可視画像にノイズが発生するという重大な問題が生じ
る。
【0004】また、この情報記録装置においては、高分
子分散型液晶を情報記録層とするが、スペーサーとして
使用する絶縁性フイルム中に存在する可塑剤が液晶中に
溶け込む、或いは逆に液晶がフイルム中に溶け込むとい
った問題が生じる。本発明の情報記録装置に使用する情
報記録層は、その情報記録層内部が液晶相と紫外線硬化
樹脂相とからなる構造であり、その外表面を紫外線硬化
樹脂からなるスキン層となしうるものであるが、それで
もその現象が生じ、非画線部ばかりか、画像部にまで影
響を及ぼし、画質の低下を招くという現象を生じる。
子分散型液晶を情報記録層とするが、スペーサーとして
使用する絶縁性フイルム中に存在する可塑剤が液晶中に
溶け込む、或いは逆に液晶がフイルム中に溶け込むとい
った問題が生じる。本発明の情報記録装置に使用する情
報記録層は、その情報記録層内部が液晶相と紫外線硬化
樹脂相とからなる構造であり、その外表面を紫外線硬化
樹脂からなるスキン層となしうるものであるが、それで
もその現象が生じ、非画線部ばかりか、画像部にまで影
響を及ぼし、画質の低下を招くという現象を生じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この種の高
分子分散型液晶を使用する情報記録装置の改良に関する
ものであり、高電圧を印加してもスペーサーを通して絶
縁破壊が生じなく、情報記録媒体に記録された画像をノ
イズのない高品質のものとすると同時に、光センサー、
情報記録媒体の寿命を伸ばすことのでき、更にスペーサ
ーによる画質の低下の生じない情報記録装置の提供を課
題とする。
分子分散型液晶を使用する情報記録装置の改良に関する
ものであり、高電圧を印加してもスペーサーを通して絶
縁破壊が生じなく、情報記録媒体に記録された画像をノ
イズのない高品質のものとすると同時に、光センサー、
情報記録媒体の寿命を伸ばすことのでき、更にスペーサ
ーによる画質の低下の生じない情報記録装置の提供を課
題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の情報記録装置
は、電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる情報記録層
を積層した情報記録媒体と電極層上に光導電層を有する
光センサーとを、少なくとも一方を透明電極とし、スペ
ーサーを介して光軸上に対向配置し、両電極間に電圧印
加した状態で情報露光し、情報露光に応じて液晶相を配
向させて情報記録を行なう情報記録装置において、光セ
ンサーまたは情報記録媒体の少なくとも一方の電極層を
パターン状に形成し、電極層が形成されていない部分に
スペーサーを配置したことを特徴とする。
は、電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる情報記録層
を積層した情報記録媒体と電極層上に光導電層を有する
光センサーとを、少なくとも一方を透明電極とし、スペ
ーサーを介して光軸上に対向配置し、両電極間に電圧印
加した状態で情報露光し、情報露光に応じて液晶相を配
向させて情報記録を行なう情報記録装置において、光セ
ンサーまたは情報記録媒体の少なくとも一方の電極層を
パターン状に形成し、電極層が形成されていない部分に
スペーサーを配置したことを特徴とする。
【0007】図1(a)(b)は、光センサー、情報記
録媒体の電極層をそれぞれパターン状に形成した静電画
像記録装置の断面図、及び平面図である。
録媒体の電極層をそれぞれパターン状に形成した静電画
像記録装置の断面図、及び平面図である。
【0008】まず、図1(a)に示すように、本発明の
情報記録装置は、光センサー10、情報記録装置20、
スペーサー30よりなる。
情報記録装置は、光センサー10、情報記録装置20、
スペーサー30よりなる。
【0009】まず、情報記録媒体について説明する。情
報記録媒体は、基板21上にパターニングされた電極層
22、情報記録層23を順次積層したものである。情報
記録層23は、液晶相と樹脂相とからなるものであり、
液晶材料としてはスメクチック液晶、ネマチック液晶、
コレステリック液晶あるいはこれらの混合物を使用する
ことができるが、液晶の配向性を保持し、情報を永続的
に保持させる、所謂メモリー性の観点からはスメクチッ
ク液晶を使用するのが好ましい。
報記録媒体は、基板21上にパターニングされた電極層
22、情報記録層23を順次積層したものである。情報
記録層23は、液晶相と樹脂相とからなるものであり、
液晶材料としてはスメクチック液晶、ネマチック液晶、
コレステリック液晶あるいはこれらの混合物を使用する
ことができるが、液晶の配向性を保持し、情報を永続的
に保持させる、所謂メモリー性の観点からはスメクチッ
ク液晶を使用するのが好ましい。
【0010】スメクチック液晶としては、液晶性を呈す
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックA相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックC相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックH、G、E、F等を呈する液晶物質
等が挙げられる。又、ネマチック液晶を使用してもよ
く、スメクチック或いはコレステリック液晶と混合する
ことによりメモリー性を向上させることができ、例え
ば、シッフ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェ
ニルエステル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル
系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘ
キサン系、フェニルピリジン系、フェニルオキサジン
系、多環エタン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロ
ヘキシルピリミジン系、フェニル系、トラン系等の公知
のネマチック液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコ
ール等と液晶材料を混合してマイクロカプセル化したも
のも使用できる。尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の
異方向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので
好ましい。
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックA相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックC相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックH、G、E、F等を呈する液晶物質
等が挙げられる。又、ネマチック液晶を使用してもよ
く、スメクチック或いはコレステリック液晶と混合する
ことによりメモリー性を向上させることができ、例え
ば、シッフ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェ
ニルエステル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル
系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘ
キサン系、フェニルピリジン系、フェニルオキサジン
系、多環エタン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロ
ヘキシルピリミジン系、フェニル系、トラン系等の公知
のネマチック液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコ
ール等と液晶材料を混合してマイクロカプセル化したも
のも使用できる。尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の
異方向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので
好ましい。
【0011】樹脂相を形成する材料としては、液晶材料
と共通の溶媒に相溶性を有する溶媒可溶型の熱硬化性樹
脂、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、及びこれらを主体とした共
重合体等、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等を使用しても
よいが、紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴ
マーの状態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモ
ノマー、オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相
溶性を有するものを好ましく使用できる。
と共通の溶媒に相溶性を有する溶媒可溶型の熱硬化性樹
脂、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、及びこれらを主体とした共
重合体等、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等を使用しても
よいが、紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴ
マーの状態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモ
ノマー、オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相
溶性を有するものを好ましく使用できる。
【0012】このような紫外線硬化型樹脂としては、例
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙
げられ、モノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、イソシアヌール酸(エチレンオキサイド変性)トリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート等の多官能性モノマー或いは多官能性
ウレタン系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノ
ール変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
等の単官能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられ
る。
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙
げられ、モノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、イソシアヌール酸(エチレンオキサイド変性)トリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート等の多官能性モノマー或いは多官能性
ウレタン系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノ
ール変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
等の単官能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられ
る。
【0013】溶媒としては、酢酸−n−ブチルに対する
相対蒸発速度が2より小さい溶剤であって、液晶、紫外
線硬化型樹脂形成材料、光硬化剤、弗素系界面活性剤の
それぞれに共通の溶媒であることが必要である。「酢酸
−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より小さい溶
剤」とは、例えば原崎勇次著「わかりやすいコーティン
グ技術」217頁〜221頁、理工出版社刊に記載され
るものであり、蒸発速度とは一定温度での揮発性であ
り、 で定義され、Rが2より小さいものである。
相対蒸発速度が2より小さい溶剤であって、液晶、紫外
線硬化型樹脂形成材料、光硬化剤、弗素系界面活性剤の
それぞれに共通の溶媒であることが必要である。「酢酸
−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より小さい溶
剤」とは、例えば原崎勇次著「わかりやすいコーティン
グ技術」217頁〜221頁、理工出版社刊に記載され
るものであり、蒸発速度とは一定温度での揮発性であ
り、 で定義され、Rが2より小さいものである。
【0014】本発明において使用しうる溶剤としては、
キシレン(R=0.76)、シクロヘキサノン(R=
0.32)等の蒸発速度の比較的遅いものが好ましく、
またクロロホルム等に代表されるハロゲン化炭化水素系
溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアルコール誘導
体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテル系溶媒が
挙げられる。その他、具体的には、メチルアルコール、
変性エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ブタノ
ール、メチルイソブチルカルビノール、ジイソブチルカ
ルビノール、ヘキシレングリコール、酢酸−sec−ブ
タノール、酢酸イソブチル(98%)、酢酸n−ブチ
ル、酢酸メチルアルミ、酢酸アルミ(95%異性体混合
物)、乳酸エチル、メチルオキシトール、エチルオキシ
トール、イソプロピルオキシトール、メチルオキシトー
ルアセテート、エチルオキシトールアセテート、ブチル
オキシトール、メチルジオキシトール、エチルジオキシ
トール、ブチルジオキシトール、ブチルジオキシトール
アセテート、メチルイソブチルケトン、エチルアミルケ
トン、Pent−O−xone(ME−6K)、メチル
シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、ジアセトンア
ルコール、イソホロン、1,4−ジオキサン、パークロ
ロエチレン、ジクロロプロパン、2−ニトロプロパン、
トルエン、SBP100/140、ゴム溶剤、キシレ
ン、SBP140/165、SBP6、SBP11、S
hellsolA、ホワイトスピリット(LAWS)、
ShellsolE、ShellsolTD、ホワイト
スピリット(115°F引火)、ShellsolT、
ShellsolAB、Distillate、Sol
vent300、ShellsolN、Shellso
lRA、ShellsolK、ShellsolR、S
olvent350等を挙げることができる。
キシレン(R=0.76)、シクロヘキサノン(R=
0.32)等の蒸発速度の比較的遅いものが好ましく、
またクロロホルム等に代表されるハロゲン化炭化水素系
溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアルコール誘導
体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテル系溶媒が
挙げられる。その他、具体的には、メチルアルコール、
変性エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ブタノ
ール、メチルイソブチルカルビノール、ジイソブチルカ
ルビノール、ヘキシレングリコール、酢酸−sec−ブ
タノール、酢酸イソブチル(98%)、酢酸n−ブチ
ル、酢酸メチルアルミ、酢酸アルミ(95%異性体混合
物)、乳酸エチル、メチルオキシトール、エチルオキシ
トール、イソプロピルオキシトール、メチルオキシトー
ルアセテート、エチルオキシトールアセテート、ブチル
オキシトール、メチルジオキシトール、エチルジオキシ
トール、ブチルジオキシトール、ブチルジオキシトール
アセテート、メチルイソブチルケトン、エチルアミルケ
トン、Pent−O−xone(ME−6K)、メチル
シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、ジアセトンア
ルコール、イソホロン、1,4−ジオキサン、パークロ
ロエチレン、ジクロロプロパン、2−ニトロプロパン、
トルエン、SBP100/140、ゴム溶剤、キシレ
ン、SBP140/165、SBP6、SBP11、S
hellsolA、ホワイトスピリット(LAWS)、
ShellsolE、ShellsolTD、ホワイト
スピリット(115°F引火)、ShellsolT、
ShellsolAB、Distillate、Sol
vent300、ShellsolN、Shellso
lRA、ShellsolK、ShellsolR、S
olvent350等を挙げることができる。
【0015】光硬化剤としては、例えば2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(チバ
・ガイギー社製「ダロキュア1173」)、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア184」)、1−(4−イソプロピル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン(チバ・ガイギー社製「ダロキュア111
6」)、ベンジルジメチルケタール(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア651」)、2−メチル−1−〔4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパノン
−1(チバ・ガイギー社製「イルガキュア907」)、
2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤ
キュアDETX」)とp−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル(日本化薬社製「カヤキュアEPA」)との混合物、
イソプロピルチオキサントン(ワードブレキンソップ社
製「クンタキュア・ITX」とp−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オンが液晶材料、重合体形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(チバ
・ガイギー社製「ダロキュア1173」)、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア184」)、1−(4−イソプロピル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン(チバ・ガイギー社製「ダロキュア111
6」)、ベンジルジメチルケタール(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア651」)、2−メチル−1−〔4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパノン
−1(チバ・ガイギー社製「イルガキュア907」)、
2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤ
キュアDETX」)とp−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル(日本化薬社製「カヤキュアEPA」)との混合物、
イソプロピルチオキサントン(ワードブレキンソップ社
製「クンタキュア・ITX」とp−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オンが液晶材料、重合体形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。
【0016】液晶と樹脂との合計量に対する液晶の含有
割合は、10重量%〜90重量%とできる。液晶の含有
量が10重量%未満であると情報記録により液晶相が配
向しても光透過性が低く、また、90重量%を越えると
液晶の滲み出し等の現象が生じ、画像ムラが生じ好まし
くない。しかしながら、本発明の情報記録媒体において
は、特に、液晶の割合を40重量%〜80重量%とする
とよい。本発明によると、その情報記録層の外表面を樹
脂層からなるスキン層とすることができるので、液晶の
含有量を多くでき、これにより、高感度、高コントラス
トの情報記録媒体とでき、また、動作電圧を低くするこ
とができる。
割合は、10重量%〜90重量%とできる。液晶の含有
量が10重量%未満であると情報記録により液晶相が配
向しても光透過性が低く、また、90重量%を越えると
液晶の滲み出し等の現象が生じ、画像ムラが生じ好まし
くない。しかしながら、本発明の情報記録媒体において
は、特に、液晶の割合を40重量%〜80重量%とする
とよい。本発明によると、その情報記録層の外表面を樹
脂層からなるスキン層とすることができるので、液晶の
含有量を多くでき、これにより、高感度、高コントラス
トの情報記録媒体とでき、また、動作電圧を低くするこ
とができる。
【0017】また、情報記録層は、液晶相の光屈折率と
樹脂相の光屈折率とをほぼ同じものとしておくことによ
り、電界のかからない状態では光散乱により不透明であ
り、電界がかかると液晶相が配向し、情報記録部を透明
状態とすることができるものであり、情報再生に際して
も偏向板が不用であり、読み取りに際しての光学系が単
純化しうる。
樹脂相の光屈折率とをほぼ同じものとしておくことによ
り、電界のかからない状態では光散乱により不透明であ
り、電界がかかると液晶相が配向し、情報記録部を透明
状態とすることができるものであり、情報再生に際して
も偏向板が不用であり、読み取りに際しての光学系が単
純化しうる。
【0018】塗布液には、電極層に対する濡れ性と共
に、情報記録層表面に樹脂のみからなるスキン層を形成
させることを目的として弗素系界面活性剤が添加され
る。このような弗素系界面活性剤としては、例えば住友
3M(株)製、フロラードFC−430、同フロラード
FC−431、N−(n−プロピル)−N−(β−アク
リロキシエチル)−パーフルオロオクチルスルホン酸ア
ミド〔三菱マテリアル(株)製EF−125M〕、N−
(n−プロピル)−N−(β−メタクリロキシエチル)
−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド〔三菱マテリ
アル(株)製EF−135M〕、パーフルオロオクタン
スルホン酸〔三菱マテリアル(株)製EF−101〕、
パーフルオロカプリル酸〔三菱マテリアル(株)製EF
−201〕、N−(n−プロピル)−N−パーフルオロ
オクタンスルホン酸アミドエタノール〔三菱マテリアル
(株)製EF−121〕、更に三菱マテリアル(株)製
EF−102、同EF−103、同EF−104、同E
F−105、同EF−112、同EF−121、同EF
−122A、同EF−122B、同EF−122C、同
EF−122A3、同EF−123A、同EF−123
B、同EF−132、同EF−301、同EF−30
3、同EF−305、同EF−306A、同EF−50
1、同EF−700、同EF−201、同EF−20
4、同EF−351、同EF−352、同EF−80
1、同EF−802、同EF−125DS、同EF−1
200、同EF−L102、同EF−L155、同EF
−L174、同EF−L215等が挙げられる。また、
3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−
ジヒドロキシプロパン〔三菱マテリアル(株)製MF−
100〕、N−n−プロピル−N−2,3−ジヒドロキ
シプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド〔三菱
マテリアル(株)製MF−110〕、3−(2−パーフ
ルオロヘキシル)エトキシ−1,2−エポキシプロパン
〔三菱マテリアル(株)製MF−120〕、N−n−プ
ロピル−N−2,3−エポキシプロピルパーフルオロオ
クチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製MF−
130〕、パーフルオロヘキシルエチレン〔三菱マテリ
アル(株)製MF−140〕、N−〔3−トリメトキシ
シリル)プロピル〕パーフルオロヘプチルカルボン酸ア
ミド〔三菱マテリアル(株)製MF−150〕、N−
〔3−トリメトキシシリル)プロピル〕パーフルオロヘ
プチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製MF−
160〕等が挙げられる。弗素系界面活性剤は、液晶と
樹脂形成材料の合計量に対して0.1〜20重量%の割
合で使用される。また、必要に応じて、溶液の塗布適性
を向上させ、表面性を良くするためにレベリング剤を添
加してもよい。
に、情報記録層表面に樹脂のみからなるスキン層を形成
させることを目的として弗素系界面活性剤が添加され
る。このような弗素系界面活性剤としては、例えば住友
3M(株)製、フロラードFC−430、同フロラード
FC−431、N−(n−プロピル)−N−(β−アク
リロキシエチル)−パーフルオロオクチルスルホン酸ア
ミド〔三菱マテリアル(株)製EF−125M〕、N−
(n−プロピル)−N−(β−メタクリロキシエチル)
−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド〔三菱マテリ
アル(株)製EF−135M〕、パーフルオロオクタン
スルホン酸〔三菱マテリアル(株)製EF−101〕、
パーフルオロカプリル酸〔三菱マテリアル(株)製EF
−201〕、N−(n−プロピル)−N−パーフルオロ
オクタンスルホン酸アミドエタノール〔三菱マテリアル
(株)製EF−121〕、更に三菱マテリアル(株)製
EF−102、同EF−103、同EF−104、同E
F−105、同EF−112、同EF−121、同EF
−122A、同EF−122B、同EF−122C、同
EF−122A3、同EF−123A、同EF−123
B、同EF−132、同EF−301、同EF−30
3、同EF−305、同EF−306A、同EF−50
1、同EF−700、同EF−201、同EF−20
4、同EF−351、同EF−352、同EF−80
1、同EF−802、同EF−125DS、同EF−1
200、同EF−L102、同EF−L155、同EF
−L174、同EF−L215等が挙げられる。また、
3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−
ジヒドロキシプロパン〔三菱マテリアル(株)製MF−
100〕、N−n−プロピル−N−2,3−ジヒドロキ
シプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド〔三菱
マテリアル(株)製MF−110〕、3−(2−パーフ
ルオロヘキシル)エトキシ−1,2−エポキシプロパン
〔三菱マテリアル(株)製MF−120〕、N−n−プ
ロピル−N−2,3−エポキシプロピルパーフルオロオ
クチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製MF−
130〕、パーフルオロヘキシルエチレン〔三菱マテリ
アル(株)製MF−140〕、N−〔3−トリメトキシ
シリル)プロピル〕パーフルオロヘプチルカルボン酸ア
ミド〔三菱マテリアル(株)製MF−150〕、N−
〔3−トリメトキシシリル)プロピル〕パーフルオロヘ
プチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製MF−
160〕等が挙げられる。弗素系界面活性剤は、液晶と
樹脂形成材料の合計量に対して0.1〜20重量%の割
合で使用される。また、必要に応じて、溶液の塗布適性
を向上させ、表面性を良くするためにレベリング剤を添
加してもよい。
【0019】次に、情報記録層の形成方法について、順
を追って説明する。 (1)液晶、樹脂形成用材料、光重合開始剤、界面活性
剤を、酢酸−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より
小さい溶媒と混合し、固形分濃度を10〜60重量%と
する混合溶液とする。溶剤希釈は1〜500cps(2
0℃)、好ましくは10〜200cps(20℃)であ
る。粘度が小さいと塗布液が流れてしまいコーティング
後の膜厚が保持できなく、また粘度が大きいとレベリン
グが困難となる。また、液晶が等方相を保持する温度以
上、好ましくは等方相転移点+10℃の温度の範囲内に
加熱して溶解させる。この際、溶液中に存在する紫外線
硬化樹脂形成材料のゲル化物、ゴミ等を濾過することに
より除去する。ゲル化物、ゴミ等が存在すると情報記録
媒体としてのノイズとなる。
を追って説明する。 (1)液晶、樹脂形成用材料、光重合開始剤、界面活性
剤を、酢酸−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より
小さい溶媒と混合し、固形分濃度を10〜60重量%と
する混合溶液とする。溶剤希釈は1〜500cps(2
0℃)、好ましくは10〜200cps(20℃)であ
る。粘度が小さいと塗布液が流れてしまいコーティング
後の膜厚が保持できなく、また粘度が大きいとレベリン
グが困難となる。また、液晶が等方相を保持する温度以
上、好ましくは等方相転移点+10℃の温度の範囲内に
加熱して溶解させる。この際、溶液中に存在する紫外線
硬化樹脂形成材料のゲル化物、ゴミ等を濾過することに
より除去する。ゲル化物、ゴミ等が存在すると情報記録
媒体としてのノイズとなる。
【0020】また、混合溶液は等方相温度以上に加熱さ
れているが、この際、溶剤が蒸発乾燥してしまうと混合
溶液は相分離してしまい、均一な膜は形成されない。そ
のため、溶媒としては酢酸−n−ブチルに対する相対蒸
発速度が2より小さい溶媒を使用する。相対蒸発速度が
2より大きいと、蒸発が早すぎ、上記の問題を生じる。
通常、70℃までの加熱で溶解されるものであれば、溶
剤としてはRが0.3以上で1以下のものでも問題な
く、例えばキシレン(R=0.7)を使用するとよく、
また、溶解させるために70℃以上の加熱が必要な場合
には、溶剤としてはRが0.3未満のもの、例えばシク
ロヘキサノン(R=0.2)を使用するとよい。
れているが、この際、溶剤が蒸発乾燥してしまうと混合
溶液は相分離してしまい、均一な膜は形成されない。そ
のため、溶媒としては酢酸−n−ブチルに対する相対蒸
発速度が2より小さい溶媒を使用する。相対蒸発速度が
2より大きいと、蒸発が早すぎ、上記の問題を生じる。
通常、70℃までの加熱で溶解されるものであれば、溶
剤としてはRが0.3以上で1以下のものでも問題な
く、例えばキシレン(R=0.7)を使用するとよく、
また、溶解させるために70℃以上の加熱が必要な場合
には、溶剤としてはRが0.3未満のもの、例えばシク
ロヘキサノン(R=0.2)を使用するとよい。
【0021】(2)次いで、混合溶液を電極層上に室温
条件下でスピンコーター、バーコート、ブレードコータ
ー、或いはロールコーター等の塗布方法により均一な膜
厚で均一に塗布する。
条件下でスピンコーター、バーコート、ブレードコータ
ー、或いはロールコーター等の塗布方法により均一な膜
厚で均一に塗布する。
【0022】(3)塗布層を、液晶が等方相を保持する
温度以上、好ましくは等方相転移点±10℃の温度の範
囲内に保持し、溶媒を蒸発除去する。塗布層の温度が、
等方相転移温度より10℃以上低いと、液晶と紫外線硬
化型樹脂材料との相分離が大きくなるという問題が生じ
る。即ち、液晶ドメインが成長しすぎ、情報記録層表面
にスキン層が完全に形成されず、液晶の滲み出し現象が
生じたり、また紫外線硬化型樹脂がマット化し、正確に
情報を取り込むことが困難となり、好ましくない。ま
た、紫外線硬化型樹脂が液晶を保持できず、情報記録層
を形成されないことすらある。また、等方相転移点+1
0℃以上であると、その詳細な理由は不明であるが、情
報記録層において液晶相と樹脂相との相分離が不明確に
なる。
温度以上、好ましくは等方相転移点±10℃の温度の範
囲内に保持し、溶媒を蒸発除去する。塗布層の温度が、
等方相転移温度より10℃以上低いと、液晶と紫外線硬
化型樹脂材料との相分離が大きくなるという問題が生じ
る。即ち、液晶ドメインが成長しすぎ、情報記録層表面
にスキン層が完全に形成されず、液晶の滲み出し現象が
生じたり、また紫外線硬化型樹脂がマット化し、正確に
情報を取り込むことが困難となり、好ましくない。ま
た、紫外線硬化型樹脂が液晶を保持できず、情報記録層
を形成されないことすらある。また、等方相転移点+1
0℃以上であると、その詳細な理由は不明であるが、情
報記録層において液晶相と樹脂相との相分離が不明確に
なる。
【0023】(4)溶媒除去を完全なものとするため
に、乾燥処理はフード乾燥、真空乾燥の2段階に別けて
実施するとよく、これにより、空気の流れによる情報記
録層表面のムラを防止し、干渉縞を防止することができ
る。
に、乾燥処理はフード乾燥、真空乾燥の2段階に別けて
実施するとよく、これにより、空気の流れによる情報記
録層表面のムラを防止し、干渉縞を防止することができ
る。
【0024】(5)次に、乾燥処理された塗布層をUV
ランプを使用して紫外線照射し、硬化させるが、塗布層
への紫外線照射するにあたっては、赤外線を遮蔽し、2
00nm〜400nmの波長部分が1%以上である紫外
線を使用し、0.1mJ/cm2 以上のエネルギーで照
射することにより、液晶相と樹脂相との相分離に優れた
情報記録層が得られる。
ランプを使用して紫外線照射し、硬化させるが、塗布層
への紫外線照射するにあたっては、赤外線を遮蔽し、2
00nm〜400nmの波長部分が1%以上である紫外
線を使用し、0.1mJ/cm2 以上のエネルギーで照
射することにより、液晶相と樹脂相との相分離に優れた
情報記録層が得られる。
【0025】このようにして情報記録層を形成すると、
情報記録層表面に、情報記録層の膜厚の0.01%〜3
0%の割合の膜厚を有するスキン層が形成されると共
に、情報記録層内部は、一次粒径が0.03μm〜0.
3μmの樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が連通し
た構造を有するものとできる。紫外線硬化型樹脂形成材
料として、その平均分子量/平均官能基で示されるパラ
メータが160以下の多官能性の紫外線硬化性樹脂材料
を使用すると、その表面スキン層が耐久性に優れたもの
とできる。
情報記録層表面に、情報記録層の膜厚の0.01%〜3
0%の割合の膜厚を有するスキン層が形成されると共
に、情報記録層内部は、一次粒径が0.03μm〜0.
3μmの樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が連通し
た構造を有するものとできる。紫外線硬化型樹脂形成材
料として、その平均分子量/平均官能基で示されるパラ
メータが160以下の多官能性の紫外線硬化性樹脂材料
を使用すると、その表面スキン層が耐久性に優れたもの
とできる。
【0026】情報記録層表面に耐久性のあるスキン層が
形成されることにより、情報記録層における液晶の使用
割合を増大することができ、また情報記録層表面への液
晶の滲み出しがなく、これによる画像の乱れを無くすこ
とができ、高品質の画像が得られる。
形成されることにより、情報記録層における液晶の使用
割合を増大することができ、また情報記録層表面への液
晶の滲み出しがなく、これによる画像の乱れを無くすこ
とができ、高品質の画像が得られる。
【0027】尚、情報記録層内部において、微細構造に
おいて液晶相と樹脂相との相分離が不完全であると、コ
ントラストがとれなくなるという問題を生じる。また、
相分離が不完全であると情報記録層自体が低抵抗化して
しまい、光センサーを使用した静電情報による電界の作
用による情報記録に際して、情報記録層における液晶相
に有効に電圧がかからず、液晶駆動が緩慢になり、低感
度化を生じるという問題がある。また、相分離が不完全
であると、紫外線硬化樹脂形成材料を赤外線を含有する
UVランプにより照射すると、不要な加熱により、不均
一な収縮をひきおこし、情報記録媒体として致命的な均
一均質な情報記録層とできないという重大な問題を生じ
る。
おいて液晶相と樹脂相との相分離が不完全であると、コ
ントラストがとれなくなるという問題を生じる。また、
相分離が不完全であると情報記録層自体が低抵抗化して
しまい、光センサーを使用した静電情報による電界の作
用による情報記録に際して、情報記録層における液晶相
に有効に電圧がかからず、液晶駆動が緩慢になり、低感
度化を生じるという問題がある。また、相分離が不完全
であると、紫外線硬化樹脂形成材料を赤外線を含有する
UVランプにより照射すると、不要な加熱により、不均
一な収縮をひきおこし、情報記録媒体として致命的な均
一均質な情報記録層とできないという重大な問題を生じ
る。
【0028】(6)このようにして形成される情報記録
層の平均膜厚は、1μm〜30μmとされる。膜厚が厚
すぎると動作電圧が高くなるが、一般に感度をあげたい
場合には膜厚を薄くし、コントラストをあげたい場合に
は膜厚は厚くするとよい。感度と共にコントラスト比の
優れたものとするには、膜厚としては、好ましくは3μ
m〜20μm、より好ましくは5μm〜10μmの膜厚
とするとよい。これにより高コントラストを維持しつ
つ、動作電圧も低くすることができる。
層の平均膜厚は、1μm〜30μmとされる。膜厚が厚
すぎると動作電圧が高くなるが、一般に感度をあげたい
場合には膜厚を薄くし、コントラストをあげたい場合に
は膜厚は厚くするとよい。感度と共にコントラスト比の
優れたものとするには、膜厚としては、好ましくは3μ
m〜20μm、より好ましくは5μm〜10μmの膜厚
とするとよい。これにより高コントラストを維持しつ
つ、動作電圧も低くすることができる。
【0029】また、情報記録層におけるスキン層の膜厚
は、情報記録層の膜厚の0.01%〜50%の割合とで
きるが、薄すぎると液晶の滲み出しが生じ、その表面に
後述する光センサーにより情報記録をしても、ノイズと
なる。そのため、このましくは、スキン層の膜厚は、情
報記録層の膜厚の0.01%〜30%の割合のものとす
るとよい。スキン層の膜厚は、その詳細な理由は不明で
あるが、紫外線硬化型樹脂の種類、紫外線照射量、弗素
系界面活性剤の添加等により、適宜調整することができ
る。
は、情報記録層の膜厚の0.01%〜50%の割合とで
きるが、薄すぎると液晶の滲み出しが生じ、その表面に
後述する光センサーにより情報記録をしても、ノイズと
なる。そのため、このましくは、スキン層の膜厚は、情
報記録層の膜厚の0.01%〜30%の割合のものとす
るとよい。スキン層の膜厚は、その詳細な理由は不明で
あるが、紫外線硬化型樹脂の種類、紫外線照射量、弗素
系界面活性剤の添加等により、適宜調整することができ
る。
【0030】また、本発明の情報記録媒体においては、
情報記録層の膜厚は正確に均一に塗布されることが必要
であるが、上記方法で情報記録層を形成することによ
り、膜厚の均一性としては、膜厚が5μm〜10μmの
場合には、その表面粗さRaを200Å以内とすること
ができ、コントラストムラがなく、また情報記録時にお
いてもシェーディング現象を生じないものとできる。
情報記録層の膜厚は正確に均一に塗布されることが必要
であるが、上記方法で情報記録層を形成することによ
り、膜厚の均一性としては、膜厚が5μm〜10μmの
場合には、その表面粗さRaを200Å以内とすること
ができ、コントラストムラがなく、また情報記録時にお
いてもシェーディング現象を生じないものとできる。
【0031】一般に、この種の高分子分散型液晶の場合
には、その解像性は膜厚よりは液晶のドメインサイズに
依存する割合が大きいものと考えられているが、本発明
の情報記録層のごとき、液晶の含有割合が大きく、樹脂
が粒子状に相形成するものにあっては、通常の液晶の含
有割合が低い高分子分散型液晶のように、液晶のドメイ
ンサイズをあまり考慮する必要がないので、容易に高感
度で、かつコントラスト比の高い情報記録体を容易に提
供することができる。
には、その解像性は膜厚よりは液晶のドメインサイズに
依存する割合が大きいものと考えられているが、本発明
の情報記録層のごとき、液晶の含有割合が大きく、樹脂
が粒子状に相形成するものにあっては、通常の液晶の含
有割合が低い高分子分散型液晶のように、液晶のドメイ
ンサイズをあまり考慮する必要がないので、容易に高感
度で、かつコントラスト比の高い情報記録体を容易に提
供することができる。
【0032】電極層22は、透明性または不透明性でも
よいが、比抵抗値が106 Ω・cm以下の金属薄膜導電
膜、酸化インジウム錫等の無機金属酸化物導電膜、四級
アンモニウム塩等の有機導電膜等である。電極層は蒸
着、スパッタリング、CVD、コーティング、メッキ、
ディッピング、電解重合等の方法により形成される。ま
た、その膜厚は電極を構成する材料の電気特性、および
情報記録の際の印加電圧により変化させる必要がある
が、例えばITO膜では100〜3000Å程度であ
る。電極層の形状については、後述するように、電圧が
印加されないようにスペーサー部を避けてパターニング
して形成される。
よいが、比抵抗値が106 Ω・cm以下の金属薄膜導電
膜、酸化インジウム錫等の無機金属酸化物導電膜、四級
アンモニウム塩等の有機導電膜等である。電極層は蒸
着、スパッタリング、CVD、コーティング、メッキ、
ディッピング、電解重合等の方法により形成される。ま
た、その膜厚は電極を構成する材料の電気特性、および
情報記録の際の印加電圧により変化させる必要がある
が、例えばITO膜では100〜3000Å程度であ
る。電極層の形状については、後述するように、電圧が
印加されないようにスペーサー部を避けてパターニング
して形成される。
【0033】基板21は、透明または不透明なもののい
ずれでもよいが、カード、フィルム、テープ、ディスク
等の形状を有した情報記録媒体を強度的に支持するもの
であり、情報記録層が支持性を有する場合には設ける必
要がないが、情報記録層を支持することができるある程
度の強度を有していれば、その材質、厚みは特に制限が
ない。例えば可撓性のあるプラスチックフィルム、或い
は硝子、プラスチックシート、カード等の剛体が使用さ
れる。具体的には、情報記録媒体がフレキシブルなフィ
ルム、テープ、ディスク、カード形状をとる場合には、
フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用さ
れ、強度が要求される場合には、剛性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
ずれでもよいが、カード、フィルム、テープ、ディスク
等の形状を有した情報記録媒体を強度的に支持するもの
であり、情報記録層が支持性を有する場合には設ける必
要がないが、情報記録層を支持することができるある程
度の強度を有していれば、その材質、厚みは特に制限が
ない。例えば可撓性のあるプラスチックフィルム、或い
は硝子、プラスチックシート、カード等の剛体が使用さ
れる。具体的には、情報記録媒体がフレキシブルなフィ
ルム、テープ、ディスク、カード形状をとる場合には、
フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用さ
れ、強度が要求される場合には、剛性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
【0034】尚、情報を透過光で再生する場合には、電
極及び基板は透明性を有することが必要であり、その場
合、電極層が設けられる基板における他方の面には、必
要に応じて反射防止効果を有する層を積層するか、また
反射防止効果を発現しうる膜厚に透明基板を調整する
か、更に両者を組み合わせることにより反射防止性を付
与してもよい。また、反射光で情報を再生する場合には
電極を反射性を有する金属薄膜層とするか、または基板
面に金属薄膜等の光反射層を積層するとよい。
極及び基板は透明性を有することが必要であり、その場
合、電極層が設けられる基板における他方の面には、必
要に応じて反射防止効果を有する層を積層するか、また
反射防止効果を発現しうる膜厚に透明基板を調整する
か、更に両者を組み合わせることにより反射防止性を付
与してもよい。また、反射光で情報を再生する場合には
電極を反射性を有する金属薄膜層とするか、または基板
面に金属薄膜等の光反射層を積層するとよい。
【0035】次に、光センサー10について説明する。
図1(a)に示すように、基板11上に電極層12、光
導電層13を積層してなるものである。基板11、電極
層12としては情報記録媒体における基板、電極の項で
説明した材料、形成方法と同様である。また、電極層の
形状については、後述するように、電圧が印加されない
ようにスペーサー部を避けてパターニングして形成され
る。
図1(a)に示すように、基板11上に電極層12、光
導電層13を積層してなるものである。基板11、電極
層12としては情報記録媒体における基板、電極の項で
説明した材料、形成方法と同様である。また、電極層の
形状については、後述するように、電圧が印加されない
ようにスペーサー部を避けてパターニングして形成され
る。
【0036】光導電層としては、情報光に応じた電荷発
生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層系のものと、
電極層上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層した積層
系のものがあり、光導電層は、一般には光が照射される
と照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生し、それ
らのキャリアが層幅を移動することができる機能を有す
るものであり、特に電界が存在する場合にその効果が顕
著である層である。このような光センサーとしては、例
えば特願平4−287983号に記載の光センサーが挙
げられる。この公報に記載された光センサーは、光照射
時において情報記録媒体に付与される電界または電荷量
が光照射につれて増幅され、また光照射を終了した後で
も電圧を印加し続けるとその導電性を持続し、引続き電
界または電荷量を情報記録媒体に付与し続ける作用を有
するものである。
生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層系のものと、
電極層上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層した積層
系のものがあり、光導電層は、一般には光が照射される
と照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生し、それ
らのキャリアが層幅を移動することができる機能を有す
るものであり、特に電界が存在する場合にその効果が顕
著である層である。このような光センサーとしては、例
えば特願平4−287983号に記載の光センサーが挙
げられる。この公報に記載された光センサーは、光照射
時において情報記録媒体に付与される電界または電荷量
が光照射につれて増幅され、また光照射を終了した後で
も電圧を印加し続けるとその導電性を持続し、引続き電
界または電荷量を情報記録媒体に付与し続ける作用を有
するものである。
【0037】まず、単層系の光導電層は、無機光導電性
物質または有機光導電性物質から形成される。無機光導
電性物質としてはSe、Se−Te、ZnO、Ti
O2、Si、CdS等が挙げられ、蒸着法、スパッタ
法、CVD法等により電極層上に、単独または混合系で
5〜30μm、好ましくは20〜30μmの膜厚で積層
される。また、前述の無機光導電体を微粒子として、有
機絶縁性樹脂、例えばシリコーン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジエン樹
脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等に分散
させて光導電層としてもよく、この場合樹脂1重量部に
対して光導電性微粒子を0.1〜10重量部、好ましく
は1〜5重量部の割合で分散させたものとするとよい。
物質または有機光導電性物質から形成される。無機光導
電性物質としてはSe、Se−Te、ZnO、Ti
O2、Si、CdS等が挙げられ、蒸着法、スパッタ
法、CVD法等により電極層上に、単独または混合系で
5〜30μm、好ましくは20〜30μmの膜厚で積層
される。また、前述の無機光導電体を微粒子として、有
機絶縁性樹脂、例えばシリコーン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジエン樹
脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等に分散
させて光導電層としてもよく、この場合樹脂1重量部に
対して光導電性微粒子を0.1〜10重量部、好ましく
は1〜5重量部の割合で分散させたものとするとよい。
【0038】また、有機光導電性物質は高分子光導電性
物質、及び低分子光導電物質の絶縁性バインダー中への
分散物がある。高分子光導電性物質としては、例えばポ
リビニルカルバゾール(PVK)、PVKにおけるビニ
ル基の代わりにアリル基、アクリロキシアルキル基のエ
チレン性不飽和基が含まれたポリ−N−エチレン性不飽
和基置換カルバゾール類、また、ポリ−N−アクリルフ
ェノチアジン、ポリ−N−(β−アクリロキシ)フェノ
チアジン等のポリ−N−エチレン性不飽和基置換フェノ
チアジン類、ポリビニルピレン等がある。中でもポリ−
N−エチレン性不飽和基置換カルバゾール類、特にポリ
ビニルカルバゾールが好ましく用いられる。
物質、及び低分子光導電物質の絶縁性バインダー中への
分散物がある。高分子光導電性物質としては、例えばポ
リビニルカルバゾール(PVK)、PVKにおけるビニ
ル基の代わりにアリル基、アクリロキシアルキル基のエ
チレン性不飽和基が含まれたポリ−N−エチレン性不飽
和基置換カルバゾール類、また、ポリ−N−アクリルフ
ェノチアジン、ポリ−N−(β−アクリロキシ)フェノ
チアジン等のポリ−N−エチレン性不飽和基置換フェノ
チアジン類、ポリビニルピレン等がある。中でもポリ−
N−エチレン性不飽和基置換カルバゾール類、特にポリ
ビニルカルバゾールが好ましく用いられる。
【0039】また、低分子光導電物質としては、アルキ
ルアミノフェニル基等で置換されたオキサジアゾール
類、トリフェニルメタン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ブ
タジエン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられ、低分
子光導電体1重量部を、例えばシリコーン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂などの電気絶縁性樹脂0.1〜5重量部、好まし
くは0.1〜1重量部中に分散させて、皮膜形成性の有
機光導電物質としてもよい。これらの有機光導電性物質
の乾燥後膜厚は5〜30μm、好ましくは10〜30μ
mで電極上に積層される。
ルアミノフェニル基等で置換されたオキサジアゾール
類、トリフェニルメタン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ブ
タジエン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられ、低分
子光導電体1重量部を、例えばシリコーン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂などの電気絶縁性樹脂0.1〜5重量部、好まし
くは0.1〜1重量部中に分散させて、皮膜形成性の有
機光導電物質としてもよい。これらの有機光導電性物質
の乾燥後膜厚は5〜30μm、好ましくは10〜30μ
mで電極上に積層される。
【0040】また、有機光導電性層には、必要に応じて
特願平4−287983号に記載した持続導電性付与剤
が添加される。上述の有機光導電層は、それ自体持続導
電性を有するが、この持続導電性付与剤は、上述の有機
光導電層における持続導電性を強化させることを目的と
して添加されるものである。持続導電性付与剤は、有機
光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量部、
好ましくは0.001〜0.1重量部の割合で添加され
る。持続導電性付与剤の添加量が1重量部を越えると、
光導電層としての増幅機能が著しく低下するので好まし
くない。また、持続導電性付与物質は、分光感度が可視
光にないものもあり、可視光領域の光情報を利用する場
合には、可視光領域に感度をもたすために電子受容性物
質、増感色素等を更に添加することができる。電子受容
性物質としては、例えばニトロ置換ベンゼン、ジアノ置
換ベンゼン、ハロゲン置換ベンゼン、キノン類、トリニ
トロフルオレノン等がある。また増感色素としてはトリ
フェニルメタン色素、ピリリウム塩色素、キサンテン色
素などが挙げられる。電子受容性物質、増感色素等は、
有機光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量
部、好ましくは0.01〜1重量部の割合で添加され
る。同時に光情報が赤外領域にある場合には、フタロシ
アニン等の顔料、ピロール系、シアニン系等の色素を同
量程度添加するとよく、逆に紫外領域にあるいはそれ以
下の波長域に情報光がある場合には、それぞれの波長吸
収物質を同量添加することで目的が達成される。
特願平4−287983号に記載した持続導電性付与剤
が添加される。上述の有機光導電層は、それ自体持続導
電性を有するが、この持続導電性付与剤は、上述の有機
光導電層における持続導電性を強化させることを目的と
して添加されるものである。持続導電性付与剤は、有機
光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量部、
好ましくは0.001〜0.1重量部の割合で添加され
る。持続導電性付与剤の添加量が1重量部を越えると、
光導電層としての増幅機能が著しく低下するので好まし
くない。また、持続導電性付与物質は、分光感度が可視
光にないものもあり、可視光領域の光情報を利用する場
合には、可視光領域に感度をもたすために電子受容性物
質、増感色素等を更に添加することができる。電子受容
性物質としては、例えばニトロ置換ベンゼン、ジアノ置
換ベンゼン、ハロゲン置換ベンゼン、キノン類、トリニ
トロフルオレノン等がある。また増感色素としてはトリ
フェニルメタン色素、ピリリウム塩色素、キサンテン色
素などが挙げられる。電子受容性物質、増感色素等は、
有機光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量
部、好ましくは0.01〜1重量部の割合で添加され
る。同時に光情報が赤外領域にある場合には、フタロシ
アニン等の顔料、ピロール系、シアニン系等の色素を同
量程度添加するとよく、逆に紫外領域にあるいはそれ以
下の波長域に情報光がある場合には、それぞれの波長吸
収物質を同量添加することで目的が達成される。
【0041】次に、積層系光導電層は、電極上に電荷発
生層、電荷輸送層を順次積層して形成され、無機材料系
光導電層と有機材料系光導電層とがある。無機系におけ
る電荷発生層は、Se−Te、硫黄や酸素等をドープし
たSi等を蒸着法、スパッタ法、CVD法等により電極
上に、0.05μm〜1μmの膜厚に積層される。次い
で、この電荷発生層上に電荷輸送層として、Se、As
2Se3 、Si、メタン等をドープしたSi等を同様に
して10μm〜50μmの膜厚に積層して形成するとよ
い。
生層、電荷輸送層を順次積層して形成され、無機材料系
光導電層と有機材料系光導電層とがある。無機系におけ
る電荷発生層は、Se−Te、硫黄や酸素等をドープし
たSi等を蒸着法、スパッタ法、CVD法等により電極
上に、0.05μm〜1μmの膜厚に積層される。次い
で、この電荷発生層上に電荷輸送層として、Se、As
2Se3 、Si、メタン等をドープしたSi等を同様に
して10μm〜50μmの膜厚に積層して形成するとよ
い。
【0042】次に、有機系における電荷発生層は電荷発
生物質とバインダーからなり、電荷発生物質としては、
フルオレノンアゾ系顔料、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系
顔料、ピロール系顔料、アズレニウム塩系顔料、フタロ
シアニン系顔料、多環芳香族系顔料、ピリリウム塩系色
素、トリアゾ系顔料、スクアリリウム塩系色素、ペリレ
ン系顔料、アントアントロン顔料、シアニン顔料、多環
キノン顔料、イミダゾール顔料等が挙げられ、具体的に
は特願平4−287983号に記載した公報記載の電荷
発生物質が挙げられる。
生物質とバインダーからなり、電荷発生物質としては、
フルオレノンアゾ系顔料、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系
顔料、ピロール系顔料、アズレニウム塩系顔料、フタロ
シアニン系顔料、多環芳香族系顔料、ピリリウム塩系色
素、トリアゾ系顔料、スクアリリウム塩系色素、ペリレ
ン系顔料、アントアントロン顔料、シアニン顔料、多環
キノン顔料、イミダゾール顔料等が挙げられ、具体的に
は特願平4−287983号に記載した公報記載の電荷
発生物質が挙げられる。
【0043】バインダーとしては、例えばシリコーン樹
脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、飽和または不飽和ポリエステル樹
脂、PMMA樹脂、塩ビ樹脂、酢ビ樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂等が挙げられ、上記電荷発生物質をバインダー中
に分散して形成される。電荷発生剤として好ましくはフ
ルオレノンアゾ顔料、ビスアゾ顔料であり、またバイン
ダーとして好ましくはポリエステル樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂が挙げられる。これらの電荷発生剤とバインダー
の混合比は、電荷発生剤1重量部に対してバインダーを
0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜1重量部の割
合で使用するとことが望ましい。電荷発生層は乾燥後膜
厚として0.01〜1μmであり、好ましくは0.1〜
0.3μmとするとよい。
脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、飽和または不飽和ポリエステル樹
脂、PMMA樹脂、塩ビ樹脂、酢ビ樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂等が挙げられ、上記電荷発生物質をバインダー中
に分散して形成される。電荷発生剤として好ましくはフ
ルオレノンアゾ顔料、ビスアゾ顔料であり、またバイン
ダーとして好ましくはポリエステル樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂が挙げられる。これらの電荷発生剤とバインダー
の混合比は、電荷発生剤1重量部に対してバインダーを
0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜1重量部の割
合で使用するとことが望ましい。電荷発生層は乾燥後膜
厚として0.01〜1μmであり、好ましくは0.1〜
0.3μmとするとよい。
【0044】電荷輸送層は電荷輸送物質とバインダーと
からなる。電荷輸送物質は、電荷発生物質で発生した電
荷の輸送特性が良い物質であり、例えばヒドラゾン系、
ピラゾリン系、PVK系カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、ブタジエン系、スチルベン系、多環
芳香族化合物系等があり、ホール輸送性の良い物質とす
ることが必要である。好ましくは、ブタジエン系、スチ
ルベン系電荷輸送剤が挙げられ、具体的には特願平4−
287983号に記載した公報記載の電荷輸送材料が挙
げられる。
からなる。電荷輸送物質は、電荷発生物質で発生した電
荷の輸送特性が良い物質であり、例えばヒドラゾン系、
ピラゾリン系、PVK系カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、ブタジエン系、スチルベン系、多環
芳香族化合物系等があり、ホール輸送性の良い物質とす
ることが必要である。好ましくは、ブタジエン系、スチ
ルベン系電荷輸送剤が挙げられ、具体的には特願平4−
287983号に記載した公報記載の電荷輸送材料が挙
げられる。
【0045】バインダーとしては、上記した電荷発生層
におけるバインダーと同様のものが使用できるが、好ま
しくはポリビニルアセタール樹脂、スチレン樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂である。バインダーは、
電荷輸送剤1重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜1重量部の割合で使用することが望まし
い。電荷輸送層は乾燥後膜厚として1〜50μmであ
り、好ましくは10〜30μmとするとよい。
におけるバインダーと同様のものが使用できるが、好ま
しくはポリビニルアセタール樹脂、スチレン樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂である。バインダーは、
電荷輸送剤1重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜1重量部の割合で使用することが望まし
い。電荷輸送層は乾燥後膜厚として1〜50μmであ
り、好ましくは10〜30μmとするとよい。
【0046】これらの電荷発生物質と電荷輸送物質の組
合せとしては、例えばフルオレノンアゾ顔料(電荷発生
物質)とスチルベン系の電荷輸送剤の組合せ、ビスアゾ
系顔料(電荷発生物質)とブタジエン系、ヒドラゾン系
の電荷輸送剤の組合せ等が良好である。
合せとしては、例えばフルオレノンアゾ顔料(電荷発生
物質)とスチルベン系の電荷輸送剤の組合せ、ビスアゾ
系顔料(電荷発生物質)とブタジエン系、ヒドラゾン系
の電荷輸送剤の組合せ等が良好である。
【0047】また、単層系光導電層の項で説明した持続
導電性付与剤、及び電子受容性物をこの積層系光導電層
における電荷発生層、電荷輸送層中にそれぞれ同様の割
合で添加することができるが、好ましくは電荷発生層中
に添加するとよい。
導電性付与剤、及び電子受容性物をこの積層系光導電層
における電荷発生層、電荷輸送層中にそれぞれ同様の割
合で添加することができるが、好ましくは電荷発生層中
に添加するとよい。
【0048】また、単層系光導電層、積層系光導電層を
有機光導電層とする場合には、溶剤としてジクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジオキサ
ン、1,2,3−トリクロロプロパン、エチルセルソル
ブ、1,1,1,−トリクロロエタン、メチルエチルケ
トン、クロロホルム、トルエン等を使用して塗布溶液と
するとよく、塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ディッピング法、スピンナーコーティング法等が挙
げられる。
有機光導電層とする場合には、溶剤としてジクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジオキサ
ン、1,2,3−トリクロロプロパン、エチルセルソル
ブ、1,1,1,−トリクロロエタン、メチルエチルケ
トン、クロロホルム、トルエン等を使用して塗布溶液と
するとよく、塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ディッピング法、スピンナーコーティング法等が挙
げられる。
【0049】また、光導電層は、電荷注入制御層を介し
て電極上に設けられてもよい。電荷注入制御層は、必要
に応じて設けられるもので、電極から光導電層への電荷
注入性を制御して情報記録媒体に実質的に印加される電
圧を調節するために設けられるものであるが、本発明の
情報記録媒体においては、情報記録層における液晶の動
作電圧領域に光導電層の感度を設定することが必要であ
る。即ち、露光部において情報記録層に印加される電位
(明電位)と未露光部において情報記録層に印加される
電位(暗電位)との差(コントラスト電位)を、液晶の
動作領域において大きく取ることが必要であるからであ
る。
て電極上に設けられてもよい。電荷注入制御層は、必要
に応じて設けられるもので、電極から光導電層への電荷
注入性を制御して情報記録媒体に実質的に印加される電
圧を調節するために設けられるものであるが、本発明の
情報記録媒体においては、情報記録層における液晶の動
作電圧領域に光導電層の感度を設定することが必要であ
る。即ち、露光部において情報記録層に印加される電位
(明電位)と未露光部において情報記録層に印加される
電位(暗電位)との差(コントラスト電位)を、液晶の
動作領域において大きく取ることが必要であるからであ
る。
【0050】そのため、例えば光導電層の未露光部の液
晶層にかかる暗電位は液晶の動作開始電位程度に設定す
る必要があり、光導電層バルクに105 V/cm〜10
6 V/cmの電界が与えられた状態で10-4〜10-8A
/cm2 の暗電流が生じる程度の導電性が要求され、好
ましくは10-5〜10-7A/cm2 の範囲が好ましい。
暗電流が10-8A/cm2 以下の光導電層では液晶層が
露光状態でも配向せず、また10-4A/cm2 以上の暗
電流の光導電層では未露光状態でも電圧印加と同時に電
流が多く流れ、情報記録層における液晶が配向していま
い、露光したとしてもその透過率の差がえられない。電
荷注入制御層は、このような情報記録媒体の特性との関
係で適宜設けられる。光導電層における暗電位を低く抑
えることが必要な場合には、電荷注入制御層は電荷注入
防止性を有する層とされる。電荷注入防止層は、いわゆ
るトンネリング効果を利用した層と整流効果を利用した
層との二種類のものがあり、特願平4−287983号
に記載したものを使用できる。
晶層にかかる暗電位は液晶の動作開始電位程度に設定す
る必要があり、光導電層バルクに105 V/cm〜10
6 V/cmの電界が与えられた状態で10-4〜10-8A
/cm2 の暗電流が生じる程度の導電性が要求され、好
ましくは10-5〜10-7A/cm2 の範囲が好ましい。
暗電流が10-8A/cm2 以下の光導電層では液晶層が
露光状態でも配向せず、また10-4A/cm2 以上の暗
電流の光導電層では未露光状態でも電圧印加と同時に電
流が多く流れ、情報記録層における液晶が配向していま
い、露光したとしてもその透過率の差がえられない。電
荷注入制御層は、このような情報記録媒体の特性との関
係で適宜設けられる。光導電層における暗電位を低く抑
えることが必要な場合には、電荷注入制御層は電荷注入
防止性を有する層とされる。電荷注入防止層は、いわゆ
るトンネリング効果を利用した層と整流効果を利用した
層との二種類のものがあり、特願平4−287983号
に記載したものを使用できる。
【0051】上記で説明した光センサー10と情報記録
媒体20は、スペーサー30を介して、図1(a)に示
すように、対向配置され、両電極間に電源E、スイッチ
Sを介して電圧印加可能な構成とされる。スペーサー3
0は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリスチレン等のプラスチ
ックフイルムであり、その材料に格別の限定はないが、
体積電気抵抗率が1012Ω・cm以上の絶縁性プラスチ
ックフイルムを使用することができる。
媒体20は、スペーサー30を介して、図1(a)に示
すように、対向配置され、両電極間に電源E、スイッチ
Sを介して電圧印加可能な構成とされる。スペーサー3
0は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリスチレン等のプラスチ
ックフイルムであり、その材料に格別の限定はないが、
体積電気抵抗率が1012Ω・cm以上の絶縁性プラスチ
ックフイルムを使用することができる。
【0052】通常市販されているプラスチックフイルム
には、一般に可塑剤、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、充填剤等の配合剤がその合計量で2重量%以
上配合されていることが多い。本発明者等は、スペーサ
ーとして通常のプラスチックフイルムを使用すると、こ
れらの配合剤が液晶との相互作用が強いために、可塑剤
が液晶中に溶け込む、或いは逆に液晶がフイルム中に溶
け込むといった問題が生じることを見出した。各種の配
合剤において、特に液晶との相溶性が強い可塑剤等の影
響が強いものと推測されるが、滑剤、充填剤においても
記録部への混入は好ましくない。本発明においては、ス
ペーサーにおける配合剤の含有量が5重量%を越える
と、非画線部ばかりか、画像部にまで影響を及ぼし、画
質の低下を招くという現象を生じるので好ましくない。
には、一般に可塑剤、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、充填剤等の配合剤がその合計量で2重量%以
上配合されていることが多い。本発明者等は、スペーサ
ーとして通常のプラスチックフイルムを使用すると、こ
れらの配合剤が液晶との相互作用が強いために、可塑剤
が液晶中に溶け込む、或いは逆に液晶がフイルム中に溶
け込むといった問題が生じることを見出した。各種の配
合剤において、特に液晶との相溶性が強い可塑剤等の影
響が強いものと推測されるが、滑剤、充填剤においても
記録部への混入は好ましくない。本発明においては、ス
ペーサーにおける配合剤の含有量が5重量%を越える
と、非画線部ばかりか、画像部にまで影響を及ぼし、画
質の低下を招くという現象を生じるので好ましくない。
【0053】スペーサー30の膜厚は、光センサーと情
報記録媒体の間に空隙を設け、情報記録媒体への電圧配
分を調整するものであり、液晶の駆動電圧との関係で適
宜定められる。
報記録媒体の間に空隙を設け、情報記録媒体への電圧配
分を調整するものであり、液晶の駆動電圧との関係で適
宜定められる。
【0054】次に、図1(b)により、本発明の情報記
録装置における電極層12、22の配置について説明す
る。光センサー10は、例えば矩形の3辺の周縁部分B
(図の斜線部分)を除いて電極層12が形成され、情報
記録媒体20も同様に3辺周縁A(図の斜線部分)を除
いて電極層22が形成される。短辺側は光センサー、情
報記録媒体ともに電極未形成部分が重なり、長辺側は電
極未形成部分が互いに反対側に位置して重ならないよう
に対向配置され、両者間にスペーサ30を配置するとよ
い。もちろん、長辺側で電極未形成部分が重なり、短辺
側では電極未形成部分が互いに反対側に位置して重なら
ないようにしてもよい。スペーサ30は長方形状に作ら
れ、その短辺は光センサーおよび情報記録媒体ともに電
極未形成部分に位置し、スペーサの長辺は光センサーま
たは情報記録媒体の一方が電極未形成部分に位置してい
る。
録装置における電極層12、22の配置について説明す
る。光センサー10は、例えば矩形の3辺の周縁部分B
(図の斜線部分)を除いて電極層12が形成され、情報
記録媒体20も同様に3辺周縁A(図の斜線部分)を除
いて電極層22が形成される。短辺側は光センサー、情
報記録媒体ともに電極未形成部分が重なり、長辺側は電
極未形成部分が互いに反対側に位置して重ならないよう
に対向配置され、両者間にスペーサ30を配置するとよ
い。もちろん、長辺側で電極未形成部分が重なり、短辺
側では電極未形成部分が互いに反対側に位置して重なら
ないようにしてもよい。スペーサ30は長方形状に作ら
れ、その短辺は光センサーおよび情報記録媒体ともに電
極未形成部分に位置し、スペーサの長辺は光センサーま
たは情報記録媒体の一方が電極未形成部分に位置してい
る。
【0055】このように光センサー、情報記録媒体の電
極をパターニングして高電圧を印加すると、スペーサ部
分には電圧が印加されないので、スペーサを通しての表
面電流、あるいは放電破壊が生ずることがなく、光セン
サー、情報記録媒体を傷つけることもない。
極をパターニングして高電圧を印加すると、スペーサ部
分には電圧が印加されないので、スペーサを通しての表
面電流、あるいは放電破壊が生ずることがなく、光セン
サー、情報記録媒体を傷つけることもない。
【0056】なお、必ずしもスペーサ4辺が光センサー
あるいは情報記録媒体と接触している必要なく、例えば
両短辺は光センサー、情報記録媒体の外側に来るように
しても良く、あるいは両長辺が外側に来るようにしても
よい。その場合には、短辺あるいは長辺に該当する部分
のみ光センサーと情報記録媒体の少なくとも一方には電
極を形成しないようにパターニングすればよい。
あるいは情報記録媒体と接触している必要なく、例えば
両短辺は光センサー、情報記録媒体の外側に来るように
しても良く、あるいは両長辺が外側に来るようにしても
よい。その場合には、短辺あるいは長辺に該当する部分
のみ光センサーと情報記録媒体の少なくとも一方には電
極を形成しないようにパターニングすればよい。
【0057】次に、本発明の情報記録装置における記録
方法を図3により説明する。電極12、22間に電圧を
印加しつつ、情報光(矢印)が入射すると、光が入射し
た部分の光導電層13で発生した光キャリアは、両電極
により形成される電界により移動し、電圧の再配分が行
われることで、情報記録層における液晶相が配向し、情
報光のパターンに応じた記録が行なわれる。なお、情報
光を入射しつつ、電圧を所定時間印加してもよい。
方法を図3により説明する。電極12、22間に電圧を
印加しつつ、情報光(矢印)が入射すると、光が入射し
た部分の光導電層13で発生した光キャリアは、両電極
により形成される電界により移動し、電圧の再配分が行
われることで、情報記録層における液晶相が配向し、情
報光のパターンに応じた記録が行なわれる。なお、情報
光を入射しつつ、電圧を所定時間印加してもよい。
【0058】また、液晶によって作動電圧及び範囲が異
なるものもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定
するにあたっては、情報記録媒体における電圧配分を適
宜設定し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電
圧領域に設定するとよい。
なるものもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定
するにあたっては、情報記録媒体における電圧配分を適
宜設定し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電
圧領域に設定するとよい。
【0059】この光センサーによる情報記録は、面状ア
ナログ記録が可能であり、また液晶相の配向が静電電荷
レベルで配向させることができるので、銀塩写真法と同
様の高解像度が得られ、また、露光パターンは液晶相の
配向により可視像化されて保持される。
ナログ記録が可能であり、また液晶相の配向が静電電荷
レベルで配向させることができるので、銀塩写真法と同
様の高解像度が得られ、また、露光パターンは液晶相の
配向により可視像化されて保持される。
【0060】本発明の情報記録媒体への情報入力方法と
しては、カメラによる方法、またレーザーによる記録方
法がある。カメラによる方法としては、通常のカメラに
使用されている写真フィルムの代わりに情報記録媒体が
使用され、記録部材とするもので、光学的なシャッタも
使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しうるもの
である。また、プリズム及びカラーフィルターにより光
情報を、R、G、B光成分に分離し、平行光として取り
出しR、G、B分解した情報記録媒体3セットで1コマ
を形成するか、または1平面上にR、G、B像を並べて
1セットで1コマとすることにより、カラー撮影するこ
ともできる。
しては、カメラによる方法、またレーザーによる記録方
法がある。カメラによる方法としては、通常のカメラに
使用されている写真フィルムの代わりに情報記録媒体が
使用され、記録部材とするもので、光学的なシャッタも
使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しうるもの
である。また、プリズム及びカラーフィルターにより光
情報を、R、G、B光成分に分離し、平行光として取り
出しR、G、B分解した情報記録媒体3セットで1コマ
を形成するか、または1平面上にR、G、B像を並べて
1セットで1コマとすることにより、カラー撮影するこ
ともできる。
【0061】また、レーザーによる記録方法としては、
光源としてはアルゴンレーザー(514.488n
m)、ヘリウム−ネオンレーザー(633nm)、半導
体レーザー(780nm、810nm等)が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のON−OFF制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターON−OFF制御をかけて形成す
るものである。
光源としてはアルゴンレーザー(514.488n
m)、ヘリウム−ネオンレーザー(633nm)、半導
体レーザー(780nm、810nm等)が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のON−OFF制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターON−OFF制御をかけて形成す
るものである。
【0062】情報記録が終了した段階で、情報記録媒体
を光センサーと分離し、情報記録媒体に記録された情報
を、透過光または反射光により再生する。図2は透過光
により再生する場合を示す。情報記録部では液晶が電界
方向に配向しているために光aは透過するのに対して、
情報を記録していない部位においては光bは散乱し、情
報記録部とのコントラストがとれる。透過光により目視
による読み取りが可能であり、投影機により拡大して読
み取ることもでき、レーザースキャニング、或いはCC
Dを用いて読み取りをすることにより高精度で情報を読
み取ることができる。必要に応じてシュリーレン光学系
を用いることにより散乱光を防ぐことができる。更に、
反射光により読み取ることもでき、コントラストが問題
になる場合には、何れかの層に光反射層を設けるとよ
い。
を光センサーと分離し、情報記録媒体に記録された情報
を、透過光または反射光により再生する。図2は透過光
により再生する場合を示す。情報記録部では液晶が電界
方向に配向しているために光aは透過するのに対して、
情報を記録していない部位においては光bは散乱し、情
報記録部とのコントラストがとれる。透過光により目視
による読み取りが可能であり、投影機により拡大して読
み取ることもでき、レーザースキャニング、或いはCC
Dを用いて読み取りをすることにより高精度で情報を読
み取ることができる。必要に応じてシュリーレン光学系
を用いることにより散乱光を防ぐことができる。更に、
反射光により読み取ることもでき、コントラストが問題
になる場合には、何れかの層に光反射層を設けるとよ
い。
【0063】また、本発明における情報記録層は、静電
情報を液晶の配向により可視化した状態で記録するもの
であるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶことにより、一
旦配向し、可視化した情報は消去せず、メモリ性が付与
される。メモリーを消去するには等方相転移付近の高温
に加熱するとよく、再度情報記録に使用することができ
る。
情報を液晶の配向により可視化した状態で記録するもの
であるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶことにより、一
旦配向し、可視化した情報は消去せず、メモリ性が付与
される。メモリーを消去するには等方相転移付近の高温
に加熱するとよく、再度情報記録に使用することができ
る。
【0064】
【作用及び発明の効果】本発明の情報記録装置は、光セ
ンサーまたは情報記録媒体の少なくとも一方の電極層を
パターン状に形成し、電極層が形成されていない部分に
スペーサーを配置したことにより、情報記録媒体に形成
された可視画像にノイズが発生することがなく、また、
スペーサー部分に高電圧が印加されても、光センサーや
情報記録媒体が損傷を受けることがなく、絶縁破壊する
ことがないものである。また、スペーサーの材質を特定
することにより、画質の低下を防止することができるも
のである。以下、実施例を説明するが、実施例中、
「部」は重量部、「%」は重量%を示す。
ンサーまたは情報記録媒体の少なくとも一方の電極層を
パターン状に形成し、電極層が形成されていない部分に
スペーサーを配置したことにより、情報記録媒体に形成
された可視画像にノイズが発生することがなく、また、
スペーサー部分に高電圧が印加されても、光センサーや
情報記録媒体が損傷を受けることがなく、絶縁破壊する
ことがないものである。また、スペーサーの材質を特定
することにより、画質の低下を防止することができるも
のである。以下、実施例を説明するが、実施例中、
「部」は重量部、「%」は重量%を示す。
【0065】
【実施例1】 (光センサーの作製)充分洗浄した厚さ1.1mmのガラ
ス基板上に、膜厚500Åの酸化インジウム錫(IT
O)膜をスパッタ法により電極層(電気抵抗値:80Ω
/□)を成膜した。次いで、その電極層をビニールテー
プを使用して、図1(b)における光センサーの電極形
状に貼着した。次いで、塩酸:硝酸:純水=100:
8:100(重量部)のエッチング液に1時間浸漬し
て、スペーサー配置部分の電極層をエッチング処理し、
スクラバー処理した。なお、パターニングはフォトレジ
ストを使用したレジストワークでも可能である。
ス基板上に、膜厚500Åの酸化インジウム錫(IT
O)膜をスパッタ法により電極層(電気抵抗値:80Ω
/□)を成膜した。次いで、その電極層をビニールテー
プを使用して、図1(b)における光センサーの電極形
状に貼着した。次いで、塩酸:硝酸:純水=100:
8:100(重量部)のエッチング液に1時間浸漬し
て、スペーサー配置部分の電極層をエッチング処理し、
スクラバー処理した。なお、パターニングはフォトレジ
ストを使用したレジストワークでも可能である。
【0066】エッチング処理後、電荷発生剤として下記
構造
構造
【0067】
【化1】
【0068】を有するフルオレノンアゾ顔料(日本感光
色素社製)3部、ポリエステル樹脂(東洋紡社製、バイ
ロン200)1部、1,4−ジオキサン:シクロヘキサ
ノン=1:1の混合溶媒を使用して、固形分2%とした
100g溶液を、ペイントシェーカーで充分分散して塗
工液とし、膜厚500Å、抵抗値80Ω/cm2のIT
O膜を有するガラス基板のITO側に、2ミルのギャッ
プのブレードコーターを使用して塗布し、100℃、1
時間乾燥して、膜厚0.3μmの電荷発生層を積層し
た。
色素社製)3部、ポリエステル樹脂(東洋紡社製、バイ
ロン200)1部、1,4−ジオキサン:シクロヘキサ
ノン=1:1の混合溶媒を使用して、固形分2%とした
100g溶液を、ペイントシェーカーで充分分散して塗
工液とし、膜厚500Å、抵抗値80Ω/cm2のIT
O膜を有するガラス基板のITO側に、2ミルのギャッ
プのブレードコーターを使用して塗布し、100℃、1
時間乾燥して、膜厚0.3μmの電荷発生層を積層し
た。
【0069】次いで、この電荷発生層上に、電荷輸送剤
として下記構造
として下記構造
【0070】
【化2】
【0071】のパラジメチルスチルベンを25部、ポリ
スチレン樹脂(デンカ社製、HRM−3)5部、1,
1,2−トリクロロエタン102部、モノクロロベンゼ
ン68部とを混合した塗工液を、ブレードコーターを使
用して塗布し、80℃、2hr乾燥して電荷輸送層を積
層し、電荷発生層と電荷輸送層とからなる膜厚20μm
の光導電層を設け、光センサーを得た。
スチレン樹脂(デンカ社製、HRM−3)5部、1,
1,2−トリクロロエタン102部、モノクロロベンゼ
ン68部とを混合した塗工液を、ブレードコーターを使
用して塗布し、80℃、2hr乾燥して電荷輸送層を積
層し、電荷発生層と電荷輸送層とからなる膜厚20μm
の光導電層を設け、光センサーを得た。
【0072】 (情報記録媒体の作製) ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、東亜合成化学 社製、M−400、分子量/官能基=117) ・・・ 40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ ン、チバ・ガイギー社製:商品名ダロキュア1173) ・・・ 2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6) ・・・ 60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−430)・・ 3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)195部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、50℃、3分間乾燥し、次いで50℃で3分間減圧
乾燥させた後、直ちに300mJ/cm2 のUV光を照
射して、膜厚が6μmの情報記録媒体を得た。
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、50℃、3分間乾燥し、次いで50℃で3分間減圧
乾燥させた後、直ちに300mJ/cm2 のUV光を照
射して、膜厚が6μmの情報記録媒体を得た。
【0073】なお、この情報記録媒体の機能を調べるた
めに、情報記録層上に上部電極として、ITO膜をスパ
ッタ法で約500Åの膜厚で成膜し、両電極間に端子を
取り付け、直流電圧400Vを0.1秒印加して、情報
記録層における電圧印加前後のコントラストを検討し
た。電圧印加前はの633nmの波長光での透過率は4
0%であったが、電圧印加後は90%であり、コントラ
ス比の優れるものであった。
めに、情報記録層上に上部電極として、ITO膜をスパ
ッタ法で約500Åの膜厚で成膜し、両電極間に端子を
取り付け、直流電圧400Vを0.1秒印加して、情報
記録層における電圧印加前後のコントラストを検討し
た。電圧印加前はの633nmの波長光での透過率は4
0%であったが、電圧印加後は90%であり、コントラ
ス比の優れるものであった。
【0074】次に、膜厚9μmのポリイミドフイルム
(商品名:3512 Kapton Window Film、SPEX Industries
Inc.製、可塑剤含有量1重量%以下)を、上記で作製
した光センサーと情報記録媒体(上部電極を設けないも
の)における電極層エッチング部に対応させて、図1
(b)に示すように配置し、光センサーと情報記録媒体
とを積層し、接地し、本発明の情報記録装置を作製し
た。
(商品名:3512 Kapton Window Film、SPEX Industries
Inc.製、可塑剤含有量1重量%以下)を、上記で作製
した光センサーと情報記録媒体(上部電極を設けないも
の)における電極層エッチング部に対応させて、図1
(b)に示すように配置し、光センサーと情報記録媒体
とを積層し、接地し、本発明の情報記録装置を作製し
た。
【0075】(情報記録再生方法)光センサー側からグ
レースケールを露光量0.1〜10ルックスで投影露光
すると同時に、光センサーと情報記録媒体との両電極層
間に、光センサー側を正、情報記録媒体側を負として、
750Vの直流電圧を0.1秒間印加し、情報記録媒体
を分離した。
レースケールを露光量0.1〜10ルックスで投影露光
すると同時に、光センサーと情報記録媒体との両電極層
間に、光センサー側を正、情報記録媒体側を負として、
750Vの直流電圧を0.1秒間印加し、情報記録媒体
を分離した。
【0076】その結果、グレースケールに対応した透過
像が情報記録層に形成され、グレースケールの低露光量
側でも十分なコントラストが得られ、画像全体にノイズ
の発生はなく、高品質な画像が得られた。
像が情報記録層に形成され、グレースケールの低露光量
側でも十分なコントラストが得られ、画像全体にノイズ
の発生はなく、高品質な画像が得られた。
【0077】また、この情報記録媒体をCCDラインセ
ンサーを用いたスキャナーにより読み取り、更に、昇華
プリンターで出力した結果、諧調性を有し、高解像度の
ハードコピーが得られた。
ンサーを用いたスキャナーにより読み取り、更に、昇華
プリンターで出力した結果、諧調性を有し、高解像度の
ハードコピーが得られた。
【0078】また、上記におけるスペーサーに代えて、
膜厚9μmのポリ塩化ビニルフイルム(可塑剤含有量2
0重量%)を使用し、上記同様に情報記録装置を作製
し、同様に情報記録を行なったところ、画像部の周辺部
に画像ヒズミが起こり、可塑剤の影響が生じ、ノイズの
発生となった。
膜厚9μmのポリ塩化ビニルフイルム(可塑剤含有量2
0重量%)を使用し、上記同様に情報記録装置を作製
し、同様に情報記録を行なったところ、画像部の周辺部
に画像ヒズミが起こり、可塑剤の影響が生じ、ノイズの
発生となった。
【図1】図1は、光センサー、情報記録媒体に電極層を
それぞれパターン状に形成した実施例を示す図である。
それぞれパターン状に形成した実施例を示す図である。
【図2】図2は、従来の画像記録方法を説明するための
図である。
図である。
【図3】図3は、記録情報の再生方法を説明するための
図である。
図である。
10は光センサー、11は基板、12は電極層、13は
光導電層、20は情報記録媒体、21は基板、22は電
極層、23は情報記録層、30はスペーサー、Aは情報
記録媒体電極未形成部分、Bは光センサー電極未形成部
分、aは透過光、bは散乱光である。
光導電層、20は情報記録媒体、21は基板、22は電
極層、23は情報記録層、30はスペーサー、Aは情報
記録媒体電極未形成部分、Bは光センサー電極未形成部
分、aは透過光、bは散乱光である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 11/08 9075−5D // G03C 1/72
Claims (2)
- 【請求項1】 電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる
情報記録層を積層した情報記録媒体と電極層上に光導電
層を有する光センサーとを、少なくとも一方を透明電極
とし、スペーサーを介して光軸上に対向配置し、両電極
間に電圧印加した状態で情報露光し、情報露光に応じて
液晶相を配向させて情報記録を行なう情報記録装置にお
いて、光センサーまたは情報記録媒体の少なくとも一方
の電極層をパターン状に形成し、電極層が形成されてい
ない部分にスペーサーを配置したことを特徴とする情報
記録装置。 - 【請求項2】 スペーサーが、配合剤の含有量が5重量
%以下の樹脂により形成されたものである請求項1記載
の情報記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5101306A JPH06308526A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 情報記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5101306A JPH06308526A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 情報記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06308526A true JPH06308526A (ja) | 1994-11-04 |
Family
ID=14297132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5101306A Pending JPH06308526A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 情報記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06308526A (ja) |
-
1993
- 1993-04-27 JP JP5101306A patent/JPH06308526A/ja active Pending
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