JP3280467B2 - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
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- JP3280467B2 JP3280467B2 JP13594793A JP13594793A JP3280467B2 JP 3280467 B2 JP3280467 B2 JP 3280467B2 JP 13594793 A JP13594793 A JP 13594793A JP 13594793 A JP13594793 A JP 13594793A JP 3280467 B2 JP3280467 B2 JP 3280467B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電圧印加時露光記録方
法により記録された静電情報を可視情報として得ること
のできる情報記録媒体に関し、特に高感度で、コントラ
スト比の優れた情報記録が可能な情報記録媒体に関す
る。
法により記録された静電情報を可視情報として得ること
のできる情報記録媒体に関し、特に高感度で、コントラ
スト比の優れた情報記録が可能な情報記録媒体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の電子写真技術においては、一対の
電極間に光導電層上にネマチック液晶を封入した液晶セ
ル、液晶配向用絶縁層を順次積層した情報記録媒体が知
られ、情報記録に際しては電極間に電圧を印加した状態
で情報露光して情報露光部における光導電層の抵抗を下
げて液晶を配向させ、偏向板を使用して可視像を得るも
のが知られている。
電極間に光導電層上にネマチック液晶を封入した液晶セ
ル、液晶配向用絶縁層を順次積層した情報記録媒体が知
られ、情報記録に際しては電極間に電圧を印加した状態
で情報露光して情報露光部における光導電層の抵抗を下
げて液晶を配向させ、偏向板を使用して可視像を得るも
のが知られている。
【0003】この情報記録媒体は、液晶を封入するため
にセル化する必要があり、しかも初期においてツイスト
ネマチック配向を行うためにセル両面をラビング処理等
により配向処理した絶縁膜を設けたり、更にセルギャッ
プを一定に保つためにスペーサーを混合する必要があ
り、解像度の高い像を得ることかできない。又、ギャッ
プあるいはセルを作製するためにリジッドで透明性のあ
る支持体が必要であることから、光学的な問題がある。
更に、このように初期状態において配向処理を施したも
のは、読み取りの際に偏光板を用いなければ検出するこ
とができないという問題もある。
にセル化する必要があり、しかも初期においてツイスト
ネマチック配向を行うためにセル両面をラビング処理等
により配向処理した絶縁膜を設けたり、更にセルギャッ
プを一定に保つためにスペーサーを混合する必要があ
り、解像度の高い像を得ることかできない。又、ギャッ
プあるいはセルを作製するためにリジッドで透明性のあ
る支持体が必要であることから、光学的な問題がある。
更に、このように初期状態において配向処理を施したも
のは、読み取りの際に偏光板を用いなければ検出するこ
とができないという問題もある。
【0004】一方、最近、液晶セルにおける液晶層に高
分子分散型液晶としたものが開発され、このような媒体
においてはITO電極を有する2枚の基板に挟持した状
態で保持されているが、この媒体を基板/ITO電極/
液晶層の構成とし、感光体と対向させた状態での電圧印
加時露光により、情報光に応じた放電現象により液晶層
に静電情報を記録する方法に使用する場合には、高分子
分散型液晶においてその表面に液晶の滲み出し現象が起
こり、情報記録に際してノイズとなるという問題があ
る。また基板/ITO電極/液晶層/ITO電極の構成
として両電極間に電圧印加して液晶層を配向させて情報
記録する方法に使用する場合には、やはり液晶の滲み出
しにより、表面層のITO電極にひび割れ、浮きだし等
が生じ導電性が低下するという問題が生じる。
分子分散型液晶としたものが開発され、このような媒体
においてはITO電極を有する2枚の基板に挟持した状
態で保持されているが、この媒体を基板/ITO電極/
液晶層の構成とし、感光体と対向させた状態での電圧印
加時露光により、情報光に応じた放電現象により液晶層
に静電情報を記録する方法に使用する場合には、高分子
分散型液晶においてその表面に液晶の滲み出し現象が起
こり、情報記録に際してノイズとなるという問題があ
る。また基板/ITO電極/液晶層/ITO電極の構成
として両電極間に電圧印加して液晶層を配向させて情報
記録する方法に使用する場合には、やはり液晶の滲み出
しにより、表面層のITO電極にひび割れ、浮きだし等
が生じ導電性が低下するという問題が生じる。
【0005】そして、本出願人は、この種の媒体におけ
る情報記録層を形成する樹脂として、紫外線硬化樹脂を
使用することにより、その情報記録層内部を液晶相と紫
外線硬化樹脂相とが分散した構造を有し、その外表面を
紫外線硬化樹脂スキン層となしうることを見出し、先に
出願した(特願平4−24580号)。この情報記録層
は、その表面が樹脂層のみから形成されるため、液晶の
滲み出し現象が生じなく、光センサーを使用した情報記
録においてノイズのない記録が行え、かつ樹脂層上にス
パッタ法によりITO膜等の電極層を直接形成すること
を可能とするものである。
る情報記録層を形成する樹脂として、紫外線硬化樹脂を
使用することにより、その情報記録層内部を液晶相と紫
外線硬化樹脂相とが分散した構造を有し、その外表面を
紫外線硬化樹脂スキン層となしうることを見出し、先に
出願した(特願平4−24580号)。この情報記録層
は、その表面が樹脂層のみから形成されるため、液晶の
滲み出し現象が生じなく、光センサーを使用した情報記
録においてノイズのない記録が行え、かつ樹脂層上にス
パッタ法によりITO膜等の電極層を直接形成すること
を可能とするものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この種の高
分子分散型液晶を使用する情報記録媒体の改良に関する
ものであり、高感度で、コントラストの良好な情報記録
を可能とする情報記録媒体の提供を課題とする。
分子分散型液晶を使用する情報記録媒体の改良に関する
ものであり、高感度で、コントラストの良好な情報記録
を可能とする情報記録媒体の提供を課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の情報記録
媒体は、電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる情報記
録層を有する情報記録媒体において、該情報記録層が液
晶、紫外線硬化型樹脂形成材料及び弗素系界面活性剤と
の混合溶液を電極層上に塗布した後、紫外線照射により
硬化され、その外表面が紫外線硬化型樹脂のみからなる
スキン層に形成されると共に、層内部には樹脂粒子が充
填され、その間を液晶相が連通した構造を有し、また、
該情報記録層が1μm〜30μmの膜厚を有し、かつス
キン層の膜厚が情報記録層の膜厚に対して0.01%〜
50%の範囲であることを特徴とする。
媒体は、電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる情報記
録層を有する情報記録媒体において、該情報記録層が液
晶、紫外線硬化型樹脂形成材料及び弗素系界面活性剤と
の混合溶液を電極層上に塗布した後、紫外線照射により
硬化され、その外表面が紫外線硬化型樹脂のみからなる
スキン層に形成されると共に、層内部には樹脂粒子が充
填され、その間を液晶相が連通した構造を有し、また、
該情報記録層が1μm〜30μmの膜厚を有し、かつス
キン層の膜厚が情報記録層の膜厚に対して0.01%〜
50%の範囲であることを特徴とする。
【0008】また、本発明の第2の情報記録媒体は、電
極層、光導電層、情報記録層、電極層を順次設けた情報
記録媒体において、少なくとも一方の電極が透明であ
り、かつ情報記録層が、液晶、紫外線硬化型樹脂形成材
料及び弗素系界面活性剤との混合溶液を電極層上に塗布
した後、紫外線照射により硬化され、その外表面が紫外
線硬化型樹脂のみからなるスキン層に形成されると共
に、層内部には樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が
連通した構造を有し、また、該情報記録層が1μm〜3
0μmの膜厚を有し、かつスキン層の膜厚が情報記録層
の膜厚に対して0.01%〜50%の範囲であることを
特徴とする。
極層、光導電層、情報記録層、電極層を順次設けた情報
記録媒体において、少なくとも一方の電極が透明であ
り、かつ情報記録層が、液晶、紫外線硬化型樹脂形成材
料及び弗素系界面活性剤との混合溶液を電極層上に塗布
した後、紫外線照射により硬化され、その外表面が紫外
線硬化型樹脂のみからなるスキン層に形成されると共
に、層内部には樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が
連通した構造を有し、また、該情報記録層が1μm〜3
0μmの膜厚を有し、かつスキン層の膜厚が情報記録層
の膜厚に対して0.01%〜50%の範囲であることを
特徴とする。
【0009】更に、本発明の第3の情報記録媒体は、透
明電極層、光導電層、絶縁性光反射層、情報記録層、透
明電極層を順次設けた情報記録媒体において、情報記録
層が、液晶、紫外線硬化型樹脂形成材料及び弗素系界面
活性剤との混合溶液を電極層上に塗布した後、紫外線照
射により硬化され、その外表面が紫外線硬化型樹脂のみ
からなるスキン層に形成されると共に、層内部には樹脂
粒子が充填され、その間を液晶相が連通した構造を有
し、また、該情報記録層が1μm〜30μmの膜厚を有
し、かつスキン層の膜厚が情報記録層の膜厚に対して
0.01%〜50%の範囲であることを特徴とする。
明電極層、光導電層、絶縁性光反射層、情報記録層、透
明電極層を順次設けた情報記録媒体において、情報記録
層が、液晶、紫外線硬化型樹脂形成材料及び弗素系界面
活性剤との混合溶液を電極層上に塗布した後、紫外線照
射により硬化され、その外表面が紫外線硬化型樹脂のみ
からなるスキン層に形成されると共に、層内部には樹脂
粒子が充填され、その間を液晶相が連通した構造を有
し、また、該情報記録層が1μm〜30μmの膜厚を有
し、かつスキン層の膜厚が情報記録層の膜厚に対して
0.01%〜50%の範囲であることを特徴とする。
【0010】図1(a)は、本発明の第1の情報記録媒
体の断面を模式的に説明するための図で、図中3は情報
記録媒体、11は情報記録層、13は電極層、15は基
板である。
体の断面を模式的に説明するための図で、図中3は情報
記録媒体、11は情報記録層、13は電極層、15は基
板である。
【0011】情報記録層11は、液晶相と樹脂相とから
なるものであり、液晶材料としてはスメクチック液晶、
ネマチック液晶、コレステリック液晶あるいはこれらの
混合物を使用することができるが、液晶の配向性を保持
し、情報を永続的に保持させる、所謂メモリー性の観点
からスメクチック液晶を使用するのが好ましい。
なるものであり、液晶材料としてはスメクチック液晶、
ネマチック液晶、コレステリック液晶あるいはこれらの
混合物を使用することができるが、液晶の配向性を保持
し、情報を永続的に保持させる、所謂メモリー性の観点
からスメクチック液晶を使用するのが好ましい。
【0012】スメクチック液晶としては、液晶性を呈す
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックA相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックC相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックH、G、E、F等を呈する液晶物質
等が挙げられる。又、ネマチック液晶を使用してもよ
く、スメクチック或いはコレステリック液晶と混合する
ことによりメモリー性を向上させることができ、例え
ば、シッフ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェ
ニルエステル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル
系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘ
キサン系、フェニルピリジン系、フェニルオキサジン
系、多環エタン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロ
ヘキシルピリミジン系、フェニル系、トラン系等の公知
のネマチック液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコ
ール等と液晶材料を混合してマイクロカプセル化したも
のも使用できる。尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の
異方向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので
好ましい。
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックA相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックC相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックH、G、E、F等を呈する液晶物質
等が挙げられる。又、ネマチック液晶を使用してもよ
く、スメクチック或いはコレステリック液晶と混合する
ことによりメモリー性を向上させることができ、例え
ば、シッフ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェ
ニルエステル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル
系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘ
キサン系、フェニルピリジン系、フェニルオキサジン
系、多環エタン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロ
ヘキシルピリミジン系、フェニル系、トラン系等の公知
のネマチック液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコ
ール等と液晶材料を混合してマイクロカプセル化したも
のも使用できる。尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の
異方向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので
好ましい。
【0013】樹脂相を形成する材料としては、液晶材料
と共通の溶媒に相溶性を有する溶媒可溶型の熱硬化性樹
脂、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、及びこれらを主体とした共
重合体等、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等を使用しても
よいが、紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴ
マーの状態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモ
ノマー、オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相
溶性を有するものを好ましく使用できる。
と共通の溶媒に相溶性を有する溶媒可溶型の熱硬化性樹
脂、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、及びこれらを主体とした共
重合体等、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等を使用しても
よいが、紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴ
マーの状態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモ
ノマー、オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相
溶性を有するものを好ましく使用できる。
【0014】このような紫外線硬化型樹脂としては、例
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙
げられ、モノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、イソシアヌール酸(エチレンオキサイド変性)トリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート等の多官能性モノマー或いは多官能性
ウレタン系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノ
ール変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
等の単官能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられ
る。
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙
げられ、モノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、イソシアヌール酸(エチレンオキサイド変性)トリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート等の多官能性モノマー或いは多官能性
ウレタン系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノ
ール変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート
等の単官能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられ
る。
【0015】溶媒としては、酢酸−n−ブチルに対する
相対蒸発速度が2より小さい溶剤であって、液晶、紫外
線硬化型樹脂形成材料、光硬化剤、弗素系界面活性剤の
それぞれに共通の溶媒であることが必要である。「酢酸
−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より小さい溶
剤」とは、例えば原崎勇次著「わかりやすいコーティン
グ技術」217頁〜221頁、理工出版社刊に記載され
るものであり、蒸発速度とは一定温度での揮発性であ
り、 で定義され、Rが2より小さいものである。
相対蒸発速度が2より小さい溶剤であって、液晶、紫外
線硬化型樹脂形成材料、光硬化剤、弗素系界面活性剤の
それぞれに共通の溶媒であることが必要である。「酢酸
−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より小さい溶
剤」とは、例えば原崎勇次著「わかりやすいコーティン
グ技術」217頁〜221頁、理工出版社刊に記載され
るものであり、蒸発速度とは一定温度での揮発性であ
り、 で定義され、Rが2より小さいものである。
【0016】本発明において使用しうる溶剤としては、
キシレン(R=0.76)、シクロヘキサノン(R=
0.32)等の蒸発速度の比較的遅いものが好ましく、
またクロロホルム等に代表されるハロゲン化炭化水素系
溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアルコール誘導
体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテル系溶媒が
挙げられる。その他、具体的には、メチルアルコール、
変性エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ブタノ
ール、メチルイソブチルカルビノール、ジイソブチルカ
ルビノール、ヘキシレングリコール、酢酸−sec−ブ
タノール、酢酸イソブチル(98%)、酢酸n−ブチ
ル、酢酸メチルアルミ、酢酸アルミ(95%異性体混合
物)、乳酸エチル、メチルオキシトール、エチルオキシ
トール、イソプロピルオキシトール、メチルオキシトー
ルアセテート、エチルオキシトールアセテート、ブチル
オキシトール、メチルジオキシトール、エチルジオキシ
トール、ブチルジオキシトール、ブチルジオキシトール
アセテート、メチルイソブチルケトン、エチルアミルケ
トン、Pent−O−xone(ME−6K)、メチル
シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、ジアセトンア
ルコール、イソホロン、1,4−ジオキサン、パークロ
ロエチレン、ジクロロプロパン、2−ニトロプロパン、
トルエン、SBP100/140、ゴム溶剤、キシレ
ン、SBP140/165、SBP6、SBP11、S
hellsolA、ホワイトスピリット(LAWS)、
ShellsolE、ShellsolTD、ホワイト
スピリット(115°F引火)、ShellsolT、
ShellsolAB、Distillate、Sol
vent300、ShellsolN、Shellso
lRA、ShellsolK、ShellsolR、S
olvent350等を挙げることができる。
キシレン(R=0.76)、シクロヘキサノン(R=
0.32)等の蒸発速度の比較的遅いものが好ましく、
またクロロホルム等に代表されるハロゲン化炭化水素系
溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアルコール誘導
体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテル系溶媒が
挙げられる。その他、具体的には、メチルアルコール、
変性エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ブタノ
ール、メチルイソブチルカルビノール、ジイソブチルカ
ルビノール、ヘキシレングリコール、酢酸−sec−ブ
タノール、酢酸イソブチル(98%)、酢酸n−ブチ
ル、酢酸メチルアルミ、酢酸アルミ(95%異性体混合
物)、乳酸エチル、メチルオキシトール、エチルオキシ
トール、イソプロピルオキシトール、メチルオキシトー
ルアセテート、エチルオキシトールアセテート、ブチル
オキシトール、メチルジオキシトール、エチルジオキシ
トール、ブチルジオキシトール、ブチルジオキシトール
アセテート、メチルイソブチルケトン、エチルアミルケ
トン、Pent−O−xone(ME−6K)、メチル
シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、ジアセトンア
ルコール、イソホロン、1,4−ジオキサン、パークロ
ロエチレン、ジクロロプロパン、2−ニトロプロパン、
トルエン、SBP100/140、ゴム溶剤、キシレ
ン、SBP140/165、SBP6、SBP11、S
hellsolA、ホワイトスピリット(LAWS)、
ShellsolE、ShellsolTD、ホワイト
スピリット(115°F引火)、ShellsolT、
ShellsolAB、Distillate、Sol
vent300、ShellsolN、Shellso
lRA、ShellsolK、ShellsolR、S
olvent350等を挙げることができる。
【0017】光硬化剤としては、例えば2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(チバ
・ガイギー社製「ダロキュア1173」)、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア184」)、1−(4−イソプロピル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン(チバ・ガイギー社製「ダロキュア111
6」)、ベンジルジメチルケタール(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア651」)、2−メチル−1−〔4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパノン
−1(チバ・ガイギー社製「イルガキュア907」)、
2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤ
キュアDETX」)とp−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル(日本化薬社製「カヤキュアEPA」)との混合物、
イソプロピルチオキサントン(ワードブレキンソップ社
製「クンタキュア・ITX」とp−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オンが液晶材料、重合体形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(チバ
・ガイギー社製「ダロキュア1173」)、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア184」)、1−(4−イソプロピル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン(チバ・ガイギー社製「ダロキュア111
6」)、ベンジルジメチルケタール(チバ・ガイギー社
製「イルガキュア651」)、2−メチル−1−〔4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパノン
−1(チバ・ガイギー社製「イルガキュア907」)、
2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤ
キュアDETX」)とp−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル(日本化薬社製「カヤキュアEPA」)との混合物、
イソプロピルチオキサントン(ワードブレキンソップ社
製「クンタキュア・ITX」とp−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オンが液晶材料、重合体形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。
【0018】液晶と樹脂との合計量に対する液晶の含有
割合は、10重量%〜90重量%とできる。液晶の含有
量が10重量%未満であると情報記録により液晶相が配
向しても光透過性が低く、また、90重量%を越えると
液晶の滲み出し等の現象が生じ、画像ムラが生じ好まし
くない。しかしながら、本発明の情報記録媒体において
は、特に、液晶の割合を40重量%〜80重量%とする
とよい。本発明によると、その情報記録層の外表面を樹
脂層からなるスキン層とすることができるので、液晶の
含有量を多くでき、これにより、高感度、高コントラス
トの情報記録媒体とでき、また、動作電圧を低くするこ
とができる。
割合は、10重量%〜90重量%とできる。液晶の含有
量が10重量%未満であると情報記録により液晶相が配
向しても光透過性が低く、また、90重量%を越えると
液晶の滲み出し等の現象が生じ、画像ムラが生じ好まし
くない。しかしながら、本発明の情報記録媒体において
は、特に、液晶の割合を40重量%〜80重量%とする
とよい。本発明によると、その情報記録層の外表面を樹
脂層からなるスキン層とすることができるので、液晶の
含有量を多くでき、これにより、高感度、高コントラス
トの情報記録媒体とでき、また、動作電圧を低くするこ
とができる。
【0019】また、情報記録層は、液晶相の光屈折率と
樹脂相の光屈折率とをほぼ同じものとしておくことによ
り、電界のかからない状態では光散乱により不透明であ
り、電界がかかると液晶相が配向し、情報記録部を透明
状態とすることができるものであり、情報再生に際して
も偏向板が不用であり、読み取りに際しての光学系が単
純化しうる。
樹脂相の光屈折率とをほぼ同じものとしておくことによ
り、電界のかからない状態では光散乱により不透明であ
り、電界がかかると液晶相が配向し、情報記録部を透明
状態とすることができるものであり、情報再生に際して
も偏向板が不用であり、読み取りに際しての光学系が単
純化しうる。
【0020】本発明においては、電極層に対する濡れ性
と共に、情報記録層表面に樹脂のみからなるスキン層を
形成させることを目的として弗素系界面活性剤が添加さ
れる。このような弗素系界面活性剤としては、例えば住
友3M(株)製、フロラードFC−430、同フロラー
ドFC−431、N−(n−プロピル)−N−(β−ア
クリロキシエチル)−パーフルオロオクチルスルホン酸
アミド〔三菱マテリアル(株)製EF−125M〕、N
−(n−プロピル)−N−(β−メタクリロキシエチ
ル)−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド〔三菱マ
テリアル(株)製EF−135M〕、パーフルオロオク
タンスルホン酸〔三菱マテリアル(株)製EF−10
1〕、パーフルオロカプリル酸〔三菱マテリアル(株)
製EF−201〕、N−(n−プロピル)−N−パーフ
ルオロオクタンスルホン酸アミドエタノール〔三菱マテ
リアル(株)製EF−121〕、更に三菱マテリアル
(株)製EF−102、同EF−103、同EF−10
4、同EF−105、同EF−112、同EF−12
1、同EF−122A、同EF−122B、同EF−1
22C、同EF−122A3、同EF−123A、同E
F−123B、同EF−132、同EF−301、同E
F−303、同EF−305、同EF−306A、同E
F−501、同EF−700、同EF−201、同EF
−204、同EF−351、同EF−352、同EF−
801、同EF−802、同EF−125DS、同EF
−1200、同EF−L102、同EF−L155、同
EF−L174、同EF−L215等が挙げられる。ま
た、3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,
2−ジヒドロキシプロパン〔三菱マテリアル(株)製M
F−100〕、N−n−プロピル−N−2,3−ジヒド
ロキシプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド
〔三菱マテリアル(株)製MF−110〕、3−(2−
パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−エポキシプ
ロパン〔三菱マテリアル(株)製MF−120〕、N−
n−プロピル−N−2,3−エポキシプロピルパーフル
オロオクチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製
MF−130〕、パーフルオロヘキシルエチレン〔三菱
マテリアル(株)製MF−140〕、N−〔3−トリメ
トキシシリル)プロピル〕パーフルオロヘプチルカルボ
ン酸アミド〔三菱マテリアル(株)製MF−150〕、
N−〔3−トリメトキシシリル)プロピル〕パーフルオ
ロヘプチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製M
F−160〕等が挙げられる。弗素系界面活性剤は、液
晶と樹脂形成材料の合計量に対して0.1〜20重量%
の割合で使用される。また、必要に応じて、溶液の塗布
適性を向上させ、表面性を良くするためにレベリング剤
を添加してもよい。
と共に、情報記録層表面に樹脂のみからなるスキン層を
形成させることを目的として弗素系界面活性剤が添加さ
れる。このような弗素系界面活性剤としては、例えば住
友3M(株)製、フロラードFC−430、同フロラー
ドFC−431、N−(n−プロピル)−N−(β−ア
クリロキシエチル)−パーフルオロオクチルスルホン酸
アミド〔三菱マテリアル(株)製EF−125M〕、N
−(n−プロピル)−N−(β−メタクリロキシエチ
ル)−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド〔三菱マ
テリアル(株)製EF−135M〕、パーフルオロオク
タンスルホン酸〔三菱マテリアル(株)製EF−10
1〕、パーフルオロカプリル酸〔三菱マテリアル(株)
製EF−201〕、N−(n−プロピル)−N−パーフ
ルオロオクタンスルホン酸アミドエタノール〔三菱マテ
リアル(株)製EF−121〕、更に三菱マテリアル
(株)製EF−102、同EF−103、同EF−10
4、同EF−105、同EF−112、同EF−12
1、同EF−122A、同EF−122B、同EF−1
22C、同EF−122A3、同EF−123A、同E
F−123B、同EF−132、同EF−301、同E
F−303、同EF−305、同EF−306A、同E
F−501、同EF−700、同EF−201、同EF
−204、同EF−351、同EF−352、同EF−
801、同EF−802、同EF−125DS、同EF
−1200、同EF−L102、同EF−L155、同
EF−L174、同EF−L215等が挙げられる。ま
た、3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,
2−ジヒドロキシプロパン〔三菱マテリアル(株)製M
F−100〕、N−n−プロピル−N−2,3−ジヒド
ロキシプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド
〔三菱マテリアル(株)製MF−110〕、3−(2−
パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−エポキシプ
ロパン〔三菱マテリアル(株)製MF−120〕、N−
n−プロピル−N−2,3−エポキシプロピルパーフル
オロオクチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製
MF−130〕、パーフルオロヘキシルエチレン〔三菱
マテリアル(株)製MF−140〕、N−〔3−トリメ
トキシシリル)プロピル〕パーフルオロヘプチルカルボ
ン酸アミド〔三菱マテリアル(株)製MF−150〕、
N−〔3−トリメトキシシリル)プロピル〕パーフルオ
ロヘプチルスルホンアミド〔三菱マテリアル(株)製M
F−160〕等が挙げられる。弗素系界面活性剤は、液
晶と樹脂形成材料の合計量に対して0.1〜20重量%
の割合で使用される。また、必要に応じて、溶液の塗布
適性を向上させ、表面性を良くするためにレベリング剤
を添加してもよい。
【0021】次に、情報記録層の形成方法について、順
を追って説明する。 (1)液晶、樹脂形成用材料、光重合開始剤、界面活性
剤を、酢酸−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より
小さい溶媒と混合し、固形分濃度を10〜60重量%と
する混合溶液とする。溶剤希釈は1〜500cps(2
0℃)、好ましくは10〜200cps(20℃)であ
る。粘度が小さいと塗布液が流れてしまいコーティング
後の膜厚が保持できなく、また粘度が大きいとレベリン
グが困難となる。また、液晶が等方相を保持する温度以
上、好ましくは等方相転移点+10℃の温度の範囲内に
加熱して溶解させる。この際、溶液中に存在する紫外線
硬化樹脂形成材料のゲル化物、ゴミ等を濾過することに
より除去する。ゲル化物、ゴミ等が存在すると情報記録
媒体としてのノイズとなる。
を追って説明する。 (1)液晶、樹脂形成用材料、光重合開始剤、界面活性
剤を、酢酸−n−ブチルに対する相対蒸発速度が2より
小さい溶媒と混合し、固形分濃度を10〜60重量%と
する混合溶液とする。溶剤希釈は1〜500cps(2
0℃)、好ましくは10〜200cps(20℃)であ
る。粘度が小さいと塗布液が流れてしまいコーティング
後の膜厚が保持できなく、また粘度が大きいとレベリン
グが困難となる。また、液晶が等方相を保持する温度以
上、好ましくは等方相転移点+10℃の温度の範囲内に
加熱して溶解させる。この際、溶液中に存在する紫外線
硬化樹脂形成材料のゲル化物、ゴミ等を濾過することに
より除去する。ゲル化物、ゴミ等が存在すると情報記録
媒体としてのノイズとなる。
【0022】また、混合溶液は等方相温度以上に加熱さ
れているが、この際、溶剤が蒸発乾燥してしまうと混合
溶液は相分離してしまい、均一な膜は形成されない。そ
のため、溶媒としては酢酸−n−ブチルに対する相対蒸
発速度が2より小さい溶媒を使用する。相対蒸発速度が
2より大きいと、蒸発が早すぎ、上記の問題を生じる。
通常、70℃までの加熱で溶解されるものであれば、溶
剤としてはRが0.3以上で1以下のものでも問題な
く、例えばキシレン(R=0.7)を使用するとよく、
また、溶解させるために70℃以上の加熱が必要な場合
には、溶剤としてはRが0.3未満のもの、例えばシク
ロヘキサノン(R=0.2)を使用するとよい。
れているが、この際、溶剤が蒸発乾燥してしまうと混合
溶液は相分離してしまい、均一な膜は形成されない。そ
のため、溶媒としては酢酸−n−ブチルに対する相対蒸
発速度が2より小さい溶媒を使用する。相対蒸発速度が
2より大きいと、蒸発が早すぎ、上記の問題を生じる。
通常、70℃までの加熱で溶解されるものであれば、溶
剤としてはRが0.3以上で1以下のものでも問題な
く、例えばキシレン(R=0.7)を使用するとよく、
また、溶解させるために70℃以上の加熱が必要な場合
には、溶剤としてはRが0.3未満のもの、例えばシク
ロヘキサノン(R=0.2)を使用するとよい。
【0023】(2)次いで、混合溶液を電極層上に室温
条件下でスピンコーター、バーコート、ブレードコータ
ー、或いはロールコーター等の塗布方法により均一な膜
厚で均一に塗布する。
条件下でスピンコーター、バーコート、ブレードコータ
ー、或いはロールコーター等の塗布方法により均一な膜
厚で均一に塗布する。
【0024】(3)塗布層を、液晶が等方相を保持する
温度以上、好ましくは等方相転移点±10℃の温度の範
囲内に保持し、溶媒を蒸発除去する。塗布層の温度が、
等方相転移温度より10℃以上低いと、液晶と紫外線硬
化型樹脂材料との相分離が大きくなるという問題が生じ
る。即ち、液晶ドメインが成長しすぎ、情報記録層表面
にスキン層が完全に形成されず、液晶の滲み出し現象が
生じたり、また紫外線硬化型樹脂がマット化し、正確に
情報を取り込むことが困難となり、好ましくない。ま
た、紫外線硬化型樹脂が液晶を保持できず、情報記録層
を形成されないことすらある。また、等方相転移点+1
0℃以上であると、その詳細な理由は不明であるが、情
報記録層において液晶相と樹脂相との相分離が不明確に
なる。
温度以上、好ましくは等方相転移点±10℃の温度の範
囲内に保持し、溶媒を蒸発除去する。塗布層の温度が、
等方相転移温度より10℃以上低いと、液晶と紫外線硬
化型樹脂材料との相分離が大きくなるという問題が生じ
る。即ち、液晶ドメインが成長しすぎ、情報記録層表面
にスキン層が完全に形成されず、液晶の滲み出し現象が
生じたり、また紫外線硬化型樹脂がマット化し、正確に
情報を取り込むことが困難となり、好ましくない。ま
た、紫外線硬化型樹脂が液晶を保持できず、情報記録層
を形成されないことすらある。また、等方相転移点+1
0℃以上であると、その詳細な理由は不明であるが、情
報記録層において液晶相と樹脂相との相分離が不明確に
なる。
【0025】(4)溶媒除去を完全なものとするため
に、乾燥処理はフード乾燥、真空乾燥の2段階に別けて
実施するとよく、これにより、空気の流れによる情報記
録層表面のムラを防止し、干渉縞を防止することができ
る。
に、乾燥処理はフード乾燥、真空乾燥の2段階に別けて
実施するとよく、これにより、空気の流れによる情報記
録層表面のムラを防止し、干渉縞を防止することができ
る。
【0026】(5)次に、乾燥処理された塗布層をUV
ランプを使用して紫外線照射し、硬化させるが、塗布層
への紫外線照射するにあたっては、赤外線を遮蔽し、2
00nm〜400nmの波長部分が1%以上である紫外
線を使用し、0.1mJ/cm 2 以上のエネルギーで照
射することにより、液晶相と樹脂相との相分離に優れた
情報記録層が得られる。
ランプを使用して紫外線照射し、硬化させるが、塗布層
への紫外線照射するにあたっては、赤外線を遮蔽し、2
00nm〜400nmの波長部分が1%以上である紫外
線を使用し、0.1mJ/cm 2 以上のエネルギーで照
射することにより、液晶相と樹脂相との相分離に優れた
情報記録層が得られる。
【0027】このようにして情報記録層を形成すると、
情報記録層表面に、情報記録層の膜厚の0.01%〜3
0%の割合の膜厚を有するスキン層が形成されると共
に、情報記録層内部は、一次粒径が0.03μm〜0.
3μmの樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が連通し
た構造を有するものとできる。紫外線硬化型樹脂形成材
料として、その平均分子量/平均官能基で示されるパラ
メータが160以下の多官能性の紫外線硬化性樹脂材料
を使用すると、その表面スキン層が耐久性に優れたもの
とできる。
情報記録層表面に、情報記録層の膜厚の0.01%〜3
0%の割合の膜厚を有するスキン層が形成されると共
に、情報記録層内部は、一次粒径が0.03μm〜0.
3μmの樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が連通し
た構造を有するものとできる。紫外線硬化型樹脂形成材
料として、その平均分子量/平均官能基で示されるパラ
メータが160以下の多官能性の紫外線硬化性樹脂材料
を使用すると、その表面スキン層が耐久性に優れたもの
とできる。
【0028】情報記録層表面に耐久性のあるスキン層が
形成されることにより、情報記録層における液晶の使用
割合を増大することができ、また情報記録層表面への液
晶の滲み出しがなく、これによる画像の乱れを無くすこ
とができ、高品質の画像が得られる。
形成されることにより、情報記録層における液晶の使用
割合を増大することができ、また情報記録層表面への液
晶の滲み出しがなく、これによる画像の乱れを無くすこ
とができ、高品質の画像が得られる。
【0029】尚、情報記録層内部において、微細構造に
おいて液晶相と樹脂相との相分離が不完全であると、コ
ントラストがとれなくなるという問題を生じる。また、
相分離が不完全であると情報記録層自体が低抵抗化して
しまい、光センサーを使用した静電情報による電界の作
用による情報記録に際して、情報記録層における液晶相
に有効に電圧がかからず、液晶駆動が緩慢になり、低感
度化を生じるという問題がある。また、相分離が不完全
であると、紫外線硬化樹脂形成材料を赤外線を含有する
UVランプにより照射すると、不要な加熱により、不均
一な収縮をひきおこし、情報記録媒体として致命的な均
一均質な情報記録層とできないという重大な問題を生じ
る。
おいて液晶相と樹脂相との相分離が不完全であると、コ
ントラストがとれなくなるという問題を生じる。また、
相分離が不完全であると情報記録層自体が低抵抗化して
しまい、光センサーを使用した静電情報による電界の作
用による情報記録に際して、情報記録層における液晶相
に有効に電圧がかからず、液晶駆動が緩慢になり、低感
度化を生じるという問題がある。また、相分離が不完全
であると、紫外線硬化樹脂形成材料を赤外線を含有する
UVランプにより照射すると、不要な加熱により、不均
一な収縮をひきおこし、情報記録媒体として致命的な均
一均質な情報記録層とできないという重大な問題を生じ
る。
【0030】(6)このようにして形成される情報記録
層の平均膜厚は、1μm〜30μmとされる。膜厚が厚
すぎると動作電圧が高くなるが、一般に感度をあげたい
場合には膜厚を薄くし、コントラストをあげたい場合に
は膜厚は厚くするとよい。感度と共にコントラスト比の
優れたものとするには、膜厚としては、好ましくは3μ
m〜20μm、より好ましくは5μm〜10μmの膜厚
とするとよい。これにより高コントラストを維持しつ
つ、動作電圧も低くすることができる。
層の平均膜厚は、1μm〜30μmとされる。膜厚が厚
すぎると動作電圧が高くなるが、一般に感度をあげたい
場合には膜厚を薄くし、コントラストをあげたい場合に
は膜厚は厚くするとよい。感度と共にコントラスト比の
優れたものとするには、膜厚としては、好ましくは3μ
m〜20μm、より好ましくは5μm〜10μmの膜厚
とするとよい。これにより高コントラストを維持しつ
つ、動作電圧も低くすることができる。
【0031】また、情報記録層におけるスキン層の膜厚
は、情報記録層の膜厚の0.01%〜50%の割合とで
きるが、薄すぎると液晶の滲み出しが生じ、その表面に
後述する光センサーにより情報記録をしても、ノイズと
なる。そのため、このましくは、スキン層の膜厚は、情
報記録層の膜厚の0.01%〜30%の割合のものとす
るとよい。スキン層の膜厚は、その詳細な理由は不明で
あるが、紫外線硬化型樹脂の種類、紫外線照射量、弗素
系界面活性剤の添加等により、適宜調整することができ
る。
は、情報記録層の膜厚の0.01%〜50%の割合とで
きるが、薄すぎると液晶の滲み出しが生じ、その表面に
後述する光センサーにより情報記録をしても、ノイズと
なる。そのため、このましくは、スキン層の膜厚は、情
報記録層の膜厚の0.01%〜30%の割合のものとす
るとよい。スキン層の膜厚は、その詳細な理由は不明で
あるが、紫外線硬化型樹脂の種類、紫外線照射量、弗素
系界面活性剤の添加等により、適宜調整することができ
る。
【0032】また、本発明の情報記録媒体においては、
情報記録層の膜厚は正確に均一に塗布されることが必要
であるが、上記方法で情報記録層を形成することによ
り、膜厚の均一性としては、膜厚が5μm〜10μmの
場合には、その表面粗さRaを200Å以内とすること
ができ、コントラストムラがなく、また情報記録時にお
いてもシェーディング現象を生じないものとできる。
情報記録層の膜厚は正確に均一に塗布されることが必要
であるが、上記方法で情報記録層を形成することによ
り、膜厚の均一性としては、膜厚が5μm〜10μmの
場合には、その表面粗さRaを200Å以内とすること
ができ、コントラストムラがなく、また情報記録時にお
いてもシェーディング現象を生じないものとできる。
【0033】一般に、この種の高分子分散型液晶の場合
には、その解像性は膜厚よりは液晶のドメインサイズに
依存する割合が大きいものと考えられているが、本発明
の情報記録層のごとき、液晶の含有割合が大きく、樹脂
が粒子状に相形成するものにあっては、通常の液晶の含
有割合が低い高分子分散型液晶のように、液晶のドメイ
ンサイズをあまり考慮する必要がないので、容易に高感
度で、かつコントラスト比の高い情報記録体を容易に提
供することができる。
には、その解像性は膜厚よりは液晶のドメインサイズに
依存する割合が大きいものと考えられているが、本発明
の情報記録層のごとき、液晶の含有割合が大きく、樹脂
が粒子状に相形成するものにあっては、通常の液晶の含
有割合が低い高分子分散型液晶のように、液晶のドメイ
ンサイズをあまり考慮する必要がないので、容易に高感
度で、かつコントラスト比の高い情報記録体を容易に提
供することができる。
【0034】なお、樹脂形成用材料と液晶との混合溶液
を塗布し、乾燥させた後、その塗布面に石英ガラス板等
の平滑基板を載置して、塗布層を均一に加圧しつつ紫外
線照射して硬化性樹脂を硬化させ、次いで基板を剥離し
て情報記録媒体とすると、光透過率のばらつきの更に少
ない情報記録層とできる。
を塗布し、乾燥させた後、その塗布面に石英ガラス板等
の平滑基板を載置して、塗布層を均一に加圧しつつ紫外
線照射して硬化性樹脂を硬化させ、次いで基板を剥離し
て情報記録媒体とすると、光透過率のばらつきの更に少
ない情報記録層とできる。
【0035】また、本発明における情報記録層表面に
は、スキン層が形成されることにより、液晶の滲み出し
を防止しうるものとできるが、その表面硬度をより高め
るために、情報記録層上に樹脂層を積層してもよい。こ
のような樹脂層としては、熱可塑性樹脂膜、熱硬化性樹
脂膜、紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂膜等
を塗布法により形成される。また、有機溶媒に対して相
溶性の少ない水溶性樹脂であるポリビニルアルコール、
水系ポリウレタン、水ガラス等が挙げられ、その水溶液
をブレードコーター、ロールコーター、あるいはスピン
コーター等により塗布して積層してもよい。さらに、ポ
リテトラフルオロエチレン、弗素化エチレンプロピレ
ン、テトラフルオロエチレンパーフルオロアルキルビニ
ルエーテル共重合体、またポリイミド樹脂、ポリエーテ
ルケトン樹脂、ポリバラキシリレン等の樹脂を弗素系溶
媒に溶解し、塗膜して積層することもできる。更に、こ
のような塗布法に代えて、上記各種のポリマーのフイル
ムを情報記録層表面にラミネートあるいは接着剤等を介
して粘着することにより層形成させてもよい。
は、スキン層が形成されることにより、液晶の滲み出し
を防止しうるものとできるが、その表面硬度をより高め
るために、情報記録層上に樹脂層を積層してもよい。こ
のような樹脂層としては、熱可塑性樹脂膜、熱硬化性樹
脂膜、紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂膜等
を塗布法により形成される。また、有機溶媒に対して相
溶性の少ない水溶性樹脂であるポリビニルアルコール、
水系ポリウレタン、水ガラス等が挙げられ、その水溶液
をブレードコーター、ロールコーター、あるいはスピン
コーター等により塗布して積層してもよい。さらに、ポ
リテトラフルオロエチレン、弗素化エチレンプロピレ
ン、テトラフルオロエチレンパーフルオロアルキルビニ
ルエーテル共重合体、またポリイミド樹脂、ポリエーテ
ルケトン樹脂、ポリバラキシリレン等の樹脂を弗素系溶
媒に溶解し、塗膜して積層することもできる。更に、こ
のような塗布法に代えて、上記各種のポリマーのフイル
ムを情報記録層表面にラミネートあるいは接着剤等を介
して粘着することにより層形成させてもよい。
【0036】樹脂層の形成材料としては、特に好ましく
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、紫外線及び電子線硬化型樹脂等が挙げら
れ、薄膜に形成しても、表面硬度の高いハードコート層
とでき、情報記録媒体の耐久性を向上させることが可能
となる。樹脂層の膜厚は、0.1μm〜20μm、この
ましくは、0.1μm〜5μmとするとよい。但し、樹
脂層の膜厚が厚い場合には、情報記録に際して、液晶相
にかかる動作電圧が低くなるので、情報記録形態として
後述する光センサーを使用するような場合には、その印
加電圧を高くする必要がある。このような樹脂層の積層
により、情報記録層表面からの液晶の滲み出し現象をよ
り防止することができると共に、情報記録層表面の硬度
を高めることができ、耐久性のあるものとでき、更にそ
の膜厚を変化させることにより、情報記録層への印加電
圧を制御できるので、記録可能な露光レンジを制御する
ことができる。
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、紫外線及び電子線硬化型樹脂等が挙げら
れ、薄膜に形成しても、表面硬度の高いハードコート層
とでき、情報記録媒体の耐久性を向上させることが可能
となる。樹脂層の膜厚は、0.1μm〜20μm、この
ましくは、0.1μm〜5μmとするとよい。但し、樹
脂層の膜厚が厚い場合には、情報記録に際して、液晶相
にかかる動作電圧が低くなるので、情報記録形態として
後述する光センサーを使用するような場合には、その印
加電圧を高くする必要がある。このような樹脂層の積層
により、情報記録層表面からの液晶の滲み出し現象をよ
り防止することができると共に、情報記録層表面の硬度
を高めることができ、耐久性のあるものとでき、更にそ
の膜厚を変化させることにより、情報記録層への印加電
圧を制御できるので、記録可能な露光レンジを制御する
ことができる。
【0037】電極層13は、情報記録層に記録された情
報を透過光で読み取る場合には電極層は透明性であるこ
とが要求され、比抵抗値が106 Ω・cm以下の金属薄膜
導電膜、酸化インジウム錫等の無機金属酸化物導電膜、
四級アンモニウム塩等の有機導電膜等である。電極層は
蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング、メッ
キ、ディッピング、電解重合等の方法により形成され
る。またその膜厚は電極を構成する材料の電気特性、お
よび情報記録の際の印加電圧により変化させる必要があ
るが、例えばITO膜では100〜3000Å程度であ
り、情報記録層との間の全面、或いは情報記録層の形成
パターンに合わせて形成される。
報を透過光で読み取る場合には電極層は透明性であるこ
とが要求され、比抵抗値が106 Ω・cm以下の金属薄膜
導電膜、酸化インジウム錫等の無機金属酸化物導電膜、
四級アンモニウム塩等の有機導電膜等である。電極層は
蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング、メッ
キ、ディッピング、電解重合等の方法により形成され
る。またその膜厚は電極を構成する材料の電気特性、お
よび情報記録の際の印加電圧により変化させる必要があ
るが、例えばITO膜では100〜3000Å程度であ
り、情報記録層との間の全面、或いは情報記録層の形成
パターンに合わせて形成される。
【0038】また、情報記録層に記録された情報を反射
光で読み取る場合には、電極層を光反射性とするか、ま
たは上記透明電極層に光反射層を積層するとよい。電極
層を光反射性とするには、例えばアルミニウム等の金属
電極とするとよい。また、光反射層としては、例えば誘
電体ミラー層が挙げられ、電極層の少なく共一方、また
は両面に設けるとよい。
光で読み取る場合には、電極層を光反射性とするか、ま
たは上記透明電極層に光反射層を積層するとよい。電極
層を光反射性とするには、例えばアルミニウム等の金属
電極とするとよい。また、光反射層としては、例えば誘
電体ミラー層が挙げられ、電極層の少なく共一方、また
は両面に設けるとよい。
【0039】基板15は、情報の読取りを透過光で行な
うかまたは反射光で行なうかにより、透明または不透明
なもののいずれでもよい。情報記録媒体は、カード、フ
ィルム、テープ、ディスク等の形状を有することができ
るが、支持体はその情報記録媒体を強度的に支持するも
のであり、情報記録層が支持性を有する場合には設ける
必要がない。支持体の材質、厚みは特に制限がなく、例
えば可撓性のあるプラスチックフィルム、或いは硝子、
プラスチックシート、カード等の剛体が使用される。具
体的には、情報記録媒体がフレキシブルなフィルム、テ
ープ、ディスク、カード形状をとる場合には、フレキシ
ブル性のあるプラスチックフィルムが使用され、強度が
要求される場合には、剛性のあるシート、ガラス等の無
機材料等が使用される。
うかまたは反射光で行なうかにより、透明または不透明
なもののいずれでもよい。情報記録媒体は、カード、フ
ィルム、テープ、ディスク等の形状を有することができ
るが、支持体はその情報記録媒体を強度的に支持するも
のであり、情報記録層が支持性を有する場合には設ける
必要がない。支持体の材質、厚みは特に制限がなく、例
えば可撓性のあるプラスチックフィルム、或いは硝子、
プラスチックシート、カード等の剛体が使用される。具
体的には、情報記録媒体がフレキシブルなフィルム、テ
ープ、ディスク、カード形状をとる場合には、フレキシ
ブル性のあるプラスチックフィルムが使用され、強度が
要求される場合には、剛性のあるシート、ガラス等の無
機材料等が使用される。
【0040】尚、透過光で情報を再生する場合には、必
要に応じて反射防止効果を有する層を積層するか、また
反射防止効果を発現しうる膜厚に透明基板を調整する
か、更に両者を組み合わせることにより反射防止性を付
与するとよい。
要に応じて反射防止効果を有する層を積層するか、また
反射防止効果を発現しうる膜厚に透明基板を調整する
か、更に両者を組み合わせることにより反射防止性を付
与するとよい。
【0041】次に、本発明の第1の情報記録媒体への情
報記録方法について説明する。情報記録には、光センサ
ー、熱、レーザー、コロナ帯電等の方法を使用して、記
録されるが、好ましくは、光センサーを使用し、情報記
録するとよい。このような光センサーとしては、透明基
板上に電極層、光導電層を積層してなるもので、その光
導電層としては、情報光に応じた電荷発生機能と電荷輸
送機能を同時に有する単層系のものと、電極層上に電荷
発生層、電荷輸送層を順次積層した積層系のものがあ
り、後述する第2の情報記録媒体における光導電層と同
様の材料、及び形成方法により形成される。光導電層
は、一般には光が照射されると照射部分で光キャリア
(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を移
動することができる機能を有するものであり、特に電界
が存在する場合にその効果が顕著である層である。この
ような光センサーとしては、例えば特願平4−2879
83号に記載の光センサーが挙げられる。この公報に記
載された光センサーは、光照射時において情報記録媒体
に付与される電界または電荷量が光照射につれて増幅さ
れ、また光照射を終了した後でも電圧を印加し続けると
その導電性を持続し、引続き電界または電荷量を情報記
録媒体に付与し続ける作用を有するものである。
報記録方法について説明する。情報記録には、光センサ
ー、熱、レーザー、コロナ帯電等の方法を使用して、記
録されるが、好ましくは、光センサーを使用し、情報記
録するとよい。このような光センサーとしては、透明基
板上に電極層、光導電層を積層してなるもので、その光
導電層としては、情報光に応じた電荷発生機能と電荷輸
送機能を同時に有する単層系のものと、電極層上に電荷
発生層、電荷輸送層を順次積層した積層系のものがあ
り、後述する第2の情報記録媒体における光導電層と同
様の材料、及び形成方法により形成される。光導電層
は、一般には光が照射されると照射部分で光キャリア
(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を移
動することができる機能を有するものであり、特に電界
が存在する場合にその効果が顕著である層である。この
ような光センサーとしては、例えば特願平4−2879
83号に記載の光センサーが挙げられる。この公報に記
載された光センサーは、光照射時において情報記録媒体
に付与される電界または電荷量が光照射につれて増幅さ
れ、また光照射を終了した後でも電圧を印加し続けると
その導電性を持続し、引続き電界または電荷量を情報記
録媒体に付与し続ける作用を有するものである。
【0042】光センサーを組み込んだ情報記録装置を図
2に示す。図中1は光センサー、3は情報記録媒体、1
3、13′は電極層、14は光導電層、11は情報記録
層、15は基板、19はスペーサー、21は光源、22
は駆動機構を有するシャッター、23はパルスジェネレ
ーター(電源)、24は暗箱を示す。
2に示す。図中1は光センサー、3は情報記録媒体、1
3、13′は電極層、14は光導電層、11は情報記録
層、15は基板、19はスペーサー、21は光源、22
は駆動機構を有するシャッター、23はパルスジェネレ
ーター(電源)、24は暗箱を示す。
【0043】まず、電源により両電極13、13′間に
電圧を印加する。なお、この情報記録媒体への記録に際
して、情報記録媒体を例えばその支持体中に埋設した抵
抗加熱(図示せず)により加熱し、液晶を液晶相を示す
温度まで加熱すると、より液晶におけるメモリー性を向
上させることができる。
電圧を印加する。なお、この情報記録媒体への記録に際
して、情報記録媒体を例えばその支持体中に埋設した抵
抗加熱(図示せず)により加熱し、液晶を液晶相を示す
温度まで加熱すると、より液晶におけるメモリー性を向
上させることができる。
【0044】電極13、13′間に、パルスジェネレー
ター23により電圧を印加しつつ、光源21から情報光
を入射させると、光が入射した部分の光導電層14で発
生した光キャリアは、両電極により形成される電界によ
り情報記録層11側の界面まで移動し、電圧の再配分が
行われ、情報記録層11における液晶相が配向し、情報
光のパターンに応じた記録が行なわれる。図においては
感光体側を正極とし、情報記録媒体側を負極としている
が、光センサーの放電特性に応じてその極性が設定され
ることはいうまでもない。
ター23により電圧を印加しつつ、光源21から情報光
を入射させると、光が入射した部分の光導電層14で発
生した光キャリアは、両電極により形成される電界によ
り情報記録層11側の界面まで移動し、電圧の再配分が
行われ、情報記録層11における液晶相が配向し、情報
光のパターンに応じた記録が行なわれる。図においては
感光体側を正極とし、情報記録媒体側を負極としている
が、光センサーの放電特性に応じてその極性が設定され
ることはいうまでもない。
【0045】印加電圧を設定するにあたっては、液晶材
料によっては低電圧で作動するものもあるので、光セン
サー、空気ギャップ、情報記録媒体のそれぞれの電圧配
分を適宜設定して、情報記録層にかかる電圧をその作動
電圧領域に設定するとよい。この光センサーによる情報
記録は、面状アナログ記録が可能であり、また液晶相の
配向が静電電荷レベルで配向させることができるので、
銀塩写真法と同様の高解像度が得られ、また、露光パタ
ーンは液晶相の配向により可視像化されて保持される。
料によっては低電圧で作動するものもあるので、光セン
サー、空気ギャップ、情報記録媒体のそれぞれの電圧配
分を適宜設定して、情報記録層にかかる電圧をその作動
電圧領域に設定するとよい。この光センサーによる情報
記録は、面状アナログ記録が可能であり、また液晶相の
配向が静電電荷レベルで配向させることができるので、
銀塩写真法と同様の高解像度が得られ、また、露光パタ
ーンは液晶相の配向により可視像化されて保持される。
【0046】本発明の第1の情報記録媒体への情報入力
方法としては、カメラによる方法、またレーザーによる
記録方法がある。カメラによる方法としては、通常のカ
メラに使用されている写真フィルムの代わりに情報記録
媒体が使用され、記録部材とするもので、光学的なシャ
ッタも使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しう
るものである。また、プリズム及びカラーフィルターに
より光情報を、R、G、B光成分に分離し、平行光とし
て取り出しR、G、B分解した情報記録媒体3セットで
1コマを形成するか、または1平面上にR、G、B像を
並べて1セットで1コマとすることにより、カラー撮影
することもできる。
方法としては、カメラによる方法、またレーザーによる
記録方法がある。カメラによる方法としては、通常のカ
メラに使用されている写真フィルムの代わりに情報記録
媒体が使用され、記録部材とするもので、光学的なシャ
ッタも使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しう
るものである。また、プリズム及びカラーフィルターに
より光情報を、R、G、B光成分に分離し、平行光とし
て取り出しR、G、B分解した情報記録媒体3セットで
1コマを形成するか、または1平面上にR、G、B像を
並べて1セットで1コマとすることにより、カラー撮影
することもできる。
【0047】また、レーザーによる記録方法としては、
光源としてはアルゴンレーザー(514.488n
m)、ヘリウム−ネオンレーザー(633nm)、半導
体レーザー(780nm、810nm等)が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のON−OFF制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターON−OFF制御をかけて形成す
るものである。
光源としてはアルゴンレーザー(514.488n
m)、ヘリウム−ネオンレーザー(633nm)、半導
体レーザー(780nm、810nm等)が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のON−OFF制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターON−OFF制御をかけて形成す
るものである。
【0048】情報記録媒体に記録された静電情報は、図
3に示すように、透過光により情報を再生すると、情報
記録部では液晶が電界方向に配向するために光Aは透過
するのに対して、情報を記録していない部位においては
光Bは散乱し、情報記録部とのコントラストがとれる。
液晶の配向により記録された情報は、目視による読み取
りが可能な可視情報であるが、投影機により拡大して読
み取ることもでき、レーザースキャニング、或いはCC
Dを用いて読み取りをすることにより高精度で情報を読
み取ることができ、必要に応じてシュリーレン光学系を
用いることにより散乱光を防ぐことができる。更に、上
述したように、電極層自体を光反射性とするか、または
電極層に光反射層を積層することにより、反射光により
読み取ることができる。
3に示すように、透過光により情報を再生すると、情報
記録部では液晶が電界方向に配向するために光Aは透過
するのに対して、情報を記録していない部位においては
光Bは散乱し、情報記録部とのコントラストがとれる。
液晶の配向により記録された情報は、目視による読み取
りが可能な可視情報であるが、投影機により拡大して読
み取ることもでき、レーザースキャニング、或いはCC
Dを用いて読み取りをすることにより高精度で情報を読
み取ることができ、必要に応じてシュリーレン光学系を
用いることにより散乱光を防ぐことができる。更に、上
述したように、電極層自体を光反射性とするか、または
電極層に光反射層を積層することにより、反射光により
読み取ることができる。
【0049】次に、本発明の第2の情報記録媒体につい
て説明する。第2の情報記録媒体は、第1の情報記録媒
体に光導電層を組み込んだものであり、情報記録に際し
ては光センサー等を必要とせず、それ自体で情報記録が
可能なものである。図1(b)は、その断面を模式的に
説明するための図で、図中3は情報記録媒体、11は情
報記録層、13、13′は電極層、14は光導電層、1
5は基板である。
て説明する。第2の情報記録媒体は、第1の情報記録媒
体に光導電層を組み込んだものであり、情報記録に際し
ては光センサー等を必要とせず、それ自体で情報記録が
可能なものである。図1(b)は、その断面を模式的に
説明するための図で、図中3は情報記録媒体、11は情
報記録層、13、13′は電極層、14は光導電層、1
5は基板である。
【0050】電極13′上に積層される光導電層14
は、単層系のものと電荷発生層及び電荷輸送層を積層し
た積層系のものがある。光導電層は、一般には光が照射
されると照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生
し、それらのキャリアが層幅を移動することができる機
能を有するものであり、特に電界が存在する場合にその
効果が顕著である層であるが、特に、光導電層への光照
射時において情報記録層に付与される電界が光照射につ
れて増幅され、また光照射を終了した後でも電圧を印加
し続けるとその導電性を持続し、引続き電界を情報記録
媒体に付与し続ける作用を有するものが好ましい。
は、単層系のものと電荷発生層及び電荷輸送層を積層し
た積層系のものがある。光導電層は、一般には光が照射
されると照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生
し、それらのキャリアが層幅を移動することができる機
能を有するものであり、特に電界が存在する場合にその
効果が顕著である層であるが、特に、光導電層への光照
射時において情報記録層に付与される電界が光照射につ
れて増幅され、また光照射を終了した後でも電圧を印加
し続けるとその導電性を持続し、引続き電界を情報記録
媒体に付与し続ける作用を有するものが好ましい。
【0051】まず、単層系の光導電層は、無機光導電性
物質または有機光導電性物質から形成される。無機光導
電性物質としてはSe、Se−Te、ZnO、Ti
O2、Si、CdS等が挙げられ、蒸着法、スパッタ
法、CVD法等により電極層上に、単独または混合系で
5〜30μm、好ましくは20〜30μmの膜厚で積層
される。また、前述の無機光導電体を微粒子として、有
機絶縁性樹脂、例えばシリコーン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジエン樹
脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等に分散
させて光導電層としてもよく、この場合樹脂1重量部に
対して光導電性微粒子を0.1〜10重量部、好ましく
は1〜5重量部の割合で分散させたものとするとよい。
物質または有機光導電性物質から形成される。無機光導
電性物質としてはSe、Se−Te、ZnO、Ti
O2、Si、CdS等が挙げられ、蒸着法、スパッタ
法、CVD法等により電極層上に、単独または混合系で
5〜30μm、好ましくは20〜30μmの膜厚で積層
される。また、前述の無機光導電体を微粒子として、有
機絶縁性樹脂、例えばシリコーン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジエン樹
脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等に分散
させて光導電層としてもよく、この場合樹脂1重量部に
対して光導電性微粒子を0.1〜10重量部、好ましく
は1〜5重量部の割合で分散させたものとするとよい。
【0052】また、有機光導電性物質は高分子光導電性
物質、及び低分子光導電物質の絶縁性バインダー中への
分散物がある。高分子光導電性物質としては、例えばポ
リビニルカルバゾール(PVK)、PVKにおけるビニ
ル基の代わりにアリル基、アクリロキシアルキル基のエ
チレン性不飽和基が含まれたポリ−N−エチレン性不飽
和基置換カルバゾール類、また、ポリ−N−アクリルフ
ェノチアジン、ポリ−N−(β−アクリロキシ)フェノ
チアジン等のポリ−N−エチレン性不飽和基置換フェノ
チアジン類、ポリビニルピレン等がある。中でもポリ−
N−エチレン性不飽和基置換カルバゾール類、特にポリ
ビニルカルバゾールが好ましく用いられる。
物質、及び低分子光導電物質の絶縁性バインダー中への
分散物がある。高分子光導電性物質としては、例えばポ
リビニルカルバゾール(PVK)、PVKにおけるビニ
ル基の代わりにアリル基、アクリロキシアルキル基のエ
チレン性不飽和基が含まれたポリ−N−エチレン性不飽
和基置換カルバゾール類、また、ポリ−N−アクリルフ
ェノチアジン、ポリ−N−(β−アクリロキシ)フェノ
チアジン等のポリ−N−エチレン性不飽和基置換フェノ
チアジン類、ポリビニルピレン等がある。中でもポリ−
N−エチレン性不飽和基置換カルバゾール類、特にポリ
ビニルカルバゾールが好ましく用いられる。
【0053】また、低分子光導電物質としては、アルキ
ルアミノフェニル基等で置換されたオキサジアゾール
類、トリフェニルメタン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ブ
タジエン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられ、低分
子光導電体1重量部を、例えばシリコーン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂などの電気絶縁性樹脂0.1〜5重量部、好まし
くは0.1〜1重量部中に分散させて、皮膜形成性の有
機光導電物質としてもよい。これらの有機光導電性物質
の乾燥後膜厚は5〜30μm、好ましくは10〜30μ
mで電極上に積層される。
ルアミノフェニル基等で置換されたオキサジアゾール
類、トリフェニルメタン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ブ
タジエン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられ、低分
子光導電体1重量部を、例えばシリコーン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂などの電気絶縁性樹脂0.1〜5重量部、好まし
くは0.1〜1重量部中に分散させて、皮膜形成性の有
機光導電物質としてもよい。これらの有機光導電性物質
の乾燥後膜厚は5〜30μm、好ましくは10〜30μ
mで電極上に積層される。
【0054】また、有機光導電性層には、必要に応じて
特願平4−287983号に記載した持続導電性付与剤
が添加される。上述の有機光導電層は、それ自体持続導
電性を有するが、この持続導電性付与剤は、上述の有機
光導電層における持続導電性を強化させることを目的と
して添加されるものである。持続導電性付与剤は、有機
光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量部、
好ましくは0.001〜0.1重量部の割合で添加され
る。持続導電性付与剤の添加量が1重量部を越えると、
光導電層としての増幅機能が著しく低下するので好まし
くない。また、持続導電性付与物質は、分光感度が可視
光にないものもあり、可視光領域の光情報を利用する場
合には、可視光領域に感度をもたすために電子受容性物
質、増感色素等を更に添加することができる。電子受容
性物質としては、例えばニトロ置換ベンゼン、ジアノ置
換ベンゼン、ハロゲン置換ベンゼン、キノン類、トリニ
トロフルオレノン等がある。また増感色素としてはトリ
フェニルメタン色素、ピリリウム塩色素、キサンテン色
素などが挙げられる。電子受容性物質、増感色素等は、
有機光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量
部、好ましくは0.01〜1重量部の割合で添加され
る。同時に光情報が赤外領域にある場合には、フタロシ
アニン等の顔料、ピロール系、シアニン系等の色素を同
量程度添加するとよく、逆に紫外領域にあるいはそれ以
下の波長域に情報光がある場合には、それぞれの波長吸
収物質を同量添加することで目的が達成される。
特願平4−287983号に記載した持続導電性付与剤
が添加される。上述の有機光導電層は、それ自体持続導
電性を有するが、この持続導電性付与剤は、上述の有機
光導電層における持続導電性を強化させることを目的と
して添加されるものである。持続導電性付与剤は、有機
光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量部、
好ましくは0.001〜0.1重量部の割合で添加され
る。持続導電性付与剤の添加量が1重量部を越えると、
光導電層としての増幅機能が著しく低下するので好まし
くない。また、持続導電性付与物質は、分光感度が可視
光にないものもあり、可視光領域の光情報を利用する場
合には、可視光領域に感度をもたすために電子受容性物
質、増感色素等を更に添加することができる。電子受容
性物質としては、例えばニトロ置換ベンゼン、ジアノ置
換ベンゼン、ハロゲン置換ベンゼン、キノン類、トリニ
トロフルオレノン等がある。また増感色素としてはトリ
フェニルメタン色素、ピリリウム塩色素、キサンテン色
素などが挙げられる。電子受容性物質、増感色素等は、
有機光導電性物質1重量部に対して0.001〜1重量
部、好ましくは0.01〜1重量部の割合で添加され
る。同時に光情報が赤外領域にある場合には、フタロシ
アニン等の顔料、ピロール系、シアニン系等の色素を同
量程度添加するとよく、逆に紫外領域にあるいはそれ以
下の波長域に情報光がある場合には、それぞれの波長吸
収物質を同量添加することで目的が達成される。
【0055】次に、積層系光導電層は、電極上に電荷発
生層、電荷輸送層を順次積層して形成され、無機材料系
光導電層と有機材料系光導電層とがある。無機系におけ
る電荷発生層は、Se−Te、硫黄や酸素等をドープし
たSi等を蒸着法、スパッタ法、CVD法等により電極
上に、0.05μm〜1μmの膜厚に積層される。次い
で、この電荷発生層上に電荷輸送層として、Se、As
2Se3 、Si、メタン等をドープしたSi等を同様にし
て10μm〜50μmの膜厚に積層して形成するとよ
い。
生層、電荷輸送層を順次積層して形成され、無機材料系
光導電層と有機材料系光導電層とがある。無機系におけ
る電荷発生層は、Se−Te、硫黄や酸素等をドープし
たSi等を蒸着法、スパッタ法、CVD法等により電極
上に、0.05μm〜1μmの膜厚に積層される。次い
で、この電荷発生層上に電荷輸送層として、Se、As
2Se3 、Si、メタン等をドープしたSi等を同様にし
て10μm〜50μmの膜厚に積層して形成するとよ
い。
【0056】次に、有機系における電荷発生層は電荷発
生物質とバインダーからなり、電荷発生物質としては、
フルオレノンアゾ系顔料、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系
顔料、ピロール系顔料、アズレニウム塩系顔料、フタロ
シアニン系顔料、多環芳香族系顔料、ピリリウム塩系色
素、トリアゾ系顔料、スクアリリウム塩系色素、ペリレ
ン系顔料、アントアントロン顔料、シアニン顔料、多環
キノン顔料、イミダゾール顔料等が挙げられ、具体的に
は特願平4−287983号に記載した公報記載の電荷
発生物質が挙げられる。
生物質とバインダーからなり、電荷発生物質としては、
フルオレノンアゾ系顔料、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系
顔料、ピロール系顔料、アズレニウム塩系顔料、フタロ
シアニン系顔料、多環芳香族系顔料、ピリリウム塩系色
素、トリアゾ系顔料、スクアリリウム塩系色素、ペリレ
ン系顔料、アントアントロン顔料、シアニン顔料、多環
キノン顔料、イミダゾール顔料等が挙げられ、具体的に
は特願平4−287983号に記載した公報記載の電荷
発生物質が挙げられる。
【0057】バインダーとしては、例えばシリコーン樹
脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、飽和または不飽和ポリエステル樹
脂、PMMA樹脂、塩ビ樹脂、酢ビ樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂等が挙げられ、上記電荷発生物質をバインダー中
に分散して形成される。電荷発生剤として好ましくはフ
ルオレノンアゾ顔料、ビスアゾ顔料であり、またバイン
ダーとして好ましくはポリエステル樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂が挙げられる。これらの電荷発生剤とバインダー
の混合比は、電荷発生剤1重量部に対してバインダーを
0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜1重量部の割
合で使用するとことが望ましい。電荷発生層は乾燥後膜
厚として0.01〜1μmであり、好ましくは0.1〜
0.3μmとするとよい。
脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、飽和または不飽和ポリエステル樹
脂、PMMA樹脂、塩ビ樹脂、酢ビ樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂等が挙げられ、上記電荷発生物質をバインダー中
に分散して形成される。電荷発生剤として好ましくはフ
ルオレノンアゾ顔料、ビスアゾ顔料であり、またバイン
ダーとして好ましくはポリエステル樹脂、塩ビ−酢ビ混
合樹脂が挙げられる。これらの電荷発生剤とバインダー
の混合比は、電荷発生剤1重量部に対してバインダーを
0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜1重量部の割
合で使用するとことが望ましい。電荷発生層は乾燥後膜
厚として0.01〜1μmであり、好ましくは0.1〜
0.3μmとするとよい。
【0058】電荷輸送層は電荷輸送物質とバインダーと
からなる。電荷輸送物質は、電荷発生物質で発生した電
荷の輸送特性が良い物質であり、例えばヒドラゾン系、
ピラゾリン系、PVK系カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、ブタジエン系、スチルベン系、多環
芳香族化合物系等があり、ホール輸送性の良い物質とす
ることが必要である。好ましくは、ブタジエン系、スチ
ルベン系電荷輸送剤が挙げられ、具体的には特願平4−
287983号に記載した公報記載の電荷輸送材料が挙
げられる。
からなる。電荷輸送物質は、電荷発生物質で発生した電
荷の輸送特性が良い物質であり、例えばヒドラゾン系、
ピラゾリン系、PVK系カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、ブタジエン系、スチルベン系、多環
芳香族化合物系等があり、ホール輸送性の良い物質とす
ることが必要である。好ましくは、ブタジエン系、スチ
ルベン系電荷輸送剤が挙げられ、具体的には特願平4−
287983号に記載した公報記載の電荷輸送材料が挙
げられる。
【0059】バインダーとしては、上記した電荷発生層
におけるバインダーと同様のものが使用できるが、好ま
しくはポリビニルアセタール樹脂、スチレン樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂である。バインダーは、
電荷輸送剤1重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜1重量部の割合で使用することが望まし
い。電荷輸送層は乾燥後膜厚として1〜50μmであ
り、好ましくは10〜30μmとするとよい。
におけるバインダーと同様のものが使用できるが、好ま
しくはポリビニルアセタール樹脂、スチレン樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂である。バインダーは、
電荷輸送剤1重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜1重量部の割合で使用することが望まし
い。電荷輸送層は乾燥後膜厚として1〜50μmであ
り、好ましくは10〜30μmとするとよい。
【0060】これらの電荷発生物質と電荷輸送物質の組
合せとしては、例えばフルオレノンアゾ顔料(電荷発生
物質)とスチルベン系の電荷輸送剤の組合せ、ビスアゾ
系顔料(電荷発生物質)とブタジエン系、ヒドラゾン系
の電荷輸送剤の組合せ等が良好である。
合せとしては、例えばフルオレノンアゾ顔料(電荷発生
物質)とスチルベン系の電荷輸送剤の組合せ、ビスアゾ
系顔料(電荷発生物質)とブタジエン系、ヒドラゾン系
の電荷輸送剤の組合せ等が良好である。
【0061】また、単層系光導電層の項で説明した持続
導電性付与剤、及び電子受容性物をこの積層系光導電層
における電荷発生層、電荷輸送層中にそれぞれ同様の割
合で添加することができるが、好ましくは電荷発生層中
に添加するとよい。
導電性付与剤、及び電子受容性物をこの積層系光導電層
における電荷発生層、電荷輸送層中にそれぞれ同様の割
合で添加することができるが、好ましくは電荷発生層中
に添加するとよい。
【0062】また、単層系光導電層、積層系光導電層を
有機光導電層とする場合には、溶剤としてジクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジオキサ
ン、1,2,3−トリクロロプロパン、エチルセルソル
ブ、1,1,1,−トリクロロエタン、メチルエチルケ
トン、クロロホルム、トルエン等を使用して塗布溶液と
するとよく、塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ディッピング法、スピンナーコーティング法等が挙
げられる。
有機光導電層とする場合には、溶剤としてジクロロエタ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジオキサ
ン、1,2,3−トリクロロプロパン、エチルセルソル
ブ、1,1,1,−トリクロロエタン、メチルエチルケ
トン、クロロホルム、トルエン等を使用して塗布溶液と
するとよく、塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ディッピング法、スピンナーコーティング法等が挙
げられる。
【0063】また、光導電層は、電荷注入制御層を介し
て電極上に設けられてもよい。電荷注入制御層は、必要
に応じて設けられるもので、電極から光導電層への電荷
注入性を制御して情報記録媒体に実質的に印加される電
圧を調節するために設けられるものであるが、本発明の
情報記録媒体においては、情報記録層における液晶の動
作電圧領域に光導電層の感度を設定することが必要であ
る。即ち、露光部において情報記録層に印加される電位
(明電位)と未露光部において情報記録層に印加される
電位(暗電位)との差(コントラスト電位)を、液晶の
動作領域において大きく取ることが必要であるからであ
る。
て電極上に設けられてもよい。電荷注入制御層は、必要
に応じて設けられるもので、電極から光導電層への電荷
注入性を制御して情報記録媒体に実質的に印加される電
圧を調節するために設けられるものであるが、本発明の
情報記録媒体においては、情報記録層における液晶の動
作電圧領域に光導電層の感度を設定することが必要であ
る。即ち、露光部において情報記録層に印加される電位
(明電位)と未露光部において情報記録層に印加される
電位(暗電位)との差(コントラスト電位)を、液晶の
動作領域において大きく取ることが必要であるからであ
る。
【0064】そのため、例えば光導電層の未露光部の液
晶層にかかる暗電位は液晶の動作開始電位程度に設定す
る必要があり、光導電層バルクに105 V/cm〜10
6 V/cmの電界が与えられた状態で10-4〜10-8A
/cm2 の暗電流が生じる程度の導電性が要求され、好
ましくは10-5〜10-6A/cm2 の範囲が好ましい。
暗電流が10-8A/cm2 以下の光導電層では液晶層が
露光状態でも配向せず、また10-4A/cm2 以上の暗
電流の光導電層では未露光状態でも電圧印加と同時に電
流が多く流れ、情報記録層における液晶が配向していま
い、露光したとしてもその透過率の差がえられない。電
荷注入制御層は、このような情報記録媒体の特性との関
係で適宜設けられる。光導電層における暗電位を低く抑
えることが必要な場合には、電荷注入制御層は電荷注入
防止性を有する層とされる。電荷注入防止層は、いわゆ
るトンネリング効果を利用した層と整流効果を利用した
層との二種類のものがあり、特願平4−287983号
に記載したものを使用できる。
晶層にかかる暗電位は液晶の動作開始電位程度に設定す
る必要があり、光導電層バルクに105 V/cm〜10
6 V/cmの電界が与えられた状態で10-4〜10-8A
/cm2 の暗電流が生じる程度の導電性が要求され、好
ましくは10-5〜10-6A/cm2 の範囲が好ましい。
暗電流が10-8A/cm2 以下の光導電層では液晶層が
露光状態でも配向せず、また10-4A/cm2 以上の暗
電流の光導電層では未露光状態でも電圧印加と同時に電
流が多く流れ、情報記録層における液晶が配向していま
い、露光したとしてもその透過率の差がえられない。電
荷注入制御層は、このような情報記録媒体の特性との関
係で適宜設けられる。光導電層における暗電位を低く抑
えることが必要な場合には、電荷注入制御層は電荷注入
防止性を有する層とされる。電荷注入防止層は、いわゆ
るトンネリング効果を利用した層と整流効果を利用した
層との二種類のものがあり、特願平4−287983号
に記載したものを使用できる。
【0065】次に、光導電層14上には、上記第1の情
報記録媒体の項で説明した情報記録層11が、上記の第
1の情報記録媒体と同様にして積層される。
報記録媒体の項で説明した情報記録層11が、上記の第
1の情報記録媒体と同様にして積層される。
【0066】なお、第2の情報記録媒体における情報記
録層においては、その情報記録層表面からの液晶の滲み
出しのないものとできるので、情報記録層表面に直接、
電極層13をスパッタ法により蒸着形成することが可能
であり、絶縁性が高く、また情報記録にあたって、ノイ
ズのない情報記録層とすることができる。
録層においては、その情報記録層表面からの液晶の滲み
出しのないものとできるので、情報記録層表面に直接、
電極層13をスパッタ法により蒸着形成することが可能
であり、絶縁性が高く、また情報記録にあたって、ノイ
ズのない情報記録層とすることができる。
【0067】電極層13、13′は、上述の第1の情報
記録媒体における電極層と同様の材料及び形成方法を採
用することができるが、透過光で記録情報を読み取る場
合には、透明性が要求され、また反射光で読み取る場合
には、何れか一方の電極層を光反射性とするか、また何
れか一方の電極層に誘電体ミラー層等の光反射層を積層
するとよい。また、情報記録層上の電極13上には基板
を積層してもよい。
記録媒体における電極層と同様の材料及び形成方法を採
用することができるが、透過光で記録情報を読み取る場
合には、透明性が要求され、また反射光で読み取る場合
には、何れか一方の電極層を光反射性とするか、また何
れか一方の電極層に誘電体ミラー層等の光反射層を積層
するとよい。また、情報記録層上の電極13上には基板
を積層してもよい。
【0068】次に、この第2の情報記録媒体において
は、光導電層14と情報記録層11との間に透明絶縁層
を設けてもよい。透明絶縁層を設ける場合は、光導電層
が溶媒を使用して形成される有機感光層の場合に特に適
しており、光導電層と情報記録層の相互作用により情報
記録層における液晶が溶出したり、又、情報記録層を光
導電層上に塗布形成する際に、情報記録層形成用の溶媒
により光導電材料が溶出し、画像ムラが生じるのを防止
することを目的として設けられる。透明絶縁層は、その
形成にあたって、有機光導電層形成材料、情報記録層形
成材料のいずれに対しても相溶性を有しないことが必要
であり、また導電性を有する場合には空間電荷の拡散が
生じ、解像度の劣化が生じることから絶縁性が要求され
る。しかしながら、透明絶縁層は液晶層にかかる分配電
圧を低下させたり、或いは解像性を悪化させるので、そ
の膜厚は薄い方が好ましく、2μm以下とするとよい。
また、薄くすることにより、経時的な相互作用による画
像ノイズの発生ばかりでなく、積層塗布する時にピンホ
ール等の欠陥による浸透の問題が生じる。浸透性は積層
塗布する材料の固形分比率、溶媒の種類、粘度により異
なることから、積層塗布されるものについてその膜厚は
適宜設定される。また、これらの問題を防止するために
下記材料を積層して用いることもできる。さらに、各層
に掛かる電圧分配を考慮した場合、薄膜化と共に誘電率
の高い材料が好ましい。
は、光導電層14と情報記録層11との間に透明絶縁層
を設けてもよい。透明絶縁層を設ける場合は、光導電層
が溶媒を使用して形成される有機感光層の場合に特に適
しており、光導電層と情報記録層の相互作用により情報
記録層における液晶が溶出したり、又、情報記録層を光
導電層上に塗布形成する際に、情報記録層形成用の溶媒
により光導電材料が溶出し、画像ムラが生じるのを防止
することを目的として設けられる。透明絶縁層は、その
形成にあたって、有機光導電層形成材料、情報記録層形
成材料のいずれに対しても相溶性を有しないことが必要
であり、また導電性を有する場合には空間電荷の拡散が
生じ、解像度の劣化が生じることから絶縁性が要求され
る。しかしながら、透明絶縁層は液晶層にかかる分配電
圧を低下させたり、或いは解像性を悪化させるので、そ
の膜厚は薄い方が好ましく、2μm以下とするとよい。
また、薄くすることにより、経時的な相互作用による画
像ノイズの発生ばかりでなく、積層塗布する時にピンホ
ール等の欠陥による浸透の問題が生じる。浸透性は積層
塗布する材料の固形分比率、溶媒の種類、粘度により異
なることから、積層塗布されるものについてその膜厚は
適宜設定される。また、これらの問題を防止するために
下記材料を積層して用いることもできる。さらに、各層
に掛かる電圧分配を考慮した場合、薄膜化と共に誘電率
の高い材料が好ましい。
【0069】このような透明絶縁層は、無機材料として
SiO2 、TiO2、CeO2、Al2O3 、GeO2、Si3N4 、AlN 、Ti
N 、MgF2、ZnS 等を使用し、蒸着法、スパッタ法、ケミ
カル・ベーパー・デポジション(CVD)法等により積
層して形成してもよい。また、有機溶剤に対して相溶性
の少ない水溶性樹脂としてポリビニルアルコール、水系
ポリウレタン、水ガラス等の水溶液を使用し、スピンコ
ート法、ブレードコート法、ロールコート法等により積
層してもよい。更に、塗布可能な弗素樹脂を使用しても
よく、この場合には弗素系溶剤に溶解し、スピンコート
法により塗布するか、またブレードコート法、ロールコ
ート法等により積層してもよい。塗布可能な弗素樹脂と
しては、特願平4−24722号に記載した弗素樹脂を
好適に使用することができる。塗布型の透明絶縁材料を
選択する際には、その溶媒が光導電層を溶解しない、且
つ、情報記録層を塗布形成する際に情報記録層を構成す
る材料に溶解しない、或いは塗布する際の溶媒に溶解し
ないことが必要である。
SiO2 、TiO2、CeO2、Al2O3 、GeO2、Si3N4 、AlN 、Ti
N 、MgF2、ZnS 等を使用し、蒸着法、スパッタ法、ケミ
カル・ベーパー・デポジション(CVD)法等により積
層して形成してもよい。また、有機溶剤に対して相溶性
の少ない水溶性樹脂としてポリビニルアルコール、水系
ポリウレタン、水ガラス等の水溶液を使用し、スピンコ
ート法、ブレードコート法、ロールコート法等により積
層してもよい。更に、塗布可能な弗素樹脂を使用しても
よく、この場合には弗素系溶剤に溶解し、スピンコート
法により塗布するか、またブレードコート法、ロールコ
ート法等により積層してもよい。塗布可能な弗素樹脂と
しては、特願平4−24722号に記載した弗素樹脂を
好適に使用することができる。塗布型の透明絶縁材料を
選択する際には、その溶媒が光導電層を溶解しない、且
つ、情報記録層を塗布形成する際に情報記録層を構成す
る材料に溶解しない、或いは塗布する際の溶媒に溶解し
ないことが必要である。
【0070】また、真空系で膜形成される有機材料の場
合は、膜形成時に光導電層を溶解する恐れはない。この
うち蒸着法により膜形成される材料としてはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ(モノクロロトリフルオロエ
チレン)、ポリテトラフルオロエチレン等を使用でき、
また、CVD法により膜形成される材料としては特願平
4−24722号に具体的に記載したポリパラキシレン
等を使用することができる。なお、光導電層が無機材料
より形成され、情報記録層との液晶滲み出し等の相互作
用がない場合には、透明絶縁層を設ける必要はない。
合は、膜形成時に光導電層を溶解する恐れはない。この
うち蒸着法により膜形成される材料としてはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ(モノクロロトリフルオロエ
チレン)、ポリテトラフルオロエチレン等を使用でき、
また、CVD法により膜形成される材料としては特願平
4−24722号に具体的に記載したポリパラキシレン
等を使用することができる。なお、光導電層が無機材料
より形成され、情報記録層との液晶滲み出し等の相互作
用がない場合には、透明絶縁層を設ける必要はない。
【0071】次に、本発明の第3の情報記録媒体につい
て説明する。第3の情報記録媒体は、第2の情報記録媒
体における光導電層と情報記録層の間に絶縁性光反射層
を設けたもので、記録情報を反射光で読み取るものであ
る。
て説明する。第3の情報記録媒体は、第2の情報記録媒
体における光導電層と情報記録層の間に絶縁性光反射層
を設けたもので、記録情報を反射光で読み取るものであ
る。
【0072】次に、本発明の第2の情報記録媒体への情
報記録方法について図4により説明する。
報記録方法について図4により説明する。
【0073】まず、電源により電極13、13′間に電
圧を印加しつつ、情報光18が入射すると、光が入射し
た部分の光導電層14で発生した光キャリアは、両電極
により形成される電界により移動し、電圧の再配分が行
われることで情報記録層における液晶相が配向し、情報
光18のパターンに応じた記録が行なわれる。なお、情
報光18を入射しつつ、電圧を所定時間印加してもよ
い。
圧を印加しつつ、情報光18が入射すると、光が入射し
た部分の光導電層14で発生した光キャリアは、両電極
により形成される電界により移動し、電圧の再配分が行
われることで情報記録層における液晶相が配向し、情報
光18のパターンに応じた記録が行なわれる。なお、情
報光18を入射しつつ、電圧を所定時間印加してもよ
い。
【0074】液晶によって作動電圧及び範囲が異なるも
のもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定するに
あたっては、情報記録媒体における電圧配分を適宜設定
し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電圧領域
に設定するとよい。
のもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定するに
あたっては、情報記録媒体における電圧配分を適宜設定
し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電圧領域
に設定するとよい。
【0075】この情報記録方法は、面状アナログ記録が
可能であり、液晶粒子レベルでの記録が得られるので高
解像度が得られ、また露光パターンは液晶相の配向によ
り可視像化されて保持される。また、情報入力方法とし
ては、第1の情報記録媒体の項で説明した、カメラによ
る方法、またレーザーによる方法と同様の方法が使用で
きる。また、レーザーによる記録方法としても同様に行
うことができる。また、光導電層の分光特性は、パンク
ロマティックである必要はなく、レーザー光源の波長に
感度を有していればよい。第2の情報記録媒体に記録さ
れた情報は、透過光で読み取る場合には、図3に示した
第1の情報記録媒体の場合と同様にして再生され、ま
た、反射光で読み取る場合にも同様である。
可能であり、液晶粒子レベルでの記録が得られるので高
解像度が得られ、また露光パターンは液晶相の配向によ
り可視像化されて保持される。また、情報入力方法とし
ては、第1の情報記録媒体の項で説明した、カメラによ
る方法、またレーザーによる方法と同様の方法が使用で
きる。また、レーザーによる記録方法としても同様に行
うことができる。また、光導電層の分光特性は、パンク
ロマティックである必要はなく、レーザー光源の波長に
感度を有していればよい。第2の情報記録媒体に記録さ
れた情報は、透過光で読み取る場合には、図3に示した
第1の情報記録媒体の場合と同様にして再生され、ま
た、反射光で読み取る場合にも同様である。
【0076】図1(c)は、その断面を模式的に説明す
るための図で、図中3は情報記録媒体、11は情報記録
層、12は絶縁性光反射層、13、13′は電極層、1
4は光導電層、15は基板である。
るための図で、図中3は情報記録媒体、11は情報記録
層、12は絶縁性光反射層、13、13′は電極層、1
4は光導電層、15は基板である。
【0077】第3の情報記録媒体における情報記録層1
1、光導電層14は、上記の第2の情報記録媒体と同様
である。電極層13、13′、基板15は、共に透明性
であることが必要である。
1、光導電層14は、上記の第2の情報記録媒体と同様
である。電極層13、13′、基板15は、共に透明性
であることが必要である。
【0078】情報記録層上、または光導電層上に積層さ
れる絶縁性光反射層としては、例えば誘電体ミラー層、
光反射性を有する遮光膜等が挙げられる。誘電体ミラー
層としては、λ/4の膜厚で、例えば二酸化硅素と二酸
化チタン、または硫化亜鉛と弗化マグネシウム等の組合
せで形成されるものが挙げられる。また、光反射性を有
する遮光膜としては、例えば絶縁材料である酸化アルミ
ニウムと遮光材料であるゲルマニウムとを別々の蒸着源
より、酸化アルミニウムの蒸着速度を50Å/秒、ゲル
マニウムの蒸着速度を20Å/秒として同時に蒸着さ
せ、膜厚1μm程度としたものが挙げられる。
れる絶縁性光反射層としては、例えば誘電体ミラー層、
光反射性を有する遮光膜等が挙げられる。誘電体ミラー
層としては、λ/4の膜厚で、例えば二酸化硅素と二酸
化チタン、または硫化亜鉛と弗化マグネシウム等の組合
せで形成されるものが挙げられる。また、光反射性を有
する遮光膜としては、例えば絶縁材料である酸化アルミ
ニウムと遮光材料であるゲルマニウムとを別々の蒸着源
より、酸化アルミニウムの蒸着速度を50Å/秒、ゲル
マニウムの蒸着速度を20Å/秒として同時に蒸着さ
せ、膜厚1μm程度としたものが挙げられる。
【0079】第3の情報記録媒体に記録された情報は、
情報記録層側から反射光により読み取られる。
情報記録層側から反射光により読み取られる。
【0080】また、本発明の第1〜第3の情報記録媒体
において上述した電極層、光反射層或いは光反射防止
層、基板等のそれぞれの層間には、密着性を向上させる
ためにプライマー層を設けてもよい。
において上述した電極層、光反射層或いは光反射防止
層、基板等のそれぞれの層間には、密着性を向上させる
ためにプライマー層を設けてもよい。
【0081】プライマー層は、電極層、光反射層或いは
光反射防止層、基板のそれぞれの材質を考慮して選択さ
れ、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂等
の電離放射線硬化型樹脂を塗布し形成するか、また、無
機材料と有機材料との組合せの場合には公知のシランカ
ップリング剤、有機チタン化合物、有機アルミニウム化
合物等の有機金属化合物を使用するとよい。また、電極
層と情報記録層との間にも、プライマー層を設けてもよ
く、その材質としては上記のものを同様に使用すること
ができ、この場合の膜厚は、0.01μm〜10μmの
範囲であり、密着性を向上させると共に、膜厚を変化さ
せることにより情報記録層への印加電圧を制御できるの
で、記録可能な露光レンジを制御することができる。
光反射防止層、基板のそれぞれの材質を考慮して選択さ
れ、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂等
の電離放射線硬化型樹脂を塗布し形成するか、また、無
機材料と有機材料との組合せの場合には公知のシランカ
ップリング剤、有機チタン化合物、有機アルミニウム化
合物等の有機金属化合物を使用するとよい。また、電極
層と情報記録層との間にも、プライマー層を設けてもよ
く、その材質としては上記のものを同様に使用すること
ができ、この場合の膜厚は、0.01μm〜10μmの
範囲であり、密着性を向上させると共に、膜厚を変化さ
せることにより情報記録層への印加電圧を制御できるの
で、記録可能な露光レンジを制御することができる。
【0082】更に、本発明の第1〜第3の情報記録媒体
は、その使用態様に応じて適宜の大きさにその層幅方向
に切断されて使用されるが、その切断面においては情報
記録層内部が露出し、保存時において液晶相の滲み出し
が生じる。この滲み出し現象が生じると、情報記録をし
た際、その情報記録媒体の端部において正確な情報記録
ができないという問題が生じる。これを防止するために
は、情報記録媒体を適宜形状に切断した後、その切断面
に上記同様に樹脂層を塗布法またはラミネート法により
同様に積層し、その切断面を保護するとよい。
は、その使用態様に応じて適宜の大きさにその層幅方向
に切断されて使用されるが、その切断面においては情報
記録層内部が露出し、保存時において液晶相の滲み出し
が生じる。この滲み出し現象が生じると、情報記録をし
た際、その情報記録媒体の端部において正確な情報記録
ができないという問題が生じる。これを防止するために
は、情報記録媒体を適宜形状に切断した後、その切断面
に上記同様に樹脂層を塗布法またはラミネート法により
同様に積層し、その切断面を保護するとよい。
【0083】また、本発明の第1〜第3の情報記録媒体
は、静電情報を液晶の配向により可視化した状態で記録
するものであるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶことに
より、一旦配向し、可視化した情報は消去せず、メモリ
性が付与される。メモリーを消去するには等方相転移付
近の高温に加熱するとよく、再度情報記録に使用するこ
とができる。
は、静電情報を液晶の配向により可視化した状態で記録
するものであるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶことに
より、一旦配向し、可視化した情報は消去せず、メモリ
性が付与される。メモリーを消去するには等方相転移付
近の高温に加熱するとよく、再度情報記録に使用するこ
とができる。
【0084】
【作用及び発明の効果】本発明の第1の情報記録媒体
は、情報記録層の平均膜厚を、1μm〜30μmとする
ことにより、高感度、高コントラストの情報記録媒体と
できる。特に、膜厚を5μm〜10μmの膜厚とする
と、高感度、高コントラストを維持しつつ、動作電圧も
低くすることができる。また、情報記録層におけるスキ
ン層の膜厚を、情報記録層の膜厚の0.01%〜30%
の割合とすることにより、その表面からの液晶の滲み出
しがなく、ノイスのない情報記録を行うことができ、更
に、液晶の含有割合を40重量%〜80重量%と多くす
ることができ、高感度、高コントラストの情報記録媒体
とできるものであり、動作電圧も低くすることができ
る。
は、情報記録層の平均膜厚を、1μm〜30μmとする
ことにより、高感度、高コントラストの情報記録媒体と
できる。特に、膜厚を5μm〜10μmの膜厚とする
と、高感度、高コントラストを維持しつつ、動作電圧も
低くすることができる。また、情報記録層におけるスキ
ン層の膜厚を、情報記録層の膜厚の0.01%〜30%
の割合とすることにより、その表面からの液晶の滲み出
しがなく、ノイスのない情報記録を行うことができ、更
に、液晶の含有割合を40重量%〜80重量%と多くす
ることができ、高感度、高コントラストの情報記録媒体
とできるものであり、動作電圧も低くすることができ
る。
【0085】また、第2の情報記録媒体においては、情
報記録層表面に液晶の滲み出し現象が生じないことか
ら、その表面にスパッタ法等により電極層を設けること
ができ、その電極をひび割れ等の現象を防止できるの
で、電極層の導電性を低下させることがない。また情報
記録に際してノイズがなく、情報記録層を高抵抗のもの
とできる。また、光導電層を有するので、光センサーと
の組み合わせる必要がなく、それ自体で情報記録が可能
とできるものである。
報記録層表面に液晶の滲み出し現象が生じないことか
ら、その表面にスパッタ法等により電極層を設けること
ができ、その電極をひび割れ等の現象を防止できるの
で、電極層の導電性を低下させることがない。また情報
記録に際してノイズがなく、情報記録層を高抵抗のもの
とできる。また、光導電層を有するので、光センサーと
の組み合わせる必要がなく、それ自体で情報記録が可能
とできるものである。
【0086】また、第3の情報記録媒体は、記録された
情報を反射光により読み取る場合に適したものとでき
る。
情報を反射光により読み取る場合に適したものとでき
る。
【0087】また、本発明の第1〜第3の情報記録媒体
は、情報記録層をコーティング技術により均一に薄膜化
しうるので、大面積の情報記録媒体作製が可能であり、
また、情報を液晶分子レベルで記録できるので、高解像
度の像を記録することができる。以下、実施例を説明す
るが、実施例中、「部」は重量部、「%」は重量%を示
す。
は、情報記録層をコーティング技術により均一に薄膜化
しうるので、大面積の情報記録媒体作製が可能であり、
また、情報を液晶分子レベルで記録できるので、高解像
度の像を記録することができる。以下、実施例を説明す
るが、実施例中、「部」は重量部、「%」は重量%を示
す。
【0088】
【実施例1】充分洗浄した厚さ1.1mmのガラス基板上
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射して、膜厚が6μmで、その表面粗さR
a=50Åの情報記録層を形成し、本発明の第1の情報
記録媒体を得た。この情報記録媒体の633nmの光の
透過率は40%であった。
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射して、膜厚が6μmで、その表面粗さR
a=50Åの情報記録層を形成し、本発明の第1の情報
記録媒体を得た。この情報記録媒体の633nmの光の
透過率は40%であった。
【0089】また、得られた情報記録層切断面を熱メタ
ノールを用いて、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型
電子顕微鏡(日立製作所(株)製、S−800、100
00倍)で内部構造を観察したところ、層の表面は0.
6μm厚(膜厚の10%)の紫外線硬化型樹脂で覆わ
れ、層内部には、粒径0.1μmの樹脂粒子が充填して
いる構造を有していることがわかった。
ノールを用いて、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型
電子顕微鏡(日立製作所(株)製、S−800、100
00倍)で内部構造を観察したところ、層の表面は0.
6μm厚(膜厚の10%)の紫外線硬化型樹脂で覆わ
れ、層内部には、粒径0.1μmの樹脂粒子が充填して
いる構造を有していることがわかった。
【0090】(光センサーの作製) ・電荷発生剤として下記構造
【0091】
【化1】
【0092】を有するフルオレノンアゾ顔料(日本感光
色素社製)3部、ポリエステル樹脂(東洋紡社製、バイ
ロン200)1部、1,4−ジオキサン:シクロヘキサ
ノン=1:1の混合溶媒を使用して、固形分2%とした
100g溶液を、ペイントシェーカーで充分分散して塗
工液とし、膜厚500Å、抵抗値80Ω/cm2のIT
O膜を有するガラス基板のITO側に、2ミルのギャッ
プのブレードコーターを使用して塗布し、100℃、1
時間乾燥して、膜厚0.3μmの電荷発生層を積層し
た。
色素社製)3部、ポリエステル樹脂(東洋紡社製、バイ
ロン200)1部、1,4−ジオキサン:シクロヘキサ
ノン=1:1の混合溶媒を使用して、固形分2%とした
100g溶液を、ペイントシェーカーで充分分散して塗
工液とし、膜厚500Å、抵抗値80Ω/cm2のIT
O膜を有するガラス基板のITO側に、2ミルのギャッ
プのブレードコーターを使用して塗布し、100℃、1
時間乾燥して、膜厚0.3μmの電荷発生層を積層し
た。
【0093】この電荷発生層上に、電荷輸送剤として下
記構造
記構造
【0094】
【化2】
【0095】のパラジメチルスチルベンを25部、ポリ
スチレン樹脂(デンカ社製、HRM−3)5部、1,
1,2−トリクロロエタン102部、ジクロロメタン6
8部とを混合した塗工液を、ブレードコーターを使用し
て塗布し、80℃、2hr乾燥して電荷輸送層を積層
し、電荷発生層と電荷輸送層とからなる膜厚20μmの
光導電層を設け、光センサーを得た。
スチレン樹脂(デンカ社製、HRM−3)5部、1,
1,2−トリクロロエタン102部、ジクロロメタン6
8部とを混合した塗工液を、ブレードコーターを使用し
て塗布し、80℃、2hr乾燥して電荷輸送層を積層
し、電荷発生層と電荷輸送層とからなる膜厚20μmの
光導電層を設け、光センサーを得た。
【0096】次に、得られた光センサーと、上記で作製
した本発明の情報記録媒体とを、10μmのPETフイ
ルムをスペーサーとして対向して配置し、図2の記録装
置に組み込み、光センサー側を正、情報記録媒体側を負
として、800Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態
で、光センサー側から照度1000ルックスのハロゲン
ランプを光源とする露光を0.1秒間行い、露光終了
後、情報記録媒体を取り出し、情報記録を完了した。露
光部は透明となり、この部分の透過率は80%となり、
コントラスト比の優れるものであった。
した本発明の情報記録媒体とを、10μmのPETフイ
ルムをスペーサーとして対向して配置し、図2の記録装
置に組み込み、光センサー側を正、情報記録媒体側を負
として、800Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態
で、光センサー側から照度1000ルックスのハロゲン
ランプを光源とする露光を0.1秒間行い、露光終了
後、情報記録媒体を取り出し、情報記録を完了した。露
光部は透明となり、この部分の透過率は80%となり、
コントラスト比の優れるものであった。
【0097】また、露光方法として通常のカメラを使用
し、600Vの電圧印加状態で露出f=1.4、シャッ
タースピード1/60秒で屋外、昼間の被写体撮影を行
った。露光後、情報記録媒体を取り出したところ、ノイ
ズのない、諧調性を有する画像を透視できた。また、こ
の情報記録媒体をCCDラインセンサーを用いたスキャ
ナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで出力した
結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピーが得られ
た。
し、600Vの電圧印加状態で露出f=1.4、シャッ
タースピード1/60秒で屋外、昼間の被写体撮影を行
った。露光後、情報記録媒体を取り出したところ、ノイ
ズのない、諧調性を有する画像を透視できた。また、こ
の情報記録媒体をCCDラインセンサーを用いたスキャ
ナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで出力した
結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピーが得られ
た。
【0098】また、上記で作製した情報記録媒体におけ
る情報記録層表面に、上部電極として膜厚500ÅのI
TO膜をスパッタ法により成膜したところ、良好に成膜
可能であり、両電極間にリード線を取り付け、端子に直
流400Vの電圧を0.1秒間印加した。電圧印加前
は、633nmの光での透過率は40%であったが、電
圧印加後は90%であった。
る情報記録層表面に、上部電極として膜厚500ÅのI
TO膜をスパッタ法により成膜したところ、良好に成膜
可能であり、両電極間にリード線を取り付け、端子に直
流400Vの電圧を0.1秒間印加した。電圧印加前
は、633nmの光での透過率は40%であったが、電
圧印加後は90%であった。
【0099】
【実施例2】充分洗浄した厚さ1.1mmのガラス基板上
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(トリメチロールプロパントリアクリ
レートアクリレート、日本化薬社製、TMPTA)40
部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、メルク社製:商品名ダロキ
ュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
した後、50℃、3分間乾燥し、次いで50℃で3分間
減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2 のUV光
を照射して、膜厚が6μmで、633nmの光での透過
率が40%の本発明の第1の情報記録媒体を得た。
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(トリメチロールプロパントリアクリ
レートアクリレート、日本化薬社製、TMPTA)40
部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、メルク社製:商品名ダロキ
ュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
した後、50℃、3分間乾燥し、次いで50℃で3分間
減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2 のUV光
を照射して、膜厚が6μmで、633nmの光での透過
率が40%の本発明の第1の情報記録媒体を得た。
【0100】また、得られた情報記録層切断面を熱メタ
ノールを用いて、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型
電子顕微鏡(日立製作所(株)製、S−800、100
00倍)で内部構造を観察したところ、層の表面は0.
3μm厚(膜厚の5%)の紫外線硬化型樹脂で覆われ、
層内部には、連続相をなす液晶相中に粒径約0.1μm
の樹脂粒子が充填した構造を有していることがわかっ
た。
ノールを用いて、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型
電子顕微鏡(日立製作所(株)製、S−800、100
00倍)で内部構造を観察したところ、層の表面は0.
3μm厚(膜厚の5%)の紫外線硬化型樹脂で覆われ、
層内部には、連続相をなす液晶相中に粒径約0.1μm
の樹脂粒子が充填した構造を有していることがわかっ
た。
【0101】この情報記録媒体と、実施例1で作製した
光センサーとを、実施例1同様に10μmのPETフイ
ルムをスペーサーとして対向して配置し、図2の記録装
置に組み込み、光センサー側を正、情報記録媒体側を負
として、700Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態
で、光センサー側から照度1000ルックスのハロゲン
ランプを光源とする露光を0.1秒間行い、露光終了
後、情報記録媒体を取り出し、情報記録を完了した。露
光部は透明となり、この部分の透過率は90%となり、
コントラスト比の優れるものであった。
光センサーとを、実施例1同様に10μmのPETフイ
ルムをスペーサーとして対向して配置し、図2の記録装
置に組み込み、光センサー側を正、情報記録媒体側を負
として、700Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態
で、光センサー側から照度1000ルックスのハロゲン
ランプを光源とする露光を0.1秒間行い、露光終了
後、情報記録媒体を取り出し、情報記録を完了した。露
光部は透明となり、この部分の透過率は90%となり、
コントラスト比の優れるものであった。
【0102】また、露光方法として通常のカメラを使用
し、700Vの電圧印加状態で、光センサー側から照度
2000ルックス、露出f=4、シャッタースピード1
/30秒で被写体撮影を行った。露光後、情報記録媒体
を取り出したところ、ノイズのない、諧調性を有する画
像を透視できた。また、この情報記録媒体をCCDライ
ンセンサーを用いたスキャナーにより読み取り、更に、
昇華プリンターで出力した結果、諧調性を有し、高解像
度のハードコピーが得られた。
し、700Vの電圧印加状態で、光センサー側から照度
2000ルックス、露出f=4、シャッタースピード1
/30秒で被写体撮影を行った。露光後、情報記録媒体
を取り出したところ、ノイズのない、諧調性を有する画
像を透視できた。また、この情報記録媒体をCCDライ
ンセンサーを用いたスキャナーにより読み取り、更に、
昇華プリンターで出力した結果、諧調性を有し、高解像
度のハードコピーが得られた。
【0103】また、上記で作製した情報記録媒体におけ
る情報記録層表面に、上部電極として膜厚500ÅのI
TO膜をスパッタ法により成膜したところ、良好に成膜
可能であり、両電極間にリード線を取り付け、端子に直
流400Vの電圧を0.1秒間印加した。電圧印加前
は、633nmの光での透過率は40%であったが、電
圧印加後は80%であった。
る情報記録層表面に、上部電極として膜厚500ÅのI
TO膜をスパッタ法により成膜したところ、良好に成膜
可能であり、両電極間にリード線を取り付け、端子に直
流400Vの電圧を0.1秒間印加した。電圧印加前
は、633nmの光での透過率は40%であったが、電
圧印加後は80%であった。
【0104】
【実施例3】充分洗浄した厚さ1.1mmのガラス基板上
に、膜厚1000Åのアルミニウム膜を蒸着法により成
膜し、電極層を得た。この電極層上に、実施例1同様に
して情報記録層を積層して、本発明の第1の情報記録媒
体を作製し、実施例1同様にして情報記録を行なった
後、反射光により情報を再生したところ、実施例1の媒
体同様のハードコピーが得られた。
に、膜厚1000Åのアルミニウム膜を蒸着法により成
膜し、電極層を得た。この電極層上に、実施例1同様に
して情報記録層を積層して、本発明の第1の情報記録媒
体を作製し、実施例1同様にして情報記録を行なった
後、反射光により情報を再生したところ、実施例1の媒
体同様のハードコピーが得られた。
【0105】
【実施例4】実施例1で作製した光センサーにおける光
導電層上に、含フッ素樹脂サイトップ(商品名;旭硝子
(株)製、吸水率0.01%、比抵抗1×1018Ω・c
m)をパーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)
に溶解し、その4.5%溶液をスピンナーで1500r
pm、20秒の条件で塗布し、80℃、1hr乾燥後、
膜厚1μmの透明絶縁層を形成した。
導電層上に、含フッ素樹脂サイトップ(商品名;旭硝子
(株)製、吸水率0.01%、比抵抗1×1018Ω・c
m)をパーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)
に溶解し、その4.5%溶液をスピンナーで1500r
pm、20秒の条件で塗布し、80℃、1hr乾燥後、
膜厚1μmの透明絶縁層を形成した。
【0106】次に、この透明絶縁層上に、実施例1同様
に6μm厚の情報記録層を形成し、更にこの情報記録層
上に上部電極として膜厚500ÅのITO膜をスパッタ
法により成膜し、本発明の第2の情報記録媒体を作製し
た。
に6μm厚の情報記録層を形成し、更にこの情報記録層
上に上部電極として膜厚500ÅのITO膜をスパッタ
法により成膜し、本発明の第2の情報記録媒体を作製し
た。
【0107】この情報記録媒体を、図4に示すように、
光導電層側電極を正、情報記録層側電極を負として60
0Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側
から照度1000ルックスのハロゲンランプを光源とす
る露光を0.1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取
り出した。
光導電層側電極を正、情報記録層側電極を負として60
0Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側
から照度1000ルックスのハロゲンランプを光源とす
る露光を0.1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取
り出した。
【0108】情報記録前の情報記録媒体は、800nm
の光の透過率は60%であったが、情報記録後では90
%となり、コントラストあるものであった。
の光の透過率は60%であったが、情報記録後では90
%となり、コントラストあるものであった。
【0109】また、露光方法として、通常のカメラを使
用し、700Vの電圧印加状態で、光導電層側から照度
2000ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を
露出f=4、シャッタースピード1/30秒で被写体撮
影を行った。露光後、情報記録媒体を取り出したとこ
ろ、ノイズのない、諧調性を有する画像を透視できた。
また、この情報記録媒体をCCDラインセンサーを用い
たスキャナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで
出力した結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピー
が得られた。
用し、700Vの電圧印加状態で、光導電層側から照度
2000ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を
露出f=4、シャッタースピード1/30秒で被写体撮
影を行った。露光後、情報記録媒体を取り出したとこ
ろ、ノイズのない、諧調性を有する画像を透視できた。
また、この情報記録媒体をCCDラインセンサーを用い
たスキャナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで
出力した結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピー
が得られた。
【0110】
【実施例5】実施例1で作製した光センサーにおける光
導電層上に、含フッ素樹脂サイトップ(商品名;旭硝子
(株)製、吸水率0.01%、比抵抗1×1018Ω・c
m)をパーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)
に溶解し、その4.5%溶液をスピンナーで1500r
pm、20秒の条件で塗布し、80℃、1hr乾燥後、
膜厚1μmの透明絶縁層を形成した。
導電層上に、含フッ素樹脂サイトップ(商品名;旭硝子
(株)製、吸水率0.01%、比抵抗1×1018Ω・c
m)をパーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)
に溶解し、その4.5%溶液をスピンナーで1500r
pm、20秒の条件で塗布し、80℃、1hr乾燥後、
膜厚1μmの透明絶縁層を形成した。
【0111】次に、この透明絶縁層上に、実施例2同様
に6μm厚の情報記録層を形成し、更にこの情報記録層
上に上部電極として膜厚500ÅのITO膜をスパッタ
法により成膜し、本発明の第2の情報記録媒体を作製し
た。
に6μm厚の情報記録層を形成し、更にこの情報記録層
上に上部電極として膜厚500ÅのITO膜をスパッタ
法により成膜し、本発明の第2の情報記録媒体を作製し
た。
【0112】この情報記録媒体を、図4に示すように、
光導電層側電極を正、情報記録層側電極を負として60
0Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側
から照度1000ルックスのハロゲンランプを光源とす
る露光を0.1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取
り出した。
光導電層側電極を正、情報記録層側電極を負として60
0Vの直流電圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側
から照度1000ルックスのハロゲンランプを光源とす
る露光を0.1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取
り出した。
【0113】情報記録前の情報記録媒体は800nmの
光の透過率は65%であったが、情報記録後では80%
となり、コントラストあるものであった。
光の透過率は65%であったが、情報記録後では80%
となり、コントラストあるものであった。
【0114】また、露光方法として、通常のカメラを使
用し、700Vの電圧印加状態で、光導電層側から照度
2000ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を
露出f=4、シャッタースピード1/30秒で被写体撮
影を行った。露光後、情報記録媒体を取り出したとこ
ろ、ノイズのない、諧調性を有する画像を透視できた。
また、この情報記録媒体をCCDラインセンサーを用い
たスキャナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで
出力した結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピー
が得られた。
用し、700Vの電圧印加状態で、光導電層側から照度
2000ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を
露出f=4、シャッタースピード1/30秒で被写体撮
影を行った。露光後、情報記録媒体を取り出したとこ
ろ、ノイズのない、諧調性を有する画像を透視できた。
また、この情報記録媒体をCCDラインセンサーを用い
たスキャナーにより読み取り、更に、昇華プリンターで
出力した結果、諧調性を有し、高解像度のハードコピー
が得られた。
【0115】
【実施例6】実施例1で作製した光センサーにおける光
導電層上に、硫化亜鉛と弗化マグネシウムとを、膜厚λ
/4n(λ=370nmで読みだし光波長であり、nは
屈折率であり、硫化亜鉛は2.38、弗化マグネシウム
は1.38であるので、硫化亜鉛は39nm、弗化マグ
ネシウムは67nm)で交互に6層ずつ、EB蒸着法に
より積層し、最後に硫化亜鉛をλ/2の膜厚に積層して
誘電体ミラー層を形成した。
導電層上に、硫化亜鉛と弗化マグネシウムとを、膜厚λ
/4n(λ=370nmで読みだし光波長であり、nは
屈折率であり、硫化亜鉛は2.38、弗化マグネシウム
は1.38であるので、硫化亜鉛は39nm、弗化マグ
ネシウムは67nm)で交互に6層ずつ、EB蒸着法に
より積層し、最後に硫化亜鉛をλ/2の膜厚に積層して
誘電体ミラー層を形成した。
【0116】次にこの誘電ミラー層上に実施例1同様に
6μmの情報記録層を積層し、更に上部電極として膜厚
500ÅのITO膜をスパッタ法により成膜して、本発
明の第3の情報記録媒体を作製し、印加電圧を650V
とした以外は実施例3と同様にして情報記録を行なった
ところ、反射光により、ノイズがなくかつ階調性を有す
る画像を再生でき、実施例3と同様の高解像度のハード
コピーが得られた。
6μmの情報記録層を積層し、更に上部電極として膜厚
500ÅのITO膜をスパッタ法により成膜して、本発
明の第3の情報記録媒体を作製し、印加電圧を650V
とした以外は実施例3と同様にして情報記録を行なった
ところ、反射光により、ノイズがなくかつ階調性を有す
る画像を再生でき、実施例3と同様の高解像度のハード
コピーが得られた。
【0117】
【比較例1】充分洗浄した厚さ1.1mmのガラス基板上
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射して、膜厚が60μmの情報記録層を形
成し、情報記録媒体を得た。この情報記録媒体の633
nmの光の透過率は5%であった。
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 ・界面活性剤(住友3M社製:商品名フロラードFC−
430)3部 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)105部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射して、膜厚が60μmの情報記録層を形
成し、情報記録媒体を得た。この情報記録媒体の633
nmの光の透過率は5%であった。
【0118】そして、図4に示すように、光導電層側電
極を正、情報記録層側電極を負として600Vの直流電
圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側から照度10
00ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を0.
1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取り出した。こ
の情報記録媒体における記録部について633nmの光
の透過率を測定したところ、7%にしか変調せず、コン
トラストが殆どとれなかった。
極を正、情報記録層側電極を負として600Vの直流電
圧を印加した。電圧印加状態で光導電層側から照度10
00ルックスのハロゲンランプを光源とする露光を0.
1秒行い、露光終了後、情報記録媒体を取り出した。こ
の情報記録媒体における記録部について633nmの光
の透過率を測定したところ、7%にしか変調せず、コン
トラストが殆どとれなかった。
【0119】
【比較例2】充分洗浄した厚さ1.1mmのガラス基板上
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)102部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射したが、成膜せず、液晶相は粒状に固化
し情報記録媒体とはなり得なかった。
に、膜厚1000Åの酸化インジウム錫(ITO)膜を
スパッタ法により成膜し、電極層を得た。その電極上
に、 ・多官能モノマー(ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、東亜合成化学社製、M−400、分子量/官
能基=117)40部、 ・光硬化開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、チバ・ガイギー社製:商品
名ダロキュア1173)2部、 ・スメクチック液晶(BDH社製:S−6)60部、 をキシレン(純正化学(株)製、試薬特級)102部中
に均一に溶解した溶液をブレードコーターを用いて塗布
し、これを直ちに50℃、3分間乾燥し、次いで50℃
で3分間減圧乾燥させた後、直ちに600mJ/cm2
のUV光を照射したが、成膜せず、液晶相は粒状に固化
し情報記録媒体とはなり得なかった。
【図1】図1は、本発明の情報記録媒体の断面を示す模
式図であり、(a)は第1の情報記録媒体、(b)は第
2の情報記録媒体、(c)は第3の情報記録媒体の断面
を示す。
式図であり、(a)は第1の情報記録媒体、(b)は第
2の情報記録媒体、(c)は第3の情報記録媒体の断面
を示す。
【図2】図2は、光センサーを使用した情報記録装置の
概略図である。
概略図である。
【図3】図3は、情報記録媒体における記録情報を透過
光で再生する方法を説明するための図である。
光で再生する方法を説明するための図である。
【図4】図4は、第2の情報記録媒体への情報記録方法
を説明するための図である。
を説明するための図である。
1は光センサー、3は情報記録媒体、11は情報記録
層、12は絶縁性光反射層、13、13′は電極層、1
4は光導電層、15は基板、18は情報光、19はスペ
ーサー、21は光源、22は駆動機構を有するシャッタ
ー、23はパルスジェネレーター(電源)、24は暗
箱、Aは透過光、Bは散乱光である。
層、12は絶縁性光反射層、13、13′は電極層、1
4は光導電層、15は基板、18は情報光、19はスペ
ーサー、21は光源、22は駆動機構を有するシャッタ
ー、23はパルスジェネレーター(電源)、24は暗
箱、Aは透過光、Bは散乱光である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−70864(JP,A) 特開 平4−218020(JP,A) 特開 平2−81024(JP,A) 特開 昭64−91125(JP,A) 特開 平1−97921(JP,A) 特開 平3−107819(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1334 G02F 1/13 505
Claims (8)
- 【請求項1】 電極層上に液晶相及び樹脂相とからなる
情報記録層を有する情報記録媒体において、該情報記録
層が液晶、紫外線硬化型樹脂形成材料及び弗素系界面活
性剤との混合溶液を電極層上に塗布した後、紫外線照射
により硬化され、その外表面が紫外線硬化型樹脂のみか
らなるスキン層に形成されると共に、層内部には樹脂粒
子が充填され、その間を液晶相が連通した構造を有し、
また、該情報記録層が1μm〜30μmの膜厚を有し、
かつスキン層の膜厚が情報記録層の膜厚に対して0.0
1%〜50%の範囲であることを特徴とする情報記録媒
体。 - 【請求項2】 電極層が光反射性であるか、または電極
層に光反射層が積層されたことを特徴とする請求項1記
載の情報記録媒体。 - 【請求項3】 電極層、光導電層、情報記録層、電極層
を順次設けた情報記録媒体において、少なくとも一方の
電極が透明であり、かつ情報記録層が、液晶、紫外線硬
化型樹脂形成材料及び弗素系界面活性剤との混合溶液を
電極層上に塗布した後、紫外線照射により硬化され、そ
の外表面が紫外線硬化型樹脂のみからなるスキン層に形
成されると共に、層内部には樹脂粒子が充填され、その
間を液晶相が連通した構造を有し、また、該情報記録層
が1μm〜30μmの膜厚を有し、かつスキン層の膜厚
が情報記録層の膜厚に対して0.01%〜50%の範囲
であることを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項4】 透明電極層、光導電層、絶縁性光反射
層、情報記録層、透明電極層を順次設けた情報記録媒体
において、情報記録層が、液晶、紫外線硬化型樹脂形成
材料及び弗素系界面活性剤との混合溶液を電極層上に塗
布した後、紫外線照射により硬化され、その外表面が紫
外線硬化型樹脂のみからなるスキン層に形成されると共
に、層内部には樹脂粒子が充填され、その間を液晶相が
連通した構造を有し、また、該情報記録層が1μm〜3
0μmの膜厚を有し、かつスキン層の膜厚が情報記録層
の膜厚に対して0.01%〜50%の範囲であることを
特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項5】 情報記録層における液晶がメモリー性で
ある請求項1から4記載のいずれか1つの情報記録媒
体。 - 【請求項6】 情報記録層における液晶の含有割合が、
液晶と樹脂との合計量に対して40重量%〜80重量%
であることを特徴とする請求項1から5記載のいずれか
1つの情報記録媒体。 - 【請求項7】 情報記録層の膜厚が5μm〜10μmで
ある請求項1から6記載のいずれか1つの情報記録媒
体。 - 【請求項8】 情報記録層におけるスキン層の膜厚が、
情報記録層の膜厚の0.01%〜30%の割合である請
求項1から7記載のいずれか1つの情報記録媒体。
Priority Applications (1)
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JP5-102710 | 1993-04-28 | ||
JP4-342591 | 1993-04-28 | ||
JP10271093 | 1993-04-28 | ||
JP13594793A JP3280467B2 (ja) | 1992-12-22 | 1993-06-07 | 情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=27309780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13594793A Expired - Fee Related JP3280467B2 (ja) | 1992-12-22 | 1993-06-07 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3280467B2 (ja) |
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US5678101A (en) * | 1995-04-25 | 1997-10-14 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Holder assembly for electro-developing recording media and electro-developing type camera with such holder assembly |
US5778260A (en) * | 1995-05-26 | 1998-07-07 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Device for controlling developing operation of electro-developing type camera |
JP3375484B2 (ja) * | 1995-10-11 | 2003-02-10 | ペンタックス株式会社 | 電子現像型カメラ |
US5940648A (en) * | 1995-10-12 | 1999-08-17 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Electro-developing type camera using electro-developing recording medium |
US5913077A (en) * | 1995-10-16 | 1999-06-15 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Image reader incorporated in electro-developing type camera and electro-developing recording medium used therein |
JP3375476B2 (ja) * | 1995-11-15 | 2003-02-10 | ペンタックス株式会社 | 電子現像型カメラおよびカメラのデータ伝送装置 |
JP3288908B2 (ja) * | 1995-11-27 | 2002-06-04 | 旭光学工業株式会社 | 画像読出装置の読出動作制御装置 |
US6094539A (en) | 1996-01-24 | 2000-07-25 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | White balance adjusting device |
JP3626560B2 (ja) * | 1996-02-22 | 2005-03-09 | ペンタックス株式会社 | 電子現像型記録媒体の良否判定装置 |
JP3335279B2 (ja) * | 1996-02-22 | 2002-10-15 | 旭光学工業株式会社 | 電子現像型カメラの暗電流測定装置および記録動作制御装置 |
JP3288933B2 (ja) * | 1996-02-28 | 2002-06-04 | 旭光学工業株式会社 | 電子現像型記録媒体の電圧制御装置 |
JP3445455B2 (ja) * | 1996-05-24 | 2003-09-08 | ペンタックス株式会社 | 画像記録装置 |
JP3340646B2 (ja) * | 1996-09-19 | 2002-11-05 | 旭光学工業株式会社 | 電子現像型記録媒体の電圧印加停止タイミング制御装置 |
JP4863100B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2012-01-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 記録表示媒体及びその製造方法 |
JP5452111B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-03-26 | トッパン・フォームズ株式会社 | 液晶マイクロカプセル積層体及び表示装置 |
-
1993
- 1993-06-07 JP JP13594793A patent/JP3280467B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0713132A (ja) | 1995-01-17 |
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