JPH06306116A - オレフィン重合用固体触媒成分およびポリオレフィンの製造法 - Google Patents
オレフィン重合用固体触媒成分およびポリオレフィンの製造法Info
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- JPH06306116A JPH06306116A JP5354855A JP35485593A JPH06306116A JP H06306116 A JPH06306116 A JP H06306116A JP 5354855 A JP5354855 A JP 5354855A JP 35485593 A JP35485593 A JP 35485593A JP H06306116 A JPH06306116 A JP H06306116A
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 粒子性状に優れたポリオレフィンを容易且つ
高収率で製造しうる触媒成分を提供する。 【構成】 少なくともマグネシウム、チタンおよび/ま
たはバナジウム、ハロゲンをケイ素酸化物および/また
はアルミニウム酸化物に担持したオレフィン重合用固体
触媒成分において、該ケイ素酸化物および/またはアル
ミニウム酸化物として20〜150μmの平均粒径、1
50〜600m2/gの表面積、0.3〜2.0cm3
/gの細孔容積、0.32以上の見掛比重をもちかつ3
0%以下の超音波破壊度をもつものを用いる。
高収率で製造しうる触媒成分を提供する。 【構成】 少なくともマグネシウム、チタンおよび/ま
たはバナジウム、ハロゲンをケイ素酸化物および/また
はアルミニウム酸化物に担持したオレフィン重合用固体
触媒成分において、該ケイ素酸化物および/またはアル
ミニウム酸化物として20〜150μmの平均粒径、1
50〜600m2/gの表面積、0.3〜2.0cm3
/gの細孔容積、0.32以上の見掛比重をもちかつ3
0%以下の超音波破壊度をもつものを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリオレフィンの製造に
供される新規な担体使用触媒成分とその使用に関する。
さらに詳細には、本発明は固体当りの重合体収量およひ
遷移金属当りの重合体収量を著しく増加させ、その結果
重合体中の触媒残渣を除去する工程を不要ならしめ、ま
た同時に生成重合体のかさ密度が高く、平均粒径が大き
くかつ微粉状部分が少ないなど良好な粒子性状を有する
ポリオレフィンを製造するに適する触媒成分とその使用
に関する。
供される新規な担体使用触媒成分とその使用に関する。
さらに詳細には、本発明は固体当りの重合体収量およひ
遷移金属当りの重合体収量を著しく増加させ、その結果
重合体中の触媒残渣を除去する工程を不要ならしめ、ま
た同時に生成重合体のかさ密度が高く、平均粒径が大き
くかつ微粉状部分が少ないなど良好な粒子性状を有する
ポリオレフィンを製造するに適する触媒成分とその使用
に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従来
この種の技術分野においては、ハロゲン化マグネシウ
ム、酸化マグネシウムなどの無機マグネシウム化合物を
担体として、これにチタンおよび/またはバナジウムを
担持された触媒が数多く知られている。しかしながらこ
れらの公知技術においては、得られるポリオレフィンの
平均粒径は比較的小さく、粒径分布も概して広いため微
粒子状粉末部分が多く、またかさ密度も一般に小さいた
め、重合工程における生産性の面あるいはポリマーハン
ドリングの面から改良が強く望まれていた。さらにこれ
らのポリマーを成型加工する際にも粉塵の発生、成型時
の能率の低下等の問題を生ずるため、前述したかさ密度
の増大、微粒子状粉末部分の減少が強く望まれていた。
これらの問題を解決するため、前記マグネシウム化合
物、チタンおよび/またはバナジウムをシリカ、アルミ
ナ、シリカ−アルミナ等の粒状担体に担持させた触媒成
分も多く知られている。(特公平1−11651、特公
平1−12289、特開昭60−149605、特開昭
62−32105、特開昭62−207306等)。し
かしながらこれらの触媒成分を用いた場合、ある程度か
さ密度が高く、平均粒径の大きいポリマーを得ることが
できるが、ペレット化工程を省略し粉体ポリマーをその
まま加工機のにかけるためにはさらに改良が必要とされ
た。
この種の技術分野においては、ハロゲン化マグネシウ
ム、酸化マグネシウムなどの無機マグネシウム化合物を
担体として、これにチタンおよび/またはバナジウムを
担持された触媒が数多く知られている。しかしながらこ
れらの公知技術においては、得られるポリオレフィンの
平均粒径は比較的小さく、粒径分布も概して広いため微
粒子状粉末部分が多く、またかさ密度も一般に小さいた
め、重合工程における生産性の面あるいはポリマーハン
ドリングの面から改良が強く望まれていた。さらにこれ
らのポリマーを成型加工する際にも粉塵の発生、成型時
の能率の低下等の問題を生ずるため、前述したかさ密度
の増大、微粒子状粉末部分の減少が強く望まれていた。
これらの問題を解決するため、前記マグネシウム化合
物、チタンおよび/またはバナジウムをシリカ、アルミ
ナ、シリカ−アルミナ等の粒状担体に担持させた触媒成
分も多く知られている。(特公平1−11651、特公
平1−12289、特開昭60−149605、特開昭
62−32105、特開昭62−207306等)。し
かしながらこれらの触媒成分を用いた場合、ある程度か
さ密度が高く、平均粒径の大きいポリマーを得ることが
できるが、ペレット化工程を省略し粉体ポリマーをその
まま加工機のにかけるためにはさらに改良が必要とされ
た。
【0003】本発明はこれらの欠点を改良し、さらにか
さ密度が高く、かつ粒径分布が狭く、ポリマーの微粒子
状部分が著しく少なく、流動性の良好な重合体を極めて
高活性に得ることを目的として鋭意研究の結果、本発明
に到達したものである。
さ密度が高く、かつ粒径分布が狭く、ポリマーの微粒子
状部分が著しく少なく、流動性の良好な重合体を極めて
高活性に得ることを目的として鋭意研究の結果、本発明
に到達したものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、少な
くともマグネシウム、チタンおよび/またはバナジウ
ム、ハロゲンをケイ素酸化物および/またはアルミニウ
ム酸化物に担持したオレフィン重合用固体触媒成分にお
いて、該ケイ素酸化物および/またはアルミニウム酸化
物が、下記に示す(A)〜(E)の特性を満足すること
を特徴とするオレフィン重合用固体触媒成分、および同
固体触媒成分と有機金属化合物からなる触媒を用いたポ
リオレフィンの製造法に関する。
くともマグネシウム、チタンおよび/またはバナジウ
ム、ハロゲンをケイ素酸化物および/またはアルミニウ
ム酸化物に担持したオレフィン重合用固体触媒成分にお
いて、該ケイ素酸化物および/またはアルミニウム酸化
物が、下記に示す(A)〜(E)の特性を満足すること
を特徴とするオレフィン重合用固体触媒成分、および同
固体触媒成分と有機金属化合物からなる触媒を用いたポ
リオレフィンの製造法に関する。
【0005】(A)篩い法で測定された平均粒径が20
〜150μmである。 (B)BET法で測定された比表面積が150〜600
m2/gである。 (C)水銀圧入法で測定された細孔半径18〜1,00
0オングストロームの間の細孔容積が0.3〜2.0c
m3/gである。 (D)JIS−K6220−6.8で測定された見掛比
重が0.32以上である。 (E)篩い法で53μm以上、75μm以下の範囲に分
級された粒子を40KHz、35Wで20分間超音波破
壊処理を行った後において、50μm以下の粒子割合
(超音波破壊度)が30%以下である。
〜150μmである。 (B)BET法で測定された比表面積が150〜600
m2/gである。 (C)水銀圧入法で測定された細孔半径18〜1,00
0オングストロームの間の細孔容積が0.3〜2.0c
m3/gである。 (D)JIS−K6220−6.8で測定された見掛比
重が0.32以上である。 (E)篩い法で53μm以上、75μm以下の範囲に分
級された粒子を40KHz、35Wで20分間超音波破
壊処理を行った後において、50μm以下の粒子割合
(超音波破壊度)が30%以下である。
【0006】以下、本発明のオレフィン重合用固体触媒
成分について具体的に説明する。
成分について具体的に説明する。
【0007】本発明において用いるケイ素酸化物とは、
シリカもしくはケイ素と周期律表I〜VI族の少なくと
も一種の他の金属との複酸化物である。本発明において
用いるアルミニウム酸化物とは、アルミナもしくはアル
ミニウムと周期律表I〜VI族の少なくとも一種の他の
金属との複酸化物である。
シリカもしくはケイ素と周期律表I〜VI族の少なくと
も一種の他の金属との複酸化物である。本発明において
用いるアルミニウム酸化物とは、アルミナもしくはアル
ミニウムと周期律表I〜VI族の少なくとも一種の他の
金属との複酸化物である。
【0008】ケイ素またはアルミニウムと周期律表I〜
VI族の少なくとも一種の他の金属との複酸化物の代表
的名ものとしては、Al2O3・MgO、Al2O3・
CaO、Al2O3・SiO2、Al2O3・MgO・
CaO、Al2O3・MgO・SiO2、Al2O3・
CuO、Al2O3・Fe2O3、Al2O3・Ni
O、SiO2・MgOなどの天然または合成の各種複酸
化物を例示する事ができる。ここで上記の式は分子式で
はなく組成のみを表すものであって、本発明において用
いられる複酸化物の構造および成分比率は特に限定され
るものではない。なお本発明において用いるケイ素酸化
物および/またはアルミニウム酸化物(以下金属酸化物
という)は通常200〜800℃で焼成後使用するのが
好ましいが、少量の水分を吸着していても差し支えな
く、また少量の不純物を含有していても支障なく使用で
きる。
VI族の少なくとも一種の他の金属との複酸化物の代表
的名ものとしては、Al2O3・MgO、Al2O3・
CaO、Al2O3・SiO2、Al2O3・MgO・
CaO、Al2O3・MgO・SiO2、Al2O3・
CuO、Al2O3・Fe2O3、Al2O3・Ni
O、SiO2・MgOなどの天然または合成の各種複酸
化物を例示する事ができる。ここで上記の式は分子式で
はなく組成のみを表すものであって、本発明において用
いられる複酸化物の構造および成分比率は特に限定され
るものではない。なお本発明において用いるケイ素酸化
物および/またはアルミニウム酸化物(以下金属酸化物
という)は通常200〜800℃で焼成後使用するのが
好ましいが、少量の水分を吸着していても差し支えな
く、また少量の不純物を含有していても支障なく使用で
きる。
【0009】いずれの金属酸化物を用いるにしても、該
金属酸化物が下記に示す(A)〜(E)の特性を満足す
ることが重要である。
金属酸化物が下記に示す(A)〜(E)の特性を満足す
ることが重要である。
【0010】(A)篩い法で測定された平均粒径が20
〜150μm、好ましくは25〜100μm、より好ま
しくは30〜70μmである。平均粒径が20μmより
小さいと、特に気相重合法においては触媒の反応器から
の飛散あるいは微粒子ポリマーの付着量が増加してシー
ト状ポリマーの生成を引き起こし、また成形加工時には
ポリマーの舞い上がりなどのトラブルが発生するなど好
ましくない。また150μmよりも大きいと、生成する
ポリマーのかさ密度が低下し、特にポリマーをフィルム
用途に供した場合、フィッシュアイが増加するなど好ま
しくない。
〜150μm、好ましくは25〜100μm、より好ま
しくは30〜70μmである。平均粒径が20μmより
小さいと、特に気相重合法においては触媒の反応器から
の飛散あるいは微粒子ポリマーの付着量が増加してシー
ト状ポリマーの生成を引き起こし、また成形加工時には
ポリマーの舞い上がりなどのトラブルが発生するなど好
ましくない。また150μmよりも大きいと、生成する
ポリマーのかさ密度が低下し、特にポリマーをフィルム
用途に供した場合、フィッシュアイが増加するなど好ま
しくない。
【0011】(B)BET法で測定された比表面積が1
50〜600m2/g、好ましくは200〜500m2
/g、より好ましくは250〜400m2/gである。
比表面積が150m2/gより小さいときは、担持させ
る触媒成分および組成によって異なるが、一般的には触
媒成分を十分に担持する事ができず、また600m2/
gより大きいときは逆に表面水酸基の量が多過ぎて、触
媒成分を担持させたとき副反応が起こりやすく、また未
反応の水酸基も多くなり触媒活性を低下させて好ましく
ない。
50〜600m2/g、好ましくは200〜500m2
/g、より好ましくは250〜400m2/gである。
比表面積が150m2/gより小さいときは、担持させ
る触媒成分および組成によって異なるが、一般的には触
媒成分を十分に担持する事ができず、また600m2/
gより大きいときは逆に表面水酸基の量が多過ぎて、触
媒成分を担持させたとき副反応が起こりやすく、また未
反応の水酸基も多くなり触媒活性を低下させて好ましく
ない。
【0012】(C)水銀圧入法で測定された細孔半径1
8〜1,000オングストロームの間の細孔容積が0.
3〜2.0cm3/g、好ましくは0.6〜1.8cm
3/g、より好ましくは0.9〜1.5cm3/gであ
る。細孔容積が0.3cm3/gより小さい場合は触媒
成分を十分に担持することができず、2.0cm3/g
より大きい場合は触媒成分の偏在が起こりやすく、いず
れも生成したポリマーのかさ密度は低下する。
8〜1,000オングストロームの間の細孔容積が0.
3〜2.0cm3/g、好ましくは0.6〜1.8cm
3/g、より好ましくは0.9〜1.5cm3/gであ
る。細孔容積が0.3cm3/gより小さい場合は触媒
成分を十分に担持することができず、2.0cm3/g
より大きい場合は触媒成分の偏在が起こりやすく、いず
れも生成したポリマーのかさ密度は低下する。
【0013】(D)JIS−K6220−6.8で測定
された見掛比重が0.32以上、好ましくは0.35以
上、より好ましくは0.37以上である。見掛比重が
0.32以下であると、固体触媒成分を調製するための
容器を大きくする必要があり工業的に不利である。また
調製された固体触媒成分のかさ密度も低くなり、特に気
相重合法において固体触媒成分を粉体で反応器へ供給す
る場合は、供給装置の大きさが大きくなり工業的に不利
である。また理由は明らかではないが、生成するポリマ
ーのかさ密度も低くなる傾向がある。
された見掛比重が0.32以上、好ましくは0.35以
上、より好ましくは0.37以上である。見掛比重が
0.32以下であると、固体触媒成分を調製するための
容器を大きくする必要があり工業的に不利である。また
調製された固体触媒成分のかさ密度も低くなり、特に気
相重合法において固体触媒成分を粉体で反応器へ供給す
る場合は、供給装置の大きさが大きくなり工業的に不利
である。また理由は明らかではないが、生成するポリマ
ーのかさ密度も低くなる傾向がある。
【0014】(E)篩い法で53μm以上、75μm以
下の範囲に分級された粒子を40KHz、35Wで20
分間超音波破壊処理を行った後において、50μm以下
の粒子割合(超音波破壊度)が30%以下、好ましくは
20%以下、より好ましくは15%以下である。超音波
破壊処理後の50μm以下の量が30%以上である(す
なわち破壊されやすい)と、該金属酸化物を用いて触媒
を調製する際に攪拌力により金属酸化物が破壊されてし
まい、得られた固体触媒成分の形が悪くなり、その結果
該固体触媒成分から生成したポリマーの形が悪くかさ密
度も悪くなる。
下の範囲に分級された粒子を40KHz、35Wで20
分間超音波破壊処理を行った後において、50μm以下
の粒子割合(超音波破壊度)が30%以下、好ましくは
20%以下、より好ましくは15%以下である。超音波
破壊処理後の50μm以下の量が30%以上である(す
なわち破壊されやすい)と、該金属酸化物を用いて触媒
を調製する際に攪拌力により金属酸化物が破壊されてし
まい、得られた固体触媒成分の形が悪くなり、その結果
該固体触媒成分から生成したポリマーの形が悪くかさ密
度も悪くなる。
【0015】本発明に使用する上記金属酸化物の合成法
は種々考えられる。シリカに関しては例えば次のような
方法で合成することができる。
は種々考えられる。シリカに関しては例えば次のような
方法で合成することができる。
【0016】1)ケイ酸アルカリ水溶液と酸水溶液を反
応させて、先ずシリカヒドロゲルを製造し、次に乾式の
衝撃ミルを用いてヒドロゲルを粗粉砕し、ビーズミルま
たはポットミルを用いて湿式粉砕を行い、スラリーをス
プレー乾燥器を用いて乾燥し、微小球シリカとし、さら
に約200℃で乾燥して水分を除去し本発明に使用する
微小球シリカとする。具体的には、原料のケイ酸アルカ
リは、工業製品としてJISに規格されている水ガラス
のケイ酸ソーダやケイ酸カリ、さらには酸性白土等の粘
土質原料より回収した易反応性のシリカにアルカリ金属
の水酸化溶液を反応させたケイ酸アルカリ等を使用する
ことができる。ケイ酸アルカリ水溶液におけるSiO2
濃度は6〜28重量%の範囲、好ましくは約10%に希
釈されているのがよく、SiO2:M2O(Mはアルカ
リ金属である)のモル比は、通常2:1〜4:1、好ま
しくは2.5:1〜3:1であることが望ましい。等を
変化させることにより本発明の性状を有するシリカを製
造することができる。
応させて、先ずシリカヒドロゲルを製造し、次に乾式の
衝撃ミルを用いてヒドロゲルを粗粉砕し、ビーズミルま
たはポットミルを用いて湿式粉砕を行い、スラリーをス
プレー乾燥器を用いて乾燥し、微小球シリカとし、さら
に約200℃で乾燥して水分を除去し本発明に使用する
微小球シリカとする。具体的には、原料のケイ酸アルカ
リは、工業製品としてJISに規格されている水ガラス
のケイ酸ソーダやケイ酸カリ、さらには酸性白土等の粘
土質原料より回収した易反応性のシリカにアルカリ金属
の水酸化溶液を反応させたケイ酸アルカリ等を使用する
ことができる。ケイ酸アルカリ水溶液におけるSiO2
濃度は6〜28重量%の範囲、好ましくは約10%に希
釈されているのがよく、SiO2:M2O(Mはアルカ
リ金属である)のモル比は、通常2:1〜4:1、好ま
しくは2.5:1〜3:1であることが望ましい。等を
変化させることにより本発明の性状を有するシリカを製
造することができる。
【0017】中和反応に用いる鉱酸は、塩酸や硫酸等が
一般に使用されるが、これらの混酸をも使用することも
できる。鉱酸水溶液の濃度は、通常10〜75重量%、
好ましくは20〜60重量%の範囲であるものが望まし
い。両原料の接触による中和反応は、両原料のどちらか
一方の原料をもう一方の溶液中に攪拌下添加する方法
や、両原料溶液を一定条件下に同時に接触させる方法が
あり、好ましくは鉱酸を規定量いれ、激しく攪拌しなが
らケイ酸アルカリ水溶液を注入して反応させる方法が望
ましい。中和の際の温度は、特に限定されないが通常5
0℃以下であり、中和終了時のpHは0〜10の範囲に
あるのが適当である。この中和により、シリカのヒドロ
ゾルが生成するが、このヒドロゾルを一般に30分以上
放置、必要に応じて反応生成物(ヒドロゾル)の温度、
pHを調節することによりゲル化させシリカのヒドロゲ
ルに転化する。
一般に使用されるが、これらの混酸をも使用することも
できる。鉱酸水溶液の濃度は、通常10〜75重量%、
好ましくは20〜60重量%の範囲であるものが望まし
い。両原料の接触による中和反応は、両原料のどちらか
一方の原料をもう一方の溶液中に攪拌下添加する方法
や、両原料溶液を一定条件下に同時に接触させる方法が
あり、好ましくは鉱酸を規定量いれ、激しく攪拌しなが
らケイ酸アルカリ水溶液を注入して反応させる方法が望
ましい。中和の際の温度は、特に限定されないが通常5
0℃以下であり、中和終了時のpHは0〜10の範囲に
あるのが適当である。この中和により、シリカのヒドロ
ゾルが生成するが、このヒドロゾルを一般に30分以上
放置、必要に応じて反応生成物(ヒドロゾル)の温度、
pHを調節することによりゲル化させシリカのヒドロゲ
ルに転化する。
【0018】形成するヒドロゲル中のSiO2濃度は通
常5〜30重量%と低いものであるが、ヒドロゲルの細
孔調節の他に、水分調節(SiO2濃度増加)も兼ねて
係るヒドロゲルを熱処理し、SiO2濃度が5%以上の
シリカヒドロゲルとすることが望ましい。この熱処理の
温度は、通常100〜170℃が望ましく、オートクレ
ーブ中で行うことができる。熱処理後のシリカヒドロゲ
ルを水洗し、必要に応じ濾過して固体状のヒドロゲルを
得る。次いで、通常粒径が20〜100μmとなるよう
に粗粉砕し、これを前述したSiO2濃度15〜25重
量%のシリカヒドロゾルスラリーとした後、湿式粉砕を
行う。係る湿式粉砕は高速剪断下で行うことが望まし
く、その装置としては高速剪断が可能であるものが望ま
しく、例えば摩擦内板ミルが好適に使用される。次に前
述の通りスラリーをスプレー乾燥器を用いて乾燥し、微
小球シリカとし、さらに約200℃で乾燥して水分を除
去し本発明に使用する微小球シリカとする。これらの工
程の中で、湿式粉砕条件およびスプレー乾燥条件等を変
化させることにより本発明の性状を有するシリカを製造
することができる。
常5〜30重量%と低いものであるが、ヒドロゲルの細
孔調節の他に、水分調節(SiO2濃度増加)も兼ねて
係るヒドロゲルを熱処理し、SiO2濃度が5%以上の
シリカヒドロゲルとすることが望ましい。この熱処理の
温度は、通常100〜170℃が望ましく、オートクレ
ーブ中で行うことができる。熱処理後のシリカヒドロゲ
ルを水洗し、必要に応じ濾過して固体状のヒドロゲルを
得る。次いで、通常粒径が20〜100μmとなるよう
に粗粉砕し、これを前述したSiO2濃度15〜25重
量%のシリカヒドロゾルスラリーとした後、湿式粉砕を
行う。係る湿式粉砕は高速剪断下で行うことが望まし
く、その装置としては高速剪断が可能であるものが望ま
しく、例えば摩擦内板ミルが好適に使用される。次に前
述の通りスラリーをスプレー乾燥器を用いて乾燥し、微
小球シリカとし、さらに約200℃で乾燥して水分を除
去し本発明に使用する微小球シリカとする。これらの工
程の中で、湿式粉砕条件およびスプレー乾燥条件等を変
化させることにより本発明の性状を有するシリカを製造
することができる。
【0019】2)ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交
換樹脂層を通して、SiO2/Na2O(モル比)60
〜130のゾルを得、これを加熱熟成して密度の大きい
独立分散粒子まで成長させ、これに新たにイオン交換樹
脂層を通して得た希薄ゾルを徐々に添加することにより
前記独立分散粒子表面に重合沈着させて安定なゾルを得
る。この際安定剤としてNaOH、LiOHまたはKO
H等を添加しても良い。得られた安定ゾルを適当な濃度
に希釈後、スプレー乾燥により球状の微小球シリカを
得、さらに約200℃で乾燥して水分を除去し本発明に
使用する微小球シリカとする。上記方法のうち1)の方
法が好ましい。
換樹脂層を通して、SiO2/Na2O(モル比)60
〜130のゾルを得、これを加熱熟成して密度の大きい
独立分散粒子まで成長させ、これに新たにイオン交換樹
脂層を通して得た希薄ゾルを徐々に添加することにより
前記独立分散粒子表面に重合沈着させて安定なゾルを得
る。この際安定剤としてNaOH、LiOHまたはKO
H等を添加しても良い。得られた安定ゾルを適当な濃度
に希釈後、スプレー乾燥により球状の微小球シリカを
得、さらに約200℃で乾燥して水分を除去し本発明に
使用する微小球シリカとする。上記方法のうち1)の方
法が好ましい。
【0020】アルミナに関しては、例えば次のような方
法で合成することができる。 1)硫酸アルミニウム水溶液に炭酸塩を加えて、塩基性
硫酸アルミニウムをつくり、それを油中に所定の注加速
度で滴下し表面張力によってゾルを球状化した後、加熱
することによりアルミナヒドロゲルを得る。球状のヒド
ロゲルを油層から水層に移して加水分解させ、その後脱
硫酸イオン、水洗、乾燥させ、さらに500〜600℃
で焼成することにより所定の粒径の球状アルミナゲルが
得られる。
法で合成することができる。 1)硫酸アルミニウム水溶液に炭酸塩を加えて、塩基性
硫酸アルミニウムをつくり、それを油中に所定の注加速
度で滴下し表面張力によってゾルを球状化した後、加熱
することによりアルミナヒドロゲルを得る。球状のヒド
ロゲルを油層から水層に移して加水分解させ、その後脱
硫酸イオン、水洗、乾燥させ、さらに500〜600℃
で焼成することにより所定の粒径の球状アルミナゲルが
得られる。
【0021】2)ボーキサイトをカセイソーダ抽出を行
い、濾過してアルミン酸ソーダを得、それを加水分解し
て水酸化アルミニウムとし、粉砕、焼成してアルミナゲ
ルを得る。
い、濾過してアルミン酸ソーダを得、それを加水分解し
て水酸化アルミニウムとし、粉砕、焼成してアルミナゲ
ルを得る。
【0022】3)上記2)の中間生成物である水酸化ア
ルミニウムまたは高アルミナ質の粘土鉱物と硫酸と反応
させて硫酸アルミニウムとし、、アンモニアで中和して
水酸化アルミニウムを沈澱させ、濾過、乾燥、焼成して
アルミナゲルを得る。上記方法のうち1)の方法が好ま
しい。
ルミニウムまたは高アルミナ質の粘土鉱物と硫酸と反応
させて硫酸アルミニウムとし、、アンモニアで中和して
水酸化アルミニウムを沈澱させ、濾過、乾燥、焼成して
アルミナゲルを得る。上記方法のうち1)の方法が好ま
しい。
【0023】またシリカ・アルミナに関しては次のよう
な方法を挙げることができる。 1)混合器に硫酸を入れ、攪拌しながら冷却した中にケ
イ酸ナトリウムを滴下してPH1〜3のシリカゾルを得
る。別に攪拌した硫酸アルミニウム水溶液中に炭酸カル
シウム粉末を徐々に加えて塩基性硫酸アルミニウムゾル
をつくる。前記シリカゾル100体積部に対し、2〜1
5体積部の塩基性硫酸アルミニウムゾルを加えて混合
し、この混合ゾルを加熱した有機溶媒中に滴下する。こ
の時ゾルは表面張力により球状となり、ついでヒドロゲ
ル化する。球状となったヒドロゲルを水洗してイオン類
を除去し、ついで乾燥することにより球状のシリカ・ア
ルミナゲルを得る。
な方法を挙げることができる。 1)混合器に硫酸を入れ、攪拌しながら冷却した中にケ
イ酸ナトリウムを滴下してPH1〜3のシリカゾルを得
る。別に攪拌した硫酸アルミニウム水溶液中に炭酸カル
シウム粉末を徐々に加えて塩基性硫酸アルミニウムゾル
をつくる。前記シリカゾル100体積部に対し、2〜1
5体積部の塩基性硫酸アルミニウムゾルを加えて混合
し、この混合ゾルを加熱した有機溶媒中に滴下する。こ
の時ゾルは表面張力により球状となり、ついでヒドロゲ
ル化する。球状となったヒドロゲルを水洗してイオン類
を除去し、ついで乾燥することにより球状のシリカ・ア
ルミナゲルを得る。
【0024】2)ケイ酸ナトリウム、アルミン酸ナトリ
ウム、シリカゲル、カセイソーダ等を80〜120℃で
適当なNa2O/SiO2モル比、SiO2/Al2O
3モル比、H2O/Na2Oモル比を選び数時間反応さ
せて結晶化させその後水洗、乾燥させる。上記方法のう
ち1)の方法が好ましい。
ウム、シリカゲル、カセイソーダ等を80〜120℃で
適当なNa2O/SiO2モル比、SiO2/Al2O
3モル比、H2O/Na2Oモル比を選び数時間反応さ
せて結晶化させその後水洗、乾燥させる。上記方法のう
ち1)の方法が好ましい。
【0025】なお上記金属酸化物を固体触媒成分として
使用する前に、さらに200〜800℃で焼成するのが
好ましい。また上記シリカ、アルミナ、シリカ・アルミ
ナのうちシリカが特に好ましい。
使用する前に、さらに200〜800℃で焼成するのが
好ましい。また上記シリカ、アルミナ、シリカ・アルミ
ナのうちシリカが特に好ましい。
【0026】本発明のオレフィン重合用固体触媒成分
は、前記特定の金属酸化物に少なくともマグネシウム、
チタンおよび/またはバナジウム、ハロゲンを担持させ
たものである。これらの成分は、少なくともマグネシウ
ム化合物、チタン化合物および/またはバナジウム化合
物などを前記特定酸化物と相互に接触させることにより
得られる。
は、前記特定の金属酸化物に少なくともマグネシウム、
チタンおよび/またはバナジウム、ハロゲンを担持させ
たものである。これらの成分は、少なくともマグネシウ
ム化合物、チタン化合物および/またはバナジウム化合
物などを前記特定酸化物と相互に接触させることにより
得られる。
【0027】前記マグネシウム化合物としては特に制限
はないが、 一般式 Mg(OR)nX2−n (ここでRは炭素数1〜20の炭化水素残基を示し、X
はハロゲン原子を、nは0≦n≦2を示す)で表される
化合物が挙げられ、具体的にはフッ化マグネシウム、塩
化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ム、メトキシクロロマグネシウム、エトキシクロロマグ
ネシウム、n−プロポキシクロロマグネシウム、iso
−プロポキシクロロマグネシウム、n−ブトキシクロロ
マグネシウム、sec−ブトキシクロロマグネシウム、
tert−ブトキシクロロマグネシウム、メトキシブロ
モマグネシウム、エトキシブロモマグネシウム、n−プ
ロポキシブロモマグネシウム、iso−プロポキシブロ
モマグネシウム、n−ブトキシブロモマグネシウム、s
ec−ブトキシブロモマグネシウム、tert−ブトキ
シブロモマグネシウム、ジメトキシマグネシウム、ジエ
トキシマグネシウム、ジn−プロポキシマグネシウム、
ジiso−プロポキシマグネシウム、ジn−ブトキシマ
グネシウム、ジsec−ブトキシマグネシウム、ジte
rt−ブトキシマグネシウムなどの化合物をあげること
ができ、特に塩化マグネシウムが好ましい。また本発明
において、これらのマグネシウム化合物はアルコール、
エステル、ケトン、カルボン酸、エーテル、アミン、ホ
スフィンなどの電子供与体で処理したものであってもよ
い。
はないが、 一般式 Mg(OR)nX2−n (ここでRは炭素数1〜20の炭化水素残基を示し、X
はハロゲン原子を、nは0≦n≦2を示す)で表される
化合物が挙げられ、具体的にはフッ化マグネシウム、塩
化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ム、メトキシクロロマグネシウム、エトキシクロロマグ
ネシウム、n−プロポキシクロロマグネシウム、iso
−プロポキシクロロマグネシウム、n−ブトキシクロロ
マグネシウム、sec−ブトキシクロロマグネシウム、
tert−ブトキシクロロマグネシウム、メトキシブロ
モマグネシウム、エトキシブロモマグネシウム、n−プ
ロポキシブロモマグネシウム、iso−プロポキシブロ
モマグネシウム、n−ブトキシブロモマグネシウム、s
ec−ブトキシブロモマグネシウム、tert−ブトキ
シブロモマグネシウム、ジメトキシマグネシウム、ジエ
トキシマグネシウム、ジn−プロポキシマグネシウム、
ジiso−プロポキシマグネシウム、ジn−ブトキシマ
グネシウム、ジsec−ブトキシマグネシウム、ジte
rt−ブトキシマグネシウムなどの化合物をあげること
ができ、特に塩化マグネシウムが好ましい。また本発明
において、これらのマグネシウム化合物はアルコール、
エステル、ケトン、カルボン酸、エーテル、アミン、ホ
スフィンなどの電子供与体で処理したものであってもよ
い。
【0028】上記マグネシウム化合物にさらに 一般式 Me(OR)pXz−p (ここでMeは周期律表I〜IV族の元素、zは元素M
eの原子価、pは0<p≦z、Xはハロゲン原子を示
す。またRは炭素数1〜20、好ましくは1〜8、のア
ルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素残基
を示し、それぞれ同一でもまた異なっていてもよい)で
表される化合物を加え相互に反応させて得られる化合物
を用いても良い。例えばNaOR、Mg(OR)2、M
g(OR)X、Ca(OR)2、Zn(OR)2、Cd
(OR)2、B(OR)3、Al(OR)3、Al(O
R)2X、Al(OR)X2、Si(OR)4、Si
(OR)3X、Si(OR)2X2、Si(OR)
X3、Sn(OR)4などで示される各種の化合物をあ
げることができる。これらの好ましい具体例としては、
ジエトキシマグネシウム、エトキシクロロマグネシウ
ム、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニ
ウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリ−is
o−プロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアル
ミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ
−tert−ブトキシアルミニウム、ジメトキシクロロ
アルミニウム、ジエトキシクロロアルミニウム、エトキ
シジクロロアルミニウム、ジイソプロポキシクロロアル
ミニウム、イソプロポキシジクロロアルミニウム、トリ
フェノキシアルミニウム、ジフェノキシクロロアルミニ
ウム、フェノキシジクロロアルミニウム、トリメチルフ
ェノキシアルミニウム、ジメチルフェノキシクロロアル
ミニウム、メチルフェノキシジクロロアルミニウム、ト
リベンゾキシアルミニウム、テトラエトキシシラン、ト
リエトキシクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、
エトキシトリクロロシラン、テトラフェノキシシラン、
トリフェノキシクロロシラン、ジフェノキシジクロロシ
ラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラベンゾキシ
シランなどの化合物をあげることができる。
eの原子価、pは0<p≦z、Xはハロゲン原子を示
す。またRは炭素数1〜20、好ましくは1〜8、のア
ルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素残基
を示し、それぞれ同一でもまた異なっていてもよい)で
表される化合物を加え相互に反応させて得られる化合物
を用いても良い。例えばNaOR、Mg(OR)2、M
g(OR)X、Ca(OR)2、Zn(OR)2、Cd
(OR)2、B(OR)3、Al(OR)3、Al(O
R)2X、Al(OR)X2、Si(OR)4、Si
(OR)3X、Si(OR)2X2、Si(OR)
X3、Sn(OR)4などで示される各種の化合物をあ
げることができる。これらの好ましい具体例としては、
ジエトキシマグネシウム、エトキシクロロマグネシウ
ム、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニ
ウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリ−is
o−プロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアル
ミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ
−tert−ブトキシアルミニウム、ジメトキシクロロ
アルミニウム、ジエトキシクロロアルミニウム、エトキ
シジクロロアルミニウム、ジイソプロポキシクロロアル
ミニウム、イソプロポキシジクロロアルミニウム、トリ
フェノキシアルミニウム、ジフェノキシクロロアルミニ
ウム、フェノキシジクロロアルミニウム、トリメチルフ
ェノキシアルミニウム、ジメチルフェノキシクロロアル
ミニウム、メチルフェノキシジクロロアルミニウム、ト
リベンゾキシアルミニウム、テトラエトキシシラン、ト
リエトキシクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、
エトキシトリクロロシラン、テトラフェノキシシラン、
トリフェノキシクロロシラン、ジフェノキシジクロロシ
ラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラベンゾキシ
シランなどの化合物をあげることができる。
【0029】前記チタン化合物としては特に制限はない
が、 一般式 Ti(OR)mX4−m (ここでRは炭素数1〜20の炭化水素残基、Xはハロ
ゲン原子を表し、mは0≦m≦4である)で表される化
合物が挙げられ、具体的には四塩化チタン、四臭化チタ
ン、四ヨウ化チタン等のテトラハロゲン化チタン、モノ
メトキシトリクロロチタン、ジメトキシジクロロチタ
ン、トリメトキシモノクロロチタン、テトラメトキシチ
タン、モノエトキシトリクロロチタン、モノエトキシト
リフルオロチタン、モノエトキシトリブロモチタン、ジ
エトキシジフルオロチタン、ジエトキシジクロロチタ
ン、ジエトキシジブロモチタン、トリエトキシフルオロ
チタン、トリエトキシクロロチタン、テトラエトキシチ
タン、モノプロポキシトリクロロチタン、モノイソプロ
ポキシトリクロロチタン、ジプロポキシジクロロチタ
ン、ジイソプロポキシジクロロチタン、ジイソプロポキ
シジブロモチタン、トリイソプロポキシフルオロチタ
ン、トリプロポキシクロロチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトライソプロポキシチタン、モノブトキシ
トリクロロチタン、モノイソブトキシトリクロロチタ
ン、ジブトキシジクロロチタン、トリブトキシフルオロ
チタン、トリブトキシクロロチタン、トリイソブトキシ
クロロチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトライソ
ブトキシチタン、テトラsec−ブトキシチタン、テト
ラtert−ブトキシチタン、モノペントキシトリクロ
ロチタン、ジペントキシジクロロチタン、トリペントキ
シジモノクロロチタン、テトラn−ペンチルオキシチタ
ン、テトラシクロペンチルオキシチタン、モノオクチル
オキシトリクロロチタン、ジオクチルオキシジクロロチ
タン、トリオクチルオキシモノクロロチタン、テトラn
−ヘキシルオキシチタン、テトラシクロヘキシルオキシ
チタン、テトラ−n−ヘプチルオキシチタン、テトラ−
n−オクチルオキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシ
ルオキシチタン、モノ2−エチルヘキシルオキシトリク
ロロチタン、ジ2−エチルヘキシルオキシジクロロチタ
ン、トリ2−エチルヘキシルオキシモノクロロチタン、
テトラ−ノニルオキシチタン、テトラデシルオキシチタ
ン、テトライソボルニルオキシチタン、テトラオレイル
オキシチタン、テトラアリルオキシチタン、テトラベン
ジルオキシチタン、テトラベンズヒドリルオキシチタ
ン、モノフェノキシトリクロロチタン、ジフェノキシジ
クロロチタン、トリフェノキシクロロチタン、トリo−
キシレンオキシクロロチタン、テトラフェノキシチタ
ン、テトラ−o−メチルフェノキシチタン、テトラ−m
−メチルフェノキシチタン、テトラ−1−ナフチルオキ
シチタン、テトラ−2−ナフチルオキシチタン、また
は、これらの任意混合物などが例示され、好ましくは、
四塩化チタン、モノエトキシトリクロロチタン、ジエト
キシジクロロチタン、モノブトキシトリクロロチタン、
ジブトキシジクロロチタン、テトラエトキシチタン、テ
トライソプロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタ
ン、テトラ−n−ヘキシルオキシチタン、テトラ−n−
オクチルオキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシルオ
キシチタンなどが望ましい。
が、 一般式 Ti(OR)mX4−m (ここでRは炭素数1〜20の炭化水素残基、Xはハロ
ゲン原子を表し、mは0≦m≦4である)で表される化
合物が挙げられ、具体的には四塩化チタン、四臭化チタ
ン、四ヨウ化チタン等のテトラハロゲン化チタン、モノ
メトキシトリクロロチタン、ジメトキシジクロロチタ
ン、トリメトキシモノクロロチタン、テトラメトキシチ
タン、モノエトキシトリクロロチタン、モノエトキシト
リフルオロチタン、モノエトキシトリブロモチタン、ジ
エトキシジフルオロチタン、ジエトキシジクロロチタ
ン、ジエトキシジブロモチタン、トリエトキシフルオロ
チタン、トリエトキシクロロチタン、テトラエトキシチ
タン、モノプロポキシトリクロロチタン、モノイソプロ
ポキシトリクロロチタン、ジプロポキシジクロロチタ
ン、ジイソプロポキシジクロロチタン、ジイソプロポキ
シジブロモチタン、トリイソプロポキシフルオロチタ
ン、トリプロポキシクロロチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトライソプロポキシチタン、モノブトキシ
トリクロロチタン、モノイソブトキシトリクロロチタ
ン、ジブトキシジクロロチタン、トリブトキシフルオロ
チタン、トリブトキシクロロチタン、トリイソブトキシ
クロロチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトライソ
ブトキシチタン、テトラsec−ブトキシチタン、テト
ラtert−ブトキシチタン、モノペントキシトリクロ
ロチタン、ジペントキシジクロロチタン、トリペントキ
シジモノクロロチタン、テトラn−ペンチルオキシチタ
ン、テトラシクロペンチルオキシチタン、モノオクチル
オキシトリクロロチタン、ジオクチルオキシジクロロチ
タン、トリオクチルオキシモノクロロチタン、テトラn
−ヘキシルオキシチタン、テトラシクロヘキシルオキシ
チタン、テトラ−n−ヘプチルオキシチタン、テトラ−
n−オクチルオキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシ
ルオキシチタン、モノ2−エチルヘキシルオキシトリク
ロロチタン、ジ2−エチルヘキシルオキシジクロロチタ
ン、トリ2−エチルヘキシルオキシモノクロロチタン、
テトラ−ノニルオキシチタン、テトラデシルオキシチタ
ン、テトライソボルニルオキシチタン、テトラオレイル
オキシチタン、テトラアリルオキシチタン、テトラベン
ジルオキシチタン、テトラベンズヒドリルオキシチタ
ン、モノフェノキシトリクロロチタン、ジフェノキシジ
クロロチタン、トリフェノキシクロロチタン、トリo−
キシレンオキシクロロチタン、テトラフェノキシチタ
ン、テトラ−o−メチルフェノキシチタン、テトラ−m
−メチルフェノキシチタン、テトラ−1−ナフチルオキ
シチタン、テトラ−2−ナフチルオキシチタン、また
は、これらの任意混合物などが例示され、好ましくは、
四塩化チタン、モノエトキシトリクロロチタン、ジエト
キシジクロロチタン、モノブトキシトリクロロチタン、
ジブトキシジクロロチタン、テトラエトキシチタン、テ
トライソプロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタ
ン、テトラ−n−ヘキシルオキシチタン、テトラ−n−
オクチルオキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシルオ
キシチタンなどが望ましい。
【0030】前記バナジウム化合物としては四塩化バナ
ジウム、四臭化バナジウム、四ヨウ化バナジウム等の4
価のバナジウム化合物、オキシ三塩化バナジウム、オル
ソアルキルバナデート等の5価のバナジウム化合物、三
塩化バナジウム、バナジウムトリエトキシド等の3価の
バナジウム化合物などがあげられる。またバナジウム化
合物は単独あるいは前記チタン化合物と併用して用いら
れる。
ジウム、四臭化バナジウム、四ヨウ化バナジウム等の4
価のバナジウム化合物、オキシ三塩化バナジウム、オル
ソアルキルバナデート等の5価のバナジウム化合物、三
塩化バナジウム、バナジウムトリエトキシド等の3価の
バナジウム化合物などがあげられる。またバナジウム化
合物は単独あるいは前記チタン化合物と併用して用いら
れる。
【0031】前記チタン化合物、マグネシウム化合物に
さらにアルコール類、フェノール類、エーテル類、ケト
ン類、エステル類、アミン類、ニトリル類等の有機化合
物を加えてまたは、溶媒として存在させ相互に反応させ
てもよい。この中でとくにアルコール類が好ましく具体
的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、
2−プロパノール、1−ブタノール、2−メチル−1−
プロパノール、2−ブタノール、2−メチル−2−プロ
パノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−
ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチ
ル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3
−メチル−2−ブタノール、2,2−ジメチル−1−プ
ロパノール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メチル
−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、1
−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノー
ル、4−ヘプタノール、2,4−ジメチル−3−ペンタ
ノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エ
チル−1−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1−ヘキ
サノール、2,2,4−トリメチル−1−ペンタノー
ル、1−ノナノール、5−ノナノ−3,5−ジメチル−
4−ヘプタノール、2,6−ジメチル−4−ヘプタノー
ル、3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−
デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノール、
2,6,8−トリメチル−4−ノナノール、1−トリデ
カノール、1−ペンタデカノール、1−ヘキサデカノー
ル、1−ヘプタデカノール、1−オクタデカノール、1
−オクタデカノール、1−ノナデカノール、1−エイコ
サノール、フェノール、クロロフェノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブまたはこれらの任意混合物
などが挙げられる。好ましくは、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メチル
−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、
2,4−ジメチル−3−ペンタノール、2−エチル−1
−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1−ヘキサノー
ル、2,2,4−トリメチル−1−ペンタノール、3,
5−ジメチル−4−ヘプタノール、2,6−ジメチル−
4−ヘプタノール、3,5,5−トリメチル−1−ヘキ
サノールなどが望ましい。もちろん、工業用アルコール
として市販されているメタノール変性アルコール、ヘキ
サン変性アルコールと称される各種変性アルコールも何
ら支障なく用いることができる。
さらにアルコール類、フェノール類、エーテル類、ケト
ン類、エステル類、アミン類、ニトリル類等の有機化合
物を加えてまたは、溶媒として存在させ相互に反応させ
てもよい。この中でとくにアルコール類が好ましく具体
的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、
2−プロパノール、1−ブタノール、2−メチル−1−
プロパノール、2−ブタノール、2−メチル−2−プロ
パノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−
ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチ
ル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3
−メチル−2−ブタノール、2,2−ジメチル−1−プ
ロパノール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メチル
−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、1
−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノー
ル、4−ヘプタノール、2,4−ジメチル−3−ペンタ
ノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エ
チル−1−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1−ヘキ
サノール、2,2,4−トリメチル−1−ペンタノー
ル、1−ノナノール、5−ノナノ−3,5−ジメチル−
4−ヘプタノール、2,6−ジメチル−4−ヘプタノー
ル、3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−
デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノール、
2,6,8−トリメチル−4−ノナノール、1−トリデ
カノール、1−ペンタデカノール、1−ヘキサデカノー
ル、1−ヘプタデカノール、1−オクタデカノール、1
−オクタデカノール、1−ノナデカノール、1−エイコ
サノール、フェノール、クロロフェノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブまたはこれらの任意混合物
などが挙げられる。好ましくは、2−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メチル
−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、
2,4−ジメチル−3−ペンタノール、2−エチル−1
−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1−ヘキサノー
ル、2,2,4−トリメチル−1−ペンタノール、3,
5−ジメチル−4−ヘプタノール、2,6−ジメチル−
4−ヘプタノール、3,5,5−トリメチル−1−ヘキ
サノールなどが望ましい。もちろん、工業用アルコール
として市販されているメタノール変性アルコール、ヘキ
サン変性アルコールと称される各種変性アルコールも何
ら支障なく用いることができる。
【0032】前記チタン化合物および/またはバナジウ
ム化合物、マグネシウム化合物、ケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物にさらにケイ素化合物を加え
相互に反応させる方法を用いることができる。かかるケ
イ素化合物としては一般式 R1 aR2 bR3 cR4 dSiX
4−(a+b+c+d) (式中、R1、R2、R3およびR4は、水素、炭素数
1〜20、好ましくは1〜12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基等の炭化水素基、−OR5基、(R5
は、水素、炭素数1〜20、好ましくは1〜12のアル
キル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基を示
す)を示し、R1、R2、R3およびR4は同一でも異
なってもよく、Xはフッ素、塩素、臭素、沃素等のハロ
ゲン原子を示し、0≦a<4、0≦b<4、0≦c<
4、0≦d<4、かつ0≦a+b+c+d≦4、好まし
くは0<a+b+c+d≦4を満たすものである。)が
あげられる。
ム化合物、マグネシウム化合物、ケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物にさらにケイ素化合物を加え
相互に反応させる方法を用いることができる。かかるケ
イ素化合物としては一般式 R1 aR2 bR3 cR4 dSiX
4−(a+b+c+d) (式中、R1、R2、R3およびR4は、水素、炭素数
1〜20、好ましくは1〜12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基等の炭化水素基、−OR5基、(R5
は、水素、炭素数1〜20、好ましくは1〜12のアル
キル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基を示
す)を示し、R1、R2、R3およびR4は同一でも異
なってもよく、Xはフッ素、塩素、臭素、沃素等のハロ
ゲン原子を示し、0≦a<4、0≦b<4、0≦c<
4、0≦d<4、かつ0≦a+b+c+d≦4、好まし
くは0<a+b+c+d≦4を満たすものである。)が
あげられる。
【0033】これらのケイ素化合物としては、具体的に
は、テトラエトキシシラン、トリエトキシクロロシラ
ン、ジエトキシジクロロシラン、エトキシトリクロロシ
ラン、テトラフェノキシシラン、トリフェノキシクロロ
シラン、ジフェノキシジクロロシラン、フェノキシトリ
クロロシラン、テトラベンゾキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジ
エトキシシラン、ビスジメチルアミノジメチルシラン、
メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、四塩
化ケイ素などの化合物をあげることができる。
は、テトラエトキシシラン、トリエトキシクロロシラ
ン、ジエトキシジクロロシラン、エトキシトリクロロシ
ラン、テトラフェノキシシラン、トリフェノキシクロロ
シラン、ジフェノキシジクロロシラン、フェノキシトリ
クロロシラン、テトラベンゾキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジ
エトキシシラン、ビスジメチルアミノジメチルシラン、
メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、四塩
化ケイ素などの化合物をあげることができる。
【0034】前記チタン化合物および/またはバナジウ
ム化合物、マグネシウム化合物、ケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物にさらに有機アルミニウム化
合物を加え相互に反応させる方法を用いることができ
る。かかる有機アルミニウム化合物としては 一般式 RnAlX3−n で表される化合物 (式中、Rは、水素、炭素数1〜20、好ましくは1〜
12のアルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化
水素基、−OR’基、(R’は水素、炭素数1〜20、
好ましくは1〜12のアルキル基、アリール基、アラル
キル基等の炭化水素基を示す)を示し、Xはフッ素、塩
素、臭素、沃素等のハロゲン原子を示し、nは、0≦n
<3、を満たすものであり、n>1の場合、R同士は同
一でも異なってもよい。)があげられる。
ム化合物、マグネシウム化合物、ケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物にさらに有機アルミニウム化
合物を加え相互に反応させる方法を用いることができ
る。かかる有機アルミニウム化合物としては 一般式 RnAlX3−n で表される化合物 (式中、Rは、水素、炭素数1〜20、好ましくは1〜
12のアルキル基、アリール基、アラルキル基等の炭化
水素基、−OR’基、(R’は水素、炭素数1〜20、
好ましくは1〜12のアルキル基、アリール基、アラル
キル基等の炭化水素基を示す)を示し、Xはフッ素、塩
素、臭素、沃素等のハロゲン原子を示し、nは、0≦n
<3、を満たすものであり、n>1の場合、R同士は同
一でも異なってもよい。)があげられる。
【0035】これらの有機アルミニウム化合物として
は、具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシ
ルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジ
クロリド等の化合物を挙げることができる。
は、具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシ
ルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジ
クロリド等の化合物を挙げることができる。
【0036】本発明で使用するマグネシウム、チタンお
よび/またはバナジウム、ハロゲンを必須成分として含
有する固体成分の調製方法は特に限定されるものではな
く、不活性の炭化水素溶媒の存在下または不存在下に上
記チタン化合物、マグネシウム化合物などを温度0〜2
00℃にて30分〜50時間、ボールミル、振動ミル、
ロッドミル、衝撃ミルなどを用いて共粉砕する方法を用
いてもよく、また、不活性炭化水素、アルコール類、フ
ェノール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミ
ン類、ニトリル類等あるいはそれらの混合物からなる有
機溶媒中で0〜400℃、好ましくは20〜300℃の
温度で5分〜10時間混合加熱反応させ、しかる後溶媒
を蒸発除去する方法を用いてもよい。
よび/またはバナジウム、ハロゲンを必須成分として含
有する固体成分の調製方法は特に限定されるものではな
く、不活性の炭化水素溶媒の存在下または不存在下に上
記チタン化合物、マグネシウム化合物などを温度0〜2
00℃にて30分〜50時間、ボールミル、振動ミル、
ロッドミル、衝撃ミルなどを用いて共粉砕する方法を用
いてもよく、また、不活性炭化水素、アルコール類、フ
ェノール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミ
ン類、ニトリル類等あるいはそれらの混合物からなる有
機溶媒中で0〜400℃、好ましくは20〜300℃の
温度で5分〜10時間混合加熱反応させ、しかる後溶媒
を蒸発除去する方法を用いてもよい。
【0037】各成分の反応割合については特に制限はな
いが、Ti/Mgモル比で0.001〜1000、好ま
しくは0.01〜100、さらに好ましくは0.05〜
10を用いることが望ましい。
いが、Ti/Mgモル比で0.001〜1000、好ま
しくは0.01〜100、さらに好ましくは0.05〜
10を用いることが望ましい。
【0038】これら固体触媒成分の具体例としては、特
公昭63−63561、特公昭63−63681、特公
平1−10528、特公平1−11651、特公平1−
12286、特公平1−12289、特公平1−358
46、特公平1−35844、特公平1−35845、
特開昭60−149605、特開昭62−32105、
特開昭61−207306、特開昭63−61008、
特開平3−35004、特開平3−64306、特開平
3−153707、特開平3−185004、特開平3
−252407、特開平3−121103、特開平4−
261408等に開示されているものがあげられる。
公昭63−63561、特公昭63−63681、特公
平1−10528、特公平1−11651、特公平1−
12286、特公平1−12289、特公平1−358
46、特公平1−35844、特公平1−35845、
特開昭60−149605、特開昭62−32105、
特開昭61−207306、特開昭63−61008、
特開平3−35004、特開平3−64306、特開平
3−153707、特開平3−185004、特開平3
−252407、特開平3−121103、特開平4−
261408等に開示されているものがあげられる。
【0039】本発明の固体触媒成分は、いわゆるチグラ
ー触媒として周期律表第I〜IV族の有機金属化合物と
ともに使用される。特に有機アルミニウム化合物および
有機亜鉛化合物が好ましい。具体的な例としては一般式
R3Al、R2AlX、RAlX2、R2AlOR、R
Al(OR)XおよびR3Al2X3の有機アルミニウ
ム化合物(ただしRは炭素数1〜20のアルキル基また
はアリール基、Xはハロゲン原子を示し、Rは同一でも
また異なってもよい)または一般式R2Zn(ただしR
は炭素数1〜20のアルキル基であり二者同一でもまた
異なっていてもよい)の有機亜鉛化合物で示されるもの
で、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリsec−ブチルアルミニウム、トリt
ert−ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムセキスクロリド、ジエチル亜鉛およびこ
れらの混合物等があげられる。有機金属化合物の使用量
は特に制限はないが、通常チタン化合物に対して0.1
〜1000mol倍使用することができる。
ー触媒として周期律表第I〜IV族の有機金属化合物と
ともに使用される。特に有機アルミニウム化合物および
有機亜鉛化合物が好ましい。具体的な例としては一般式
R3Al、R2AlX、RAlX2、R2AlOR、R
Al(OR)XおよびR3Al2X3の有機アルミニウ
ム化合物(ただしRは炭素数1〜20のアルキル基また
はアリール基、Xはハロゲン原子を示し、Rは同一でも
また異なってもよい)または一般式R2Zn(ただしR
は炭素数1〜20のアルキル基であり二者同一でもまた
異なっていてもよい)の有機亜鉛化合物で示されるもの
で、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリsec−ブチルアルミニウム、トリt
ert−ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムセキスクロリド、ジエチル亜鉛およびこ
れらの混合物等があげられる。有機金属化合物の使用量
は特に制限はないが、通常チタン化合物に対して0.1
〜1000mol倍使用することができる。
【0040】本発明においては、有機金属化合物成分
は、前記有機金属化合物と有機酸エステルとの混合物も
しくは付加化合物として用いることも好ましく採用する
ことができる。この時有機金属化合物と有機酸エステル
を混合物として用いる場合には、有機金属化合物1モル
に対して、有機酸エステルを通常0.1〜1モル、好ま
しくは0.2〜0.5モル使用する。また、有機金属化
合物と有機酸エステルとの付加化合物として用いる場合
は、有機金属化合物:有機酸エステルのモル比が2:1
〜1:2のものが好ましい。
は、前記有機金属化合物と有機酸エステルとの混合物も
しくは付加化合物として用いることも好ましく採用する
ことができる。この時有機金属化合物と有機酸エステル
を混合物として用いる場合には、有機金属化合物1モル
に対して、有機酸エステルを通常0.1〜1モル、好ま
しくは0.2〜0.5モル使用する。また、有機金属化
合物と有機酸エステルとの付加化合物として用いる場合
は、有機金属化合物:有機酸エステルのモル比が2:1
〜1:2のものが好ましい。
【0041】また、本発明の目的をそこなわない範囲で
有機金属化合物に、さらに他の成分例えば、有機ケイ素
化合物、各種電子供与体を組合せて用いることができ
る。
有機金属化合物に、さらに他の成分例えば、有機ケイ素
化合物、各種電子供与体を組合せて用いることができ
る。
【0042】この時に用いられる有機酸エステルとは、
炭素数が1〜24の飽和もしくは不飽和の一塩基性ない
し二塩基性の有機カルボン酸素と炭素数1〜30のアル
コールとのエステルである。具体的には、ギ酸メチル、
酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸フェニル、酢酸オクチ
ル、メタクリル酸メチル、ステアリン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸n−プロピル、安
息香酸ジ−プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ヘキシ
ル、安息香酸シクロペンチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸4−トリル、サリチル
酸メチル、サリチル酸エチル、p−オキシ安息香酸メチ
ル、p−オキシ安息香酸エチル、サリチル酸フェニル、
p−オキシ安息香酸シクロヘキシル、サリチルサンペン
ジル、α−レゾルシン酸エチル、アニス酸メチル、アニ
ス酸エチル、アニス酸フェニル、アニス酸ベンジル、o
−メトキシ安息香酸エチル、p−エトキシ安息香酸メチ
ル、p−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エチル、p
−トルイル酸フェニル、o−トルイル酸エチル、m−ト
ルイル酸エチル、p−アミノ安息香酸メチル、p−アミ
ノ安息香酸エチル、安息香酸ビニル、安息香酸アリル、
安息香酸ベンジル、ナフトエ酸メチル、ナフトエ酸エチ
ルなどをあげることができる。これらの中でも特に好ま
しいのは安息香酸、o−またはp−トレイル酸またはp
−アニス酸のアルキルエステルであり、特にこれらのメ
チルエステル、エチルエステルが好ましい。
炭素数が1〜24の飽和もしくは不飽和の一塩基性ない
し二塩基性の有機カルボン酸素と炭素数1〜30のアル
コールとのエステルである。具体的には、ギ酸メチル、
酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸フェニル、酢酸オクチ
ル、メタクリル酸メチル、ステアリン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸n−プロピル、安
息香酸ジ−プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ヘキシ
ル、安息香酸シクロペンチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸4−トリル、サリチル
酸メチル、サリチル酸エチル、p−オキシ安息香酸メチ
ル、p−オキシ安息香酸エチル、サリチル酸フェニル、
p−オキシ安息香酸シクロヘキシル、サリチルサンペン
ジル、α−レゾルシン酸エチル、アニス酸メチル、アニ
ス酸エチル、アニス酸フェニル、アニス酸ベンジル、o
−メトキシ安息香酸エチル、p−エトキシ安息香酸メチ
ル、p−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エチル、p
−トルイル酸フェニル、o−トルイル酸エチル、m−ト
ルイル酸エチル、p−アミノ安息香酸メチル、p−アミ
ノ安息香酸エチル、安息香酸ビニル、安息香酸アリル、
安息香酸ベンジル、ナフトエ酸メチル、ナフトエ酸エチ
ルなどをあげることができる。これらの中でも特に好ま
しいのは安息香酸、o−またはp−トレイル酸またはp
−アニス酸のアルキルエステルであり、特にこれらのメ
チルエステル、エチルエステルが好ましい。
【0043】本発明の固体触媒成分と有機金属化合物に
よる触媒を使用してのオレフィンの重合は、スラリー重
合、溶液重合または気相重合にて行うことができる。特
に本発明の触媒は気相重合に好適に用いることができ、
重合反応は通常のチグラー型触媒によるオレフィン重合
反応と同様にして行われる。すなわち反応はすべて実質
的に酸素、水などを絶った状態で不活性炭化水素の存在
下、あるいは不存在下で行われる。オレフィンの重合条
件は温度は20ないし120℃、好ましくは50ないし
100℃であり、圧力は常圧ないし70kg/cm2、
好ましくは2ないし60kg/cm2である。分子量の
調節は重合温度、触媒のモル比などの重合条件を変える
ことによってある程度調節できるが重合系中に水素を添
加することにより効果的に行われる。もちろん、本発明
の触媒を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件の異
なった2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応も何等
支障なく実施できる。
よる触媒を使用してのオレフィンの重合は、スラリー重
合、溶液重合または気相重合にて行うことができる。特
に本発明の触媒は気相重合に好適に用いることができ、
重合反応は通常のチグラー型触媒によるオレフィン重合
反応と同様にして行われる。すなわち反応はすべて実質
的に酸素、水などを絶った状態で不活性炭化水素の存在
下、あるいは不存在下で行われる。オレフィンの重合条
件は温度は20ないし120℃、好ましくは50ないし
100℃であり、圧力は常圧ないし70kg/cm2、
好ましくは2ないし60kg/cm2である。分子量の
調節は重合温度、触媒のモル比などの重合条件を変える
ことによってある程度調節できるが重合系中に水素を添
加することにより効果的に行われる。もちろん、本発明
の触媒を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件の異
なった2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応も何等
支障なく実施できる。
【0044】本発明の方法はチグラー触媒で重合できる
すべてのオレフィンの重合に適用可能であり、特に炭素
数2〜12のα−オレフインが好ましく、たとえばエチ
レン、プロピレン、1−ブテン、ヘキセン−1、4−メ
チルペンテン−1などのα−オレフィン類の単独重合お
よびエチレンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エ
チレンとヘキセン−1、エチレンと4−メチルペンテン
−1等のエチレン炭素数3〜12のα−オレフィンの共
重合、プロピレンと1−ブテンの共重合およびエチレン
と他の2種類以上のα−オレフィンとの共重合などに好
適に使用される。また、ポリオレフィンの改質を目的と
する場合のジエンとの共重合も好ましく行われる。この
時使用されるジエン化合物の例としてはブタジエン、
1,4−ヘキサジエン、エチリデンノルボルネン、ジシ
クロペンタジエン等を挙げることができる。なお、共重
合の際のコモノマー含有率は任意に選択できうるもので
あるが、例えば、エチレンと炭素数3〜12のα−オレ
フィンとの共重合の場合、エチレン・α−オレフィン共
重合体中のα−オレフィン含有量は0〜40モル%好ま
しくは0〜30モル%とするのが望ましい。
すべてのオレフィンの重合に適用可能であり、特に炭素
数2〜12のα−オレフインが好ましく、たとえばエチ
レン、プロピレン、1−ブテン、ヘキセン−1、4−メ
チルペンテン−1などのα−オレフィン類の単独重合お
よびエチレンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エ
チレンとヘキセン−1、エチレンと4−メチルペンテン
−1等のエチレン炭素数3〜12のα−オレフィンの共
重合、プロピレンと1−ブテンの共重合およびエチレン
と他の2種類以上のα−オレフィンとの共重合などに好
適に使用される。また、ポリオレフィンの改質を目的と
する場合のジエンとの共重合も好ましく行われる。この
時使用されるジエン化合物の例としてはブタジエン、
1,4−ヘキサジエン、エチリデンノルボルネン、ジシ
クロペンタジエン等を挙げることができる。なお、共重
合の際のコモノマー含有率は任意に選択できうるもので
あるが、例えば、エチレンと炭素数3〜12のα−オレ
フィンとの共重合の場合、エチレン・α−オレフィン共
重合体中のα−オレフィン含有量は0〜40モル%好ま
しくは0〜30モル%とするのが望ましい。
【0045】〔実施例〕以下に実施例をのべるが、これ
らは本発明を実施するための説明用のものであって本発
明はこれらに制限されるものではない。
らは本発明を実施するための説明用のものであって本発
明はこれらに制限されるものではない。
【0046】なお、本発明に使用する金属酸化物の平均
粒径、比表面積、細孔容積、見掛比重、超音波破壊度は
下記の方法により測定した。
粒径、比表面積、細孔容積、見掛比重、超音波破壊度は
下記の方法により測定した。
【0047】<平均粒径>内径75mmの標準篩い10
個(呼び寸法22、32、53、75、100、12
5、150、180、212、250μmを各1個ず
つ)に試料1.5gをいれ、20分間振とう後、各篩い
上の試料の重量%を対数確率紙にプロットし、50%の
積算値が示す粒径をもって平均粒径とした。
個(呼び寸法22、32、53、75、100、12
5、150、180、212、250μmを各1個ず
つ)に試料1.5gをいれ、20分間振とう後、各篩い
上の試料の重量%を対数確率紙にプロットし、50%の
積算値が示す粒径をもって平均粒径とした。
【0048】<比表面積>島津製作所製、比表面積自動
測定装置2200型を使用し、常法に従いBET法で測
定した。
測定装置2200型を使用し、常法に従いBET法で測
定した。
【0049】<細孔容積>島津製作所製、マイクロメリ
テックス オートポアー9220型を使用し、圧力0.
033〜4200kg/cm2で測定し、細孔半径18
〜1,000オングストローム間の容積をもって細孔容
積とした。
テックス オートポアー9220型を使用し、圧力0.
033〜4200kg/cm2で測定し、細孔半径18
〜1,000オングストローム間の容積をもって細孔容
積とした。
【0050】<見掛比重>JIS K−6220−6.
8の見掛比重測定法にしたがって測定した。
8の見掛比重測定法にしたがって測定した。
【0051】<超音波破壊度>内径30cm、呼び寸法
53μmと75μmの標準篩いに試料10gを入れ10
分間振とうし、53μmの篩い上試料を以下の超音波破
壊試験に使用した。室温下、50mlの三角フラスコに
純水20m1を入れ、それに上記53μm篩い上試料1
gを入れ、VELVO−CLEAR社製VS−50R超
音波洗浄器で20分間超音波処理(40KHz、35
W)を行った。次にグリセリンを20g加え、島津製作
所製粒度分布測定器SA−CP3を用いて粒度分布を測
定し、50μm以下のパーセントをもって超音波破壊度
とした。
53μmと75μmの標準篩いに試料10gを入れ10
分間振とうし、53μmの篩い上試料を以下の超音波破
壊試験に使用した。室温下、50mlの三角フラスコに
純水20m1を入れ、それに上記53μm篩い上試料1
gを入れ、VELVO−CLEAR社製VS−50R超
音波洗浄器で20分間超音波処理(40KHz、35
W)を行った。次にグリセリンを20g加え、島津製作
所製粒度分布測定器SA−CP3を用いて粒度分布を測
定し、50μm以下のパーセントをもって超音波破壊度
とした。
【0052】[固体触媒成分の調製]実施例および比較
例に使用したケイ素化合物および/またはアルミニウム
化合物の性状を表1に示した。
例に使用したケイ素化合物および/またはアルミニウム
化合物の性状を表1に示した。
【0053】
【表1】
【0054】固体触媒成分A 攪拌機および還流冷却器をつけた500ml三ッ口フラ
スコを窒素置換し、この中に表1のIに示した性状を持
ったシリカ50gを入れ、脱水ヘキサン160ml、四
塩化チタン2.2mlを加えてヘキサンリフラックス下
3時間反応させた。冷却後ジエチルアルミニウムクロリ
ドの1mmol/ccのヘキサン溶液を30ml加えて
再びヘキサンリフラックスで2時間反応させた後、12
0℃で減圧乾燥を行いヘキサンを除去した。
スコを窒素置換し、この中に表1のIに示した性状を持
ったシリカ50gを入れ、脱水ヘキサン160ml、四
塩化チタン2.2mlを加えてヘキサンリフラックス下
3時間反応させた。冷却後ジエチルアルミニウムクロリ
ドの1mmol/ccのヘキサン溶液を30ml加えて
再びヘキサンリフラックスで2時間反応させた後、12
0℃で減圧乾燥を行いヘキサンを除去した。
【0055】1/2インチ直径を有するステンレススチ
ール製ボールが25個入った内容積400mlのステン
レススチール製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム
10g、トリエトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素
雰囲気下、室温で16時間ボールミリングを行い反応生
成物を得た。
ール製ボールが25個入った内容積400mlのステン
レススチール製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム
10g、トリエトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素
雰囲気下、室温で16時間ボールミリングを行い反応生
成物を得た。
【0056】該反応生成物5.4gを脱水エタノール1
60mlに溶解させ、その溶液を全量三ッ口に加え、エ
タノールリフラックス下3時間反応させた後、150℃
で6時間減圧乾燥を行い固体触媒成分を得た。
60mlに溶解させ、その溶液を全量三ッ口に加え、エ
タノールリフラックス下3時間反応させた後、150℃
で6時間減圧乾燥を行い固体触媒成分を得た。
【0057】固体触媒成分B 固体触媒成分Aにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
【0058】固体触媒成分C 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水した2−メチル−1−ペンタノー
ル100g、上記の無水塩化マグネシウムとトリエトキ
シアルミニウムの反応物5.0g、テトラエトキシチタ
ン10.0gをいれ80℃、1時間反応させた。室温に
冷却後、表1のIに示した性状を持ったシリカ46gを
入れ、再び80℃で2時間反応させた後、120℃で2
時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。次に脱水したヘキ
サン100ccおよびジエチルアルミニウムクロリド1
0.0gを加えて室温で1時間反応させ、その後60℃
で3時間窒素ブローを行い、ヘキサンを除去して固体触
媒成分を得た。
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水した2−メチル−1−ペンタノー
ル100g、上記の無水塩化マグネシウムとトリエトキ
シアルミニウムの反応物5.0g、テトラエトキシチタ
ン10.0gをいれ80℃、1時間反応させた。室温に
冷却後、表1のIに示した性状を持ったシリカ46gを
入れ、再び80℃で2時間反応させた後、120℃で2
時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。次に脱水したヘキ
サン100ccおよびジエチルアルミニウムクロリド1
0.0gを加えて室温で1時間反応させ、その後60℃
で3時間窒素ブローを行い、ヘキサンを除去して固体触
媒成分を得た。
【0059】固体触媒成分D 固体触媒成分Cにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
ことを除いては固体触媒成分Cと同様の方法で固体触媒
成分を調製した。
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
ことを除いては固体触媒成分Cと同様の方法で固体触媒
成分を調製した。
【0060】固体触媒成分E 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に上記反応生成物5gおよび表1のII
Iに示した性状を持ったシリカ5gを入れ、ついでテト
ラヒドロフラン100mlを加えて、60℃2時間反応
させた後、120℃で減圧乾燥を行いテトラヒドロフラ
ンを除去した。次にヘキサン50mlを加えて攪拌した
後、四塩化チタンを1.1ml加えてヘキサン還流下で
2時間反応させて、その後60℃で3時間窒素ブローを
行いヘキサンを除去した。上記で得られた固体粉末をヘ
キサン50ml中にいれ、ついでテトラエトキシシラン
1mlを加え、ヘキサン還流下で2時間反応させ、その
後60℃で3時間窒素ブローを行いヘキサンを除去して
固体触媒成分を得た。
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に上記反応生成物5gおよび表1のII
Iに示した性状を持ったシリカ5gを入れ、ついでテト
ラヒドロフラン100mlを加えて、60℃2時間反応
させた後、120℃で減圧乾燥を行いテトラヒドロフラ
ンを除去した。次にヘキサン50mlを加えて攪拌した
後、四塩化チタンを1.1ml加えてヘキサン還流下で
2時間反応させて、その後60℃で3時間窒素ブローを
行いヘキサンを除去した。上記で得られた固体粉末をヘ
キサン50ml中にいれ、ついでテトラエトキシシラン
1mlを加え、ヘキサン還流下で2時間反応させ、その
後60℃で3時間窒素ブローを行いヘキサンを除去して
固体触媒成分を得た。
【0061】固体触媒成分F 固体触媒成分Eにおいて表1のIIIの性状をもったシ
リカのかわりに、表1のIVの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Eと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
リカのかわりに、表1のIVの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Eと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
【0062】固体触媒成分G 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に上記反応生成物5gおよび表1のII
Iに示した性状を持ったシリカ5gを入れ、ついでテト
ラヒドロフラン100mlを加えて、60℃2時間反応
させた後、120℃で減圧乾燥を行いテトラヒドロフラ
ンを除去した。次に四塩化ケイ素3mlを加えて60℃
で2時間反応させた後、四塩化チタンを1.6ml加え
て130℃で2時間反応させて、固体触媒成分を得た。
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に上記反応生成物5gおよび表1のII
Iに示した性状を持ったシリカ5gを入れ、ついでテト
ラヒドロフラン100mlを加えて、60℃2時間反応
させた後、120℃で減圧乾燥を行いテトラヒドロフラ
ンを除去した。次に四塩化ケイ素3mlを加えて60℃
で2時間反応させた後、四塩化チタンを1.6ml加え
て130℃で2時間反応させて、固体触媒成分を得た。
【0063】固体触媒成分H 固体触媒成分Gにおいて表1のIIIの性状をもったシ
リカのかわりに、表1のIVの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Gと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
リカのかわりに、表1のIVの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Gと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
【0064】固体触媒成分I 固体触媒成分Aにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のVの性状をもったアルミナを用いる
事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
のかわりに、表1のVの性状をもったアルミナを用いる
事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
【0065】固体触媒成分J 固体触媒成分Aにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のVIの性状をもったシリカアルミナ
を用いる事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固
体触媒成分を調製した。
のかわりに、表1のVIの性状をもったシリカアルミナ
を用いる事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固
体触媒成分を調製した。
【0066】固体触媒成分K 固体触媒成分Aにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のVIIの性状をもったシリカを用い
る事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒
成分を調製した。
のかわりに、表1のVIIの性状をもったシリカを用い
る事を除いては固体触媒成分Aと同様の方法で固体触媒
成分を調製した。
【0067】固体触媒成分L 固体触媒成分Cにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のVIIIの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Cと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
のかわりに、表1のVIIIの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Cと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
【0068】固体触媒成分M 固体触媒成分Gにおいて表1のIIIの性状をもったシ
リカのかわりに、表1のIXの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Gと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
リカのかわりに、表1のIXの性状をもったシリカを用
いる事を除いては固体触媒成分Gと同様の方法で固体触
媒成分を調製した。
【0069】固体触媒成分N 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、ビニ
ルトリエトキシシラン4.56gおよびフェノール1.
51gを入れ窒素雰囲気下、室温で6時間ボールミリン
グを行った後、フェニルエーテル0.68gを加えて窒
素雰囲気下、室温でさらに16時間ボールミリングを行
った。攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコ
を窒素置換し、この中に脱水したエタノール100g、
上記固体反応物5.0gを加えて80℃1時間反応させ
た。その後室温に冷却し、四塩化チタン10.0gを1
時間かけて加えた。次に、表1のIに示した性状を持っ
たシリカ46gを入れ、再び80℃で2時間反応させた
後、120℃で2時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。
次に脱水したヘキサン100ccおよびジエチルアルミ
ニウムクロリド10.0gを加えて室温で1時間反応さ
せ、その後60℃で3時間窒素ブローを行い、ヘキサン
を除去して固体触媒成分を得た。
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、ビニ
ルトリエトキシシラン4.56gおよびフェノール1.
51gを入れ窒素雰囲気下、室温で6時間ボールミリン
グを行った後、フェニルエーテル0.68gを加えて窒
素雰囲気下、室温でさらに16時間ボールミリングを行
った。攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコ
を窒素置換し、この中に脱水したエタノール100g、
上記固体反応物5.0gを加えて80℃1時間反応させ
た。その後室温に冷却し、四塩化チタン10.0gを1
時間かけて加えた。次に、表1のIに示した性状を持っ
たシリカ46gを入れ、再び80℃で2時間反応させた
後、120℃で2時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。
次に脱水したヘキサン100ccおよびジエチルアルミ
ニウムクロリド10.0gを加えて室温で1時間反応さ
せ、その後60℃で3時間窒素ブローを行い、ヘキサン
を除去して固体触媒成分を得た。
【0070】固体触媒成分O 固体触媒成分Nにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Nと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
のかわりに、表1のIIの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Nと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
【0071】固体触媒成分P 固体触媒成分Nにおいて表1のIの性状をもったシリカ
のかわりに、表1のIXの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Nと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
のかわりに、表1のIXの性状をもったシリカを用いる
事を除いては固体触媒成分Nと同様の方法で固体触媒成
分を調製した。
【0072】実施例1 気相重合装置としては攪拌機が付いたステンレス製オー
トクレーブを用い、ブロワー、流量調節器および乾式サ
イクロンでループをつくり、オートクレーブはジャケッ
トに温水を流すことによって温度を調節した。80℃に
調節したオートクレーブに上記固体触媒成分Aを250
mg/hr、およびトリエチルアルミニウムを50mm
ol/hrの速度で供給し、またオートクレーブ気相中
のブテン−1/エチレンモル比を0.30に、水素/エ
チレンモル比を0.1となるように調整しながら各々の
ガスを供給し、全圧を8kg/cm2Gに保ちながらブ
ロワーにより系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間
欠的に抜き出しながら10時間の連続重合を行った。
トクレーブを用い、ブロワー、流量調節器および乾式サ
イクロンでループをつくり、オートクレーブはジャケッ
トに温水を流すことによって温度を調節した。80℃に
調節したオートクレーブに上記固体触媒成分Aを250
mg/hr、およびトリエチルアルミニウムを50mm
ol/hrの速度で供給し、またオートクレーブ気相中
のブテン−1/エチレンモル比を0.30に、水素/エ
チレンモル比を0.1となるように調整しながら各々の
ガスを供給し、全圧を8kg/cm2Gに保ちながらブ
ロワーにより系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間
欠的に抜き出しながら10時間の連続重合を行った。
【0073】触媒効率は260,000g共重合体/g
Tiときわめて高活性であった。生成したエチレン共重
合体は、メルトフローレイト(MFR)0.95g/1
0min、(ASTM−D1238−65T準拠、条件
190℃、荷重2.16kg)、密度0.9203g/
cm3であり、かさ密度0.50g/cm3、平均粒径
750μmの形状の丸い粒状物であった。また、10時
間の連続重合後、オートクレーブ内部の点検を行ったと
ころ、内壁および攪拌機には全くポリマーは付着してい
なかった。
Tiときわめて高活性であった。生成したエチレン共重
合体は、メルトフローレイト(MFR)0.95g/1
0min、(ASTM−D1238−65T準拠、条件
190℃、荷重2.16kg)、密度0.9203g/
cm3であり、かさ密度0.50g/cm3、平均粒径
750μmの形状の丸い粒状物であった。また、10時
間の連続重合後、オートクレーブ内部の点検を行ったと
ころ、内壁および攪拌機には全くポリマーは付着してい
なかった。
【0074】実施例2〜10および比較例1〜3 表2に記載の固体触媒成分を用いて実施例1と同様に重
合を行った。結果を表2に示した。
合を行った。結果を表2に示した。
【0075】
【表2】
【0076】実施例11 気相重合装置としては攪拌機が付いたステンレス製オー
トクレーブを用い、ブロワー、流量調節器および乾式サ
イクロンでループをつくり、オートクレーブはジャケッ
トに温水を流すことによって温度を調節した。70℃に
調節したオートクレーブに上記固体触媒成分Nを250
mg/hr、トリエチルアルミニウムを50mmol/
hrおよびフェニルトリエトキシシラン25mmol/
hrの速度で供給し、またオートクレーブ気相中の水素
/エチレンモル比を0.05となるように調製しながら
各々のガスを供給し、全圧を8kg/cm2Gに保ちな
がらブロワーにより系内のガスを循環させ、生成ポリマ
ーを間欠的に抜き出しながら10時間の連続重合を行っ
た。
トクレーブを用い、ブロワー、流量調節器および乾式サ
イクロンでループをつくり、オートクレーブはジャケッ
トに温水を流すことによって温度を調節した。70℃に
調節したオートクレーブに上記固体触媒成分Nを250
mg/hr、トリエチルアルミニウムを50mmol/
hrおよびフェニルトリエトキシシラン25mmol/
hrの速度で供給し、またオートクレーブ気相中の水素
/エチレンモル比を0.05となるように調製しながら
各々のガスを供給し、全圧を8kg/cm2Gに保ちな
がらブロワーにより系内のガスを循環させ、生成ポリマ
ーを間欠的に抜き出しながら10時間の連続重合を行っ
た。
【0077】触媒効率は150,000g重合体/gT
iときわめて高活性であった。生成したポリプロピレン
重合体は、メルトフローインデックス(MFI)7.8
g/10min、沸騰n−ヘプタンによる抽出残率は9
8.0wt%、かさ密度0.48g/cm3、平均粒径
650μmの形状の丸い粒状物であった。また、10時
間の連続重合後、オートクレーブ内部の点検を行ったと
ころ、内壁および攪拌機には全くポリマーは付着してい
なかった。
iときわめて高活性であった。生成したポリプロピレン
重合体は、メルトフローインデックス(MFI)7.8
g/10min、沸騰n−ヘプタンによる抽出残率は9
8.0wt%、かさ密度0.48g/cm3、平均粒径
650μmの形状の丸い粒状物であった。また、10時
間の連続重合後、オートクレーブ内部の点検を行ったと
ころ、内壁および攪拌機には全くポリマーは付着してい
なかった。
【0078】実施例12および比較例4 表3に記載の固体触媒成分を用いて実施例11と同様に
重合を行った。結果を表3に示した。
重合を行った。結果を表3に示した。
【0079】
【表3】
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくともマグネシウム、チタンおよび
/またはバナジウム、ハロゲンをケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物に担持したオレフィン重合用
固体触媒成分において、該ケイ素酸化物および/または
アルミニウム酸化物が、下記に示す(A)〜(E)の特
性を満足することを特徴とするオレフィン重合用固体触
媒成分。 (A)篩い法で測定された平均粒径が20〜150μm
である。 (B)BET法で測定された比表面積が150〜600
m2/gである。 (C)水銀圧入法で測定された細孔半径18〜1,00
0オングストロームの間の細孔容積が0.3〜2.0c
m3/gである。 (D)JIS−K6220−6.8で測定された見掛比
重が0.32以上である。 (E)篩い法で53μm以上、75μm以下の範囲に分
級された粒子を40KHz、35Wで20分間超音波破
壊処理を行った後において、50μm以下の粒子割合
(超音波破壊度)が30%以下である。 - 【請求項2】 少なくともマグネシウム、チタンおよび
/またはバナジウム、ハロゲンをケイ素酸化物および/
またはアルミニウム酸化物に担持した固体触媒成分にお
いて、該ケイ素酸化物および/またはアルミニウム酸化
物が、下記に示す(A)〜(E)の特性を満足すること
を特徴とする固体触媒成分と、有機金属化合物からなる
触媒を用いたポリオレフィンの製造方法。 (A)篩い法で測定された平均粒径が20〜150μm
である。 (B)BET法で測定された比表面積が150〜600
m2/gである。 (C)水銀圧入法で測定された細孔半径18〜1,00
0オングストロームの間の細孔容積が0.3〜2.0c
m3/gである。 (D)JIS−K6220−6.8で測定された見掛比
重が0.32以上である。 (E)篩い法で53μm以上、75μm以下の範囲に分
級された粒子を40KHz,35Wで20分間超音波破
壊処理を行った後において、50μm以下の粒子割合
(超音波破壊度)が30%以下である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5354855A JPH06306116A (ja) | 1993-02-23 | 1993-12-27 | オレフィン重合用固体触媒成分およびポリオレフィンの製造法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-72730 | 1993-02-23 | ||
JP7273093 | 1993-02-23 | ||
JP5354855A JPH06306116A (ja) | 1993-02-23 | 1993-12-27 | オレフィン重合用固体触媒成分およびポリオレフィンの製造法 |
EP94301377A EP0669346B1 (en) | 1993-02-23 | 1994-02-25 | Solid catalyst components for olefin polymerization and use thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06306116A true JPH06306116A (ja) | 1994-11-01 |
Family
ID=27236077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5354855A Pending JPH06306116A (ja) | 1993-02-23 | 1993-12-27 | オレフィン重合用固体触媒成分およびポリオレフィンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06306116A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009503140A (ja) * | 2005-07-20 | 2009-01-29 | ビーエーエスエフ、カタリスツ、エルエルシー | オレフィン重合用のチーグラー−ナッタ担持触媒 |
JP2009209310A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Toho Titanium Co Ltd | オレフィン類重合用固体触媒成分及び触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5354855A patent/JPH06306116A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009503140A (ja) * | 2005-07-20 | 2009-01-29 | ビーエーエスエフ、カタリスツ、エルエルシー | オレフィン重合用のチーグラー−ナッタ担持触媒 |
JP2009209310A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Toho Titanium Co Ltd | オレフィン類重合用固体触媒成分及び触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体の製造方法 |
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