JP3306679B2 - ポリオレフィンの製造方法 - Google Patents

ポリオレフィンの製造方法

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JP3306679B2 JP17197393A JP17197393A JP3306679B2 JP 3306679 B2 JP3306679 B2 JP 3306679B2 JP 17197393 A JP17197393 A JP 17197393A JP 17197393 A JP17197393 A JP 17197393A JP 3306679 B2 JP3306679 B2 JP 3306679B2
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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なポリオレフィン
特にエチレン単独重合体またはエチレン単位を主体的に
含むエチレン・α−オレフィン共重合体の製造方法に関
する。さらに詳細には、本発明は固体当たりの重合体収
量および遷移金属当たりの重合体収量を著しく増加さ
せ、その結果重合体中の触媒残渣を除去する工程を不要
ならしめ、また生成重合体のかさ密度を高め、かつ生成
ポリマーの微粉状部分を減少させ平均粒径が大きい良好
な粒子を生成せしめ、また同時に狭い分子量分布を有す
上記エチレン系ポリマーを製造する方法に関する。
下、上記エチレン系ポリマーを「ポリオレフィン」と称
する。
【0002】
【従来技術および発明が解決しようとする課題】従来こ
の種の技術分野においては、ハロゲン化マグネシウム、
酸化マグネシウム、水酸化マグネシウムなどの無機マグ
ネシウム固体を担体としてこれにチタンまたはバナジウ
ムなどの遷移金属の化合物を担持させた触媒が数多く知
られている。しかしながら、これらの公知技術において
は、得られるポリオレフィンのかさ比重は一般に小さ
く、また平均粒径も比較的小さく、粒径分布も概して広
いため微粒子状粉末部分が多く、ポリマーを成形加工す
るさいにも粉塵の発生、成形時の能率の低下等の問題を
生ずるため、生産性およびポリマーハンドリングの面か
ら改良が強く望まれていた。さらに、近年要求の高まっ
ているペレット化工程を省略し、粉体ポリマーをそのま
ま加工機にかけるためには一層の改良が必要とされてい
る。
【0003】本発明者らは先に上記の欠点を改良した新
規触媒成分を見出し、既に種々の特許出願を行った(特
公平1−11651、特公平1−12289、特開昭6
0−149605、特開昭62−32105、特開昭6
2−207306等)。この触媒成分を用いた場合かさ
密度が高く、平均粒径の大きいポリマーを得ることがで
きるが、ペレット化工程を省略し、粉体ポリマーをその
まま加工機にかけるためにはさらに改良が必要とされ
た。ー方、ポリオレフィンの用途の中で、分子量分布の
狭いポリマーが要求される分野は数多くある。例えば射
出成型グレードでは、衝撃強度を向上させるため、また
フィルムグレードでは、強度、透明性、抗ブロッキング
性およびヒートシール性などを向上させるため、分子量
分布を狭くする必要がある。
【0004】本発明者らは先に上記の製品特性をめざし
た新規触媒成分を見出し、既に種々の特許出願を行った
(特開平3−64306、特開平3−153707、特
開平3−185004、特開平3−252407、特開
平2−179485等)。この触媒成分を用いた場合、
分子量分布は狭くなり製品特性を向上させることが可能
であったが、さらに改良が必要である。本発明はこれら
の問題を改良し、よりかさ密度が高く、粒径分布が狭
く、ポリマーの微粒子状部分が著しく少なく、流動性の
良好でかつ分子量分布が狭い重合体を極めて高活性に得
ることを目的として鋭意研究の結果、本発明に到達した
ものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、 〔I〕(1)ケイ素酸化物および/またはアルミニウム
酸化物、 (2)ハロゲン化マグネシウム および 一般式 Me(OR1nz-n (ここでMeはNa,Mg,Ca,Zn,Cd,B,A
l,SiおよびSnから選ばれる元素、zは元素Meの
原子価、nは0<n≦z、Xはハロゲン原子、R1 は炭
素数1〜20の炭化水素残基を示す)で表される化合物
を反応させて得られる反応生成物、 および (3)一般式 Ti(OR2m4-m (ここでR2 は炭素数1〜20の炭化水素残基、Xはハ
ロゲン原子を示し、mは0≦m≦4である)で表される
チタン化合物を 一般式 R3 OH (ここでR3 は炭素数6〜20の炭化水素基、または酸
素、窒素、イオウ、塩素等の元素を含む有機残基を示
す)で表される化合物の存在下、相互に反応させて得ら
れる反応生成物に (4)一般式 Al(OR4pq 53-(p+q) (ここで、R4 およびR5 は炭素数1〜24の炭化水素
残基を示し同一でも異なってもよく、Xはハロゲン原子
または水素原子を示し、p,qは、pは0≦p<3、q
は0≦q<3、ただし0<p+q<3である)で表され
る有機アルミニウム化合物を反応させて得られる固体物
質と 〔II〕少なくとも一つのSi−N−C結合を有するケ
イ素化化合物、 および 〔III〕有機金属化合物 を組み合わせてなる触媒系により、エチレンを単独重合
するかまたはエチレンと炭素数3〜12のα−オレフィ
ンとを共重合してエチレンの単独重合体またはα −オレ
フィン単位の含有量が40モル%以下のエチレン・α−
オレフィン共重合体を製造することを特徴とするポリオ
レフィンの製造方法である。
【0006】本発明の方法を用いることにより、平均粒
径が比較的大きく、粒度分布が狭く、微粒子状部分が少
ないポリオレフィンが極めて高活性に得られ、また生成
ポリオレフィンのかさ比重は高く、自由流動性も良好
等、重合操作上非常に有利となり、さらにペレットとし
て用いる場合はもちろんのこと粉体状のままでも成形加
工に供することができ、成形加工時のトラブルも少な
く、きわめて有利にポリオレフィンを製造することがで
きる。本発明の触媒を用いて得られるポリマーは分子量
分布がきわめて狭く、また、ヘキサン抽出量が少なく、
低重合物の副生が非常に少ないことも特徴である。した
がって本発明の方法で得られた分子量分布の狭いポリオ
レフィンをフィルム用に供した場合には、強度が高く、
透明性にすぐれかつ抗ブロッキング性およびヒートシー
ル性がすぐれているなど多くの長所を有する。
【0007】以下、本発明を具体的に説明する。本発明
のポリオレフィンの製造方法において用いる触媒は、 〔I〕(1)ケイ素酸化物および/またはアルミニウム
酸化物、(成分〔I〕−(1))および (2)イ)ハロゲン化マグネシウムと一般式 Me(O
1nz-n で表される化合物を反応させて得られる
反応生成物、(成分〔I〕−(2)) (3)一般式 Ti(OR2m4-m で表される化合
物を一般式 R3 OHで表される化合物の存在下、相互
に反応させて得られる反応生成物(成分〔I〕−
(3))および (4)一般式 Al(OR4pq 53-(p+q) で表
される有機アルミニウム化合物(成分〔I〕−(4)) を反応させて得られる物質からなる固体触媒成分(第
〔I〕成分)と 〔II〕少なくとも一つのSi−N−C結合を有するケ
イ素化合物(第〔II〕成分)、および 〔III〕有機金属化合物(第〔III〕成分)よりな
る。
【0008】1.固体触媒成分(第〔I〕成分) (1)本発明において用いるケイ素酸化物とはシリカも
しくはケイ素と周期律表1〜17族の少なくとも一種の
他の金属との複酸化物である。本発明において用いるア
ルミニウム酸化物とはアルミナもしくはアルミニウムと
周期律表1〜17族の少なくとも一種の他の金属との複
酸化物である。ケイ素またはアルミニウムと周期律表I
〜VIII族の少なくとも一種の他の金属との複酸化物
の代表的なものとしてはAl23 ・MgO、Al2
3 ・CaO、Al23 ・SiO2 、Al23 ・Mg
O・CaO、Al23 ・MgO・SiO2 、Al2
3 ・CuO、Al23 ・Fe23 、Al23 ・N
iO、SiO2 ・MgOなどの天然または合成の各種複
酸化物を例示する事ができる。ここで上記の式は分子式
ではなく、組成のみを表すものであって、本発明におい
て用いられる複酸化物の構造および成分比率は特に限定
されるものではない。なお、当然のことながら、本発明
において用いるケイ素酸化物および/またはアルミニウ
ム酸化物は少量の水分を吸収していても差しつかえな
く、また少量の不純物を含有していても支障なく使用で
きる。また、これらのケイ素酸化物および/またはアル
ミニウム酸化物の性状は、本発明の目的を損なわない限
り特に限定されないが、好ましくは粒径が1〜200μ
m、細孔容積が0.3ml/g以上、表面積が50m2
/g以上のシリカが望ましい。また使用するにあたって
予め200〜800℃で常法により焼成処理を施すこと
が望ましい。
【0009】(2)本発明に使用されるハロゲン化マグ
ネシウムとしては実質的に無水のものが用いられ、フッ
化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、およびヨウ化マグネシウムがあげられ、とくに塩化
マグネシウムが好ましい。また本発明において、これら
のハロゲン化マグネシウムはアルコール、エステル、ケ
トン、カルボン酸、エーテル、アミン、ホスフィンなど
の電子供与体で処理したものであってもよい。 本発明に使用される一般式 Me(OR1nz-n で表される化合物においてMe
としては周期律表1〜3族または11〜14族の元素
(典型元素)が好ましく、R1 の炭化水素残基としては
アルキル基、アリール基、アラルキル基等が好ましく、
それらの炭素数は1〜8が好ましい。これらの例として
はNaOR1 ,Mg(OR12 ,Mg(OR1 )X,
Ca(OR12 ,Zn(OR12 ,Cd(OR1
2 ,B(OR13 ,Al(OR13 ,Al(OR
12 X,Al(OR1 )X2 ,Si(OR14 ,S
i(OR13 X,Si(OR122 ,Si(OR
1 )X3 ,Sn(OR14 などで示される各種の化合
物をあげることができる。これらの好ましい具体例とし
ては、Mg(OC252 ,Mg(OC25 )C
l,Al(OCH33 ,Al(OC253 ,Al
(On−C373 ,Al(Oi−C373 ,A
l(On−C493 ,Al(Osec−C493
,Al(Ot−C493 ,Al(OCH32
l,Al(OC252 Cl,Al(OC25 )C
2 ,Al(Oi−C372 Cl,Al(Oi−C
37 )Cl2 ,Al(OC653 ,Al(OC6
52 Cl,Al(OC65 )Cl2 ,Al(OC
64 CH33 ,Al(OC64 CH32 Cl,
Al(OC64 CH3 )Cl2 ,Al(OCH26
53 ,Si(OC254 ,Si(OC253
Cl,Si(OC252 Cl2 ,Si(OC25
)Cl3 ,Si(OC654 ,Si(OC6
53 Cl,Si(OC652 Cl2 ,Si(OC
65 )Cl3 ,Si(OCH2654 などの化
合物をあげることができる。
【0010】ハロゲン化マグネシウムと一般式 Me(ORz−n で表される化合物との反応割合は、Me/Mg(モル
比)が0.01〜10、好ましくは0.1〜5の範囲が
望ましい。 ハロゲン化マグネシウムと一般式 Me(ORz−n で表される化合物との反応方法は特に限定されるもので
はなく、不活性の炭化水素溶媒の存在下または不存在
下、両者を温度0〜200℃にて30分〜50時間、ボ
ールミル、振動ミル、ロッドミル、衝撃ミルなどを用い
て共粉砕する方法を用いてもよく、また、不活性炭化水
素、アルコール類、フェノール類、エーテル類、ケトン
類、エステル類、アミン類、ニトリル類等あるいはこれ
らの混合物からなる有機溶媒両者を20〜400℃、好
ましくは50〜300℃の温度で5分〜10時間混合加
熱反応させ、しかる後溶媒を蒸発除去する方法を用いて
もよい。本発明においては両者を共粉砕する方法が好ま
しく用いられる。
【0011】(3)本発明において用いる 一般式 Ti(OR4−m で表される化合物としては、式中のRが、炭素数1〜
20、好ましくは1〜12のアルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基等の炭化水素残基を示し、Xは塩素、
臭素、沃素、フッ素等のハロゲン原子を表し、mは0≦
m≦4であり、該アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブトキシ基、se
c−ブトキシ基、tert−ブチル基、ペンチル基、オ
クチル基、デシル基など、アリール基としては、フェニ
ル基、トリル基など、アラルキル基としてはベンジル基
などが各々挙げられる。これらのチタン化合物として
は、具体的には、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ
化チタン等のテトラハロゲン化チタン、モノメトキシト
リクロロチタン、ジメトキシトリクロロチタン、ジメト
キシジクロロチタン、トリメトキシモノクロロチタン、
テトラメトキシチタン、モノエトキシトリクロロチタ
ン、モノエトキシトリフルオロチタン、モノエトキシト
リブロモチタン、ジエトキシジフルオロチタン、ジエト
キシジクロロチタン、ジエトキシジブロモチタン、トリ
エトキシフルオロチタン、トリエトキシクロロチタン、
テトラエトキシチタン、モノプロポキシトリクロロチタ
ン、モノイソプロポキシトリクロロチタン、ジプロポキ
シジクロロチタン、ジイソプロポキシジクロロチタン、
ジイソプロポキシジブロモチタン、トリイソプロポキシ
フルオロチタン、トリプロポキシクロロチタン、テトラ
n−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、
モノブトキシトリクロロチタン、モノイソブトキシトリ
クロロチタン、ジブトキシジクロロチタン、トリブトキ
シフルオロチタン、トリブトキシクロロチタン、トリイ
ソブトキシクロロチタン、テトラn−ブトキシチタン、
テトライソブトキシチタン、テトラsec−ブトキシチ
タン、テトラtert−ブトキシチタン、モノペントキ
シトリクロロチタン、ジペントキシジクロロチタン、ト
リペントキシジモノクロロチタン、
【0012】テトラn−ペンチルオキシチタン、テトラ
シクロペンチルオキシチタン、モノオクチルオキシトリ
クロロチタン、ジオクチルオキシジクロロチタン、トリ
オクチルオキシモノクロロチタン、テトラn−ヘキシル
オキシチタン、テトラシクロヘキシルオキシチタン、テ
トラ−n−ヘプチルオキシチタン、テトラ−n−オクチ
ルオキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシルオキシチ
タン、モノ2−エチルヘキシルオキシトリクロロチタ
ン、ジ2−エチルヘキシルオキシジクロロチタン、トリ
2−エチルヘキシルオキシモノクロロチタン、テトラ−
ノニルオキシチタン、テトラデシルオキシチタン、テト
ライソボルニルオキシチタン、テトラオレイルオキシチ
タン、テトラアリルオキシチタン、テトラベンジルオキ
シチタン、テトラベンズヒドリルオキシチタン、モノフ
ェノキシトリクロロチタン、ジフェノキシジクロロチタ
ン、トリフェノキシクロロチタン、トリo−キシレンオ
キシクロロチタン、テトラフェノキシチタン、テトラ−
o−メチルフェノキシチタン、テトラ−m−メチルフェ
ノキシチタン、テトラ−1−ナフチルオキシチタン、テ
トラー2−ナフチルオキシチタン、または、これらの任
意混合物などが例示され、好ましくは、四塩化チタン、
モノエトキシトリクロロチタン、ジエトキシジクロロチ
タン、モノブトキシトリクロロチタン、ジブトキシジク
ロロチタン、など例示されるTi(ORz−n
(0≦m<4)や、テトラエトキシチタン、テトライソ
プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テト
ラ−n−ヘキシルオキシチタン、テトラ−n−オクチル
オキシチタン、テトラ−2−エチルヘキシルオキシチタ
ンなど例示されるTi(ORが望ましい。
【0013】一般式ROHで表される化合物として
は、式中のRが炭素数6〜20、好ましくは6〜12
の炭化水素基または酸素、窒素、イオウ、塩素等の元素
を含む有機残基であるものである。該炭化水素基として
はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル
基等が望ましく、特に分枝構造を有する炭化水素基であ
ることが望ましい。これらの一般式で表される化合物と
しては、具体的には、1−ヘキサノール、2−メチル,
1−ペンタノール、4−メチルー1−ペンタノール、4
−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノ
ール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプ
タノール、4−ヘプタノール、2,4−ジメチル−3−
ペンタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、
2−エチルー1−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1
−ヘキサノール、2,2,4−トリメチル−1−ペンタ
ノール、1−ノナノール、5−ノナノー3,5−ジメチ
ル−4−ヘプタノール、2,6−ジメチル−4−へプタ
ノール、3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、2,6,8−トリメチル−4−ノナノール、1−ト
リデカノール、1−ペンタデカノール、1−ヘキサデカ
ノール、1−ヘプタデカノール、1−オクタデカノー
ル、1−オクタデカノール、1−ノナデカノール、1−
エイコサノール、フェノール、クロロフェノール、ベン
ジルアルコール、メチルセロソルブまたはこれらの任意
混合物などが挙げられ、好ましくは、2−メチル−1−
ペンタノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メ
チル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノー
ル、2,4−ジメチル−3−ペンタノール、2−エチル
−1−ヘキサノール、3,5−ジメチル−1−ヘキサノ
ール、2,2,4−トリメチル−1−ペンタノール、
3,5−ジメチル−4−ヘプタノール、2,6−ジメチ
ル−4−ヘプタノール、3,5,5−トリメチル−1−
ヘキサノールなどが望ましい。
【0014】(4)本発明において使用される一般式
Al(OR 3−(p+q)で表される有
機アルミニウム化合物としては、式中のRおよびR
が、炭素数1〜20、好ましくは1〜12のアルキル
基、アリール基またはアラルキル基等の炭化水素残基を
示し、R,Rが同一でも異なってもよく、Xは水素
原子、塩素、臭素、沃素、フッ素のハロゲン原子を表
し、p,qは、0≦p<3、0≦q<3、ただし、0<
p+q<3を示すものである。前記アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、デシル基など、アリー
ル基としては、フェニル基、トリル基など、アラルキル
基としてはベンジル基などが挙げられる。
【0015】これらの有機アルミニウム化合物として
は、具体的には、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジ
メチルアルミニウムエトキシド、ジメチルアルミニウム
イソプロキシド、ジメチルアルミニウムt−ブトキシ
ド、ジメチルアルミニウムn−ブトキシド、ジメチルア
ルミニウムsec−ブトキシド、ジエチルアルミニウム
メトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチ
ルアルミニウムイソプロキシド、ジエチルアルミニウム
n−ブトキシド、ジエチルアルミニウムsec−ブトキ
シド、ジエチルアルミニウムシクロヘキシルオキシド、
ジエチルアルミニウムt−ブトキシド、ジプロピルアル
ミニウムエトキシド、ジプロピルアルミニウムt−ブト
キシド、ジブチルアルミニウムt−ブトキシド、ジi−
ブチルアルミニウムメトキシド、ジi−ブチルアルミニ
ウムエトキシド、ジi−ブチルアルミニウムイソプロポ
キシド、ジi−ブチルアルミニウム−i−ブトキシド、
ジi−ブチルアルミニウム−t−ブトキシド、ジ−t−
ブチルアルミニウムメトキシド、ジt−ブチルアルミニ
ウムエトキシド、ジt−ブチルアルミニウムt−ブトキ
シド、ジメチルアルミニウムフェノキシド、ジn−ヘキ
シルアルミニウムエトキシド、ジn−ヘキシルアルミニ
ウムイソプロポキシド、エチルエトキシアルミニウムク
ロライド、イソブチルエトキシアルミニウムクロライ
ド、エチルフェノキシアルミニウムクロライド、フェニ
ルエトキシアルミニウムクロリド、エチルエトキシアル
ミニウムハイドライド、エチルメトキシアルミニウムク
ロライド、エチルイソプロポキシアルミニウムジクロリ
ド、エチルブトキシアルミニウムクロライド、フェニル
アルミニウムジクロリド、ジフェニルアルミニウムクロ
リド、ベンジルアルミニウムジクロリド、ジベンジルア
ルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムクロリド、
ジエチルアルミニウムフルオリド、ジエチルアルミニウ
ムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジエチル
アルミニウムアイオダイド、ジi−ブチルアルミニウム
クロリド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチル
アルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセス
キブロミド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルア
ルミニウムジクロリド、イソブチルアルミニウムジクロ
リド、トリメエチルアルミニウム、トリエチルアルミニ
ウム、トリn−プロピルアルミニウムまたはトリn−ブ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
n−ヘキシルアルミニウム、トリn−オクチルアルミニ
ウム、またはこれらの任意混合物などを挙げることがで
き、特に、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリ
ドなどの一般式 AlR 3−nで表される有機ア
ルミニウム化合物が好ましい。
【0016】(5)本発明において用いる固体触媒成分
は、前記成分〔I〕−(1)〜〔I〕−(3)の反応生
成物および成分〔I〕−(4)を反応させることにより
得られる。〔I〕−(1)〜〔I〕−(3)の反応方法
は、一般式ROHで表される化合物の存在下において
行う限り特に制限されるものではなく、反応順序として
は、(A)成分〔I〕−(1)〜成分〔I〕−(3)を
同時に接触させる方法、(B)成分〔I〕−(1)と成
分〔I〕−(2)を接触したのち、成分〔I〕−(3)
をさらに接触させる方法、(C)成分〔I〕−(1)と
成分〔I〕−(3)を接触したのち、成分〔I〕−
(2)をさらに接触させる方法、(D)成分〔I〕−
(2)と成分〔I〕−(3)を接触したのち、成分
〔I〕−(1)をさらに接触させる方法、のいずれでも
よいが、好ましくは、上記のうち(D)の方法が望まし
く、さらに好ましくは一般式ROHで表される化合物
を溶媒として用い、成分〔I〕−(2)および成分
〔I〕−(3)を予め溶解接触させたのち成分〔I〕−
(1)接触させる方法が望ましく、また、このときの、
一般式ROHで表される化合物への成分〔I〕−
(2)および成分〔I〕−(3)の溶解順序は、特に限
定されるものではなく両者を同時に溶解してもよく、い
ずれか一方を先に溶解させてもよい。
【0017】また、成分〔I〕−(2)および/または
成分〔I〕−(3)を予め前記一般式ROHで表され
る化合物よりも炭素数の少ない(すなわち、炭素数が1
〜5の)炭化水素基を有する該化合物、いわゆる低級ア
ルコールに溶解させたのち、一般式ROHで表される
化合物の存在下、成分〔I〕−(2)および/または成
分〔I〕−(3)としてそれらを含む低級アルコール溶
液を用い、各成分を相互に接触させる方法も好適に用い
られる。なお、この際用いる低級アルコールとしては、
炭素数が1〜5のアルキル基を有するアルコールが好ま
しく、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2
−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2
−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパ
ノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペ
ンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル
−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3−
メチル−2−ブタノール、2,2−ジメチル−1−プロ
パノールなどが挙げられ、もちろん、工業用アルコール
として市販されているメタノール変性エタノール、ヘキ
サン変性エタノール等各種変種アルコールも何ら支障な
く用いることができる。
【0018】これら成分〔I〕−(1)〜〔I〕−
(3)の接触方法としては、一般式ROHで表される
化合物の存在下、成分〔I〕−(1)、成分〔I〕−
(2)および成分〔I〕−(3)、を前記接触順序に従
い、20〜300℃、好ましくは30〜150℃の温度
で1分〜48時間、好ましくは30分〜5時間混合反応
し、しかるのち、一般式ROHで表される化合物を減
圧および/または加熱等の手法により除去すべく操作を
行うことが望ましい。また、各成分の反応割合について
は、まず、成分〔I〕−(1)と成分〔I〕−(2)と
は、成分〔I〕−(1)1gあたり、成分〔I〕−
(2)中のMgのモル数が0.01〜20mmol、好
ましくは0.1〜10mmolさらに好ましくは0.2
〜4.0mmolと成るように反応させることが望まし
い。また、成分〔I〕−(1)と成分〔I〕−(3)と
は、成分〔I〕−(1)の焼成処理の有無またはその焼
成処理条件により異なるが、成分〔I〕−(1)1gあ
たり、成分〔I〕−(3)を0.01〜10.0mmo
l、好ましくは0.1〜5.0mmolさらに好ましく
は0.2〜2.0mmolを用い、反応させることが望
ましい。
【0009】また、一般式ROHで表される化合物の
使用量は、通常、成分〔I〕−(2)1gに対し、一般
式ROHで表される化合物を0.1〜50g、好ましく
は1〜30g用いることが望ましい。成分〔I〕−
(1)〜〔I〕−(3)の反応生成物と〔I〕−(4)
の接触方法としては特に限定されるものではないが、例
えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、へプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等、またはこれらの混合物等の一般のチグラー
触媒に不活性ないわゆる不活性炭化水素溶媒の存在下ま
たは不存在下、温度0〜300℃、好ましくは20〜1
50℃にて5分〜10時間混合加熱反応させ、しかる
後、溶媒を蒸発除去する方法が好ましく用いられる。な
お、成分〔I〕−(1)〜〔I〕−(3)の反応生成物
と成分〔I〕−(4)の反応割合は、成分〔I〕−
(4)/成分〔I〕−(3)(モル比)が0.01〜1
00、好ましくは0.2〜10、さらに好ましくは0.
5〜5と成るようにすることが望ましい。もちろん、固
体触媒成分の調製に関する反応操作は、不活性ガス雰囲
気中で行うべきであり、また湿気はできるだけ避けるべ
きである。
【0020】2.ケイ素化合物(第〔II〕成分) 本発明において使用されるケイ素化合物は、前述の通り
少なくとも一つのSi−N−C結合を有するケイ素化合
物である。
【0021】
【0022】
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】本発明で使用される少なくとも一つのSi
−N−C結合を有するケイ素化合物としては、例えば一
般式 R5 a6 b7 c Si(NR8 2d4-(a+b+c+d) で表され、式中においてR5 、R6 、R7 は水素または
炭素数1〜20、好ましくは水素または1〜12のアル
キル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素残基を
示し、R8 は炭素数1〜20、好ましくは1〜12のア
ルキル基、アリール基、アラルキル基の炭化水素残基で
あり、R5 、R6 およびR7 は互いに同一でもよく異な
ってもよく、また、R5 、R6 およびR7 が炭化水素残
基の場合は、R5 、R6 、R7 およびR8 は互いに同一
でも異なっていてもよく、Xはフッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素等のハロゲン原子を表し、a、b、cおよびdは0
≦a<4、0≦b<4、0≦c<4、0<d≦4、ただ
し0<a+b+c+d≦4を満足するものである。
【0028】これらのケイ素化合物の具体例としては、
Si{N(CH、Si{N(C
【0029】HSi{N(CH、HSi{N
(C、CH Si{N(CH
、CH Si{N(C、C
i{N(CH、CSi{N(C
、CSi{N(CH
Si{N(C、CSi
{N(CH、CSi{N(C
、CSi{N(CH、C
Si{N(C、CSi{N(CH
、CSi{N(C
【0030】Si{NH(CH)}、Si{NH
(C)}
【0031】HSi{NH(CH)}、HSi{N
H(C)}、CHSi{NH(C
)}、CHSi{NH(C)}、C
Si{NH(CH)}、CSi{NH
(C)}、CSi{NH(C
)}、C Si{NH(C)}
Si{NH(CH)}、CSi{N
H(C)}、CSi{NH(CH)}
、CSi{NH(C)}、C
i{NH(CH)}、CSi{NH(C
)}
【0032】HSi{N(CH}2、HCH
Si{N(CH、HCSi{N(CH
、(CHSiIN(CH
(CH)(C)Si{N(CH
(CH)(C)Si{N(CH
(CH)(C)Si{N(CH
【0033】HSi{N(C}2、HCH
Si{N(C、HCSi{N
(C、(CHSiIN(C
、(CH)(C)Si{N(C
、(CH)(C)Si{N(C
、(CH)(C)Si{N(C
【0034】HSi{NH(CH)}、HCH
Si{NH(CH)}、HCSi{NH(C
)}、(CHSi{NH(CH)}
(CH)(C)Si{NH(CH)}
(CH)(C)Si{NH(CH)}
(CH)(C)Si{NH(CH)}
【0035】HSi{NH(C)}、HCH
Si{NH(C)}、HCSi{NH
(C)}、(CHSi{NH(C
)}、(CH)(C)Si{NH(C
)}、(CH)(C)Si{NH(C
)}、(CH)(C)Si{NH
(C)}
【0036】HSiN(CH、HCH
iN(CH、HSiN(CH
H(CHSiN(CH、H(C
SiN(CH、(CH SiN(CH
、(CH、(C)SiN(CH
(CH)(CSiN(CH
【0037】HSiN(C、HCH
iN(C、HSiN(C
、H(CHSiN(C、H(C
SiN(C、(CHSiN(C
、(CH(C)SiN(C
、(CH)(CSiN(C
【0038】HSiNH(CH)、HCHSi
NH(CH)、HSiNH(CH)、H
(CHSiNH(CH)、H(C
iNH(CH)、(CHSiNH(CH)、
(CH(C)SiNH(CH)、(CH
)(CSiNH(CH)、
【0039】HSiNH(C)、HCH
iNH(C)、HSiNH(C
)、H(CHSiNH(C)、H
(CSiNH(C)、(CH
iNH(C)、(CH(C)SiN
H(C)、(CH)(CSiNH
(C)、
【0040】Si{N(CHCl、Si{N
(CCl、
【0041】HSi{N(CHCl、HSi
{N(CCl、CHSi{N(C
Cl、CHSi{N(C
Cl、CSi{N(CH
l、CSi{N(C Cl、C
Si{N(CH Cl、C
Si{N(C Cl、CSi
{N(CH Cl、CSi{N(C
Cl)CSi{N(CH
Cl、CSi{N(C
Cl、CSi{N(CH Cl、
Si{N(C Cl、
【0042】Si{NH(CH)}Cl、Si{N
H(C)}Cl、
【0043】HSi{NH(CH)}Cl、HSi
{NH(C)}Cl、CHSi{NH(CH
)}Cl、CHSi{NH(C)}
l、CSi{NH(CH)}Cl、C
Si{NH(C)}Cl、CSi{NH
(CH)}Cl、CSi{NH(C
)}Cl、CSi{NH(CH)}
Cl、CSi{NH(C)}Cl、C
Si{NH(CH)}Cl、CSi{N
H(C)}Cl、CSi{NH(C
)}Cl、CSi{NH(C)}
Cl、等があげられる。また
【0044】
【化1】
【0045】
【化2】
【0046】等環状アミノ基を有するケイ素化合物も用
いることができる。
【0047】これらの化合物の中で
【0048】HCHSi{N(CH、HC
Si{N(C、(CHSi
{N(CH、(CHSi{N(C
が特に好ましい。
【0049】本発明において前記ケイ素化合物(第〔I
I〕成分)の使用量は、第〔II〕成分/{第〔I〕成
分中の成分〔I〕−(3)}(モル比)が0.01〜1
00、好ましくは0.1〜10、さらに好ましくは0.
5〜5となるようにすることが望ましい。
【0050】3.有機金属化合物(第〔III〕成分) 本発明に用いる触媒は前記固体触媒成分および前記ケイ
素化合物と、有機金属化合物からなり、有機金属化合物
としてはチグラー触媒の一成分として知られている周期
律表第I〜IV族の有機金属化合物を使用できるが、特
に有機アルミニウム化合物および有機亜鉛化合物が好ま
しい。具体的な例としては一般式RAl、RAl
X、RAlX、RAlOR、RAl(OR)Xおよ
びRAlの有機アルミニウム化合物(ただしR
は炭素数1〜20のアルキル基またはアリール基、Xは
ハロゲン原子を示し、Rは同一でもまた異なってもよ
い)または一般式RZn(ただしRは炭素数1〜20
のアルキル基であり二者同一でもまた異なっていてもよ
い)の有機亜鉛化合物で示されるもので、トリメチルア
ルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリs
ec−ブチルアルミニウム、トリtert−ブチルアル
ミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルア
ルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプ
ロピルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセキ
スクロリド、ジエチル亜鉛およびこれらの混合物等が挙
げられる。
【0051】本発明において前記有機金属化合物(第
〔III〕成分)の使用量は特に制限はないが、通常、
第〔III〕成分/{第〔I〕成分中の成分〔I〕−
(3)}(モル比)が0.1〜1000、好ましくは1
〜500となる量を使用することができる。
【0052】また本発明において前記固体触媒成分(第
〔I〕成分)、前記ケイ素化合物(第〔II〕成分)お
よび前記有機金属化合物(第〔III〕成分〕の重合反
応器への供給方法としては特に制限はないが、第〔I〕
成分、第〔II〕成分および第〔III〕成分を各々別
個に供給する方法、あるいは第〔II〕成分と第〔II
I〕成分の混合物と第〔I〕成分を別個に供給する方法
が望ましい。
【0053】本発明においては、有機金属化合物成分
は、前記有機金属化合物と有機酸エステルとの混合物も
しくは付加化合物として用いることも好ましく採用する
ことができる。この時有機金属化合物と有機酸エステル
を混合物として用いる場合には、有機金属化合物1モル
に対して、有機酸エステルを通常0.1〜1モル、好ま
しくは0.2〜0.5モル使用する。また、有機金属化
合物と有機酸エステルとの付加化合物として用いる場合
は、有機金属化合物:有機酸エステルのモル比が2:1
〜1:2のものが好ましい。
【0054】この時に用いられる有機酸エステルとは、
炭素数が1〜24の飽和もしくは不飽和の一塩基性ない
し二塩基性の有機カルボン酸素と炭素数1〜30のアル
コールとのエステルである。具体的には、ギ酸メチル、
酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸フェニル、酢酸オクチ
ル、メタクリル酸メチル、ステアリン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸n−プロピル、安
息香酸イソプロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ヘキシ
ル、安息香酸シクロペンチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸4−トリル、サリチル
酸メチル、サリチル酸エチル、pーオキシ安息香酸メチ
ル、p−オキシ安息香酸エチル、サリチル酸フェニル、
p−オキシ安息香酸シクロヘキシル、サリチルサンペン
ジル、α−レゾルシン酸エチル、アニス酸メチル、アニ
ス酸エチル、アニス酸フェニル、アニス酸ベンジル、o
−メトキシ安息香酸エチル、p−エトキシ安息香酸メチ
ル、p−トルイル酸メチル、p−トルイル酸エチル、p
−トルイル酸フェニル、o−トルイル酸エチル、m−ト
ルイル酸エチル、p−アミノ安息香酸メチル、p−アミ
ノ安息香酸エチル、安息香酸ビニル、安息香酸アリル、
安息香酸ベンジル、ナフトエ酸メチル、ナフトエ酸エチ
ルなどをあげることができる。これらの中でも特に好ま
しいのは安息香酸、o−またはp−トレイル酸またはp
−アニス酸のアルキルエステルであり、特にこれらのメ
チルエステル、エチルエステルが好ましい。
【0055】4.オレフインの重合 本発明の触媒を使用してのオレフインの重合はスラリー
重合、溶液重合または気相重合にて行うことができる。
特に本発明の触媒は気相重合に好適に用いることがで
き、重合反応は通常のチグラー型触媒によるオレフィン
重合反応と同様にして行われる。すなわち反応はすべて
実質的に酸素、水などを絶った状態で不活性炭化水素の
存在化、あるいは不存在下で行われる。オレフィンの重
合条件は温度は20ないし120℃、好ましくは50な
いし100℃であり、圧力は常圧ないし70kg/cm
、好ましくは2ないし60kg/cmである。分子
量の調節は重合温度、触媒のモル比などの重合条件を変
えることによってある程度調節できるが重合系中に水素
を添加することにより効果的に行われる。もちろん、本
発明の触媒を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件
の異なった2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応も
何等支障なく実施できる。
【0056】本発明の方法は前記したように、エチレン
の単独重合およびエチレンと炭素数2〜12のα−オレ
フィン、たとえばプロピレン、1−ブテン、ヘキセン−
1、4−メチルペンテン−1などの1種または2種類以
上との共重合に使用される。
【0057】
【0058】なお、エチレンと炭素数3〜12のα−オ
レフィンとの共重合の場合のエチレン・α−オレフィン
共重合体中のα−オレフィン単位の含有量はモノマー換
算で40モル%以下、好ましくは30モル%以下であ
る。
【0059】
【実施例】以下に実施例を述べるが、これらは本発明を
実施するための説明用のものであって本発明はこれらに
制限されるものではない。
【0060】〔ポリマー物性測定方法〕 融点:走査熱量計(DSC、セイコー電子(株)社製
型)を用い、サンプル重量5mgで、180℃で一度溶
融後、−40℃まで冷却しその後10℃/minの速度
で昇温した時の吸熱ピークトップの温度を融点とした。 ヘキサン抽出:共重合体パウダーを180℃でロール練
りし、次に5cm×5cm×0.2mmのシートにプレ
ス成形し、それを沸とうヘキサン中で5hr抽出した時
の重量減少の%をヘキサン抽出量とした。 n値:島津製フローテスター(CFT−500)を使用
し、170℃で試料に種々の荷重を加え、直径2.0±
0.01mm、長さ40.0±0.01mmのダイより
押し出し、下式により剪断応力に対する剪断速度勾配を
計算しn値とする。
【0061】
【数1】
【0062】
【0063】
【0064】
【0065】
【0066】
【0067】
【0068】
【0069】
【0070】
【0071】
【0072】
【0073】
【0074】
【0075】
【0076】
【0077】
【0078】
【0079】
【0080】
【0081】
【0082】
【0083】
【0084】
【0085】
【0086】
【0087】実施例1 (a)固体触媒成分の製造 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水した2−メチル−1−ペンタノー
ル100g、上記の無水塩化マグネシウムとトリエトキ
シアルミニウムの反応物5.0g、テトラエトキシチタ
ン10.0gをいれ80℃、1時間反応させた。室温に
冷却後、400℃で3時間焼成したシリカ(富士デビソ
ン #955)46gを入れ、再び80℃で2時間反応
させた後、120℃で2時間減圧乾燥を行い固体粉末を
得た。次に脱水したヘキサン100ccおよびジエチル
アルミニウムクロリド10.0gを加えて室温で1時間
反応させ、その後60℃で3時間窒素ブローを行い、ヘ
キサンを除去して固体触媒成分を得た。
【0088】(b)気相重合 気相重合装置としては攪拌機が付いたステンレス製オー
トクレープを用い、ブロワー、流量調節器および乾式サ
イクロンでループをつくり、オートクレープはジャケッ
トに温水を流すことによって温度を調節した。80℃に
調節したオートクレープに上記固体触媒成分を250m
g/hr、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン0.
2mmol/hrおよびトリエチルアルミニウムを50
mmol/hrの速度で供給し、またオートクレープ気
相中のブテン−l/エチルモル比を0.35に、さらに
水素を全圧の15%となるように調製しながら各々のガ
スを供給し、全圧を8kg/cmGに保ちながらブロ
ワーにより系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間欠
的に抜き出しながら48時間の連続重合を行った。重合
終了後、オートクレープ内部の点検を行ったところ、内
壁および攪拌機には全くポリマーは付着しておらず、長
期安定運転性に優れていた。
【0089】触媒効率は230,000g共重合体/g
Tiときわめて高活性であった。生成したエチレン共重
合体は、メルトフローレイト(MFR)0.82g/1
0min、密度0.9205g/cm、かさ密度0.
47g/cm、平均粒径8000mの形状の丸い粒状
物であった。またこの共重合体の融点は121.0℃、
ヘキサン抽出量は1.8wt%であり、n値は1.41
と分子量分布はきわめて狭いものであった。
【0090】実施例2 実施例1において調製した固体触媒成分を用いて気相重
合を行うにあたり、実施例1のビス(ジメチルアミノ)
ジメチルシランの代わりにビス(ジメチルアミノ)メチ
ルシラン1.0mmol/hrを用いることを除いて
は、実施例1と同様な方法で気相重合を行ったところ、
48時間の連続運転後においても内壁および攪拌機には
全くポリマーは付着しておらず、長期安定運転性に優れ
ていた。触媒効率は220,000g共重合体/gTi
と高活性で、MFR0.95g/10min、密度0.
9211g/cm3 、かさ比重0.46g/cm3 、平
均粒径780μmの形状の丸い粒状物が得られた。ま
た、この共重合体の融点は121.6℃、ヘキサン抽出
量は2.2wt%であり、n値は1.42と分子量分布
はきわめて狭いものであった。
【0091】実施例3 (a)固体触媒成分の製造 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水した2−メチル−1−ペンタノー
ル100g、上記の無水塩化マグネシウムとトリエトキ
シアルミニウムの反応物5.0g、ジエトキシジクロル
チタン10.0gをいれ80℃、1時間反応させた。室
温に冷却後、400℃で3時間焼成したシリカ(富士デ
ビソン #955)46gを入れ、再び80℃で2時間
反応させた後、120℃で2時間減圧乾燥を行い固体粉
末を得た。次に脱水したヘキサン100ccおよびジエ
チルアルミニウムクロリド10.0gを加えて室温で1
時間反応させ、その後60℃で3時間窒素ブローを行
い、ヘキサンを除去して固体触媒成分を得た。
【0092】(b)気相重合 実施例1と同様の気相重合装置を用い、80℃に調節し
たオートクレープに上記固体触媒成分を250mg/h
r、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン1.0mm
ol/hrおよびトリエチルアルミニウムを50mmo
l/hrの速度で供給し、またオートクレープ気相中の
ブテン−1/エチレンモル比を0.35に、さらに水素
を全圧の15%となるように調製しながら各々のガスを
供給し、全圧を8kg/cm2 Gに保ちながらブロワー
により系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間欠的に
抜き出しながら連続重合を行った。48時間の連続運転
後においても内壁および攪拌機には全くポリマーは付着
しておらず、長期安定運転性に優れていた。触媒効率は
240,000g共重合体/gTiと高活性で、MFR
0.96g/10min、密度0.9201g/cm
3 、かさ比重0.47g/cm 3 、平均粒径790μm
の形状の丸い粒状物が得られた。また、この共重合体の
融点は121.5℃、ヘキサン抽出量は2.1wt%で
あり、n値は1.43と分子量分布はきわめて狭いもの
であった。
【0093】
【0094】
【0095】実施例4 (a)固体触媒成分の製造 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに市販の無水塩化マグネシウム10g、トリエ
トキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室温
で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。攪
拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素置
換し、この中に脱水したメタノール変性エタノール14
0cc、脱水した2−エチル−1−ヘキサノール17
g、ジn−ブトキシジクロルチタン12.0gを入れ室
温で1時間攪拌後、上記の無水塩化マグネシウムとトリ
エトキシアルミニウムの反応物5.0gを入れ、80
℃、1時間反応させた。室温に冷却後、400℃で3時
間焼成したシリカ(富士デビソン #955)46gを
入れ、再び80℃で2時間反応させた後、120℃で2
時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。次に脱水したヘキ
サン100ccおよびジエチルアルミニウムクロリド
5.0gを加えて室温で1時間反応させ、その後60℃
で3時間窒素ブローを行い、ヘキサンを除去して固体触
媒成分を得た。
【0096】(b)気相重合 実施例1と同様の気相重合装置を用い、80℃に調節し
たオートクレープに上記固体触媒成分を250mg/h
r、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン1.0mm
ol/hrおよびトリエチルアルミニウムを50mmo
l/hrの速度で供給し、またオートクレープ気相中の
ブテン−1/エチレンモル比を0.35に、さらに水素
を全圧の15%となるように調製しながら各々のガスを
供給し、全圧を8kg/cm2 Gに保ちながらブロワー
により系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間欠的に
抜き出しながら連続重合を行った。48時間の連続運転
後においても内壁および攪拌機には全くポリマーは付着
しておらず、長期安定運転性に優れていた。触媒効率は
220,000g共重合体/gTiと高活性で、MFR
0.97g/10min、密度0.9203g/cm
3 、かさ比重0.48g/cm 3 、平均粒径770μm
の形状の丸い粒状物が得られた。また、この共重合体の
融点は121.8℃、ヘキサン抽出量は2.2wt%で
あり、n値は1.42と分子量分布はきわめて狭いもの
であった。
【0097】
【0098】
【0099】実施例5 (a)固体触媒成分の製造 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水した2−メチル−1−ペンタノー
ル100g、上記の無水塩化マグネシウムとトリエトキ
シアルミニウムの反応物5.0g、テトラエトキシチタ
ン10.0gをいれ80℃、1時間反応させた。室温に
冷却後、400℃で3時間焼成したシリカ(富士デビソ
ン #955)46gを入れ、再び80℃で2時間反応
させた後、120℃で2時間減圧乾燥を行い固体粉末を
得た。次に脱水したヘキサン100ccおよびエチルア
ルミニウムモノエトキシクロリド8.0gを加えて室温
で1時間反応させ、その後60℃で3時間窒素ブローを
行い、ヘキサンを除去して固体触媒成分を得た。
【0100】(b)気相重合 実施例1と同様の気相重合装置を用い、80℃に調節し
たオートクレープに上記固体触媒成分を250mg/h
r、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン1.0mm
ol/hrおよびトリエチルアルミニウムを50mmo
l/hrの速度で供給し、またオートクレープ気相中の
ブテン−1/エチレンモル比を0.35に、さらに水素
を全圧の15%となるように調製しながら各々のガスを
供給し、全圧を8kg/cm2 Gに保ちながらブロワー
により系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間欠的に
抜き出しながら連続重合を行った。48時間の連続運転
後においても内壁および攪拌機には全くポリマーは付着
しておらず、長期安定運転性に優れていた。触媒効率は
190,000g共重合体/gTiと高活性で、MFR
1.12g/10min、密度0.9213g/cm
3 、かさ比重0.46g/cm 3 、平均粒径720μm
の形状の丸い粒状物が得られた。また、この共重合体の
融点は122.3℃、ヘキサン抽出量は2.4wt%で
あり、n値は1.44と分子量分布はきわめて狭いもの
であった。
【0101】
【0102】
【0103】実施例6 (a)固体触媒成分の製造 1/2インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400mlのステンレススチール
製ポットに、市販の無水塩化マグネシウム10g、トリ
エトキシアルミニウム4.2gを入れ窒素雰囲気下、室
温で16時間ボールミリングを行い反応生成物を得た。
攪拌機および還流冷却器をつけた三ッ口フラスコを窒素
置換し、この中に脱水したメタノール変性エタノール1
40cc、脱水した2−エチル−1−ヘキサノール20
g、ジn−ブトキシジクロルチタン12.0gを入れ室
温で1時間攪拌後、上記の無水塩化マグネシウムとトリ
エトキシアルミニウムの反応物5.0gを入れ、80
℃、1時間反応させた。室温に冷却後、400℃で3時
間焼成したシリカ(富士デビソン #955)46gを
入れ、再び80℃で2時間反応させた後、120℃で2
時間減圧乾燥を行い固体粉末を得た。次に脱水したヘキ
サン100ccおよびエチルアルミニウムモノエトキシ
クロリド10.0gを加えて室温で1時間反応させ、そ
の後60℃で3時間窒素ブローを行い、ヘキサンを除去
して固体触媒成分を得た。
【0104】(b)気相重合 実施例1と同様の気相重合装置を用い、80℃に調節し
たオートクレープに上記固体触媒成分を250mg/h
r、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン1.0mm
ol/hrおよびトリエチルアルミニウムを50mmo
l/hrの速度で供給し、またオートクレープ気相中の
ブテン−1/エチレンモル比を0.35に、さらに水素
を全圧の15%となるように調製しながら各々のガスを
供給し、全圧を8kg/cm2 Gに保ちながらブロワー
により系内のガスを循環させ、生成ポリマーを間欠的に
抜き出しながら連続重合を行った。48時間の連続運転
後においても内壁および攪拌機には全くポリマーは付着
しておらず、長期安定運転性に優れていた。触媒効率は
230,000g共重合体/gTiと高活性で、MFR
1.00g/10min、密度0.9200g/cm
3 、かさ比重0.48g/cm 3 、平均粒径790μm
の形状の丸い粒状物が得られた。また、この共重合体の
融点は122.0℃、ヘキサン抽出量は2.2wt%で
あり、n値は1.42と分子量分布はきわめて狭いもの
であった。
【0105】
【0106】
【0107】
【発明の効果】本発明の固体触媒成分と有機金属化合物
および特定のケイ素化合物を触媒として得られるオレフ
ィンの単独重合体または共重合体は、かさ比重が著しく
高く、平均粒径が比較的大きく、粒径分布が狭く微粒子
状粉末部分が少ないため、重合時における反応器壁への
ポリマーの付着が少なく安定した運転が可能であり、さ
らに成形加工時の粉塵の発生が防止でき成形加工時の能
率を高めることができるのみならず、ペレット化工程を
も省略しうる。
【0108】またポリマーの分子量分布がせまいポリマ
ーが得られる。特にフィルムに供した場合、強度が高く
透明性にすぐれ、かつ抗ブロッキング性およびヒートシ
ール性にすぐれる等多くの効果を発揮しうる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の触媒の製造工程を示すフローチャート
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−185004(JP,A) 特開 平3−252407(JP,A) 特開 昭62−119203(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 4/65 - 4/658

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 〔I〕(1)ケイ素酸化物および/また
    はアルミニウム酸化物、 (2)ハロゲン化マグネシウム および 一般式 Me(OR1nz-n (ここでMeはNa,Mg,Ca,Zn,Cd,B,A
    l,SiおよびSnから選ばれる元素、zは元素Meの
    原子価、nは0<n≦z、Xはハロゲン原子、R1 は炭
    素数1〜20の炭化水素残基を示す)で表される化合物
    を反応させて得られる反応生成物、 および (3)一般式 Ti(OR2m4-m (ここでR2 は炭素数1〜20の炭化水素残基、Xはハ
    ロゲン原子を示し、mは0≦m≦4である)で表される
    チタン化合物を 一般式 R3 OH (ここでR3 は炭素数6〜20の炭化水素基、または酸
    素、窒素、イオウ、塩素等の元素を含む有機残基を示
    す)で表される化合物の存在下、相互に反応させて得ら
    れる反応生成物に (4)一般式 Al(OR4pq 53-(p+q) (ここで、R4 およびR5 は炭素数1〜24の炭化水素
    残基を示し同一でも異なってもよく、Xはハロゲン原子
    または水素原子を示し、p,qは、pは0≦p<3、q
    は0≦q<3、ただし0<p+q<3である)で表され
    る有機アルミニウム化合物を反応させて得られる固体物
    質と 〔II〕少なくとも一つのSi−N−C結合を有するケ
    イ素化化合物、 および 〔III〕有機金属化合物 を組み合わせてなる触媒系により、エチレンを単独重合
    するかまたはエチレンと炭素数3〜12のα−オレフィ
    ンとを共重合してエチレンの単独重合体またはα−オレ
    フィン単位の含有量が40モル%以下のエチレン・α−
    オレフィン共重合 体を製造することを特徴とするポリオ
    レフィンの製造方法。
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