JPH0629767Y2 - 垂直磁気記録再生ヘツド - Google Patents
垂直磁気記録再生ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0629767Y2 JPH0629767Y2 JP1985005836U JP583685U JPH0629767Y2 JP H0629767 Y2 JPH0629767 Y2 JP H0629767Y2 JP 1985005836 U JP1985005836 U JP 1985005836U JP 583685 U JP583685 U JP 583685U JP H0629767 Y2 JPH0629767 Y2 JP H0629767Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- main
- head
- recording
- pole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Magnetic Heads (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本考案は、記録媒体の面内方向に対して垂直に情報を記
録する垂直磁気記録再生方式に用いられる垂直磁気記録
再生ヘッド（以下、垂直磁気ヘッドと称す）に関するも
のである。
録する垂直磁気記録再生方式に用いられる垂直磁気記録
再生ヘッド（以下、垂直磁気ヘッドと称す）に関するも
のである。
(ロ)従来の技術 従来、磁気記録はリング型ヘッドを用いて記録媒体の長
手（面内）方向に信号を記録する方式が採られている
が、斯る長手記録方式では記録波長が短くなるにつれて
自己減磁界が大きくなるため高密度磁気記録には自ずと
限界があった。そのため短波長記録を行なうほど自己減
磁界が小さくなる垂直磁気記録再生方式が提案され、高
密度磁気記録への実現に向けて斯る方式に用いられる垂
直磁気ヘッドの改良が日々重ねられている。そして、最
近では垂直磁気ヘッドとして主磁極励磁型のものが脚光
を浴びて来ており、斯る主磁極励磁型の垂直磁気ヘッド
は例えば第８図に示すように補助磁極部（1a）（1a′）
とリターンパス部（1b）（1b′）とを分離する巻線用の
構部（1c）（1c′）が形成された高透磁率磁性材(1)
(1′)とその溝部（1C）（1C′）上部に接合された非磁
性材(2)(2′)との複合体である一対の補助部材(3)(3′)
の一方の接合面側に軟質磁性薄膜よりなる主磁極(4)を
形成した後、この接合面に他方の補助部材(3′)の接合
面を対向せしめて該主磁極(4)を挾み込むように接合し
て構成されている（特開昭５８−１５３２１６号公報参
照）。尚、(5)は巻線である。
手（面内）方向に信号を記録する方式が採られている
が、斯る長手記録方式では記録波長が短くなるにつれて
自己減磁界が大きくなるため高密度磁気記録には自ずと
限界があった。そのため短波長記録を行なうほど自己減
磁界が小さくなる垂直磁気記録再生方式が提案され、高
密度磁気記録への実現に向けて斯る方式に用いられる垂
直磁気ヘッドの改良が日々重ねられている。そして、最
近では垂直磁気ヘッドとして主磁極励磁型のものが脚光
を浴びて来ており、斯る主磁極励磁型の垂直磁気ヘッド
は例えば第８図に示すように補助磁極部（1a）（1a′）
とリターンパス部（1b）（1b′）とを分離する巻線用の
構部（1c）（1c′）が形成された高透磁率磁性材(1)
(1′)とその溝部（1C）（1C′）上部に接合された非磁
性材(2)(2′)との複合体である一対の補助部材(3)(3′)
の一方の接合面側に軟質磁性薄膜よりなる主磁極(4)を
形成した後、この接合面に他方の補助部材(3′)の接合
面を対向せしめて該主磁極(4)を挾み込むように接合し
て構成されている（特開昭５８−１５３２１６号公報参
照）。尚、(5)は巻線である。
(ハ)考案が解決しようとする問題点 ところが、上記従来構造の垂直磁気ヘッドではその主磁
極が、例えばフェライト、セラミックス等の酸化物系か
らなる磁性材と非磁性材との複合体である補助部材の一
方の接合面側に直接形成されているため、主磁極形成時
に酸化物系の補助部材側から酸素原子が混入し、主磁極
の補助部材との接合界面付近に酸化層が出来、この酸化
層が主磁極の磁気特性を劣化させ記録再生効率を低下さ
せる要因となっていた。
極が、例えばフェライト、セラミックス等の酸化物系か
らなる磁性材と非磁性材との複合体である補助部材の一
方の接合面側に直接形成されているため、主磁極形成時
に酸化物系の補助部材側から酸素原子が混入し、主磁極
の補助部材との接合界面付近に酸化層が出来、この酸化
層が主磁極の磁気特性を劣化させ記録再生効率を低下さ
せる要因となっていた。
(ニ)問題点を解決するための手段 本考案は上記した問題点を解決するために、酸化物系か
らなる磁性材と非磁性材との複合体である一対の補助部
材の一方の接合面側に軟磁性薄膜よりなる主磁極を形成
した後、この接合面に他方の補助部材の接合面を対向せ
しめて該主磁極を挾み込むように接合して構成してなる
垂直磁気記録再生ヘッドであって、前記主磁極形成前に
一方の補助部材の接合面側に非磁性で且つ非酸化物系の
下地層を形成し、この下地層の厚みをその後の主磁極形
成時にその主磁極の補助部材との接合界面付近に酸化層
が生じない大きさに設定したものである。
らなる磁性材と非磁性材との複合体である一対の補助部
材の一方の接合面側に軟磁性薄膜よりなる主磁極を形成
した後、この接合面に他方の補助部材の接合面を対向せ
しめて該主磁極を挾み込むように接合して構成してなる
垂直磁気記録再生ヘッドであって、前記主磁極形成前に
一方の補助部材の接合面側に非磁性で且つ非酸化物系の
下地層を形成し、この下地層の厚みをその後の主磁極形
成時にその主磁極の補助部材との接合界面付近に酸化層
が生じない大きさに設定したものである。
(ホ)作用 上記した本考案の下地層は、主磁極形成時にその主磁極
の補助部材との接合界面付近に補助部材から酸素原子が
混入しないように作用する。
の補助部材との接合界面付近に補助部材から酸素原子が
混入しないように作用する。
(ヘ)実施例 以下、本考案の一実施例について図面と共に説明する。
尚、従来と同一構成要素については同一図番を附すと共
にその説明を省略する。
尚、従来と同一構成要素については同一図番を附すと共
にその説明を省略する。
即ち、本考案の垂直磁気ヘッドは第１図に示すように例
えばフェライト、セラミック等の酸化物系の磁性材(1)
と非磁性材(2)との複合体である補助部材(3)の接合面側
に非磁性で且つ非酸化物系の下地層(6)を介して主磁極
(4)を形成するように構成したものである。ここで、下
地層(6)としてはその熱膨張係数がフェライト（９０×
１０−７〜１２０×１０−７）と主磁極(4)（例えばＣ
ｏ系の場合、約１５０×１０−７）との間にあるものが
好ましく、例えばＳｂ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ
等の単体若しくは化合物が良い。また、斯る下地層(6)
の厚みは主磁極形成時にその主磁極(4)の補助部材(3)と
の接合界面付近に酸化層が生じないよう数百A゜以上が望
ましく、これは従来型ヘッドにおいて生じていた主磁極
中の接合界面付近の酸化層が補助部材との接合界面より
数百A゜以内に出来ていたためである。
えばフェライト、セラミック等の酸化物系の磁性材(1)
と非磁性材(2)との複合体である補助部材(3)の接合面側
に非磁性で且つ非酸化物系の下地層(6)を介して主磁極
(4)を形成するように構成したものである。ここで、下
地層(6)としてはその熱膨張係数がフェライト（９０×
１０−７〜１２０×１０−７）と主磁極(4)（例えばＣ
ｏ系の場合、約１５０×１０−７）との間にあるものが
好ましく、例えばＳｂ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ
等の単体若しくは化合物が良い。また、斯る下地層(6)
の厚みは主磁極形成時にその主磁極(4)の補助部材(3)と
の接合界面付近に酸化層が生じないよう数百A゜以上が望
ましく、これは従来型ヘッドにおいて生じていた主磁極
中の接合界面付近の酸化層が補助部材との接合界面より
数百A゜以内に出来ていたためである。
次に、斯る本考案垂直磁気ヘッドの製造方法について、
第２図乃至第６図を参照しながら説明する。
第２図乃至第６図を参照しながら説明する。
先ず、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の磁性材ブロック(7)の
上面（７ａ）側に溝加工を施して巻線用の溝部(8)を形
成した後、鏡面研磨する（第２図参照）。そして、この
様にして得られた第２図に示す如き形状の磁性材ブロッ
ク(7)の上面（７ａ）側にチタン酸カリウム等の非磁性
材(9)を接合し、その一側面側に鏡面研磨を施して接合
面（10a）とした第１の半割ブロック(10)を得る（第３
図参照）。そして、斯る第１の半割ブロック(10)の接合
面（10a）側に例えばＴｉ等の下地層(11)をその厚みが
0.1μｍになるよう蒸着法、スパッタ法、イオンプレー
ティング法等で形成し（第４図参照）、更にその上に例
えばＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ非晶質薄膜を蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法等で形成した後、その薄膜
をフォトエッチング法にて所定のトラック幅の主磁極(1
2)とし、第５図に示す如き第２の半割ブロック(13)を得
る。ここで、フォトエッチングを用いなくても所要のト
ラック幅のスリットを有するメタルマスクを用いて蒸着
やスパッタを行なうことにより所要のトラック幅の主磁
極を形成することが出来る。そして、この様にして得ら
れた第２の半割ブロック(13)と第１の半割ブロック(10)
とを夫々接合面（10a）（13a）側から突き合わせて接合
（例えば、ガラス溶着や樹脂接着等により接合）して本
体ブロック(14)を得た後、その本体ブロック(14)を第６
図に示す如く所要の幅でスライスして先端形状加工を施
せば第１図に示す様な本考案ヘッドが得られる。尚、第
７図は本考案ヘッド(H)と従来ヘッド(H′)との記録電流
に対する再生出力特性図で、同図より本考案ヘッドの方
が従来ヘッドに比し約1.4倍の再生出力が得られること
が判る。
上面（７ａ）側に溝加工を施して巻線用の溝部(8)を形
成した後、鏡面研磨する（第２図参照）。そして、この
様にして得られた第２図に示す如き形状の磁性材ブロッ
ク(7)の上面（７ａ）側にチタン酸カリウム等の非磁性
材(9)を接合し、その一側面側に鏡面研磨を施して接合
面（10a）とした第１の半割ブロック(10)を得る（第３
図参照）。そして、斯る第１の半割ブロック(10)の接合
面（10a）側に例えばＴｉ等の下地層(11)をその厚みが
0.1μｍになるよう蒸着法、スパッタ法、イオンプレー
ティング法等で形成し（第４図参照）、更にその上に例
えばＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ非晶質薄膜を蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法等で形成した後、その薄膜
をフォトエッチング法にて所定のトラック幅の主磁極(1
2)とし、第５図に示す如き第２の半割ブロック(13)を得
る。ここで、フォトエッチングを用いなくても所要のト
ラック幅のスリットを有するメタルマスクを用いて蒸着
やスパッタを行なうことにより所要のトラック幅の主磁
極を形成することが出来る。そして、この様にして得ら
れた第２の半割ブロック(13)と第１の半割ブロック(10)
とを夫々接合面（10a）（13a）側から突き合わせて接合
（例えば、ガラス溶着や樹脂接着等により接合）して本
体ブロック(14)を得た後、その本体ブロック(14)を第６
図に示す如く所要の幅でスライスして先端形状加工を施
せば第１図に示す様な本考案ヘッドが得られる。尚、第
７図は本考案ヘッド(H)と従来ヘッド(H′)との記録電流
に対する再生出力特性図で、同図より本考案ヘッドの方
が従来ヘッドに比し約1.4倍の再生出力が得られること
が判る。
(ト)考案の効果 上述した如く本考案の垂直磁気ヘッドは、酸化物系から
なる磁性材と比磁性材との複合体である補助部材の接合
面側に、非磁性で且つ非酸化物系の下地層を介して主磁
極を形成するようにしているので、主磁極形成時に補助
部材から酸素原子が混入して主磁極の補助部材との接合
界面付近に酸化層が生じることがなく、記録再生効率低
下の原因となっていた主磁極の磁気特性劣化を防止する
ことが出来る。
なる磁性材と比磁性材との複合体である補助部材の接合
面側に、非磁性で且つ非酸化物系の下地層を介して主磁
極を形成するようにしているので、主磁極形成時に補助
部材から酸素原子が混入して主磁極の補助部材との接合
界面付近に酸化層が生じることがなく、記録再生効率低
下の原因となっていた主磁極の磁気特性劣化を防止する
ことが出来る。
第１図は本考案垂直磁気ヘッドを示す図、第２図乃至第
６図は夫々その製造工程を示し、第２図は巻線用の溝部
を形成する工程を示す斜視図、第３図は第１図の半割ブ
ロックを示す斜視図、第４図は下地層を形成する工程を
示す斜視図、第５図は第２の半割ブロックを示す斜視
図、第６図は本体ブロックを示す斜視図、第７図は本考
案ヘッドと従来ヘッドの再生出力特性を示す図、第８図
は従来ヘッドを示す図である。 (3)(3′)……補助部材、(4)……主磁極、(6)……下地
層。
６図は夫々その製造工程を示し、第２図は巻線用の溝部
を形成する工程を示す斜視図、第３図は第１図の半割ブ
ロックを示す斜視図、第４図は下地層を形成する工程を
示す斜視図、第５図は第２の半割ブロックを示す斜視
図、第６図は本体ブロックを示す斜視図、第７図は本考
案ヘッドと従来ヘッドの再生出力特性を示す図、第８図
は従来ヘッドを示す図である。 (3)(3′)……補助部材、(4)……主磁極、(6)……下地
層。
フロントページの続き (72)考案者 江頭 裕康 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)考案者 安田 伊佐雄 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−153216（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】酸化物系からなる磁性材と非磁性材との複
合体である一対の補助部材を備え、該一対の補助部材の
うちの一方の補助部材は接合面に非磁性で且つ非酸化物
系の下地層を有し、該下地層上に軟磁性金属膜よりなる
主磁極を有する垂直磁気記録再生ヘッドであって、前記
一対の補助部材が上記主磁極に他方の補助部材の接合面
を対向させた状態で接合されていることを特徴とする垂
直磁気記録再生ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985005836U JPH0629767Y2 (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 垂直磁気記録再生ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985005836U JPH0629767Y2 (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 垂直磁気記録再生ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61121508U JPS61121508U (ja) | 1986-07-31 |
| JPH0629767Y2 true JPH0629767Y2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=30482716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985005836U Expired - Lifetime JPH0629767Y2 (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 垂直磁気記録再生ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629767Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0232682B2 (ja) * | 1982-03-04 | 1990-07-23 | Sony Corp | Jikihetsudo |
-
1985
- 1985-01-19 JP JP1985005836U patent/JPH0629767Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61121508U (ja) | 1986-07-31 |
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