JPH06281803A - ホログラフィック干渉露光装置 - Google Patents
ホログラフィック干渉露光装置Info
- Publication number
- JPH06281803A JPH06281803A JP5214060A JP21406093A JPH06281803A JP H06281803 A JPH06281803 A JP H06281803A JP 5214060 A JP5214060 A JP 5214060A JP 21406093 A JP21406093 A JP 21406093A JP H06281803 A JPH06281803 A JP H06281803A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- laser
- forming
- wavelength
- interference exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】短波長の光を形成するレーザー光源１により発
生するレーザー光を案内手段２，３により案内させ、該
レーザー光をビームスプリッター４で分離させて経路差
を形成して干渉現象を成して試料７にフリンジを形成す
るホログラフィック干渉露光装置において、前記短波長
のレーザー光源１と共に長波長のレーザー光源９を設
け、これら二つのレーザー光源１，９のビーム経路を一
致させるチョッパー１０を設けたこと。 【効果】可視光レーザーをチョッパーと共に用いて容易
に肉眼で確認できるため、高価な特殊レーザー光源を必
要とせず、短時間内に整合することができる。
生するレーザー光を案内手段２，３により案内させ、該
レーザー光をビームスプリッター４で分離させて経路差
を形成して干渉現象を成して試料７にフリンジを形成す
るホログラフィック干渉露光装置において、前記短波長
のレーザー光源１と共に長波長のレーザー光源９を設
け、これら二つのレーザー光源１，９のビーム経路を一
致させるチョッパー１０を設けたこと。 【効果】可視光レーザーをチョッパーと共に用いて容易
に肉眼で確認できるため、高価な特殊レーザー光源を必
要とせず、短時間内に整合することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分光システム、干渉シス
テム、半導体レーザー、光通信システム等に用いられる
数千オングストロームの格子周期を形成するに用いるホ
ログラフィック（ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ）干渉露光装
置に関する。
テム、半導体レーザー、光通信システム等に用いられる
数千オングストロームの格子周期を形成するに用いるホ
ログラフィック（ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ）干渉露光装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、ホログラフィック干渉露光装
置はレーザー光の経路差を利用してフリンジ（ｆｒｉｎ
ｇｅ）を形成し半導体素子のパターン形成に適用され
る。
置はレーザー光の経路差を利用してフリンジ（ｆｒｉｎ
ｇｅ）を形成し半導体素子のパターン形成に適用され
る。
【０００３】従来のホログラフィック干渉露光装置を図
１を参照して詳細に説明すると、図面において１はレー
ザー光源、２，３，５，６は全反射鏡、４はビームスプ
リッター、７は試料を示す。
１を参照して詳細に説明すると、図面において１はレー
ザー光源、２，３，５，６は全反射鏡、４はビームスプ
リッター、７は試料を示す。
【０００４】図面に示す通り、従来のホログラフィック
干渉露光装置は短波長帯のレーザー光を二つの経路に分
けた後、このとき発生する経路差を利用して一定周期の
フリンジの明暗を得るようにしている。
干渉露光装置は短波長帯のレーザー光を二つの経路に分
けた後、このとき発生する経路差を利用して一定周期の
フリンジの明暗を得るようにしている。
【０００５】このようなフリンジを用いた半導体素子の
製造工程では、約２０００オングストローム程度の微細
格子周期を作り出すようになるが、露光に用いられるレ
ーザー光は感光膜を現像するに十分なエネルギーを有し
ている短波長の紫外線レーザー光源（１）から発生す
る。
製造工程では、約２０００オングストローム程度の微細
格子周期を作り出すようになるが、露光に用いられるレ
ーザー光は感光膜を現像するに十分なエネルギーを有し
ている短波長の紫外線レーザー光源（１）から発生す
る。
【０００６】レーザー光源（１）から発生したレーザー
光は全反射鏡（２，３）の案内によりビームスプリッタ
ー（４）に送られ、該レーザー光が二つに分けられる。
そして、ビームスプリッター（４）で分けられたレーザ
ー光は全反射鏡（５，６）により試料（７）に集束され
て干渉によるフリンジを形成する。
光は全反射鏡（２，３）の案内によりビームスプリッタ
ー（４）に送られ、該レーザー光が二つに分けられる。
そして、ビームスプリッター（４）で分けられたレーザ
ー光は全反射鏡（５，６）により試料（７）に集束され
て干渉によるフリンジを形成する。
【０００７】このようにして得られるフリンジを半導体
の超微細パターンを形成する感光物質を現像するのに利
用することになるが、図２に示したように、試料（７）
上に現像された感光物質（８）が格子周期（１２）で形
成される。また、図３は図２において形成された格子周
期（１２）で現像された上記感光物質（８）を利用して
蝕刻した断面図である。
の超微細パターンを形成する感光物質を現像するのに利
用することになるが、図２に示したように、試料（７）
上に現像された感光物質（８）が格子周期（１２）で形
成される。また、図３は図２において形成された格子周
期（１２）で現像された上記感光物質（８）を利用して
蝕刻した断面図である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の超
微細化回折格子製作時に用いられるホログラフィック干
渉露光計やその他の干渉計、分光計においてレーザー光
の光源としてＵＶ（ｕｌｔａｖｉｏｌｅｔ）やＩＲ（ｉ
ｎｆｒａｒｅｄ）領域の非可視光レーザーを用いる場
合、光学計整合（ａｌｉｇｎ）時にレーザー光が目に見
えないため、多大な困難が伴った。更に、このような理
由により主ソースレーザーの本体内に目に見える赤色の
Ｈｅ−Ｎｅレーザーや半導体レーザー等を共に整合させ
て用いたり、可視領域帯のレーザーを主レーザーと異な
る位置にセットして二つのレーザー光経路を一致させる
ようにしたが、前者の場合は特別な製作を要するため、
レーザーの価格が通常の価格に比べて高価であり、後者
の場合は二つのレーザーの位置が異なるとき、各位置に
おける振動差に因る製作上の問題点が多く伴った。
微細化回折格子製作時に用いられるホログラフィック干
渉露光計やその他の干渉計、分光計においてレーザー光
の光源としてＵＶ（ｕｌｔａｖｉｏｌｅｔ）やＩＲ（ｉ
ｎｆｒａｒｅｄ）領域の非可視光レーザーを用いる場
合、光学計整合（ａｌｉｇｎ）時にレーザー光が目に見
えないため、多大な困難が伴った。更に、このような理
由により主ソースレーザーの本体内に目に見える赤色の
Ｈｅ−Ｎｅレーザーや半導体レーザー等を共に整合させ
て用いたり、可視領域帯のレーザーを主レーザーと異な
る位置にセットして二つのレーザー光経路を一致させる
ようにしたが、前者の場合は特別な製作を要するため、
レーザーの価格が通常の価格に比べて高価であり、後者
の場合は二つのレーザーの位置が異なるとき、各位置に
おける振動差に因る製作上の問題点が多く伴った。
【０００９】従って、本発明は上記問題点を解決するた
めに案出したもので、その目的は、微細回折格子を製作
するホログラフィック干渉露光計を使用するときに生じ
る整合上の困難を可視光線レーザーとチョッパーを利用
してレーザー光の経路を確認しながら整合させ得るホロ
グラフィック干渉露光装置を提供することにある。
めに案出したもので、その目的は、微細回折格子を製作
するホログラフィック干渉露光計を使用するときに生じ
る整合上の困難を可視光線レーザーとチョッパーを利用
してレーザー光の経路を確認しながら整合させ得るホロ
グラフィック干渉露光装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、短波長の光を形成するレーザー光源によ
り発生するレーザー光を案内手段により案内させ、該レ
ーザー光をビームスプリッターでスプリットさせて経路
差を形成して干渉現像を成して試料にフリンジを形成す
る干渉露光装置において、前記短波長のレーザー光源と
共に長波長のレーザー光源を設け、これら二つのレーザ
ー光源のビーム経路を一致させるチョッパーを設けたこ
とに構成上の特徴がある。
に、本発明は、短波長の光を形成するレーザー光源によ
り発生するレーザー光を案内手段により案内させ、該レ
ーザー光をビームスプリッターでスプリットさせて経路
差を形成して干渉現像を成して試料にフリンジを形成す
る干渉露光装置において、前記短波長のレーザー光源と
共に長波長のレーザー光源を設け、これら二つのレーザ
ー光源のビーム経路を一致させるチョッパーを設けたこ
とに構成上の特徴がある。
【００１１】
【実施例】以下、添付した図面図４を参照して本発明に
係る一実施例を詳細に説明すると、図面において９は長
波長のレーザー光源、１０はチョッパー、１１は全反射
鏡を示す。
係る一実施例を詳細に説明すると、図面において９は長
波長のレーザー光源、１０はチョッパー、１１は全反射
鏡を示す。
【００１２】先ず、図面に示す通り、ＵＶ短波長の光を
形成するＵＶレーザー光源（１）と可視光線を形成する
Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー光源（９）を共に設ける。
形成するＵＶレーザー光源（１）と可視光線を形成する
Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー光源（９）を共に設ける。
【００１３】レーザー光を形成する上記二つのレーザー
光源（１，９）はレーザー光を形成して案内する全反射
鏡を介して進行するが、上記Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー光
源（９）のレーザー光は全反射鏡（１１）によりチョッ
パー（１０）へ案内され、一方上記ＵＶレーザー光源
（１）により形成されたレーザー光も上記チョッパー
（１０）に案内されて、二つのレーザー光が一致するよ
うになる。
光源（１，９）はレーザー光を形成して案内する全反射
鏡を介して進行するが、上記Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー光
源（９）のレーザー光は全反射鏡（１１）によりチョッ
パー（１０）へ案内され、一方上記ＵＶレーザー光源
（１）により形成されたレーザー光も上記チョッパー
（１０）に案内されて、二つのレーザー光が一致するよ
うになる。
【００１４】上記チョッパー（１０）により一致された
二つのレーザー光は全反射鏡（２，３）により同一の経
路を有して進行する。
二つのレーザー光は全反射鏡（２，３）により同一の経
路を有して進行する。
【００１５】同一の経路を有して進行する二つのレーザ
ー光は、フリンジを形成するに必要な経路差を形成する
ために、ビームスプリッター（４）へ案内されて同ビー
ムスプリッター（４）により分離される。ビームスプリ
ッター（４）により分離されたレーザービームは試料
（７）が置かれたところに向かって進行し、上記試料
（７）に干渉現像による回折格子が発生するようにする
全反射鏡（５，６）により案内される。
ー光は、フリンジを形成するに必要な経路差を形成する
ために、ビームスプリッター（４）へ案内されて同ビー
ムスプリッター（４）により分離される。ビームスプリ
ッター（４）により分離されたレーザービームは試料
（７）が置かれたところに向かって進行し、上記試料
（７）に干渉現像による回折格子が発生するようにする
全反射鏡（５，６）により案内される。
【００１６】しかして、上記可視光線を発生するＨｅ−
Ｎｅガスレーザー光源（９）のレーザー光は６３２８オ
ングストローム程度の波長を有するため、ＵＶ帯の波長
で露光される半導体試料には何等の影響も與えない。
Ｎｅガスレーザー光源（９）のレーザー光は６３２８オ
ングストローム程度の波長を有するため、ＵＶ帯の波長
で露光される半導体試料には何等の影響も與えない。
【００１７】
【発明の効果】上記の通り構成される本発明は非可視光
レーザーを用いる光学計の整合時に肉眼で確認可能であ
り、可視光レーザーをチョッパーと共に用いて容易に肉
眼で確認できるため、高価な特殊レーザー光源を必要と
せず、短時間内に整合することができる効果がある。
レーザーを用いる光学計の整合時に肉眼で確認可能であ
り、可視光レーザーをチョッパーと共に用いて容易に肉
眼で確認できるため、高価な特殊レーザー光源を必要と
せず、短時間内に整合することができる効果がある。
【図１】 従来のホログラフィック干渉露光計の構成図
である。
である。
【図２】 ホログラフィック干渉露光計を利用して感光
物質を格子周期で現像したウェハの断面図である。
物質を格子周期で現像したウェハの断面図である。
【図３】 図２の感光膜を利用して試料を蝕刻したウェ
ハの断面図である。
ハの断面図である。
【図４】 本発明に係るホログラフィック干渉露光計の
構成図である。
構成図である。
１，９：レーザー光源 ２，３，５，６，１１：全反射鏡 ４：ビームスプリッター ７：試料 ８：感光物質 １０：チョッパー １２：格子周期
フロントページの続き (72)発明者 ドゥー ファン リー 大韓民国 ソウル ソンパグ シンチェオ ンドン クロバーアパートメント ２− 401
Claims (2)
- 【請求項１】 短波長の光を形成するレーザー光源
（１）により発生するレーザー光を案内手段（２，３）
により案内させ、該レーザー光をビームスプリッター
（４）で分離させて経路差を形成して干渉現象を成して
試料（７）にフリンジを形成する干渉露光装置におい
て、 前記短波長のレーザー光源（１）と共に長波長のレーザ
ー光源（９）を設け、これら二つのレーザー光源（１，
９）のビーム経路を一致させるチョッパー（１０）を設
けたことを特徴とするホログラフィック干渉露光装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記長波長のレーザー光源（９）はＵＶ帯のレーザー光
に比べて波長が長い可視光帯波長のレーザー光を形成す
ることを特徴とするホログラフィック干渉露光装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920015862A KR950011165B1 (ko) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 홀로그래픽 간섭 노광 장치 |
| KR1992-15862 | 1992-09-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281803A true JPH06281803A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=19338881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5214060A Pending JPH06281803A (ja) | 1992-09-01 | 1993-08-30 | ホログラフィック干渉露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5530564A (ja) |
| JP (1) | JPH06281803A (ja) |
| KR (1) | KR950011165B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19816574C2 (de) * | 1998-04-07 | 2000-04-13 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von resonanten Filtern |
| KR100727781B1 (ko) * | 2006-09-01 | 2007-06-14 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 광정보 처리장치와 처리방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58111968A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Rikagaku Kenkyusho | ホログラフイツク・グレーテイングを形成するための装置 |
| JPS61190301A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4528464A (en) * | 1983-02-28 | 1985-07-09 | At&T Bell Laboratories | Degenerate four-wave mixer using multiple quantum well structures |
| US5305123A (en) * | 1992-01-09 | 1994-04-19 | Physical Optics Corporation | Light controlled spatial and angular electromagnetic wave modulator |
-
1992
- 1992-09-01 KR KR1019920015862A patent/KR950011165B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-08-30 US US08/114,438 patent/US5530564A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-30 JP JP5214060A patent/JPH06281803A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58111968A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Rikagaku Kenkyusho | ホログラフイツク・グレーテイングを形成するための装置 |
| JPS61190301A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940008012A (ko) | 1994-04-28 |
| KR950011165B1 (ko) | 1995-09-28 |
| US5530564A (en) | 1996-06-25 |
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