JPH06279365A - 含フッ素強誘電性液晶化合物及びそれを用いたカイラルスメクチック液晶組成物 - Google Patents

含フッ素強誘電性液晶化合物及びそれを用いたカイラルスメクチック液晶組成物

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JPH06279365A
JPH06279365A JP4056924A JP5692492A JPH06279365A JP H06279365 A JPH06279365 A JP H06279365A JP 4056924 A JP4056924 A JP 4056924A JP 5692492 A JP5692492 A JP 5692492A JP H06279365 A JPH06279365 A JP H06279365A
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JP4056924A
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Yukihiro Fukushima
幸裕 福島
Yukio Horikawa
幸雄 堀川
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Kanebo Ltd
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Kanebo Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式[1] 【化1】 (式中R1*及びR2*は炭素数4〜20を有する光学活性
基を示す。)で示される含フッ素強電性液晶化合物。 【効果】 本発明の光学活性化合物及びそれを用いたカ
イラルスメクチック液晶組成物は、きわめて大きな自発
分極を有し、しかも応答速度が従来のTN型表示法の数
100倍と大きく、それを用いることにより、高画質の
動作表示、高速応答性の光スイッチや光シャッターを得
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、画像表示の応答性に優
れた新規光学活性化合物及び、それを含む応答性に優れ
た液晶画像表示用のカイラルスメクチック液晶組成物に
関する。
【0002】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴って、パーソナル
コンピュータやワードプロセッサなどの情報機器のディ
スプレイデバイスが広く利用されている。なかでも液晶
ディスプレイは、薄型平面軽量低電圧駆動低消
費電力などの長所に加えて、フォーカスのずれがなく鮮
明であり、しかもそれ自体発光しない受光型であるた
め、屋外のような明るい場所でも見やすい等の利点があ
り、ディスプレイデバイスの代表的地位を占めつつあ
る。しかし現在使用されている液晶ディスプレイの表示
方式である、TN(ツイステッド−ネマチック)型で
は、原理的に応答速度が遅い、あるいはメモリー性がな
い等の欠点があるため、高速の応答が必要とされる高画
質の動作表示が得にくく、又光通信や光シャッター素子
への応用は難しい。そのためTN型表示方式に代わる新
しい液晶表示方式が種々試みられているが、その一つに
強誘電性液晶を利用する表示方式がある(N.A.Cl
arkら;Applied Phys. Lett.
86,899(1980))。
【0003】この方式は強誘電性液晶のカイラルスメク
チックC相(以下、Sc* 相と略称する。)あるいはカ
イラルスメクチックH相(以下、SH * 相と略称す
る。)を利用し、自発分極と印加電圧との相互作用によ
りTN型表示方式の1000倍もの高速応答性が可能
で、かつ電源を切っても表示の記憶が得られる特長を有
するため、強誘電性液晶化合物の開発が活発に進められ
ている。ところで、強誘電性液晶の応答時間τは、近似
的に[2]式で与えられる。 τ=η/Ps×E ………[2] (式中ηは粘度、Psは自発分極、Eは電界強度を表
す。)従って、電界強度が一定ならば自発分極が大きい
程、高速応答性が得られる。一般的に自発分極に寄与す
るのは、分子の短軸方向の双極子であり、できるだけ大
きな双極子を持つ分子構造が望ましい。そこで、自発分
極を大きくするために、大きな双極子を持つ置換基を不
斉中心の近傍に複数個導入する方法が数多く試みられて
いるが、それらのSc* 化合物は粘度が大きく、しかも
複数の双極子が立体的要因から互いに逆方向を向き、そ
の効果を相殺してしまう等の理由から、実質的に大きな
自発分極を有し、高速応答性に優れた強誘電性液晶化合
物は得られていないのが現状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情に鑑みなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、大きな自発分極を有し、かつ高速応答性に優れた
液晶表示素子用の光学活性化合物及びそれを含有するカ
イラルスメクチック液晶組成物を提供するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記一般
式[1]にて示される光学活性化合物及びそれを2モル
%以上含有してなるカイラルスメクチック液晶組成物に
より達成される。
【化2】 (ただし式中R1*及びR2*は、炭素数4〜20を有する
光学活性基を示す。)
【0006】次に本発明を詳細に説明する。本発明の光
学活性化合物は、前記一般式[1]で表されるものであ
りR1*及びR2*は共に、炭素数4〜20を有する光学活
性基であるが、液晶分子の配向性から炭素数5〜16の
アルキル基が好ましく、又不斉炭素の位置はエーテル基
及びカルボニル基に直接または炭素を一つ介して結合
し、さらにその絶対配置は同一であると自発分極が打ち
消されて小さくなるので、互いに逆であることが好まし
い。更に不斉炭素を除く部分は直鎖状である方が好まし
い。
【0007】望ましい光学活性基としては、例えば次の
ような構造が挙げられる。
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【0008】本発明の化合物は、一般式[1]からも解
るように、2つの光学活性部の近傍にそれぞれエーテル
基及びカルボニル基という大きな双極子を持つ。そして
エーテル基のオルソ位とメタ位にフッ素原子を導入する
ことにより、その大きな電気陰性度が自発分極に寄与す
ると共に、その立体的要因からエーテル基と同一方向に
双極子が配向する。またもう一方のカルボニル基のオル
ソ位に水酸基を導入することにより、同様に自発分極を
誘起する双極子の数が増すと共に、更に水酸基とカルボ
ニル基の分子内水素結合により、それらの双極子を同一
方向に固定化した構造を有するため、それらを含有する
カイラルスメクチック液晶組成物により、きわめて大き
な自発分極と高速応答性を特徴とする液晶素子を作製で
きる。
【0009】本発明の光学活性化合物は、従来公知の方
法を適宜組み合わせて製造すれば良いが、例えば好まし
い方法として次のような合成経路により達成される。
【化13】
【0010】すなわち、a)光学活性アルコールのパラ
トルエンスルホン酸エステル化、b)2,3−ジフルオ
ロフェノールとパラトルエンスルホン酸エステルによる
エーテル化、c)1−アルコキシ−2,3−ジフルオロ
ベンゼンのプロトン−リチウム交換反応を経由した4−
アルコキシ−2,3−ジフルオロフェニルボロン酸の合
成、d)2,4−ジヒドロキシ安息香酸と光学活性アル
コールとのエステル化、e)パラヨウド安息香酸と2,
4−ジヒドロキシ安息香酸エステルとのエステル化、
f)遷移金属触媒による芳香族ボロン酸と、芳香族ハロ
ゲン化物のカップリング反応の6段階からなる。
【0011】まずa)、b)の反応で、光学活性アルコ
ールと2,3−ジフルオロフェノールより光学活性アル
コキシ−2,3−ジフルオロベンゼンを合成する。通
常、芳香族フェノールよりエーテルを合成する方法は、
ハロゲン化アルキルとナトリウムフェノキシドによるW
illiamson合成が一般的であるが、本発明の場
合、光学活性アルコールより光学純度の高いエーテル化
物を得る目的から、芳香族スルホン酸エステル化した
後、エーテル化する方法が好ましい。a)の方法での芳
香族スルホン酸エステル化剤は、パラトルエンスルホン
酸または、パラトルエンスルホン酸クロリドを使用し、
光学活性アルコールに対して1.0〜2.0倍モルが好
ましく、また生成する酸を中和するためにピリジンなど
の塩基を1.0〜5.0倍モル加えることが好ましい。
反応溶媒は充分に脱水したトルエンなどの芳香族溶媒が
好ましく、反応条件は、光学活性アルコールとピリジン
の混合溶液に、0〜10℃好ましくは0〜5℃の反応温
度で、同じ溶媒に溶解したパラトルエンスルホン酸クロ
リドをゆっくり滴下する方法が好ましい。
【0012】次にb)の反応で、2,3−ジフルオロフ
ェノールをフェノキシドとし、a)で得たパラトルエン
スルホン酸エステルによりエーテル化する。反応溶媒
は、メタノールまたはエタノールなどのアルコール溶媒
が好ましく、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウム水
溶液により、金属アルコラートとする。その塩基の使用
量は、基質に対して1.0〜1.2倍モルが好ましい。
エーテル化は、金属アルコラートをフェノラートに変換
する必要がある為、試薬の添加方法は、まず等倍モルの
2,3−ジフルオロフェノールを金属アルコラートに加
え完全に溶解したのち、等倍モルのパラトルエンスルホ
ン酸エステルを加える方法が好ましい。反応温度は還流
下で行い、反応時間は1〜10時間が好ましい。
【0013】次にc)の反応では、1−アルコキシ−
2,3−ジフルオロベンゼンから有機金属化合物を合成
する。一般に有機金属化合物の金属としては、マグネシ
ウム、銅、亜鉛、リチウム、ホウ素、スズ、アルミニウ
ム等が用いられるが、本発明の有機金属化合物について
は、フッ素原子のオルソ位を金属に変換したのち、他の
芳香族ハロゲン化物と選択的にカップリング反応を行う
ため、ホウ素またはスズ金属が好ましく、更に反応条件
や安定性、反応収率等の点からホウ素が好ましい。使用
する金属試薬は、トリアルコキシボランが好ましく、ま
ず等倍モルのアルキルリチウムによりプロトン−リチウ
ム交換反応を行ったのち、引き続きトリアルコキシボラ
ンを反応させ、4−アルコキシフェニルボロン酸とす
る。トリアルコキシボランの使用量は、1.0〜3.0
倍モルであり、反応収率から2.0〜3.0倍モルがよ
り好ましい。反応溶媒は、充分に脱水したジエチルエー
テルまたはテトラヒドロフランが好ましい。まずプロト
ン−リチウム交換反応は、−90〜−50℃の反応温度
で、0.2〜3.0時間で達成される。次にリチウム化
合物からボロン酸への変換は、最初は−90〜−50℃
で行い徐々に室温まで昇温する方法が好ましく、その反
応時間は5〜24時間が好ましい。
【0014】次に、d)及びe)の反応は、いずれも芳
香族カルボン酸と光学活性アルコールまたはフェノール
誘導体とのエステル化反応である。エステル化反応に
は、酸触媒による脱水反応、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド等の脱水縮合剤を用いる方法、また芳香族カルボ
ン酸を塩化チオニル等により酸クロライドに変換したの
ちエステル化する方法などが挙げられるが、なかでも反
応装置、操作等の簡便性と反応収率から脱水縮合剤を用
いる方法が好ましい。その使用量は、芳香族カルボン酸
や光学活性アルコールまたは芳香族フェノールに対して
等倍モルが好ましく、更に0.05〜0.2倍モルのジ
メチルアミノピリジンあるいは4−ピロリジノピリジン
を活性化触媒として加えることがより好ましい。反応溶
媒は充分に脱水したジエチルエーテル又はテトラヒドロ
フランが好ましく、基質に対する溶解性と反応性からテ
トラヒドロフランがより好ましい。ただし、d)の反応
では〔化17〕で示される芳香族カルボン酸が4位に水
酸基を有し、同一分子間でのエステル化反応も進行する
ため、試薬の添加方法として、まず光学活性アルコール
と脱水縮合剤及び活性化触媒を反応溶媒に溶解し、最後
に同じ溶媒に溶解した2,4−ジヒドロキシ安息香酸を
ゆっくり滴下する方法が好ましい。
【0015】最後にf)の反応は、〔化16〕で示され
る芳香族ボロン酸と〔化19〕で示される芳香族ハロゲ
ン化物のカップリング反応であるが、遷移金属触媒を用
いるのが好ましい。使用する触媒は、0価または2価の
Pd触媒が好ましく、なかでも反応時間、反応収率等の
条件から0価のPd触媒であるテトラキス(トリフェニ
ルフォスフィン)パラジウムが好適に用いられ、その使
用量は0.01〜0.05倍モルで良い。反応溶媒は、
ベンゼンなどの芳香族溶媒が好ましく、さらにボロン酸
の溶解性が低いため、エタノールなどのアルコール溶媒
を3〜10%加えることがより好ましい。またこの反応
においては塩基として水酸化ナトリウムあるいは、炭酸
ナトリウム水溶液を加えることが必要であり、反応収率
等の条件から2.0規定の炭酸ナトリウム水溶液を1.
0〜3.0倍モル加えることがより好ましい。反応温度
は還流下、反応時間は3〜10時間、より好ましくは5
〜10時間である。
【0016】a)〜f)の反応で得られた生成物の分離
は、通常用いられる抽出法、蒸留法、再結晶法、クロマ
トグラフィー法等を適宜選定することにより、容易に行
うことができる。本発明の化合物は、単独あるいは他の
スメクチックC相を示す液晶化合物と混合して、カイラ
ルスメクチック液晶組成物にできる。混合する液晶化合
物は、スメクチックC相を有するものならば何れのもの
でも使用することができるが、例えば次のような液晶化
合物が挙げられる。
【0017】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【化25】
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】 (ただし、Rはアルキル基を示し、カッコ内の酸素原子
はあっても無くても良い。)
【0018】本発明の化合物の配合量は2モル%以上、
好ましくは5モル%以上であり、また混合する液晶化合
物は一種でもあるいは複数種でもよく、目的に応じ適宜
選定すれば良い。本発明のカイラルスメクチック液晶組
成物は、従来公知の方法で表示素子にできる。
【0019】
【発明の効果】本発明の光学活性化合物およびそれを用
いたカイラルスメクチック液晶組成物は、きわめて大き
な自発分極を有し、しかも応答速度が従来のTN型表示
法の数100倍と大きく、それを用いることにより、高
画質の動作表示、高速応答性の光スイッチや光シャッタ
ーを得ることができる。
【0020】
【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
る。
【0021】実施例1 3−ヒドロキシ−4−(R−(−)−1−メチルヘプチ
ルオキシカルボニル)フェニル−2′,3′−ジフルオ
ロ−4′−(S−(+)−1−メチルヘプチルオキシ)
ビフェニル−4−カルボキシレートの製造
【化32】 A)2,3−ジフルオロ−4−(S−(+)−1−メチ
ルヘプチルオキシ)フェニルボロン酸の製造 R−(−)−2−オクタノール4.0g(30.7ミリ
モル)をピリジン12ml(148.4ミリモル)に溶解
し、系内の温度を10℃以下に保ちながら、パラトルエ
ンスルホン酸クロリド5.9g(30.9ミリモル)を
乾燥トルエン20mlに溶解した溶液をゆっくり滴下し、
さらに室温下で1時間攪拌した。反応終了後、1.0規
定の塩酸200mlに加え、酢酸エチル250mlで抽出し
た。さらに中性になるまで水洗したのち溶媒を留去し、
下記の化合物8.15g(28.65ミリモル)を得
た。(収率93%)
【化33】
【0022】次に2,3−ジフルオロフェノール2.8
5g(21.9ミリモル)をエタノール60mlに溶解し
たのち、水酸化カリウム1.23g(21.9ミリモ
ル)の飽和水溶液を加え、カリウム2,3−ジフルオロ
フェノキシド溶液を調製した。そこへ上記で得たパラト
ルエンスルホン酸R−(−)−1−メチルヘプチルエス
テル6.23g(21.9ミリモル)を加え、還流下で
4時間加熱攪拌した。反応終了後、1.0規定の塩酸1
50mlに加え酢酸エチル200mlで抽出した。さらに中
性になるまで水洗したのち溶媒を留去した。得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し、下記の化合物2.9g(11.98ミリモル)を
得た。(収率55%)
【化34】 [α]D =+11.42(MeOH:c=0.10gcm-3
【0023】上記で得た化合物3.74g(15.45
ミリモル)を乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解し、
−78℃下で1.6規定n−ブチルリチウム9.65ml
(15.45ミリモル)を滴下し、さらに2時間攪拌し
た。次にイソプロピルオキシボラン8.7g(46.2
6ミリモル)と乾燥テトラヒドロフラン15mlの混合溶
液を加えたのち、徐々に温度を室温にまで上げ24時間
攪拌した。反応終了後、酢酸エチル200mlで抽出し、
さらに中性になるまで水洗したのち溶媒を留去し、下記
の化合物3.88g(13.57ミリモル)を得た。
(収率88%)
【化35】
【0024】B)4−(パラヨウドフェニルカルボキ
シ)−2−ヒドロキシ安息香酸R−(−)−1−メチル
ヘプチルエステルの製造 R(−)−2−オクタノール4.2g(32.3ミリモ
ル)を乾燥テトラヒドロフラン40mlに溶解し、さらに
4−ピロリジノピリジン0.48g(3.23ミリモ
ル)及びジシクロヘキシルカルボジイミド6.65g
(32.3ミリモル)を加えた後、2,4−ジヒドロキ
シ安息香酸5.0g(32.3ミリモル)の乾燥テトラ
ヒドロフラン溶液40mlをゆっくり滴下し、室温下で1
5時間攪拌した。反応終了後、テトラヒドロフラン不溶
物を濾過し、溶媒留去して得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記の化合
物3.2g(12.0ミリモル)を得た。(収率37
%)
【化36】
【0025】この化合物3.2g(12.0ミリモル)
及びパラヨウド安息香酸3.0g(12.0ミリモル)
を乾燥テトラヒドロフラン50mlに溶解し、更に4−ピ
ロリジノピリジン0.18g(1.2ミリモル)及びジ
シクロヘキシルカルボジイミド2.5g(12.0ミリ
モル)を加えて室温下で12時間攪拌した。反応終了
後、テトラヒドロフラン不溶物を濾過し、溶媒を留去し
て得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、下記の化合物3.16g(6.37
ミリモル)を得た。(収率53%)
【化37】
【0026】C)2,3−ジフルオロ−4−(S−
(+)−1−メチルヘプチルオキシ)フェニルボロン酸
と4−(パラヨウドフェニルカルボキシ)−2−ヒドロ
キシ安息香酸S−(+)−1−メチルヘプチルオキシエ
ステルのカップリング反応 A)で合成した2,3−ジフルオロ−4−(S−(+)
−1−メチルヘプチルオキシ)フェニルボロン酸0.2
6g(0.9ミリモル)と、B)で合成した4−(パラ
ヨウドフェニルカルボキシ)−2−ヒドロキシ安息香酸
S−(+)−1−メチルヘプチルエステル0.45g
(0.9ミリモル)をベンゼン20mlとエタノール1.
0mlの混合溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム0.25g
(2.36ミリモル)の水溶液1.2mlおよび、テトラ
キス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム0.04
g(0.03ミリモル)を加え、還流下で10時間加熱
攪拌した。 反応終了後、酢酸エチル100mlで抽出
し、さらに中性になるまで水洗したのち、溶媒を留去し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、液体の下記最終化合物0.44g
(0.72ミリモル)を得た。(収率80%)
【化38】
【0027】分析値: I) 1H−NMR(プロトン核磁気共鳴スペクトル C
DCl3 ) δ(ppm) 0.8〜1.9 (m 32H) 4.45 (m 1H) 5.2 (m 1H) 6.75〜8.3 (m 9H) 11.1 (s 1H) II) IR(赤外吸収スペクトル) ν(cm-1) 1670 1744 III) MS(マススペクトル) m/e 610 (M+ )
【0028】実施例2 上記の実施例1で得た光学活性化合物を、下記〔化4
6〕に示すラセミ化合物に10モル%混合して、カイラ
ルスメクチック液晶組成物を製造した。
【化39】 その液晶組成物をポリイミド−ラビング処理を施したセ
ルに注入し、電界強度4V/μmの矩形波電圧を印加時
のSc* 相での自発分極(Ps)、応答時間(τ)、及
びチルト角(θ)を測定した。それぞれの物性値を表1
に示す。
【表1】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式[1] 【化1】 (式中R1*及びR2*は炭素数4〜20を有する光学活性
    基を示す。)で示される含フッ素強誘電性液晶化合物。
  2. 【請求項2】 前項の一般式[1]で示される化合物を
    2モル%以上含有することを特徴とするカイラルスメク
    チック液晶組成物。
JP4056924A 1992-02-08 1992-02-08 含フッ素強誘電性液晶化合物及びそれを用いたカイラルスメクチック液晶組成物 Pending JPH06279365A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007217288A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Chisso Corp 液晶化合物、液晶組成物および液晶表示素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007217288A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Chisso Corp 液晶化合物、液晶組成物および液晶表示素子

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