JPH0625060A - 液晶化合物および組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式 R¹-O-A-NAP-O-R² 〔Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１８のアルキル基またはアルケ
ニル基を表し、Ａはフッ素置換されている１，４-フェ
ニレン基または２-位置においてＮＡＰと、５-位置にお
いて-Ｏ-と結合したピリミジン環などを表す〕で示され
る液晶化合物。 【効果】この液晶化合物をキラルスメクチックＣ相の示
す液晶組成物の成分として用いることにより、配向性が
良くジグザグ欠陥の無い液晶組成物を得ることが可能で
あり、コントラスト比の高い液晶表示素子を得ることが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子などに用い
る液晶組成物の成分として有用な新規液晶化合物および
この液晶化合物を含有する液晶組成物に関する。更に詳
しくは、キラルでないスメクチックＣ相（以下Ｓｃ相と
略称する。）を示す新規なナフタレン系液晶化合物およ
びこの液晶化合物を含有する液晶組成物を提供するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】最近、メイヤーらにより強誘電性液晶化
合物を用いる表示方式が報告され、これによるとＴＮ型
の１００〜１０００倍という高速応答とメモリー効果が
得られるため、次世代の表示素子として期待され、現
在、盛んに研究、開発が進められている。強誘電性液晶
化合物の液晶相は、チルト系のキラルスメクチック相に
属するものであるが、実用的には、その中で最も低粘性
であるキラルスメクチックＣ（以下、Ｓｃ＊と略称す
る。）相が最も望ましい。Ｓｃ＊相を示す液晶化合物
は、既に数多く合成され、検討されているが、強誘電性
表示素子として用いるための条件としては、（a）室温
を含む広い温度範囲 でＳｃ＊を示すこと、（b）均一な
配向性を示し、かつその螺旋ピッチが大きい こと、
（c）適当なチルト角を有すること、（d）粘性が小さい
こと、等が挙げられる。しかし、これら条件を単独で満
足するＳｃ＊相を示す液晶化合物は知られておらず、混
合によりこれらを満足させる努力がなされている。また
新規なＳｃ＊相を示す液晶化合物の開発も進められてい
る。一方、Ｓｃ＊相を示す液晶組成物（以下、Ｓｃ＊液
晶組成物という。）の調製方法として、強誘電性を示さ
ず、キラルでないＳｃ相を示す液晶化合物又は組成物
に、キラルな化合物を添加する方法もあり、Ｓｃ相を示
す液晶化合物の開発も進められている。従来、Ｓｃ相あ
るいはＳｃ＊相を示す代表的な液晶化合物として、下記
化６および化７で示されるフェニルピリミジン系液晶化
合物が知られている。

【０００３】

【化６】

【０００４】

【化７】

【０００５】化７中、Ｃ＊は不斉炭素原子を表す。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしこれらのフェニ
ルピリミジン系液晶化合物およびこの化合物を用いた組
成物は、配向性が悪いため、セルに注入した場合、ジグ
ザグ欠陥が生じやすくコントラスト比が高くならないと
いう問題がある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記化合物
よりも配向性が良いＳｃ相を示す液晶化合物について鋭
意検討を行った結果、従来とは構造の異なった新規な液
晶化合物を見出し本発明に到達した。すなわち本発明
は、下記一般式

【０００８】

【化８】 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²は、炭素数１〜１８のアルキル基また
はアルケニル基を表し、Ａは、下記化９〜１２で表され
る基を表し、ＮＡＰは２，６-ナフチレン基を表す〕で
示される液晶化合物；並びにこの液晶化合物を少なくと
も一種含有することを特徴とする液晶組成物である。

【０００９】

【化９】

【００１０】

【化１０】

【００１１】

【化１１】

【００１２】

【化１２】

【００１３】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²で表される炭素
数１〜１８のアルキル基およびアルケニル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、ｎ-プロピル基、ｎ-ブチ
ル基、ｎ-ペンチル基、 ｎ-ヘキシル基、ｎ-ヘプチル
基、ｎ-オクチル基、ｎ-ノニル基、ｎ-デシル基、 ｎ-
ウンデシル基、ｎ-ドデシル基、ｎ-テトラデシル基、ｎ
-ヘキサデシル基、ｎ-オクタデシル基、２-プロペニル
基、３-ブテニル基、４-ペンテニル基、５-ヘキセニル
基、６-ヘプテニル基、７-オクテニル基、８-ノネニル
基、９-デセニル基、１０-ウンデセニル基、１１-ドデ
セニル基、trans-２-ヘキセニル基、cis-２-ヘキセニル
基、 cis-３-ヘキセニル基、cis-４-ヘキセニル基、tran
s-２-ヘプテニル基、cis-３-ノネニル基、cis-６-ノネ
ニル基、trans-２-デセニル基、trans-５-デセニル基な
どが挙げられる。

【００１４】これらのうち好ましいものは、炭素数３〜
１４のアルキル基およびアルケニル基である。本発明の
液晶化合物の具体例としては、下記表１〜表５に示すよ
うな基を有する化合物が挙げられる。

【００１５】

【表１】

【００１６】

【表２】

【００１７】

【表３】

【００１８】

【表４】

【００１９】

【表５】

【００２０】上記表１〜表５中、各記号はそれぞれ以下
の基を表す。 ＨＥＰ；ｎＣ₇Ｈ₁₅− ＯＣＴ；ｎＣ₈Ｈ₁₇−
ＮＯＮ；ｎＣ₉Ｈ₁₉− ＤＥＣ；ｎＣ₁₀Ｈ₂₁− Ｏ−ＨＥＰ；ＣＨ₂＝ＣＨ-
（ＣＨ₂）₅− Ｏ−ＯＣＴ；ＣＨ₂＝ＣＨ-（ＣＨ₂）₆− Ｏ−ＮＯＮ；ＣＨ₂＝ＣＨ-（ＣＨ₂）₇− Ｏ−ＤＥＣ；ＣＨ₂＝ＣＨ-（ＣＨ₂）₈−

【００２１】本発明の化合物は、例えば〈I〉〜〈IV〉
の項で各々示す工程を経て合成できる〔下記式中Ｒ¹ 、
ＮＡＰ、およびＲ² は一般式（１）の場合と同一であ
る〕。 〈I〉Ａが化９で表される基の場合

【００２２】

【化１３】

【００２３】すなわち、６-ブロモ-２-ナフトールに塩
基の存在下、アルキル化剤（例えばハロゲン化アルキ
ル）を反応させて得た一般式（２）の化合物と一般式
（３）の化合物をパラジウム触媒の存在下反応させるこ
とにより本発明の化合物である一般式（１ａ）の化合物
を得ることが出来る。

【００２４】あるいは以下の工程を経ても合成できる。

【００２５】

【化１４】

【００２６】すなわちオルソ-ジフルオロベンゼンを-55℃
以下でｎ-ブチルリチウムを作用させてリチウム化した
後、ホウ酸トリメチルと反応させ、次に酸を用いて加水
分解することにより得た２，３-ジフルオロフェニルホ
ウ酸と一般式（２）の化合物をパラジウム触媒の存在下
反応させることにより一般式（４）の化合物を得ること
が出来る。一般式（４）の化合物を-55℃以下でｎ-ブチ
ルリチウムを作用させてリチウム化した後、ホウ酸トリ
メチルと反応させ、次に酸を用いて加水分解することに
より得た一般式（５）の化合物を過酸化水素を用いて酸
化することにより一般式（６）の化合物を得ることが出
来る。一般式（６）の化合物をエーテル化することによ
っても本発明の化合物である一般式（１ａ）の化合物を
得ることが出来る。また上記化合物（１ａ）の原料であ
る一般式（３）の化合物は、次の工程を経て合成出来
る。

【００２７】

【化１５】

【００２８】すなわち、２，３-ジフルオロフェノール
をアルキル化した一般式（７）の化合物を-55℃以下で
ｎ-ブチルリチウムを作用させてリチウム化した後、ホ
ウ酸トリメチルと反応させ、次に酸を用いて加水分解す
ることにより一般式（３）の化合物を得ることが出来
る。 〈II〉Ａが化１０で表される基の場合

【００２９】

【化１６】

【００３０】すなわち、２-フルオロ-４-ブロモフェノ
ールをアルキル化して得た一般式（８）の化合物から調
製したグリニャール試薬とホウ酸トリメチルを反応さ
せ、次に酸で加水分解することにより一般式（９）の化
合物を得ることが出来る。一般式（９）の化合物と一般
式（２）の化合物をパラジウンム触媒の存在下、反応さ
せることにより、本発明の化合物である一般式（１ｂ）
の化合物を得ることが出来る。

【００３１】〈III〉Ａが化１１で表される基の場合

【００３２】

【化１７】

【００３３】すなわち、６-ブロモ-２-ナフトールにシ
アン化銅（Ｉ）を反応させて得た６-シアノ-２-ナフト
ールに、無水エタノール中、塩化水素ガス、次にアンモ
ニアガスを反応させることにより式（１０）で示される
アミジン塩を得ることが出来る。このアミジン塩と一般
式（１１）で示されるアクロレインをエタノール中、塩
基（例えばナトリウムエトキサイド）の存在下、反応さ
せることにより一般式（１２）の化合物を得ることが出
来る。一般式（１２）の化合物をエーテル化することに
より本発明の化合物である一般式（１ｃ）の化合物を得
ることが出来る。

【００３４】〈IV〉Ａが化１２で表される基の場合

【００３５】

【化１８】

【００３６】すなわち、２，５-ジブロモピリジンと一
般式（１３）の化合物を反応させて得た一般式（１４）
の化合物と一般式（１５）の化合物をパラジウム触媒の
存在下反応させることにより本発明の化合物である一般
式（１ｄ）の化合物を得ることが出来る。また上記（１
ｄ）の化合物の原料である一般式（１５）の化合物は以
下の工程を経て合成出来る。

【００３７】

【化１９】

【００３８】すなわち、６-ブロモ-２-ナフトールに塩
基の存在下、アルキル化剤（例えばハロゲン化アルキ
ル）を反応させて得た一般式（２）の化合物から調製し
たグリニャール試薬とホウ酸トリメチルを反応させ、次
に酸で加水分解することにより一般式（１５）の化合物
を得ることが出来る。

【００３９】あるいは以下の工程を経ても合成できる。

【００４０】

【化２０】

【００４１】すなわち、一般式（２）の化合物とマグネ
シウムから調製した一般式（１６）の化合物と一般式
（１４）の化合物をパラジウム触媒の存在下反応させる
ことにより本発明の化合物である一般式（１ｄ）の化合
物を得ることが出来る。

【００４２】液晶化合物は一般に２種以上の多成分から
成る液晶組成物の成分として用いられ、本発明の液晶化
合物も、液晶組成物の成分として利用することができ
る。本発明の液晶組成物は、複数の化合物の混合物から
なり、本発明の液晶化合物を少なくとも１種含有するも
のである。本発明の組成物としては、例えば、Ｓｃ相を
示す本発明の液晶組成物〔１〕および、Ｓｃ＊相を示す
本発明の液晶組成物〔２〕が挙げられる。本発明の液晶
組成物〔１〕には、本発明の液晶化合物を少なくとも１
種必須成分とし、任意成分として他のＳｃ相を示す液晶
化合物（２-４’-アルキルオキシフェニル-５-アルキル
ピリミジン、２-４’-アルキルフェニル-５-アルキルオ
キシピリミジン、２-４’-アルキルオキシオキシフェニ
ル-５-アルキルオキシピリミジン、２-ｐ-アルキルオキ
シカルボニルフェニル-５-アルキルピリミジン、２-
４’-アルキルオキシ-３’-フルオロフェニル-５-アル
キルピリミジン、２-４’-アルキルオキシ-２’，３’-
ジフルオロフェニル-５-アルキルピリミジン、２-４’-
アルキルオキシフェニル-５-アルキルピリジン、２-
４’-アルキルオキシ-３’-フルオロフェニル-５-アル
キルピリジン等）、Ｓｃ相を示さないスメクチック液晶
化合物およびネマチック相を示す液晶化合物から選ばれ
る化合物を含んだ混合物である。本発明の液晶組成物
〔１〕中、本発明の液晶化合物１種以上の含有量は通常
５〜１００重量％である。

【００４３】本発明の液晶組成物〔２〕には、本発明の
液晶組成物〔１〕とＳｃ＊相を示す液晶化合物（光学活
性４-アルキルオキシ-４’-ビフェニルカルボン酸-ｐ’
-（２-メチルブチルオキシカルボニル）フェニルエステ
ル、光学活性４-ｎ-アルキルオキシ-４’-ビフェニルカ
ルボン酸-２-メチルブチルエステル等）および／または
キラルな化合物（特開昭６３−９９０３２、特開昭６３
−１９０８４３、特開平２−１３８２７４、特開平２−
２５６６７３、特開平２−２６２５７９、特開平２−２
８６６７３、特開平３−２７３７４号公報等に記載の化
合物）を含有し、また必要により２色性色素（アントラ
キノン系色素、アゾ系色素等）を含んだ混合物である。
本発明の液晶組成物〔２〕中、本発明の液晶組成物
〔１〕の含有量は通常１０〜９９重量％である。強誘電
性を示す液晶組成物は、電圧印加により光スイッチング
現象を起こし、これを利用した応答の速い液晶表示素子
を作製できる〔たとえば特開昭56-107216号公報、特開
昭59-118744号公報、エヌ エー クラーク(N.A.Clark)、
エス ティー ラガウォール(S.T.Lagerwall)；アプライ
ド フィジックス レター(Applied Physics Letter) 3
6、899(1980)など〕。

【００４４】Ｓｃ＊を示す本発明の液晶組成物〔２〕
を、セル間隔0.5〜10μｍ、好ましくは0.5〜3μｍの液
晶セルに真空封入し、両側偏光子を設置することによ
り、光スイッチング素子（液晶表示素子）とすることが
出来る。上記液晶セルは透明電極を設け、表面を配向処
理した２枚のガラス基板をスペーサーを挟んで貼り合わ
せることによって作製することができる。上記スペーサ
ーとしては、アルミナビーズ、ガラスファイバー、ポリ
イミドフィルムなどが挙げられる。配向処理方法として
は、通常の配向処理、たとえばポリイミド膜のラビング
処理、SiO斜め蒸着などが適用できる。

【００４５】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に説明する
が、本発明はこれに限定されない。 実施例 １ 表１中Ｎｏ．９の化合物の製造 １，２-ジフルオロ-３-ｎ-ノニルオキシベンゼン（こ
の化合物は２，３-ジフルオロフェノールのアルカリ金
属塩とｎ-ノニルブロマイドを反応させることにより得
た）20.0g(78mmol)を無水テトラヒドロフラン230mlに溶
かし、ドライアイス-アセトンバスで−60℃以下に冷却
した。次いでｎ-ブチルリチウムのヘキサン溶液（15%）
53ml(86mmol)を−60℃以下で滴下しそのまま３時間攪拌
した。次にホウ酸トリメチル9.0g(86mmol)を−60℃以下
で滴下し更に３０分攪拌した後、ドライアイス-アセト
ンバスを外し、0℃になるまで攪拌した。水、次いで1N
塩酸水を加えてエーテルで抽出した。エーテル層を水洗
した後、エーテルを除去することにより白色固体の２，
３-ジフルオロ-４-ｎ-ノニルオキシフェニルホウ酸21.8
g(73mmol)を得た。 で得た２，３-ジフルオロ-４-ｎ-ノニルオキシフェ
ニルホウ酸2.0g(6.7mmol)と６-ブロモ-２-ノニルオキシ
ナフタレン（この化合物は６-ブロモ-２-ナフトールの
アルカリ金属塩とｎ-ノニルブロマイドを反応させるこ
とにより得た）2.3g(6.6mmol)をトリエチルアミン60ml
中、触媒にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム（0）154mg(0.13mmol)とトリフェニルホスフィン154m
g(0.59mmol)を用いて窒素雰囲気下、１０時間加熱還流
した。反応終了後、トリエチルアミンを除去し、トルエ
ンで抽出した。トルエン層を１N塩酸による洗浄、水洗
した後、シリカゲルカラムで精製してからエタノールで
３回再結晶することにより、白色結晶の本発明の化合物
である表１中Ｎｏ．９の化合物2.1g(4.0mmol)を得た。
化合物の構造は、ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル分
析）、ＭＳ（質量分析）、ＩＲ（赤外吸収スペクトル分
析）および元素分析により確認した。 IR ( cm^-1) 2922.0 2854.0 1636.0 1607.0 1522.0 1466.0 1214.0 1172.0 1096.0 1079.0 859.0 814.0 NMR (ppm) 0.89(t,6H) 1.20〜1.43(m,20H) 1.43〜1.56 (m,4H) 1.79〜1.91(m,4H) 4.08(t,4H) 6.77〜6.86(m,1H) 7.12〜7.21(m,3H) 7.54〜7.61(m,1H) 7.78(d,2H) 7.88(s,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -66.1(dd,1F) -83.0(dd,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:77.86 C:77.63 H:8.78 H:8.91 F:7.25 F:7.13

【００４６】実施例 ２ 表２中Ｎｏ．２１の化合物の製造 ２，３-ジフルオロ-４-（９-デセニルオキシ）ベンゼ
ン（この化合物は２，３-ジフルオロフェノールのアル
カリ金属塩と９-デセン-１-オールのｐ-トルエンスルホ
ン酸エステルを反応させて得た）15.0gを無水テトラヒ
ドロフラン200mlに溶かし、ドライアイス-アセトンバス
で−60℃以下に冷却した。次いでｎ-ブチルリチウムの
ヘキサン溶液（15%）40mlを−60℃以下で滴下しそのま
ま３時間攪拌した。次にホウ酸トリメチル6.8gを−60℃
以下で滴下し更に３０分攪拌した後、ドライアイス-ア
セトンバスを外し、0℃になるまで攪拌した。水、次い
で1N塩酸水を加えてエーテルで抽出した。エーテル層を
水洗した後、エーテルを除去することにより白色固体の
２，３-ジフルオロ-４-（９-デセニルオキシ）フェニル
ホウ酸16.3gを得た。 で得た２，３-ジフルオロ-４-（９-デセニルオキ
シ）フェニルホウ酸2.0gと６-ブロモ-２-ヘプチルオキ
シナフタレン（この化合物は６-ブロモ-２-ナフトール
のアルカリ金属塩とｎ-ヘプチルブロマイドを反応させ
ることにより得た）2.0gをトリエチルアミン60ml中、触
媒にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
（0）148mgとトリフェニルホスフィン148mgを用いて窒
素雰囲気下、１０時間加熱還流した。反応終了後、トリ
エチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。トルエン
層を１N塩酸による洗浄、水洗した後、シリカゲルカラ
ムで精製してからエタノールで３回再結晶することによ
り、白色結晶の本発明の化合物である表２中Ｎｏ．２１
の化合物2.1gを得た。 IR ( cm^-1) 2922.0 2856.0 1638.0 1607.0 1522.0 1466.0 1214.0 1172.0 1096.0 1079.0 859.0 814.0 NMR (ppm) 0.91(t,3H) 1.25〜1.45(m,14H) 1.45〜1.56 (m,4H) 1.78〜1.91(m,4H) 2.01〜2.11(m,2H) 4.01〜 4.12(m,4H) 4.91〜5.04(m,2H) 5.75〜5.90(m,1H) 6.78〜6.85(m,1H) 7.12〜7.21(m,3H) 7.55〜7.61(m,1H) 7.77(d,2H) 7.88(s,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -66.1(dd,1F) -83.1(dd,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:77.95 C:78.02 H:8.27 H:8.13 F:7.48 F:7.40

【００４７】実施例 ３ 表２中Ｎｏ．２４の化合物の製造 実施例１のにおいて１，２-ジフルオロ-フルオロ-
３-ｎ-ノニルオキシベンゼンの代わりに１，２-ジフル
オロ-３-ｎ-ヘプチルオキシベンゼンを同じモル比で用
いた以外は全く同様の操作を行って得た２，３-ジフル
オロ-４-ｎ-ヘプチルオキシフェニルホウ酸1.5gと６-ブ
ロモ-２-（９-デセニルオキシ）ナフタレン（この化合
物は６-ブロモ-２-ナフトールのアルカリ金属塩と９-デ
セン-１-オールのｐ-トルエンスルホン酸エステルを反
応させて得た）2.0gをトリエチルアミン60ml中、触媒に
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（0）127
mgとトリフェニルホスフィン127mgを用いて窒素雰囲気
下、１０時間加熱還流した。反応終了後、トリエチルア
ミンを除去し、トルエンで抽出した。トルエン層を１N
塩酸による洗浄、水洗した後、シリカゲルカラムで精製
してからエタノールで３回再結晶することにより、白色
結晶の本発明の化合物である表２中Ｎｏ．２４の化合物
1.7gを得た。 IR ( cm^-1) 2922.0 2856.0 1636.0 1607.0 1466.0 1392.0 1261.0 1212.0 1170.0 1096.0 1079.0 893.0 855.0 814.0 NMR (ppm) 0.91(t,3H) 1.25〜1.45(m,14H) 1.45〜1.67 (m,4H) 1.78〜1.91(m,4H) 2.01〜2.11(m,2H) 4.08 (t,4H) 4.91〜5.04(m,2H) 5.75〜5.90(m,1H) 6.78〜6.85(m,1H) 7.12〜7.22(m,3H) 7.55〜7.60(m,1H) 7.76(d,2H) 7.88(s,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -66.1(dd,1F) -83.1(dd,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:77.95 C:77.81 H:8.27 H:8.33 F:7.48 F:7.55

【００４８】実施例 ４ 表３中Ｎｏ．３７の化合物の製造 −３０℃以下に冷却したホウ酸トリメチル5.7g(55mmo
l)を溶かしたジエチルエーテル溶液30mlの中へ、４-ｎ-
オクチルオキシ-３-フルオロブロモベンゼン（この化合
物は４-ブロモ-２-フルオロフェノールのアルカリ金属
塩とｎ-オクチルブロマイドを反応させて得た）15g(50m
mol)から調製したグリニャール試薬のエーテル溶液75ml
を−３０℃以下で滴下した。滴下終了後、更に１時間そ
のまま攪拌し、次いで冷媒を外し室温に戻るまで攪拌し
た。氷水の中へ投入した後、分離した有機層を1N塩酸水
による洗浄、水洗を経てからエーテルを除去することに
より４-ｎ-オクチルオキシ-３-フルオロフェニルホウ酸
11.7g(44mmol)を得た。 で得た４-ｎ-オクチルオキシ-３-フルオロフェニル
ホウ酸2.0gと６-ブロモ-２-オクチルオキシナフタレン
（この化合物は６-ブロモ-２-ナフトールのアルカリ金
属塩とｎ-オクチルブロマイドを反応させて得た）2.5g
を、トリエチルアミン80ml中、触媒にテトラキストリフ
ェニルホスフィンパラジウム（0）172mgとトリフェニル
ホスフィン172mgを用いて窒素雰囲気下、１０時間加熱
還流した。反応終了後、トリエチルアミンを除去し、ト
ルエンで抽出した。トルエン層を１N塩酸による洗浄、
水洗した後、シリカゲルカラムで精製してからエタノー
ルで３回再結晶することにより、白色結晶の本発明の化
合物である表３中Ｎｏ．３７の化合物2.0gを得た。 IR ( cm^-1) 2922.0 2856.0 1626.0 1589.0 1508.0 1392.0 1270.0 1212.0 1137.0 998.0 849.0 801.0 NMR (ppm) 0.84〜0.96(m,6H) 1.23〜1.57(m,20H) 1.79〜1.91 (m,4H) 4.02〜4.12(m,4H) 7.00〜7.07(m,1H) 7.11〜7.21(m,2H) 7.35〜7.47(m,2H) 7.62(dd,1H) 7.77(d,2H) 7.88(d,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -58.6(t,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:80.34 C:80.45 H:9.00 H:8.83 F:3.97 F:3.73

【００４９】実施例 ５ 表４中Ｎｏ．５６の化合物の製造 実施例４のにおいて４-ｎ-オクチルオキシ-３-フル
オロブロモベンゼンの代わりに４-（９-デセニルオキ
シ）-３-フルオロブロモベンゼンを同じモル比で用いた
以外は全く同様の操作を行って得た４-（９-デセニルオ
キシ）-３-フルオロフェニルホウ酸2.0gと６-ブロモ-２
-オクチルオキシナフタレン2.3gをトリエチルアミン60m
l中、触媒にテトラキストリフェニルホスフィンパラジ
ウム（0）157mgとトリフェニルホスフィン157mgを用い
て窒素雰囲気下、１０時間加熱還流した。反応終了後、
トリエチルアミンを除去し、トルエンで抽出した。トル
エン層を１N塩酸による洗浄、水洗した後、シリカゲル
カラムで精製してからエタノールで３回再結晶すること
により、白色結晶の本発明の化合物である表４中Ｎｏ．
５６の化合物1.9gを得た。 IR ( cm^-1) 2924.0 2856.0 1603.0 1531.0 1504.0 1468.0 1394.0 1313.0 1274.0 1218.0 1172.0 1135.0 1019.0 855.0 NMR (ppm) 0.91(t,3H) 1.22〜1.51(m,20H) 1.75〜1.93(m,4H) 1.99〜2.10(m,2H) 4.01〜4.13(m,4H) 4.89〜5.05 (m,2H) 5.72〜5.90(m,1H) 7.03(t,1H)7.10〜7.21 (m,2H) 7.32〜7.48(m,2H) 7.63(dd,1H) 7.71〜7.84 (m,2H) 7.88(d,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -58.6(t,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:80.95 C:81.03 H:8.93 H:8.80 F:3.77 F:3.89

【００５０】実施例 ６ 表４中Ｎｏ．６２の化合物の製造 ４-ｎ-オクチルオキシ-３-フルオロフェニルホウ酸2.
0gと６-ブロモ-２-（９-デセニルオキシ）ナフタレン2.
5gをトリエチルアミン80ml中、触媒にテトラキストリフ
ェニルホスフィンパラジウム（0）172mgとトリフェニル
ホスフィン172mgを用いて窒素雰囲気下、１０時間加熱
還流した。反応終了後、トリエチルアミンを除去し、ト
ルエンで抽出した。トルエン層を１N塩酸による洗浄、
水洗した後、シリカゲルカラムで精製してからエタノー
ルで３回再結晶することにより、白色結晶の本発明の化
合物である表４中Ｎｏ．６２の化合物2.1gを得た。 IR ( cm^-1) 2924.0 2856.0 1605.0 1533.0 1468.0 1396.0 1315.0 1274.0 1218.0 1172.0 1135.0 1025.0 891.0 855.0 816.0 NMR (ppm) 0.91(t,3H) 1.22〜1.60(m,20H) 1.80〜1.94(m,4H) 1.96〜2.12(m,2H) 4.01〜4.14(m,4H) 4.91〜5.06 (m,2H) 5.75〜5.93(m,1H) 6.99〜7.09(m,1H) 7.11〜7.23(m,2H) 7.35〜7.50(m,2H) 7.63(d,1H) 7.76(d,2H) 7.90(s,1H) ¹⁹-FNMR(ppm) -58.6(t,1F) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:80.68 C:80.51 H:8.61 H:8.73 F:3.99 F:4.07

【００５１】実施例 ７ 表５中Ｎｏ．７９の化合物の製造 ６-ブロモ-２-ナフトール50gとシアン化銅（Ｉ）24.1
gを無水ジメチルホルムアミド80mlに溶かし、６時間還
流した。冷却後、水200mlに塩化第二鉄100g、35%塩酸水
25g溶かした水溶液を加え、60℃で20分間攪拌した。室
温に冷却後、エーテル300mlで２回抽出した。有機相を
水洗後エーテルを除去した。得られた固体をトルエンで
再結晶することにより茶色の６-シアノ-２-ナフトール2
6.2gを得た。 で得られた６-シアノ-２-ナフトール26.2gを脱水エ
タノール200mlに溶かし、氷浴上で5℃以下に冷却した。
塩酸ガス57gを攪拌しながら15℃以下で吹き込み、その
まま２時間氷浴上で攪拌した。さらに室温にて４時間攪
拌した後、一晩放置した。放置後、エタノールをアスピ
レーターで除去することにより、褐色の固体を得た。こ
の固体は精製せずそのまま次の反応に使用した。 で得た固体に、アンモニアガスを飽和させた無水エ
タノール200mlを氷冷下に滴下し、そのまま１時間攪拌
した。さらに室温で２時間攪拌した後、一晩放置した。
エタノールを除去し、生じた固体をエーテルで洗浄する
ことにより褐色固体のアミジン塩酸塩22gを得た。 無水エタノール200mlと金属ナトリウム4.7gより調製
したナトリウムエトキサイドのエタノール溶液へ、で
得たアミジン塩酸塩15.0gと市販品のα-ｎ-ノニルオキ
シ-β-ジメチルアミノアクロレイン17.0gを加え、２０
時間加熱還流した。反応終了後、エタノールを除去して
水を加え、エーテルで洗浄したのち水層に1N塩酸水を加
えて酸性にした。生じた沈澱をろ過乾燥後、塩化メチレ
ン／ヘキサンで再結晶することにより下記化２１で示さ
れる化合物（ａ）11.2gを得た。

【００５２】

【化２１】

【００５３】で得た化合物（ａ）2.0g(5.7mmol)を
ジメチルスルホキサイド30mlに溶かし、水酸化ナトリウ
ム0.26g(6.5mmol)を水5mlに溶かした水溶液を加え溶液
が均一になるまで攪拌した。次いでｎ-オクチルブロマ
イド1.1g(5.7mmol)を加え室温で３日間攪拌した。反応
溶液を100mlの氷水の中へ投入しトルエンで抽出した。
トルエン層を１N塩酸による洗浄、水洗した後、シリカ
ゲルカラムで精製してからエタノールで３回再結晶する
ことにより、白色結晶の本発明の化合物である表５中Ｎ
ｏ．７９の化合物1.4gを得た。 IR ( cm^-1) 2924.0 2854.0 1630.0 1605.0 1549.0 1475.0 1441.0 1390.0 1288.0 1255.0 1205.0 855.0 NMR (ppm) 0.83〜0.95(m,6H) 1.19〜1.55(m,24H) 1.76〜1.90 (m,2H) 1.57〜1.73(m,2H) 1.80〜1.90(m,2H) 4.07(t,4H) 7.11〜7.19(m,2H) 7.78(d,1H) 7.85(d,1H) 8.41(dd,1H) 8.49(s,2H) 8.77(s,1H) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:78.16 C:78.30 H:9.24 H:9.31 N:5.88 N:5.63

【００５４】実施例 ８ 表５中Ｎｏ．８３の化合物の製造 実施例７のにおいてｎ-オクチルブロマイドの代わ
りに８-ブロモ-１-オクテンを同じモル比で用いた以外
は実施例７のと全く同様の操作を行うことにより、白
色結晶の本発明の化合物である表５中Ｎｏ．８３の化合
物1.2gを得た。 IR ( cm^-1) 2924.0 2854.0 1630.0 1549.0 1475.0 1441.0 1390.0 1255.0 1205.0 907.0 855.0 NMR (ppm) 0.88(t,3H) 1.20〜1.57(m,18H) 1.76〜1.92(m,4H) 2.03〜2.16(m,2H) 4.07(t,4H) 4.91〜5.08(m,2H) 5.75〜5.90(m,1H) 7.11〜7.25(m,2H) 7.79(d,1H) 7.86(d,1H) 8.42(dd,1H) 8.49(s,2H) 8.78(S,1H) 元素分析値 理論値（％） 実測値（％） C:78.48 C:78.21 H:8.86 H:8.99 N:5.91 N:6.04

【００５５】実施例１〜実施例８で得られた化合物の相
転移温度を下記表６に示す。

【００５６】

【表６】 上記表６中各記号は、それぞれ以下の意味を表す。 Ｃｒｙ；結晶相 Ｓｃ ；スメクチックＣ相 Ｓ_A ；スメクチックＡ相 Ｎｅｍ；ネマチック相 Ｉｓｏ；等方性液体相 ・ ；相が存在する − ；相が存在しない （ ）；モノトロピック相を表す

【００５７】

【発明の効果】本発明の液晶化合物は、Ｓｃ＊液晶組成
物の成分として用いることにより、この組成物の配向性
を向上させ、コントラスト比を高くすることが出来る。
また、本発明の液晶化合物は、低温域に他のスメクチッ
ク相を示さないことよりＳｃ＊液晶組成物の成分として
用いることによって、Ｓｃ＊相の温度範囲を広げること
が出来る化合物である。従って、本発明の化合物および
組成物は、液晶表示素子に用いる液晶材料として有用で
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉尾 邦清 京都市東山区一橋野本町11番地の１ 三洋 化成工業株式会社内 (72)発明者 柳 達朗 京都市東山区一橋野本町11番地の１ 三洋 化成工業株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式 【化１】 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²は、炭素数１〜１８のアルキル基また
   はアルケニル基を表し、Ａは、下記化２〜５で表される
   基を表し、ＮＡＰは２，６-ナフチレン基を表す〕で示
   される液晶化合物。 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】
2. 【請求項２】 複数の化合物の混合物からなり、請求項
   １記載の液晶化合物を少なくとも一種含有することを特
   徴とする液晶組成物。