JPH06251339A - 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びバイアス特性測定方法 - Google Patents

磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びバイアス特性測定方法

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JPH06251339A
JPH06251339A JP5063378A JP6337893A JPH06251339A JP H06251339 A JPH06251339 A JP H06251339A JP 5063378 A JP5063378 A JP 5063378A JP 6337893 A JP6337893 A JP 6337893A JP H06251339 A JPH06251339 A JP H06251339A
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magnetic
thin film
film magnetic
bias conductor
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Hideo Suyama
英夫 陶山
Takuji Shibata
拓二 柴田
Norio Saito
憲男 斎藤
Mamoru Sasaki
守 佐々木
Akio Takada
昭夫 高田
Hitoshi Sato
仁 佐藤
Shuichi Haga
秀一 芳賀
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、バ
イアス導体7と磁気抵抗感磁部6とを電気的に直列接続
する。さらには、バイアス導体7を、磁気抵抗感磁部6
を横切る部分から離れるのに伴って幅が大となり、磁気
記録媒体対接面からの距離が大となるようなパターン形
状にする。 【効果】 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの端子部を2
つに削減することができ、ハードディスク・ドライブ用
の磁気ヘッドの小型化,低浮上量化が可能となる。さら
に、バイアス導体を上記パターン形状とすることによ
り、省電力化,エラレートの低減が達成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハードディスク
に対して記録された記録信号を再生するのに好適な磁気
抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びそのバイアス特性測定方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、ハードディスク・ドライブ(駆
動装置)の再生用ヘッドとしては、一般に短波長感度に
優れる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド( 以下、MRヘッ
ドと称する。)が用いられる。
【0003】MRヘッドは、遷移金属に見られる磁化の
向きとその内部を流れる電流の向きのなす角によって、
電気抵抗値が変化する磁気抵抗効果現象を利用した再生
ヘッドである。すなわち、磁気記録媒体からの漏洩磁束
をMR磁性薄膜が受けると、その磁束により上記MR磁
性薄膜の磁化の向きが回転し、当該MR磁性薄膜内部に
流れる電流の向きに対して磁性量に応じた角度をもつよ
うになる。それ故にMR磁性薄膜の電気抵抗値は変化
し、この変化量に応じた電圧変化が電流を流しているM
R磁性薄膜の両端の電極に現れるので電圧信号として磁
気記録信号を読み出せることになる。
【0004】上記MRヘッドは、ハードディスク・ドラ
イブの再生用ヘッドとする場合、図13,図14に示す
ようにハードディスクとの対接面、すなわちABS(エ
ア・ベアリング・サーフェース)面51側となる先端部
と後端部にそれぞれ電極52,53を積層した磁気抵抗
効果薄膜よりなる磁気抵抗効果感磁部54(以下MR感
磁部と称する。)と、このMR感磁部54に所要の向き
の磁化状態を与えるバイアス導体55とが、磁気的にシ
ールドする一対の薄膜磁気コア56,57により絶縁層
58を介して挟み込まれたシールド型構成とされ、Al
2 3 −TiC等よりなるスライダ部材59上に搭載さ
れて用いられる。
【0005】このような構成のMRヘッドにおいて、再
生はMR感磁部54の先端電極52,後端電極53から
直流電流をセンス電流として供給するとともにバイアス
導体55に直流電流を供給してバイアス磁界を発生させ
る。したがって、先端電極52,後端電極53の端部お
よびバイアス導体55の両端部が直流電源を接続するた
めの端子部60,61,62,63とされ、これら合計
4つの端子部60,61,62,63がスライダ部材5
9上に配置されることとなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成の
MRヘッドにおいては、上述の如く4つもの端子部6
0,61,62,63をスライダ部材59上に配置する
必要があることがハードディスク・ドライブ用ヘッドの
小型化,低浮上量化を達成する上で大きな妨げとなって
いる。
【0007】すなわち、ハードディスク・ドライブに用
いられるヘッドは、再生用となるMRヘッド上にさらに
記録用となるインダクティブヘッドが積層される。上記
インダクティブヘッドは、MR感磁部をシールドする上
層の薄膜磁気コアを、閉磁路を構成する一方の薄膜磁気
コアとし、この薄膜磁気コアと該薄膜磁気コアに対向し
て積層される他方の薄膜磁気コアの磁気的結合部をヘッ
ド巻線が取り囲むようにしてスパイラル状に設けられて
なる。ここで、このインダクティブヘッドのヘッド巻線
の両端からはそれぞれ記録情報に基づく電流を供給する
ために2つの端子部が引き出される。したがって、上記
構成のMRヘッドを用いる場合では、図15に示すよう
にMRへッド由来の4つの端子部60,61,62,6
3とインダクティブヘッド由来の2つの端子部64,6
5の合計6つの端子部60,61,62,63,64,
65がスライダ部材59上に配置されることとなる。
【0008】しかし、スライダー上に6つもの端子部を
配置するには、端子の寸法を小さくするとともに端子間
の距離を狭めなければならず、端子形成,引き出し線形
成時のボンディング処理に無理が生じてくる。特に、ス
ライダーの小型化を図った場合にはこのような問題をさ
らに深刻なものとなる。また、ヘッドの低浮上量化を図
るためには、スライダの浮上姿勢が一定であることが厳
しく求められるが、多数の端子がスライダ上に形成され
ていると、その剛性の影響で浮上姿勢が一定になり難
く、低浮上量化に不利である。
【0009】このため、端子数を削減するために、バイ
アス導体から引き出される一方の端子部とMR感磁部か
ら引き出される一方の端子部を共通化して5端子に削減
する試みもなされているが、スライダー上に配置する端
子部を5端子としても配置上、結局、端子は3端子の
列,2端子の列で配置されるので6端子を配置する場合
とほとんど同じ配置面積が必要であり、小型化を図るま
でには至らない。
【0010】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、端子数が削減でき、ハー
ドディスク・ドライブ用ヘッドの小型化,低浮上量化を
可能にする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びバイアス
特性測定方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドは、基板
上に少なくとも磁気抵抗効果を有する磁気抵抗感磁部が
信号磁界の方向と略同一方向にセンス電流が流れるよう
な向きで形成され、バイアス導体が上記磁気抵抗感磁部
に対して絶縁層を介して略直交して横切るように延在し
て形成されてなる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおい
て、上記バイアス導体の一端部が上記磁気抵抗感磁部の
磁気記録媒体対接面とは反対側の端部に電気的に接続さ
れていることを特徴とするものである。
【0012】また、磁気抵抗感磁部とバイアス導体が、
順次積層された第1の薄膜磁気コアと第2の薄膜磁気コ
アの間に絶縁層を介して挟み込まれ、上記磁気抵抗感磁
部が第2の薄膜磁気コアに電気的に接続されていること
を特徴とするものである。さらに、上記バイアス導体は
上記磁気抵抗感磁部を横切る部分から離れるのに伴って
幅が大となるような形状で形成されていることを特徴と
するものである。
【0013】また、さらに、上記バイアス導体は上記磁
気抵抗感磁部を横切る部分から離れるのに伴って磁気記
録媒体対接面からの距離が大となるような形状で形成さ
れていることを特徴とするものである。また、上記バイ
アス導体は上記磁気抵抗感磁部を横切る部分近傍が円弧
を描く形状であることを特徴とするものである。
【0014】さらに、バイアス導体と磁気抵抗感磁部の
接続部から特性測定用の引き出し線が付加されているこ
とを特徴とするものである。また、本発明のバイアス特
性測定方法は、基板上に少なくとも磁気抵抗効果を有す
る磁気抵抗感磁部が信号磁界の方向と略同一方向にセン
ス電流が流れるような向きで形成され、バイアス導体が
上記磁気抵抗感磁部に対して絶縁層を介して略直交して
横切るように延在して形成されてなり、上記バイアス導
体の一端部が上記磁気抵抗感磁部の磁気記録媒体対接面
とは反対側の端部に電気的に接続されている磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドのバイアス特性を測定するに際し、
上記バイアス導体と上記磁気抵抗感磁部の接続部から特
性測定用引き出し線を引き出し、バイアス導体の端部か
ら引き出された引き出し線と、磁気抵抗感磁部の磁気記
録媒体対接面側の端部から引き出された引き出し線と、
前記特性測定用引き出し線を用いることを特徴とするも
のである。
【0015】さらに、磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド上
に、該磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの第2の薄膜磁気
コアと共働して閉磁路を構成する第3の薄膜磁気コアが
積層されるとともに、これら第2の薄膜磁気コアと第3
の薄膜磁気コアの磁気的結合部を取り囲むようにしてヘ
ッド巻線が設けられて磁気誘導型薄膜磁気ヘッドが形成
され、上記バイアス導体と磁気抵抗感磁部の接続部から
の引き出し線をヘッド巻線の電極に電気的に接続し、特
性測定用引き出し線とすることを特徴とするものであ
る。
【0016】
【作用】磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、バイ
アス導体の一端部がMR感磁部の一端部に電気的に接続
されていると、バイアス導体の他の一端部とMR感磁部
の他の一端部を直流電源に接続して電流を供給すること
により、MR感磁部とバイアス導体の両方に直流電流が
供給される。したがって、MR感磁部とバイアス導体に
それぞれ電流導入用端子部,電流導出用端子部を形成し
なくともこれら2つの端部を電流導入用端子部,電流導
出用端子部とすれば足り、端子部が削減される。
【0017】このとき、上記バイアス導体を磁気抵抗感
磁部を横切る部分から離れるのに伴って幅が大となるよ
うな形状とすると、バイアス導体の抵抗値が低減して消
費電力が減少する。さらには磁気抵抗感磁部を横切る部
分から離れるのに伴ってABS面からの距離が大となる
ような形状とすると、該バイアス導体が検出トラック以
外で対向するトラックの数が少なくなり、信号磁界の影
響を受け難くなってエラーレートが低減する。
【0018】なお、バイアス導体の一端部とMR感磁部
一端部が電気的に接続されている磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドのバイアス特性の測定は、バイアス導体とMR
感磁部の接続部に引き出し線を付加してその端部を第3
の端子部とし、MR感磁部から引き出された第1の端子
部と、バイアス導体から引き出された第2の端子部と、
この第3の端子部を用いて行えば良い。
【0019】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について図面を
参照しながら説明する。
【0020】本実施例は、本発明をMRヘッドとインダ
クティブヘッドよりなる複合型磁気ヘッドに適用した場
合を例にして説明する。
【0021】本実施例の複合型磁気ヘッドは、図1及び
図2に示すように、ハードディスクとの対接面となるA
BS面1に再生用磁気ギャップg1 を臨ませるMRヘッ
ドと、このABS面1に記録用磁気ギャップg2 を臨ま
せるインダクティブヘッドよりなるヘッド部2をAl2
3 −TiC基板等からなるスライダ部材3の一側面に
積層した、いわゆる2ギャップタイプの記録再生ヘッド
構成とされている。
【0022】上記スライダ部材3は、例えばAl2 3
−TiCのような非常に硬いセラミックス材料により形
成されており、ABS面1の中央部には、当該スライダ
ーの走行方向に沿った凹部4が空気流入溝として形成さ
れている。
【0023】上記MRヘッドは、図3に示すように先端
部(以下、ABS面1側を先端部,ABS面1側とは逆
側を後端部と称する。)に電流を通ずるための先端電極
5が積層されたMR感磁部6と、このMR感磁部6に所
要の向きの磁界状態を与えるバイアス導体7とからな
る。
【0024】MR感磁部6は、インダクティブヘッドの
記録用磁気ギャップg2 のトラック幅よりも若干幅狭の
長方形パターンとして形成され、その長手方向が上記A
BS面1に対する直交方向となるように設けられるとと
もに、その一端縁が上記ABS面1に臨むようになって
いる。また、上記MR感磁部6は、例えば図4に示すよ
うに非磁性の絶縁層6aを介して静磁的に結合する一対
のMR薄膜6b,6cを積層した構成とされ、これによ
りセンス電流を流したときに磁区がほぼ単一となりバル
クハウゼンノイズの発生が回避されるようになってい
る。なお、MR薄膜6b,6cは例えばNiFe等の強
磁性体薄膜からなり、その膜厚が数十nm程度とされ、
非磁性の絶縁層6aはSiO2 等からなり、その膜厚が
数nm程度とされる。
【0025】先端電極5は、図3に示すように例えば平
面形状が略L字状をなす配線パターンとして形成され、
その一端部が上記MR感磁部6の先端部に積層されると
ともに、MR感磁部6上に積層される側の配線パターン
の一側縁部が上記ABS面1に露出するようになってい
る。そして、この先端電極5よりバック側に引き出され
た配線パターンの端部が直流電源を接続するための第1
の端子部8とされている。
【0026】上記バイアス導体7は、平面ループ形状の
配線パターンとして形成され、上記MR感磁部6上に絶
縁層9を介して所定の距離を隔てて積層されている。ま
た、上記バイアス導体7は、その一端部がMR感磁部6
の後端部に重なり、該一端部から湾曲して上記MR感磁
部6に再び重なり、この重なり部分において上記MR感
磁部6に対して略直交する方向、つまりMR感磁部6を
横切る形で設けられている。そして、MR感磁部6に重
なる一端部がコンタクトホールを介して上記MR感磁部
6の後端部に電気的に接続されるとともにMR感磁部6
に重ならない他の一端部がバック側に引き出され直流電
源を接続するための第2の端子部10とされている。つ
まり、MR感磁部6とバイアス導体7とが電気的に直列
に接続された構成となっている。
【0027】したがって、上記MR感磁部6に積層され
る先端電極5の端部,すなわち第1の端子部8と、バイ
アス導体の端部,すなわち第2の端子部10をそれぞれ
電流導入部,導出部として直流電源を接続して電流を供
給すると、電流は先端電極5を通ってMR感磁部6にセ
ンス電流として供給される。そして、さらに連続的にバ
イアス導体7に供給され、バイアス導体7を通過した電
流は第2の端子部10より導出される。すなわち、第1
の端子部8と第2の端子部10の2つの端子部を用いる
ことによりMR感磁部6とバイアス導体7の両方に直流
電流が供給され。
【0028】MR感磁部6とバイアス導体7とが電気的
に接続されていない場合、MR感磁部6,バイアス導体
7に電流を供給するにはMR感磁部6,バイアス導体7
に対して独立して電流導出用端子部,電流導入用端子部
を形成する必要があり、MRヘッド由来の端子部が合計
4つスライダ上に配置されることとなる。これに対し
て、このようにMR感磁部6とバイアス導体7とが電気
的に接続されていると、上述の如く第1の端子部8と第
2の端子部10の2つの端子部を有していれば事が足
り、スライダ部材3上に配置する端子部の削減がなし得
ることとなる。
【0029】なお、以上に示した端子部の削減化は、M
R感磁部6とバイアス導体7とが電気的に直列に接続さ
れていることにより得られるものである。したがって、
例えば、MR感磁部6の後端部に後端電極を積層し、こ
の後端電極を介してバイアス導体7とMR感磁部6を直
列接続させるようにしても同様は効果が得られる。ま
た、上記バイアス導体7は、配線距離が短い程抵抗値が
低くなり、消費電力が低減できるので、図5〜図7に示
すようにバイアス磁界に関与するMR感磁部6の横切り
部分のみが幅狭となり、この部分から離れるのに伴って
幅が大となるような形状,さらにはこの横切り部分から
離れるのに従ってABS面1からの距離が大となるよう
な形状,例えば図6に示すように円弧を描いてバック側
に延在するような形状とすると幅狭化,配線距離の短縮
化が効果的に達成され、消費電力の低減が望める。しか
も、バイアス導体7においてこのように横切り部分から
離れるのに従ってABS面1からの距離が大となるよう
な形状とすると、検出トラック以外で対向するトラック
の数が少なくなるので、信号磁界の影響を受け難くな
り、エラーレートを低減する上でも有利である。なお、
図5〜図7に示す配線パターンはいずれもMR感磁部6
とバイアス導体7が後端電極28を介して電気的に接続
されたものである。
【0030】そして、上記MRヘッドにおいては、図2
に示すように上記MR感磁部6を絶縁層9を介してパー
マロイ等の磁性体からなる第1の薄膜磁気コア11と第
2の薄膜磁気コア12とで挟み込んだ、いわゆるシール
ド型構成となっている。シールド型構成をとるのは、こ
の種のMRヘッドでは短波長再生を要求されたり、再生
波形がインダクティブヘッドの微分出力波形と同じもの
を信号処理上求められるからである。これら第1の薄膜
磁気コア11,第2の薄膜磁気コア12は、上記ABS
面1にその一端を臨ませるようにしてこのABS面1に
対して略直交する方向に延在して設けられている。
【0031】なお、このシールドとして機能する第2の
薄膜磁気コア12とMR感磁部6を電気的に接続し、こ
の第2の薄膜磁気コア12を先端電極として機能させる
ようにしても良い。これにより、先端電極形成の手間が
省け、製造工程の簡略化が望める。
【0032】一方、インダクティブヘッドは、図2に示
すように上記第2の薄膜磁気コア12を閉磁路を構成す
る他方の薄膜磁気コアとし、この第2の薄膜磁気コア1
2に対向して積層される第3の薄膜磁気コア13とによ
って上記ABS面1に臨んでその前方端部間に記録用磁
気ギャップg2 を構成するようになっている。すなわ
ち、第2の薄膜磁気コア12に対向して積層される第3
の薄膜磁気コア13は、上記ABS面1に臨む前方端部
でこの第2の薄膜磁気コア12側に屈曲され、その間隙
が狭くなされた対向部分に記録用磁気ギャップg2 を構
成するようになっている。なお、第3の薄膜磁気コア1
3は後方端部で上記第2の薄膜磁気コア12と磁気的に
接触してバックギャップを構成するようになっている。
【0033】そして、上記第3の薄膜磁気コア13と第
2の薄膜磁気コア12の接続部である磁気的結合部に
は、この磁気的結合部を取り囲むようにしてスパイラル
状のヘッド巻線14が設けられている。ヘッド巻線14
は、第3の薄膜磁気コア13と第2の薄膜磁気コア12
の絶縁性を確保するために、絶縁層15によって埋め込
まれている。また、上記ヘッド巻線14の巻始めと巻終
わりの端部がこの巻線に供給される交流電源からの記録
電流を通電するために端子部とされスライダ部材3上に
配置されている。したがって、このヘッドでは、図1に
示すようにスライダ部材3に配置される端子部が、先に
示したMRヘッドの2つの端子部8,10とこのインダ
クティブヘッドの2つの端子部16,17の合計4つの
端子部8,10,16,17のみであるのでスライダ部
材3上に端子を配置する面積の減少が望めスライダ部材
2の小型化が図れるとともに端子の剛性による浮上姿勢
の劣化が抑えられ低浮上量化が容易に達成されることと
なる。
【0034】なお、このような複合型磁気ヘッドによっ
て記録を行うには、ヘッド巻線14の端子部16,17
に交流電源から電流を供給する。これにより上記ABS
面1に臨む記録用磁気ギャップg2 より記録情報に基づ
く磁束が発生し、これにより磁気記録媒体が磁化されて
記録がなされる。
【0035】一方、再生を行うには、MR感磁部6の先
端部に積層される先端電極5の第1の端子部8とバイア
ス導体7の第2の端子部10より直流電源からの電流を
供給する。これによりMR感磁部6にセンス電流が供給
されるとともにバイアス導体7にバイアス磁界が発生す
る。
【0036】すなわち、図4に示すMR感磁部6を構成
するMR薄膜6b,6cは、初期には磁化方向が逆向き
の磁区が交互に並列された磁化状態にある。このMR感
磁部6にセンス電流を通ずると、磁区的に安定し、磁化
方向が一方向に揃って単一磁区になる。このときMR感
磁部6にセンス電流に沿う方向に外部からバイアス磁界
が与えられると、このバイアス磁界によって磁性薄膜の
磁化の向きは図8の矢印で示すように所要の角度だけ回
転される。このような磁化状態のMR感磁部6は、信号
磁界がセンス電流に沿う方向に与えられると信号磁界の
大きさ方向に応じて磁化方向が回転して抵抗変化を生
じ、この抵抗変化を検出することにより信号が再生され
る。なお、図中、矢印M1 は上側のMR薄膜6bの磁化
方向を示し、矢印M2 は下側のMR薄膜6cの磁化方向
を示す。
【0037】ところで、複合型磁気ヘッドにおいて、M
Rヘッドのウェハー状態(組立前、基板ブロック上にヘ
ッド素子として形成された状態)でのヘッド評価は、一
般にそのバイアス特性を測定することによって行われ
る。すなわち、ヘッド特性は、バイアス導体7に〜0.
9Hzの直流とみなせる低周波の三角波電流と〜70k
Hzの微小サイン波電流を同時に流し、そのときのMR
感磁部6の電圧変化波形を観測することによって評価さ
れる。
【0038】ここで、上記に示したバイアス導体7とM
R感磁部6が直列接続された2端子のMRヘッドについ
てこのようにしてヘッド評価を行うには、図9に示すよ
うにバイアス導体7とMR感磁部6の接続部に特性測定
用の電極21を付加してこの電極21の端部を第2の端
子部22とし、第1の端子部8,第2の端子部10及び
この第3の端子部22を用いてバイアス特性を測定する
と良い。
【0039】先ず、図10に示すように先に付加した第
3の端子部22を接地し、MR感磁部6の第1の端子部
8に直流電源25を接続してMR感磁部6にセンス電流
を供給する。一方、バイアス導体7に前記MR感磁部6
との接続端とは反対側の端部に設けられた第2の端子部
10には、0.9kHz、50mA程度の三角波を供給
する交流電源23と、70kHz、1mA程度のサイン
波を供給する交流電源24とを接続し、これら三角波及
びサイン波をバイアス導体7に供給する。ここで、前記
三角波がサイン波に比べて大電流であるため、バイアス
導体7におけるバイアス磁界の大きさは、ほぼ三角波に
よって支配され、これにサイン波による微小なバイアス
磁界が重畳される形になる。
【0040】このように2種類の交流波をバイアス導体
7に供給すると、前記三角波によりバイアス導体7にお
いて発生するバイアス磁界が図11中横軸上を大きくゆ
っくりと変動されることになり、同時にサイン波により
MR感磁部6に微小な磁界の変動が加えられる。このサ
イン波による微小な磁界の変動は、磁気記録媒体からの
入力信号の如く作用し、MR感磁部6における抵抗値変
化による電圧変化が出力変化として取り出される。
【0041】そこで、このMR感磁部6からの出力信号
を増幅器26により増幅し、これをサイン波を供給する
交流電源24と接続される同期検波器27によって同期
検波すれば、出力レベルと位相を得ることができ、バイ
アス特性を評価することができる。
【0042】例えば、図12に前記バイアス特性の微分
波形を示すが、この微分波形においてヒステリシスやバ
ルクハウゼンジャンブによる不連続点の無いことが良好
なバイアス特性の指標となる。
【0043】このようにしてヘッド評価を行った後、付
加された引き出し線21をドライエッチング等により切
り離し、組み立てることにより上記2端子8,10のM
Rヘッドを有する複合型ヘッドが完成される。このよう
にして得られる複合型ヘッドは、小型化,低浮上量化が
可能であるとともに均一な特性を有し、高品質なもので
あると言える。
【0044】なお、以上のようにしてバイアス特性を測
定するに際して、バイアス導体7とMR感磁部6の接続
部より引き出された引き出し線21をインダクティブヘ
ッドのヘッド巻線の電極に電気的に接続し、このヘッド
巻線の端子部を第3の端子部として用いるようにしても
良い。
【0045】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドは、バイアス導体の
一端部がMR感磁部の一端部に電気的に接続されている
ので、端子部を2つに削減することが可能である。した
がって、このような磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドをハ
ードディスク・ドライブ用の再生ヘッドとして適用すれ
ば、ハードディスク・ドライブ用の磁気ヘッドの小型
化,低浮上量化が可能となる。
【0046】なお、バイアス導体の一端部とMR感磁部
一端部が電気的に接続されている磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドのバイアス特性の測定は、バイアス導体とMR
感磁部の接続部に引き出し線を付加してその端部を第3
の端子部とし、MR感磁部から引き出された第1の端子
部と、バイアス導体から引き出された第2の端子部と、
この第3の端子部を用いることによって行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドが適用
された複合型磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図2】図1に示す複合型磁気ヘッドの要部概略断面図
である。
【図3】上記複合型磁気ヘッドに搭載された磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドの配線パターンを示す平面図であ
る。
【図4】磁気抵抗効果感磁部の一構成例を示す斜視図で
ある。
【図5】バイアス導体の一形状例を示す平面図である。
【図6】バイアス導体の他の形状例を示す平面図であ
る。
【図7】バイアス導体のさらに他の形状例を示す平面図
である。
【図8】バイアス磁界が印加されたときの磁気抵抗感磁
部の磁化状態を示す模式図である。
【図9】測定用引き出し線が付加された磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドの配線パターンを示す平面図である。
【図10】磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドのバイアス特
性測定方法を説明する模式図である。
【図11】バイアス導体の磁界と磁気抵抗感磁部の電圧
の関係を示す特性図である。
【図12】バイアス特性の微分波形を示す特性図であ
る。
【図13】従来の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドを示す
要部概略断面図である。
【図14】図13に示す磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド
の配線パターンを示す平面図である。
【図15】従来の複合型磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。
【符号の説明】 5・・・先端電極 6・・・MR感磁部 7・・・バイアス導体 8・・・第1の端子部 10・・・第2の端子部 11・・・第1の薄膜磁気コア 12・・・第2の薄膜磁気コア 13・・・第3の薄膜磁気コア 14・・・ヘッド巻線 21・・・特性測定用引き出し線 22・・・第3の端子部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 守 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 高田 昭夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 佐藤 仁 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 芳賀 秀一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に少なくとも磁気抵抗効果を有す
    る磁気抵抗感磁部が信号磁界の方向と略同一方向にセン
    ス電流が流れるような向きで形成され、バイアス導体が
    上記磁気抵抗感磁部に対して絶縁層を介して略直交して
    横切るように延在して形成されてなる磁気抵抗効果型薄
    膜磁気ヘッドにおいて、 上記バイアス導体の一端部が上記磁気抵抗感磁部の磁気
    記録媒体対接面とは反対側の端部に電気的に接続されて
    いることを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 磁気抵抗感磁部とバイアス導体が、順次
    積層された第1の薄膜磁気コアと第2の薄膜磁気コアの
    間に絶縁層を介して挟み込まれ、上記磁気抵抗感磁部が
    第2の薄膜磁気コアに電気的に接続されていることを特
    徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
    ド。
  3. 【請求項3】 上記バイアス導体は上記磁気抵抗感磁部
    を横切る部分から離れるのに伴って幅が大となるような
    形状で形成されていることを特徴とする請求項1記載の
    磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 上記バイアス導体は上記磁気抵抗感磁部
    を横切る部分から離れるのに伴って磁気記録媒体対接面
    からの距離が大となるような形状で形成されていること
    を特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
    ッド。
  5. 【請求項5】 上記バイアス導体は上記磁気抵抗感磁部
    を横切る部分近傍が円弧を描く形状であることを特徴と
    する請求項3または請求項4記載の磁気抵抗効果型薄膜
    磁気ヘッド。
  6. 【請求項6】 バイアス導体と磁気抵抗感磁部の接続部
    から特性測定用の引き出し線が付加されていることを特
    徴とする請求項1記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
    ド。
  7. 【請求項7】 基板上に少なくとも磁気抵抗効果を有す
    る磁気抵抗感磁部が信号磁界の方向と略同一方向にセン
    ス電流が流れるような向きで形成され、バイアス導体が
    上記磁気抵抗感磁部に対して絶縁層を介して略直交して
    横切るように延在して形成されてなり、上記バイアス導
    体の一端部が上記磁気抵抗感磁部の磁気記録媒体対接面
    とは反対側の端部に電気的に接続されている磁気抵抗効
    果型薄膜磁気ヘッドのバイアス特性を測定するに際し、 上記バイアス導体と上記磁気抵抗感磁部の接続部から特
    性測定用引き出し線を引き出し、バイアス導体の端部か
    ら引き出された引き出し線と、磁気抵抗感磁部の磁気記
    録媒体対接面側の端部から引き出された引き出し線と、
    前記特性測定用引き出し線を用いることを特徴とするバ
    イアス特性測定方法。
  8. 【請求項8】 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド上に、該
    磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの第2の薄膜磁気コアと
    共働して閉磁路を構成する第3の薄膜磁気コアが積層さ
    れるとともに、これら第2の薄膜磁気コアと第3の薄膜
    磁気コアの磁気的結合部を取り囲むようにしてヘッド巻
    線が設けられて磁気誘導型薄膜磁気ヘッドが形成され、
    上記バイアス導体と磁気抵抗感磁部の接続部からの引き
    出し線をヘッド巻線の電極に電気的に接続し、特性測定
    用引き出し線とすることを特徴とする請求項7記載のバ
    イアス特性測定方法。
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