JPH06190939A - 光学物品及びその製法 - Google Patents

光学物品及びその製法

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JPH06190939A
JPH06190939A JP5238857A JP23885793A JPH06190939A JP H06190939 A JPH06190939 A JP H06190939A JP 5238857 A JP5238857 A JP 5238857A JP 23885793 A JP23885793 A JP 23885793A JP H06190939 A JPH06190939 A JP H06190939A
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パオロ・キウルロ
Guido Cogliati
グィード・コグリアーチ
Lorenzo Costa
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高い寸法精度及び寸法安定性を有する光学物
品を容易かつ経済的に製造する。 【構成】 光学材料の前駆体として高精度機械加工に適
する無定形の単一体エーロゲルを使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、初めに中間物を調製し、ついで
最終のサイズ又はほぼ最終のサイズを有する部品が得ら
れるまで小型化すること(miniaturizing)からなる光
学部品及び装置の製法に係る。
【0002】さらに詳述すれば、本発明は、最終の小型
化段階が、主として酸化ケイ素でなる、又は周期律表第
1〜4族に属する元素の1以上の酸化物の存在下におけ
る酸化ケイ素でなる無定形の単一体エーロゲルについて
行われる方法による前記目的物の製造に係る。
【0003】光学材料、特に融解シリカ又は石英及び光
学ガラスの如き透明な光学材料は、その硬さ及び脆性の
ため機械加工が困難であることが知られた代表的な物質
であり、生成物の品質のため光学部品及び装置の直接加
熱成形法は一般的に許容されない。
【0004】これら光学要素を製造する一般的な方法
は、ゆっくりとしたかつ正確な研磨操作により好適な予
成形体を最終製品に縮小させることに基づくものであ
る。
【0005】これらの操作のいくつか(たとえば平らな
又は球状の表面への縮小)は自動化されるが、他の操作
(たとえば非球面仕上げ)は煩雑な手仕事を必要とす
る。
【0006】このような機械加工の困難性のため、工業
的レベルで利用できる加工法の幅が狭く、光学部品(た
とえば非球面レンズを含む光学部品及び装置)の品質に
対して不均衡に高コストとなる。
【0007】光学工業の分野では、これらの技術的な制
限を各種の方法で軽減することが求められていた。
【0008】これらの1つは、所望の光学材料の好適な
予成形体から直接に非球面レンズ及び他の光学部品を高
圧高温プレスするものである。この方法(熱アイソタク
ティックプレスの如き極めて精巧な装置を使用する)に
よれば、高品質ではあるが、高コストの製品が得られ、
この方法はかなりの資本を必要とする方法である。
【0009】コストを低減させる1つの方法は、有機光
学材料(特にプラスチック)を使用するものである。
【0010】これらの材料は非常に経済的な方法によっ
て溶融され、成形されるものであり、機械工具により極
めて容易に機械加工されるものである。残念なことに
は、融解によって一般的に得られた光学製品の寸法精度
が、冷却及び相変化の間の充分に制御され得ない材料の
縮みによってマイナスの影響を受け、その結果、光学的
品質が低下する。機械工具での機械加工によってプラス
チック材料から得られた光学製品も、材料が軟らかすぎ
て必ずしも正確には機械加工されないため許容できる品
質のものではない。
【0011】さらに、これら2つの方法で得られた製品
は、これら材料の化学安定性及びこれらから形成された
目的物の寸法安定性の両方によってマイナスの影響を受
け、いずれの場合にも、光学工業における無機光学材料
に要求される基準に達しない。
【0012】光学材料の機械加工に関する技術を改善す
る他の試みは、石英及び光学ガラスの如き硬い材料を機
械加工するためにダイヤモンドチップを具備し、かつ材
料に対して工具チップの振動を最小にするために空気軸
受上を移動する極めて高度に精密な機械工具(数値制御
される)を開発することによってなされている。
【0013】これらの機械はここ10年間で開発されたも
のであり、表面粗さの制御に当たり1μmの1/10及び
1μmの1/100程度の輪郭制御精度を達成でき、従っ
て、いわゆる「光学」精度をもつ片を仕上げることが可
能である。
【0014】残念なことには、この高精度機械(レーザ
ーによる銅及びアルミニウムミラーの仕上げの如き光学
用途において経済的に便利であることが証明されてい
る)は、シリカ及び無機ガラスの如き透明な光学材料に
ついては、これら材料の硬さ及び脆性を含む各種の理由
により一般的に経済的ではない。
【0015】ケイ素アルコキシドの加水分解の生成物と
して得られるゲルを好適に処理することによって、限定
されたサイズの光学部品を得ることも公知である。たと
えば、米国特許第4,680,049号には、初めにケイ素を加
水分解し、この加水分解の生成物としてゲルを生成し、
ゲルを乾燥させ、最後に加熱焼結して限定されたサイズ
の光学ガラスを得ることからなるシリケートを基材とす
る光学ガラスの製法が開示されている。しかしながら、
サイズ的には限定されるが、これらの最終光学製品は物
理−化学的特性の点で等方性ではなく、表面3mm内に特
殊なサイズに関連して約12μの偏差を有する。
【0016】発明者らは、等方的に縮小できかつ機械器
具(特にダイヤモンドチップを具備し、空気軸受上を移
動する高精度の数値制御機械)によって非常に高い精度
で機械加工されるシリカ及び/又は他の酸化物の無定形
の単一体エーロゲルに熱化学的高密度化処理を適用する
ことにより、その最終のサイズ又はほぼ最終のサイズの
完全に等方性の光学部品及び装置を製造できることを見
出し、本発明に至った。このようにして得られた製品は
ほぼ最終のサイズ(すなわち、従来法による光学研磨の
みを必要とする)を有するか、正確な最終のサイズ(す
なわち、一般的な光学処理を何ら必要としない)を有す
る。
【0017】従って、本発明によれば、最終的に、数値
制御の機械工具を使用して、シリカ又は光学ガラスの光
学部品及び装置を経済的に製造できる。
【0018】このように、本発明の第1の目的は、酸化
ケイ素(単独又は周期律表第1〜4族に属する元素の少
なくとも1の第2の酸化物の存在下)でなる最終の又は
ほぼ最終のサイズを有する光学物品、部品又は装置にお
いて、すべての物理−化学的特性について完全に等方性
であることを特徴とする光学物品、光学部品又は光学装
置を提供することにある。
【0019】本発明の第2の目的は、前記光学物品等を
製造する方法において、a)ケイ素アルコキシド、又は
ケイ素アルコキシドと第2の元素の少なくとも1のアル
コキシドとを、酸触媒の存在下で水と混合し、b)該混
合物を超音波で可及的に処理し、c)得られた混合物を
加水分解し、d)加水分解によって放出されたアルコー
ルを可及的に除去し、e)加水分解物にシリカのコロイ
ド懸濁液又は直接コロイドシリカを添加し、f)可及的
に超音波で処理し、g)コロイド溶液をゲル化させ、
h)ゲルを洗浄し、i)洗浄溶媒の臨界温度及び臨界圧
力を越える温度及び圧力でゲルを乾燥させ、j)乾燥し
たゲルを800℃に加熱処理し、k)このようにして得ら
れた生成物を、存在するヒドロキシル基を置換しうる試
薬と可及的に反応させ、l)得られた生成物を酸化さ
せ、m)希ガス雰囲気下、一般に1200℃以上であって、
特殊なエーロゲルの化学組成物を高密度化するに必要か
つ充分な温度で加熱することを特徴とする光学物品等の
製法を提供することにある。
【0020】工程a)〜i)の多くは、金属酸化物のエ
ーロゲルモノリスの調製法に関連するイタリー国特許願
第19,404 A/89の方法の工程に相当するものであり、
他の情報に関しては該出願を参照する。
【0021】工程a)において、ケイ素アルコキシド
(好ましくはテトラエチルオルトシリケート:TEOS)に
加えて、周期律表第1〜4族に属する元素(好ましくは
第3及び4族に属する元素、特にゲルマニウム及びチタ
ン)の1以上のアルコキシド(アルコキシドの代わりに
各種塩化物)を使用できる。
【0022】工程c)の加水分解を行うためには酸触媒
が存在しなければならず、この種の公知の触媒を使用で
きる。好適な1具体例によれば、塩酸、硝酸、酢酸、マ
ロン酸又は酒石酸の使用が好適である。
【0023】加水分解は外界温度で行われ、終了時、加
水分解中に生成されたアルコールを加水分解物溶液から
除去し、その後、コロイド状シリカを添加する。
【0024】第2回目の超音波による可及的処理の後、
コロイド溶液を、加水分解物とコロイド酸化物懸濁液と
を混合する間に得られたものと同じ濃度でつづくゲル化
工程に供給できる。従って、濃度が高く、本発明による
方法のその後の工程の実施において何ら困難性は観察さ
れない。
【0025】ついで、コロイド溶液を所望の形状及びサ
イズの容器に注入することによってゲル化させる。操作
は50℃以下の温度において数分ないし数時間の時間で行
われる。
【0026】このようにして得られたゲルを、ゲルの孔
内に含まれる含有アルコール溶液を除去するに適する有
機溶媒で洗浄する。低い臨界温度及び臨界圧力の非引火
性溶媒を使用することが好ましい。
【0027】最終的に、洗浄溶媒の前記臨界値よりも高
い温度及び圧力においてゲルを乾燥させる。
【0028】800℃に加熱処理した後、エーロゲル形の
生成物を試薬と反応させてヒドロキシル基を除去し、容
易に酸化される物質を導入する。この目的には四塩化炭
素又は不活性ガス中で希釈した塩素の如き塩化物試薬が
好適に使用される。
【0029】得られた酸化物を希ガス雰囲気中、シリカ
の場合1200℃より高い温度に、所望のサイズを達成する
に必要な時間(最大2時間)加熱する。
【0030】上述の及び他の操作上の詳細については、
以下の実施例からさらに明白になるであろう。これらの
実施例は本発明を限定するものではない。
【0031】
【実施例1】激しく撹拌しながら、テトラエチルオルト
シリケート(TEOS)100ml(0.44モル)に0.01N HCl 80ml
を添加した(TEOS:H2O:HClのモル比=1:10:1.8×1
0-4)。約60分後、透明な溶液を得た。激しく撹拌しな
がら、粉末状のコロイドシリカ(たとえば、高温酸化に
よって四塩化ケイ素から得たもの)52.8gを、この溶液
に添加した。Aerosil OX50として公知の市販生成物(De
gussa社)が特に好適である。得られた混合物を超音波
を使用して約10分間均質化し、ついで遠心処理して透明
化させた。
【0032】得られた均質な分散液を所望のサイズ及び
形状のポリエステル容器に注入し、ついで容器を密閉
し、50℃に12時間維持した。このようにして調製したエ
ーロゲルは、所望の形状を付与するに必要な機械加工に
関して不充分な機械的強度を有する。従って、加熱処理
に供して材料の部分的焼結を行わなければならない。実
験室でのテストでは、無定形シリカの理論密度の約50%
の見掛け密度まで焼結する場合、機械工具によって容易
に加工される物質となることが証明されている。
【0033】このため、エーロゲルを空気中で1000℃に
1時間加熱した。この加熱の間に、圧力容器処理からの
残留有機生成物を燃焼除去した。
【0034】機械加工後、部分焼結シリカエーロゲル片
をさらに加熱処理に供して、シリカを完全に焼結させ
た。この加熱処理をヘリウム雰囲気中、温度1400℃で実
施した。片をこの温度に1時間維持した。
【0035】冷却後、片は所望の最終のサイズを有する
と共に、部分焼結エーロゲルの機械加工によって付与さ
れた形状を維持していた。
【0036】焼結物質は、融解によって得られた無定形
シリカと同じ物理−化学的特性を有していた。
【0037】
【実施例2】激しく撹拌しながら、テトラエチルオルト
シリケート(TEOS)100ml(0.44モル)に0.01N HCl 80ml
を添加した(TEOS:H2O:HClのモル比=1:10:1.8×1
0-4)。約60分後、透明な溶液を得た。激しく撹拌しな
がら、粉末状のコロイドシリカ(たとえばAerosil OX50
(Degussa社)として公知の市販製品)52.8gを前記溶
液に添加した。得られた均質な溶液に撹拌しながらpHが
4〜5となるまで0.1N水酸化アンモニウム溶液を滴加
し、その後、コロイド溶液を所望のサイズ及び形状のポ
リエステル容器に注入し、ついで容器を密閉し、50℃に
12時間維持した。ゲルの調製、その乾燥、部分焼結、機
械加工及び最終焼結については実施例1に記載の方法に
従って実施した。
【0038】
【実施例3】実施例2に記載の方法によって調製した8
つの同じサンプルのバッチ A34/2から作成したベー
ス直径45mm及び高さ30mmの3つの円筒状エーロゲルイン
ゴットを、ダイヤモンド付け刃工具を具備し、圧縮空気
軸受上を無振動移動する数値制御の高精度旋盤(Varall
o SesiaのCONTEK社)で機械加工した。
【0039】3つのサンプル(それぞれIα−62、Iα
−64、Iα−65と表示する)は、円筒体の軸に平行の軸
に沿って下記数式に相当の非球面をもつ同一の形状とし
た。
【0040】
【数】
【0041】ついで、3つのサンプルを輪郭投影器MITU
TOYOシリーズ332の中心に並べ、前記数式に相当する理
論的輪郭と比較した。スクリーン上に直接重ね合せるこ
とにより比較を行った。
【0042】方法の感度を所望レベルに上昇させるた
め、つづいて巨大スクリーン上に投影した写真の助けに
より各分析を行った(感度は目的物のサイズの1/1000
0に達する)。
【0043】ついで、エーロゲル又は中間生成物を上述
の実施例に記載の加熱処理によって小型化し、エーロゲ
ルの場合の如く各理論的輪郭と比較した。
【0044】前駆体の場合及び高密度化生成物の場合の
いずれも、各理論的輪郭との最大偏差は0.0002mm以下で
あり、これは方法の感度限度である。
【0045】結果を次表に示す。
【0046】
【表】 サンプル 理論値からの最大偏差 前駆体の偏差 生成物の偏差 Iα−62 <2×10-4 <2×10-4 Iα−64 <2×10-4 <2×10-4 Iα−65 <2×10-4 <2×10-4

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸化ケイ素、又は酸化ケイ素と周期律表第
    1〜4族に属する元素の少なくとも1の第2の酸化物と
    でなる最終のサイズ又はほぼ最終のサイズをもつ光学物
    品において、完全な等方性であることを特徴とする、光
    学物品。
  2. 【請求項2】請求項1記載のものにおいて、酸化ケイ素
    と第2の酸化物とでなるものであって、第2の酸化物が
    ゲルマニウム及びチタンの酸化物の中から選ばれるもの
    である、光学物品。
  3. 【請求項3】酸化ケイ素、又は酸化ケイ素と周期律表第
    1〜4族に属する元素の少なくとも1の第2の酸化物と
    でなる光学物品、部品又は装置を製造する方法におい
    て、a)ケイ素アルコキシド、又はケイ素アルコキシド
    と第2の元素の少なくとも1のアルコキシドとを、酸触
    媒の存在下で水と混合し、b)該混合物を超音波で可及
    的に処理し、c)得られた混合物を加水分解し、d)加
    水分解によって放出されたアルコールを可及的に除去
    し、e)加水分解物にコロイドシリカ懸濁液を添加し、
    f)可及的に超音波で処理し、g)コロイド溶液をゲル
    化させ、h)ゲルを洗浄し、i)洗浄溶媒の臨界温度及
    び臨界圧力を越える温度及び圧力でゲルを乾燥させ、
    j)乾燥したゲルを800℃に加熱処理し、k)このよう
    にして得られた生成物を、存在するヒドロキシル基を置
    換しうる試薬と可及的に反応させ、l)得られた生成物
    を酸化させ、m)希ガス雰囲気下、少なくとも1200℃の
    温度で加熱することを特徴とする、光学物品等の製法。
  4. 【請求項4】請求項3記載の製法において、工程a)の
    混合に当たりテトラエチルオルトシリケートを使用す
    る、光学物品等の製法。
  5. 【請求項5】請求項3記載の製法において、酸化ケイ素
    と少なくとも1の第2の酸化物との混合物を使用する場
    合、第2の酸化物が好ましくは周期律表第3及び4族の
    元素の酸化物の中から選ばれるものである、光学物品等
    の製法。
  6. 【請求項6】請求項5記載の製法において、酸化ケイ素
    と混合される酸化物が好ましくは酸化ゲルマニウム及び
    酸化チタンの中から選ばれるものである、光学物品等の
    製法。
  7. 【請求項7】請求項3記載の製法において、工程a)の
    混合を、塩酸、硝酸及び酢酸の中から選ばれる触媒の存
    在下で行う、光学物品等の製法。
  8. 【請求項8】請求項3記載の製法において、工程k)の
    反応を塩化物試薬を使用して行う、光学物品等の製法。
  9. 【請求項9】請求項8記載の製法において、前記塩化物
    試薬が、好ましくは四塩化炭素及び不活性ガス中に希釈
    された塩素の中から選ばれるものである、光学物品等の
    製法。
  10. 【請求項10】請求項3記載の製法において、工程m)
    の加熱を最高2時間行う、光学物品等の製法。
JP5238857A 1992-09-01 1993-08-31 光学物品及びその製法 Pending JPH06190939A (ja)

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ITMI922038A IT1256359B (it) 1992-09-01 1992-09-01 Procedimento per la preparazione di componenti e dispositivi ottici indimensioni finali o quasi finali, e prodotti cosi' ottenuti
IT92A002038 1992-09-01

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JPH06190939A true JPH06190939A (ja) 1994-07-12

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JP5238857A Pending JPH06190939A (ja) 1992-09-01 1993-08-31 光学物品及びその製法

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US (1) US5948535A (ja)
EP (1) EP0586013B1 (ja)
JP (1) JPH06190939A (ja)
AT (1) ATE160530T1 (ja)
DE (1) DE69315397T2 (ja)
DK (1) DK0586013T3 (ja)
ES (1) ES2109423T3 (ja)
GR (1) GR3025691T3 (ja)
IT (1) IT1256359B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006520313A (ja) * 2003-03-20 2006-09-07 デグサ ノヴァラ テクノロジー ソチエタ ペル アツィオーニ 光学製品および該光学製品を製造するためのゾルゲル法

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1270628B (it) * 1994-10-06 1997-05-07 Enichem Spa Manufatti in ossido di silicio e/o altri ossidi metallici misti e procedimento per la loro preparazione in dimensioni finali o quasi finali
KR20020062287A (ko) * 1999-10-21 2002-07-25 아스펜 시스템즈 인코포레이티드 신속한 에어로겔 제조방법
US6732549B1 (en) * 2000-08-01 2004-05-11 Lucent Technologies Inc. Multi-pass sintering of a sol-gel body through a hot zone
US6679945B2 (en) 2000-08-21 2004-01-20 Degussa Ag Pyrogenically prepared silicon dioxide
ITNO20030001A1 (it) 2003-01-15 2004-07-16 Novara Technology Srl Processo sol-gel per la produzione di articoli vetrosi.
FR2856055B1 (fr) * 2003-06-11 2007-06-08 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques, composites les renfermant et composition utilisee
FR2879591B1 (fr) * 2004-12-16 2007-02-09 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques
PL1700831T3 (pl) * 2005-03-09 2008-03-31 Degussa Novara Tech S P A Sposób wytwarzania monolitów za pomocą procesu zol-żel
EP1700824A1 (en) 2005-03-09 2006-09-13 Degussa AG Granules based on pyrogenically prepared silicon dioxide, method for their preparation and use thereof
EP1700830A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-13 Novara Technology S.R.L. Process for the production of monoliths by means of the invert sol-gel process
US7799713B2 (en) * 2005-11-04 2010-09-21 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
US9656903B2 (en) 2005-11-04 2017-05-23 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high strength glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US7823417B2 (en) * 2005-11-04 2010-11-02 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high performance glass fibers in a refractory lined melter and fiber formed thereby
US8338319B2 (en) * 2008-12-22 2012-12-25 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
US9187361B2 (en) 2005-11-04 2015-11-17 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing S-glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US8586491B2 (en) 2005-11-04 2013-11-19 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
DE602008004652D1 (de) * 2008-08-08 2011-03-03 Orion Tech Anstalt Sol-Gel Verfahren zur Herstellung von monolithischen Gegenständen aus Quarzglas
USD628718S1 (en) 2008-10-31 2010-12-07 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
USD615218S1 (en) 2009-02-10 2010-05-04 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
US8252707B2 (en) * 2008-12-24 2012-08-28 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
US9962535B2 (en) 2012-05-11 2018-05-08 10X Technology Llc Hollow silica glass microneedle arrays and method and apparatus for manufacturing same
US10370855B2 (en) 2012-10-10 2019-08-06 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof deck intake vent
USD710985S1 (en) 2012-10-10 2014-08-12 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof vent

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6027615A (ja) * 1983-07-22 1985-02-12 Hitachi Ltd 光学ガラスの製造方法
JPS6090835A (ja) * 1983-10-20 1985-05-22 Seiko Epson Corp シリカ−チタニアガラスの製造方法
JPS6191024A (ja) * 1984-10-05 1986-05-09 Seiko Epson Corp 円筒状シリカ系ガラスの製造方法
JPS6330334A (ja) * 1986-07-21 1988-02-09 Seiko Epson Corp 石英ガラスの製造方法
JPH01148726A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Sumita Kogaku Glass Seizosho:Kk 光学ガラス
JPH02248335A (ja) * 1989-02-10 1990-10-04 Enichem Spa エーロゲルモノリスの製法
JPH02248340A (ja) * 1989-02-10 1990-10-04 Enichem Spa ガラス様モノリスの製法
JPH0558649A (ja) * 1991-09-02 1993-03-09 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ−チタニアガラスの製造方法
JPH07507033A (ja) * 1991-12-12 1995-08-03 矢崎総業株式会社 ゲルマニアをドープしたシリカガラスロッドを製造するためのゾルゲル法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2165234B (en) * 1984-10-05 1988-09-01 Suwa Seikosha Kk Methods of preparing doped silica glass
US5196382A (en) * 1985-02-25 1993-03-23 University Of Florida Research Foundation, Inc. Method for rapid production of large sol-gel SiO2 containing monoliths of silica with and without transition metals
JPS62158126A (ja) * 1986-01-06 1987-07-14 Seiko Epson Corp 石英ガラスの製造方法
US4680049A (en) * 1986-08-15 1987-07-14 Gte Laboratories Incorporated Process for molding optical components of silicate glass to a near net shape optical precision
US4789389A (en) * 1987-05-20 1988-12-06 Corning Glass Works Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles
US4786618A (en) * 1987-05-29 1988-11-22 Corning Glass Works Sol-gel method for making ultra-low expansion glass
DE3869308D1 (de) * 1987-09-30 1992-04-23 Shinetsu Chemical Co Verfahren zur herstellung von kieselglas.
US4943542A (en) * 1987-10-31 1990-07-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Process for producing silica glass
US5328645A (en) * 1989-01-04 1994-07-12 Ppg Industries, Inc. Gel promoters for silica sols
US5207814A (en) * 1989-02-10 1993-05-04 Enichem S.P.A. Process for preparing monoliths of aerogels of metal oxides
DE69003979T2 (de) * 1989-03-31 1994-05-05 Mitsubishi Gas Chemical Co Verfahren zur Herstellung von Silikaglas mit einer Brechwertverteilung.
IT1251939B (it) * 1991-10-17 1995-05-27 Donegani Guido Ist Procedimento per la preparazione di materiali a base di ossidi inorganici con granulometria monodispersa e materiali cosi ottenuti.
US5240488A (en) * 1992-08-14 1993-08-31 At&T Bell Laboratories Manufacture of vitreous silica product via a sol-gel process using a polymer additive

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6027615A (ja) * 1983-07-22 1985-02-12 Hitachi Ltd 光学ガラスの製造方法
JPS6090835A (ja) * 1983-10-20 1985-05-22 Seiko Epson Corp シリカ−チタニアガラスの製造方法
JPS6191024A (ja) * 1984-10-05 1986-05-09 Seiko Epson Corp 円筒状シリカ系ガラスの製造方法
JPS6330334A (ja) * 1986-07-21 1988-02-09 Seiko Epson Corp 石英ガラスの製造方法
JPH01148726A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Sumita Kogaku Glass Seizosho:Kk 光学ガラス
JPH02248335A (ja) * 1989-02-10 1990-10-04 Enichem Spa エーロゲルモノリスの製法
JPH02248340A (ja) * 1989-02-10 1990-10-04 Enichem Spa ガラス様モノリスの製法
JPH0558649A (ja) * 1991-09-02 1993-03-09 Tokuyama Soda Co Ltd シリカ−チタニアガラスの製造方法
JPH07507033A (ja) * 1991-12-12 1995-08-03 矢崎総業株式会社 ゲルマニアをドープしたシリカガラスロッドを製造するためのゾルゲル法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006520313A (ja) * 2003-03-20 2006-09-07 デグサ ノヴァラ テクノロジー ソチエタ ペル アツィオーニ 光学製品および該光学製品を製造するためのゾルゲル法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0586013A2 (en) 1994-03-09
ATE160530T1 (de) 1997-12-15
IT1256359B (it) 1995-12-01
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EP0586013B1 (en) 1997-11-26
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DE69315397T2 (de) 1998-04-16
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ES2109423T3 (es) 1998-01-16

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