JPH06183167A - 感光性平版印刷版の製造方法 - Google Patents
感光性平版印刷版の製造方法Info
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- JPH06183167A JPH06183167A JP34065792A JP34065792A JPH06183167A JP H06183167 A JPH06183167 A JP H06183167A JP 34065792 A JP34065792 A JP 34065792A JP 34065792 A JP34065792 A JP 34065792A JP H06183167 A JPH06183167 A JP H06183167A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の感光性平版印刷版の製造方法によれ
ば、現像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に優れ
た感光性平版印刷版を製造することができる。 【構成】 感光性平版印刷版の製造方法であって、陽極
酸化された支持体を(a)亜硝酸塩水溶液、(b)ケイ
酸金属塩水溶液、(c)熱水ででこの順に処理した後、
感光性組成物を塗布することを特徴とする感光性平版印
刷版の製造方法。
ば、現像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に優れ
た感光性平版印刷版を製造することができる。 【構成】 感光性平版印刷版の製造方法であって、陽極
酸化された支持体を(a)亜硝酸塩水溶液、(b)ケイ
酸金属塩水溶液、(c)熱水ででこの順に処理した後、
感光性組成物を塗布することを特徴とする感光性平版印
刷版の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に関
し、更に詳しくは改良された親水層を有する感光性平版
印刷版に関する。
し、更に詳しくは改良された親水層を有する感光性平版
印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性平版印刷版、たとえばネガ
型感光性印刷版は、親水層を有する支持体上にインキ受
容性の感光層を設けたもので、このような感光性平版印
刷版の感光層を画像露光し、ついで現像すると未露光部
の感光層は除去されて、親水性支持体の表面が露出する
一方、露光部の感光層は支持体の表面に残留してインキ
受容性の画像部を形成しそれによって平版印刷版が得ら
れる。
型感光性印刷版は、親水層を有する支持体上にインキ受
容性の感光層を設けたもので、このような感光性平版印
刷版の感光層を画像露光し、ついで現像すると未露光部
の感光層は除去されて、親水性支持体の表面が露出する
一方、露光部の感光層は支持体の表面に残留してインキ
受容性の画像部を形成しそれによって平版印刷版が得ら
れる。
【0003】支持体としてはアルミニウムが最も優れて
いる。アルミニウム板と感光層との十分な接着性を得る
ために、支持体表面を粗面化する表面処理法として、例
えば、ボールグレイニング、ワイヤーグレイニング、ブ
ラシグレイニング等の機械的な方法、塩酸、硝酸等を用
いた電解粗面化法等がある。更に支持体表面に熱水によ
る封孔処理、珪酸金属塩による封孔処理等を施すことに
よって支持体と感光層との接着性をコントロールでき
る。
いる。アルミニウム板と感光層との十分な接着性を得る
ために、支持体表面を粗面化する表面処理法として、例
えば、ボールグレイニング、ワイヤーグレイニング、ブ
ラシグレイニング等の機械的な方法、塩酸、硝酸等を用
いた電解粗面化法等がある。更に支持体表面に熱水によ
る封孔処理、珪酸金属塩による封孔処理等を施すことに
よって支持体と感光層との接着性をコントロールでき
る。
【0004】しかしながら、これらの方法では現像処理
して得られた感光性平版印刷版は、例えばジアゾ化合物
を含有する感光層を有するネガ型平版印刷版において
は、非画像部のアルミニウム表面にジアゾ化合物の一部
が残留するいわゆる『ジアゾ残り』現象が起こり、優れ
た現像性を有することが困難となったり、印刷中非画像
部にインキ汚れが発生するという問題があった。また、
感光性平版印刷版の処理薬品は、例えば支持体表面を腐
食したりする等、印刷版支持体を劣化させたり、印刷版
支持体表面の保水性が不十分なこと等が原因して、処理
薬品が残膜を形成する場合があり、この様な場合には、
やはりインキ汚れが発生したり、十分な現像性が得難い
等の問題を生じることとなる。さらに耐刷性が不十分で
ある等の問題があった。
して得られた感光性平版印刷版は、例えばジアゾ化合物
を含有する感光層を有するネガ型平版印刷版において
は、非画像部のアルミニウム表面にジアゾ化合物の一部
が残留するいわゆる『ジアゾ残り』現象が起こり、優れ
た現像性を有することが困難となったり、印刷中非画像
部にインキ汚れが発生するという問題があった。また、
感光性平版印刷版の処理薬品は、例えば支持体表面を腐
食したりする等、印刷版支持体を劣化させたり、印刷版
支持体表面の保水性が不十分なこと等が原因して、処理
薬品が残膜を形成する場合があり、この様な場合には、
やはりインキ汚れが発生したり、十分な現像性が得難い
等の問題を生じることとなる。さらに耐刷性が不十分で
ある等の問題があった。
【0005】本発明は、現像性、保水性、耐薬品性およ
び耐刷性が共に優れた感光性平版印刷版の製造方法を提
供しようとするものである。本発明者らは、かかる難点
を克服して、優れた感光性平版印刷版の製造方法を得る
べく鋭意検討の結果、陽極酸化した支持体を、亜硝酸
塩、ケイ酸塩、熱水でこの順に処理することにより、現
像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に優れた感光
性平版印刷版が製造されることを見出し、本発明に到達
した。
び耐刷性が共に優れた感光性平版印刷版の製造方法を提
供しようとするものである。本発明者らは、かかる難点
を克服して、優れた感光性平版印刷版の製造方法を得る
べく鋭意検討の結果、陽極酸化した支持体を、亜硝酸
塩、ケイ酸塩、熱水でこの順に処理することにより、現
像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に優れた感光
性平版印刷版が製造されることを見出し、本発明に到達
した。
【0006】即ち、本発明の目的は、現像性、保水性、
耐薬品性および耐刷性が共に優れた感光性平版印刷版の
製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、
感光層と支持体との適切な接着性を有する感光性平版印
刷版の製造方法を提供することにある。さらに本発明の
目的は、薬品等を使用しても非画線部で十分な保水性を
保持する感光性平版印刷版を提供することである。
耐薬品性および耐刷性が共に優れた感光性平版印刷版の
製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、
感光層と支持体との適切な接着性を有する感光性平版印
刷版の製造方法を提供することにある。さらに本発明の
目的は、薬品等を使用しても非画線部で十分な保水性を
保持する感光性平版印刷版を提供することである。
【0007】しかして、かかる本発明の目的は、陽極酸
化された支持体を(a)亜硝酸塩水溶液、(b)ケイ酸
金属塩水溶液、(c)熱水でこの順に処理した後、感光
性組成物を塗布することを特徴とする感光性平版印刷版
の製造方法によって、容易に達成される。以下、本発明
を更に詳細に説明する。
化された支持体を(a)亜硝酸塩水溶液、(b)ケイ酸
金属塩水溶液、(c)熱水でこの順に処理した後、感光
性組成物を塗布することを特徴とする感光性平版印刷版
の製造方法によって、容易に達成される。以下、本発明
を更に詳細に説明する。
【0008】本発明において用いられる支持体として
は、通常の平版印刷機にセットできるたわみ性と印刷時
に加わる荷重に耐えるものが好ましく、例えばアルミニ
ウム、マグネシウム、亜鉛、クロム、鉄、銅、ニッケル
等の金属板、及びこれらの金属の合金版等が挙げられ、
更にはクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び
鉄等がメッキまたは蒸着によって被覆されている金属板
でもよい。これらのうち好ましい支持体は、アルミニウ
ムまたはその合金である。
は、通常の平版印刷機にセットできるたわみ性と印刷時
に加わる荷重に耐えるものが好ましく、例えばアルミニ
ウム、マグネシウム、亜鉛、クロム、鉄、銅、ニッケル
等の金属板、及びこれらの金属の合金版等が挙げられ、
更にはクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び
鉄等がメッキまたは蒸着によって被覆されている金属板
でもよい。これらのうち好ましい支持体は、アルミニウ
ムまたはその合金である。
【0009】支持体の表面は油分及びその他の付着物で
汚染されているので、粗面化処理に先立ち、常法に従っ
て脱脂、洗浄することが望ましい。限定はされないが、
例えば、トリクレン、シンナー等による溶剤脱脂、ケロ
シンとトリエタノールアミン等によるエマルジョン脱
脂、濃度1〜10%の苛性ソーダ水溶液に20〜70℃
で5秒から10分浸漬し、脱脂のみでは除去できない汚
れ、自然酸化皮膜を除去し、次いで、濃度10〜20%
の硝酸又は硫酸水溶液に10〜50℃で5秒〜5分浸漬
し、アルカリエッチング後の中和およびスマットの除去
(デスマット処理)を行なう方法等がある。
汚染されているので、粗面化処理に先立ち、常法に従っ
て脱脂、洗浄することが望ましい。限定はされないが、
例えば、トリクレン、シンナー等による溶剤脱脂、ケロ
シンとトリエタノールアミン等によるエマルジョン脱
脂、濃度1〜10%の苛性ソーダ水溶液に20〜70℃
で5秒から10分浸漬し、脱脂のみでは除去できない汚
れ、自然酸化皮膜を除去し、次いで、濃度10〜20%
の硝酸又は硫酸水溶液に10〜50℃で5秒〜5分浸漬
し、アルカリエッチング後の中和およびスマットの除去
(デスマット処理)を行なう方法等がある。
【0010】脱脂、洗浄された支持体は、さらに砂目立
処理を施されることが好ましい。砂目立処理には、機械
的に表面を粗面化する機械的粗面化方法、電気化学的粗
面化方法等がある。機械的粗面化方法としては、例えば
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の
方法がある。また電気化学的粗面化方法としては、例え
ば塩酸または硝酸等を含む電解液中で交流或いは直流に
よって支持体を電解粗面化処理する方法等がある。
処理を施されることが好ましい。砂目立処理には、機械
的に表面を粗面化する機械的粗面化方法、電気化学的粗
面化方法等がある。機械的粗面化方法としては、例えば
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の
方法がある。また電気化学的粗面化方法としては、例え
ば塩酸または硝酸等を含む電解液中で交流或いは直流に
よって支持体を電解粗面化処理する方法等がある。
【0011】前述のように砂目立処理して得られた支持
体の表面には、スマットが生成しているので、このスマ
ットを除去するために適宜水洗或いはアルカリエッチン
グ等の処理を行うことが好ましい。アルカリエッチング
の条件は、常法に従い例えば、10〜80℃のアルカリ
または酸の水溶液に5秒〜3分間浸漬してデスマットを
行い、次いで酸性溶液(硫酸、リン酸、硝酸等)により
中和処理を行うことがより好ましい。
体の表面には、スマットが生成しているので、このスマ
ットを除去するために適宜水洗或いはアルカリエッチン
グ等の処理を行うことが好ましい。アルカリエッチング
の条件は、常法に従い例えば、10〜80℃のアルカリ
または酸の水溶液に5秒〜3分間浸漬してデスマットを
行い、次いで酸性溶液(硫酸、リン酸、硝酸等)により
中和処理を行うことがより好ましい。
【0012】本発明に用いられる支持体には、前述のよ
うな前処理を施したあと、陽極酸化処理を施して酸化皮
膜を形成させ、耐磨耗性、耐薬品性、保水性を向上させ
る。本願発明の陽極酸化処理における電解液としては、
限定はされないが、例えばリン酸、硫酸等を用いること
ができる。電解液は少なくとも硫酸を用いる場合には1
0〜50%程度、リン酸を用いる場合には1〜10%程
度等を含有する水溶液であれば他の電解質を含有してい
てもよい。電解条件としては、限定はされないが例え
ば、電流密度は1〜10A/dm2 で10秒〜2分電解
することにより行なわれる。
うな前処理を施したあと、陽極酸化処理を施して酸化皮
膜を形成させ、耐磨耗性、耐薬品性、保水性を向上させ
る。本願発明の陽極酸化処理における電解液としては、
限定はされないが、例えばリン酸、硫酸等を用いること
ができる。電解液は少なくとも硫酸を用いる場合には1
0〜50%程度、リン酸を用いる場合には1〜10%程
度等を含有する水溶液であれば他の電解質を含有してい
てもよい。電解条件としては、限定はされないが例え
ば、電流密度は1〜10A/dm2 で10秒〜2分電解
することにより行なわれる。
【0013】陽極酸化された支持体には、特に限定はさ
れないが、例えば、水洗処理などを施してもよい。特に
好ましくは、支持体を80℃〜95℃程度の熱水又はア
ルカリ水溶液中に浸漬処理することがあげられる。次い
で、亜硝酸塩溶液で処理され、陽極酸化層が封孔され
る。本発明において用いられる亜硝酸塩の例としては、
周期律表のIa,IIa,IIb,III b,IVa,IVb,VI
a,VII a,VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウ
ム塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金
属塩としては、例えば、LiO2 ,NaNO2 ,KNO
2 ,Mg(NO2 )2 ,Ca(NO2 )2 ,Zn(NO
2 )2 ,Al(NO2 )3 ,Zr(NO2 )4 ,Sn
(NO2 )4 ,Cr(NO2 )3 ,Co(NO2 )2 ,
Mn(NO2 )2 ,Ni(NO2 )2 等が好ましく、特
に、アルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は、2
種以上併用することもできる。
れないが、例えば、水洗処理などを施してもよい。特に
好ましくは、支持体を80℃〜95℃程度の熱水又はア
ルカリ水溶液中に浸漬処理することがあげられる。次い
で、亜硝酸塩溶液で処理され、陽極酸化層が封孔され
る。本発明において用いられる亜硝酸塩の例としては、
周期律表のIa,IIa,IIb,III b,IVa,IVb,VI
a,VII a,VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウ
ム塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金
属塩としては、例えば、LiO2 ,NaNO2 ,KNO
2 ,Mg(NO2 )2 ,Ca(NO2 )2 ,Zn(NO
2 )2 ,Al(NO2 )3 ,Zr(NO2 )4 ,Sn
(NO2 )4 ,Cr(NO2 )3 ,Co(NO2 )2 ,
Mn(NO2 )2 ,Ni(NO2 )2 等が好ましく、特
に、アルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は、2
種以上併用することもできる。
【0014】亜硝酸塩処理方法としては、水溶液に浸漬
する方法または水溶液を支持体に塗布する方法等があげ
られるが、水溶液に浸漬する方法がより好ましい。処理
条件は、支持体の状態およびアルカリ金属の種類により
異なるので、一義的には決定できないが、例えば亜硝酸
ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般的には0.0
01〜10重量%、より好ましくは0.01〜2重量
%、浴温度は一般的には室温から約100℃前後、より
好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的には15〜
300秒、より好ましくは10〜180秒のそれぞれの
範囲から選択すれば良い。また、亜硝酸塩水溶液のpH
は8.0〜11.0に調整されていることが好ましく、
8.5〜9.5に調整されていることが特に好ましい。
する方法または水溶液を支持体に塗布する方法等があげ
られるが、水溶液に浸漬する方法がより好ましい。処理
条件は、支持体の状態およびアルカリ金属の種類により
異なるので、一義的には決定できないが、例えば亜硝酸
ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般的には0.0
01〜10重量%、より好ましくは0.01〜2重量
%、浴温度は一般的には室温から約100℃前後、より
好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的には15〜
300秒、より好ましくは10〜180秒のそれぞれの
範囲から選択すれば良い。また、亜硝酸塩水溶液のpH
は8.0〜11.0に調整されていることが好ましく、
8.5〜9.5に調整されていることが特に好ましい。
【0015】亜硝酸塩水溶液のpHを上記の範囲に調整
するには、例えば種々のアルカリ緩衝液等を用いて好適
に調整することができる。該アルカリ緩衝液としては、
限定はされないが例えば、炭酸水素ナトリウムと水酸化
ナトリウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナト
リウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリ
ウムの混合水溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウム
の混合水溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四
ホウ酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を
好適に用いることができる。また上記アルカリ緩衝液は
ナトリウム塩以外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩
等も用いることができる。
するには、例えば種々のアルカリ緩衝液等を用いて好適
に調整することができる。該アルカリ緩衝液としては、
限定はされないが例えば、炭酸水素ナトリウムと水酸化
ナトリウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナト
リウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリ
ウムの混合水溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウム
の混合水溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四
ホウ酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を
好適に用いることができる。また上記アルカリ緩衝液は
ナトリウム塩以外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩
等も用いることができる。
【0016】該亜硝酸塩処理の効果を高めるために、当
該処理中に超音波をかけてもよい。該亜硝酸塩水溶液に
は必要に応じて添加剤を加えることができる。例えば、
水溶性高分子、界面活性剤などを添加することができ
る。亜硝酸塩を含有する水溶液で処理された支持体は、
適宜乾燥処理等を行った後、ケイ酸金属塩水溶液で処理
され、支持体表面にケイ酸皮膜を形成させ支持体の親水
性を高める。
該処理中に超音波をかけてもよい。該亜硝酸塩水溶液に
は必要に応じて添加剤を加えることができる。例えば、
水溶性高分子、界面活性剤などを添加することができ
る。亜硝酸塩を含有する水溶液で処理された支持体は、
適宜乾燥処理等を行った後、ケイ酸金属塩水溶液で処理
され、支持体表面にケイ酸皮膜を形成させ支持体の親水
性を高める。
【0017】ケイ酸塩としては、アルカリ金属ケイ酸塩
が特に好ましい。ケイ酸のアルカリ金属塩としては、ナ
トリウム、カリウム等の金属塩があるが、ケイ酸ナトリ
ウムであることが特に好ましい。ケイ酸塩は1種または
2種以上を併用してもよい。ケイ酸塩処理方法として
は、水溶液に浸漬する方法または水溶液を支持体に塗布
する方法等があげられるが、水溶液に浸漬する方法がよ
り好ましい。
が特に好ましい。ケイ酸のアルカリ金属塩としては、ナ
トリウム、カリウム等の金属塩があるが、ケイ酸ナトリ
ウムであることが特に好ましい。ケイ酸塩は1種または
2種以上を併用してもよい。ケイ酸塩処理方法として
は、水溶液に浸漬する方法または水溶液を支持体に塗布
する方法等があげられるが、水溶液に浸漬する方法がよ
り好ましい。
【0018】処理条件は、支持体の状態およびアルカリ
金属の種類により異なるので、一義的には決定できない
が、例えばケイ酸ナトリウムを用いた場合、一般的に
は、濃度は0.1〜3重量%、浴温度は60〜90℃、
処理時間は10〜180秒の範囲からそれぞれ適宜選択
される。該ケイ酸金属塩水溶液には必要に応じて添加剤
を加えることができる。例えば、水溶性高分子、界面活
性剤などを添加することができる。
金属の種類により異なるので、一義的には決定できない
が、例えばケイ酸ナトリウムを用いた場合、一般的に
は、濃度は0.1〜3重量%、浴温度は60〜90℃、
処理時間は10〜180秒の範囲からそれぞれ適宜選択
される。該ケイ酸金属塩水溶液には必要に応じて添加剤
を加えることができる。例えば、水溶性高分子、界面活
性剤などを添加することができる。
【0019】ケイ酸のアルカリ金属塩水溶液で処理した
後には、熱水により処理する。処理条件は常法によるも
のでよく、特に限定はされないが例えば、浴温度は60
〜90℃、より好ましくは80〜90℃、時間は10〜
180秒の範囲から選択される。前記の支持体の感光層
に対する接着性を向上させるための支持体自体に施され
る処理は特に限定されるものでなく、必要に応じてプラ
イマー層等を設けることができる。
後には、熱水により処理する。処理条件は常法によるも
のでよく、特に限定はされないが例えば、浴温度は60
〜90℃、より好ましくは80〜90℃、時間は10〜
180秒の範囲から選択される。前記の支持体の感光層
に対する接着性を向上させるための支持体自体に施され
る処理は特に限定されるものでなく、必要に応じてプラ
イマー層等を設けることができる。
【0020】該プライマー層には例えばポリエステル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルプチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重合体、酢酸
ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリルブタ
ジエン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルプチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重合体、酢酸
ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリルブタ
ジエン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。
【0021】また上記プライマー層を構成するアンカー
剤としては、例えばシランカップリング剤、シリコーン
プライマー等を用いることができ、また有機チタネート
等も有効である。本発明の感光性平版印刷版は、前述の
ようにして得られた支持体に感光層を設けたものである
が、この感光層中に用いられる感光性物質は、通常感光
性平版印刷版に用いられている物であれば、特に限定さ
れるものではない。特に好ましい感光性組成物として
は、ジアゾ化合物を含む感光性組成物があげられる。
剤としては、例えばシランカップリング剤、シリコーン
プライマー等を用いることができ、また有機チタネート
等も有効である。本発明の感光性平版印刷版は、前述の
ようにして得られた支持体に感光層を設けたものである
が、この感光層中に用いられる感光性物質は、通常感光
性平版印刷版に用いられている物であれば、特に限定さ
れるものではない。特に好ましい感光性組成物として
は、ジアゾ化合物を含む感光性組成物があげられる。
【0022】1)ジアゾ化合物を含む感光性組成物 この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例えば、好まし
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。さらにジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使用
される。かかる結合剤としては種々の高分子化合物を使
用することができるが、好ましくは芳香族性水酸基を有
する単量体、例えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタ
アクリルアミド、o−,m−、またはp−ヒドロキシス
チレン、o−,m−、またはp−ヒドロキシフェニルメ
タクリレート等と他の単量体との共重合体、ヒドロキシ
エチルアクリレート単位またはヒドロキシエチルメタク
リレート単位を主な繰り返し単位として含むポリマー、
シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコー
ル、ポリアミド樹脂、線状ポリウレタン樹脂、ポリビニ
ルアルコールのフタレート樹脂、ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セ
ルロース、セルロースアセテートフタレート等のセリー
シ誘導体が包含される。
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。さらにジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使用
される。かかる結合剤としては種々の高分子化合物を使
用することができるが、好ましくは芳香族性水酸基を有
する単量体、例えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタ
アクリルアミド、o−,m−、またはp−ヒドロキシス
チレン、o−,m−、またはp−ヒドロキシフェニルメ
タクリレート等と他の単量体との共重合体、ヒドロキシ
エチルアクリレート単位またはヒドロキシエチルメタク
リレート単位を主な繰り返し単位として含むポリマー、
シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコー
ル、ポリアミド樹脂、線状ポリウレタン樹脂、ポリビニ
ルアルコールのフタレート樹脂、ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セ
ルロース、セルロースアセテートフタレート等のセリー
シ誘導体が包含される。
【0023】2)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書および同第3,622,320号
明細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基
として−CH=CH−CO−を含む感光性樹脂、および
重合体の側鎖に感光基を有するポリビニルシンナメート
等があげられる。
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書および同第3,622,320号
明細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基
として−CH=CH−CO−を含む感光性樹脂、および
重合体の側鎖に感光基を有するポリビニルシンナメート
等があげられる。
【0024】3)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体と高分子バインダーからな
り、このような組成物の代表的なものは、例えば米国特
許第2,760,863号明細書および同第2,79
1,504号明細書等に記載されている。この光重合系
感光性樹脂組成物には、この技術分野で通常知られてい
る光重合開始剤(例えばベンゾインメチルエーテル等の
ベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキノン誘導
体、アクリドン誘導体等)が添加される。
て、二重結合を有する単量体と高分子バインダーからな
り、このような組成物の代表的なものは、例えば米国特
許第2,760,863号明細書および同第2,79
1,504号明細書等に記載されている。この光重合系
感光性樹脂組成物には、この技術分野で通常知られてい
る光重合開始剤(例えばベンゾインメチルエーテル等の
ベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキノン誘導
体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0025】4)o−キノンジアジド化合物を含む感光
性組成物 o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物において
は、o−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を
併用することが好ましい。o−キノンジアジド化合物と
しては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸
と、フェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹
脂とのエステル化合物が挙げられる。
性組成物 o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物において
は、o−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を
併用することが好ましい。o−キノンジアジド化合物と
しては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸
と、フェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹
脂とのエステル化合物が挙げられる。
【0026】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。又、前記ケトンと
してはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。又、前記ケトンと
してはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0027】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましくは20〜45%である。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましくは20〜45%である。
【0028】更に本発明に用いられるo−キノンジアジ
ド化合物としては特に限定はされないが、例えば特開昭
58−43451号公報に記載のある以下の化合物も使
用できる。具体的に例示するに、1,2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド
化合物等があげられ、更に具体的にはジェイ・コサール
(J.Kosar)著「ライト・センシティブ・システ
ムズ」(“Light−Sensitive Syst
ems”)第339〜352頁(1965年)、ジョン
・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley
& Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー・エス
・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)
著「フォトレジスト」(“Photoresist”)
第50巻.
ド化合物としては特に限定はされないが、例えば特開昭
58−43451号公報に記載のある以下の化合物も使
用できる。具体的に例示するに、1,2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド
化合物等があげられ、更に具体的にはジェイ・コサール
(J.Kosar)著「ライト・センシティブ・システ
ムズ」(“Light−Sensitive Syst
ems”)第339〜352頁(1965年)、ジョン
・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley
& Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー・エス
・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)
著「フォトレジスト」(“Photoresist”)
第50巻.
【0029】(1975年)、マグローヒル(Mc G
raw−Hill)社(ニューヨーク)に記載されてい
る1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェ
ニルエステル、1,2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル
−M−β−ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエス
テル、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニル)−3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシ
ジフェニル−4′−アゾ−β−ナフトールエステル、
N,N−ジ−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニル)−アニリン、2′−(1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−
アントラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエス
テル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸
−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸ク
ロリド2モルと4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モ
ルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,
1′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルと
プルプロガリン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−(N−ジヒドロアピエチル)−スルホン
アミドなどの1,2−キノンジアジド化合物等を例示す
ることができる。又、特公昭37−1953号、同37
−3627号、同37−13109号、同40−261
26号、同40−3801号、同45−5604号、同
45−27345号、同51−13013号、特開昭4
8−96575号、同48−63802号、同48−6
3803号各公報に記載された1,2−キノンジアジド
化合物をも挙げることができる。
raw−Hill)社(ニューヨーク)に記載されてい
る1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェ
ニルエステル、1,2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル
−M−β−ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエス
テル、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニル)−3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシ
ジフェニル−4′−アゾ−β−ナフトールエステル、
N,N−ジ−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニル)−アニリン、2′−(1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−
アントラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエス
テル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸
−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸ク
ロリド2モルと4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モ
ルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,
1′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルと
プルプロガリン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−(N−ジヒドロアピエチル)−スルホン
アミドなどの1,2−キノンジアジド化合物等を例示す
ることができる。又、特公昭37−1953号、同37
−3627号、同37−13109号、同40−261
26号、同40−3801号、同45−5604号、同
45−27345号、同51−13013号、特開昭4
8−96575号、同48−63802号、同48−6
3803号各公報に記載された1,2−キノンジアジド
化合物をも挙げることができる。
【0030】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドとピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンを反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物
の感光性組成物中に占める割合は、5〜60重量%が好
ましく、特に好ましくは、10〜50重量%である。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドとピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンを反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物
の感光性組成物中に占める割合は、5〜60重量%が好
ましく、特に好ましくは、10〜50重量%である。
【0031】
【実施例】以下に本発明を実施例および比較例により更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えないか
ぎりこれらの実施例および比較例に限定されるものでは
ない。
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えないか
ぎりこれらの実施例および比較例に限定されるものでは
ない。
【0032】〔実施例1〕厚さ0.3mmのアルミニウ
ム板(材質1050)を5%苛性ソーダ水溶液中で65
℃で1分間脱脂処理を行った後、水洗し、10%硫酸水
溶液中で25℃、1分間浸漬し、中和した後水洗した。
このアルミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中25
℃で交流電流密度100A/dm2 で60秒間電解粗面
化を行った後、5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10
秒間のデスマット処理を行った。その後20%硫酸溶液
中で温度20℃、電気密度3A/dm2 、処理期間1分
の条件で陽極酸化を行い、水洗した。次いで、1重量%
亜硝酸ナトリウム水溶液中において80℃で30秒間浸
漬を行い、続いて1重量%ケイ酸ナトリウム水溶液中に
おいて85℃で30秒間浸漬を行い水洗し、さらに85
℃の熱水に30秒間浸漬し、80℃で5分間乾燥を行っ
た。上記支持体に下記組成の感光性組成物塗布液をホア
ラーにより塗布し、90℃で1分間乾燥した。塗布膜厚
は1.6g/m2 であった。
ム板(材質1050)を5%苛性ソーダ水溶液中で65
℃で1分間脱脂処理を行った後、水洗し、10%硫酸水
溶液中で25℃、1分間浸漬し、中和した後水洗した。
このアルミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中25
℃で交流電流密度100A/dm2 で60秒間電解粗面
化を行った後、5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10
秒間のデスマット処理を行った。その後20%硫酸溶液
中で温度20℃、電気密度3A/dm2 、処理期間1分
の条件で陽極酸化を行い、水洗した。次いで、1重量%
亜硝酸ナトリウム水溶液中において80℃で30秒間浸
漬を行い、続いて1重量%ケイ酸ナトリウム水溶液中に
おいて85℃で30秒間浸漬を行い水洗し、さらに85
℃の熱水に30秒間浸漬し、80℃で5分間乾燥を行っ
た。上記支持体に下記組成の感光性組成物塗布液をホア
ラーにより塗布し、90℃で1分間乾燥した。塗布膜厚
は1.6g/m2 であった。
【0033】
【表1】 共重合体(p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド/アク リルニトリル/エチルアクルレート/メタクリル酸=10 /30/60、Mw=6000) 5.0g ジアゾ樹脂(下記に示す) 0.5g
【0034】
【化1】 ジュリマーAC−10L(日本純薬(株)製) 0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.1g メチルセロソルブ 100.0ml
【0035】得られた感光性平版印刷版を、2kwメタ
ルハライドランプを使用して8mW/cm2 で60秒間
露光した。その後、現像液SDN−21(コニカ(株)
製)の4倍希釈液を用い、現像時間20秒、現像温度2
7℃で現像処理し、下記に示す方法で評価した。評価結
果を表−1に示す。
ルハライドランプを使用して8mW/cm2 で60秒間
露光した。その後、現像液SDN−21(コニカ(株)
製)の4倍希釈液を用い、現像時間20秒、現像温度2
7℃で現像処理し、下記に示す方法で評価した。評価結
果を表−1に示す。
【0036】評価方法 ジアゾ残り 前述の露光現像条件により得られた、平版印刷版の非画
像部の反射濃度を反射濃度計(コニカ(株)製、PDA
−65)でブルーフィルター(436nmを干渉するフ
ィルター)にて測定した。(測定値をD1とする。)ま
た非画像部を再露光し、再びブルーフィルターにて測定
した。(測定値をD2とする)ジアゾ残りΔDをD1−
D2で表わす。
像部の反射濃度を反射濃度計(コニカ(株)製、PDA
−65)でブルーフィルター(436nmを干渉するフ
ィルター)にて測定した。(測定値をD1とする。)ま
た非画像部を再露光し、再びブルーフィルターにて測定
した。(測定値をD2とする)ジアゾ残りΔDをD1−
D2で表わす。
【0037】
【表2】ΔD:0〜0.04 目視で全く見えない 0.05以上 目視でジアゾ残りが見え、印刷時に支障
が起こる
が起こる
【0038】現像性 現像液としてSDN−21の10倍希釈液を用いた以外
は、前述の露光現像条件と同様にして、現像処理を行っ
た。現像後、非画像部にメチルセルソルブを20μl滴
下した。
は、前述の露光現像条件と同様にして、現像処理を行っ
た。現像後、非画像部にメチルセルソルブを20μl滴
下した。
【0039】
【表3】○:滴下の後が全く残らない △:滴下の後がうっすらと残る ×:滴下の後がハッキリと残る
【0040】残膜による汚れテスト 前記露光現像条件により得られた、平版印刷版の非画像
部を消去液(SIR−22、コニカ(株)製)により改
めて消去した。その消去跡がインキで汚れるか否かを現
像インク(SPO−1コニカ(株)製)盛りをして確認
した。
部を消去液(SIR−22、コニカ(株)製)により改
めて消去した。その消去跡がインキで汚れるか否かを現
像インク(SPO−1コニカ(株)製)盛りをして確認
した。
【0041】
【表4】○:良好 △:消去後が現れる(インキは着肉しないが、残膜が目
視で明らかに確認できる。) ×:汚れる(インキが着肉する)
視で明らかに確認できる。) ×:汚れる(インキが着肉する)
【0042】耐処理薬品性 前記露光現像条件により得られた平版印刷版を印刷時に
使用するプレートクリーナー(UPC ABCケミカル
社製)に一定時間浸漬し、その時の版上の非画像部の状
況を評価した。
使用するプレートクリーナー(UPC ABCケミカル
社製)に一定時間浸漬し、その時の版上の非画像部の状
況を評価した。
【0043】
【表5】○:変化なし △:非画像部表面が浸食される ×:非画像部の陽極酸化層が剥がれる
【0044】版トレ 前記露光条件にて、0.5%の小点のチャートを焼き付
けて露光したのち、SDN−21の4倍希釈液に浸しな
がら、磨耗機(大栄化学精器製作所(株)製)にて、ア
ーム自重だけの加圧により50回擦り、小点の状況を評
価した。
けて露光したのち、SDN−21の4倍希釈液に浸しな
がら、磨耗機(大栄化学精器製作所(株)製)にて、ア
ーム自重だけの加圧により50回擦り、小点の状況を評
価した。
【0045】
【表6】○:フィルムの小点が100%再現している △:フィルムの小点が50〜99%再現している ×:フィルムの小点が49%以下しか再現していない
【0046】〔実施例2〕1重量%亜硝酸ナトリウム水
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸カリウム水溶液を用い
た以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作
製、評価し、結果を表−1に示した。
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸カリウム水溶液を用い
た以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作
製、評価し、結果を表−1に示した。
【0047】〔実施例3〕1重量%亜硝酸ナトリウム水
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸カルシウム水溶液を用
いた以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を
作製、評価し、結果を表−1に示した。
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸カルシウム水溶液を用
いた以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を
作製、評価し、結果を表−1に示した。
【0048】〔実施例4〕1重量%亜硝酸ナトリウム水
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸ニッケル水溶液を用い
た以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作
製、評価し、結果を表−1に示した。
溶液の代わりに、1重量%亜硝酸ニッケル水溶液を用い
た以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作
製、評価し、結果を表−1に示した。
【0049】〔比較例1〕陽極酸化したアルミニウム板
を亜硝酸ナトリウム水溶液で処理した後、ケイ酸ソーダ
で処理をせず水洗し、その後85℃の熱水に30秒間浸
漬した以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版
を作製、評価し、結果を表−1に示した。
を亜硝酸ナトリウム水溶液で処理した後、ケイ酸ソーダ
で処理をせず水洗し、その後85℃の熱水に30秒間浸
漬した以外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版
を作製、評価し、結果を表−1に示した。
【0050】〔比較例2〕陽極酸化したアルミニウム板
を亜硝酸ナトリウム水溶液での処理を行わず、1重量%
ケイ酸ソーダ水溶液中において85℃で30秒間浸漬を
行い水洗し、その後85℃の熱水に30秒間浸漬した以
外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作製、
評価し、結果を表−1に示した。
を亜硝酸ナトリウム水溶液での処理を行わず、1重量%
ケイ酸ソーダ水溶液中において85℃で30秒間浸漬を
行い水洗し、その後85℃の熱水に30秒間浸漬した以
外は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作製、
評価し、結果を表−1に示した。
【0051】〔比較例3〕陽極酸化したアルミニウム板
を1%硫酸ナトリウム水溶液中において80℃で30秒
間浸漬を行い、続いて1重量%ケイ酸ソーダ水溶液中に
おいて85℃で30秒間浸漬を行って水洗し、その後8
5℃の熱水に30秒間浸漬した以外は、実施例1と同様
にして感光性平版印刷版を作製、評価し、結果を表−1
に示した。
を1%硫酸ナトリウム水溶液中において80℃で30秒
間浸漬を行い、続いて1重量%ケイ酸ソーダ水溶液中に
おいて85℃で30秒間浸漬を行って水洗し、その後8
5℃の熱水に30秒間浸漬した以外は、実施例1と同様
にして感光性平版印刷版を作製、評価し、結果を表−1
に示した。
【0052】
【表7】
【0053】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版の製造方法に
よれば、現像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に
優れた感光性平版印刷版を製造することができる。
よれば、現像性、保水性、耐薬品性および耐刷性が共に
優れた感光性平版印刷版を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土谷 達格 茨城県鹿島郡波崎町砂山14番地 三菱化成 株式会社鹿島工場内 (72)発明者 富田 康二 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 中井 英之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 陽極酸化された支持体を(a)亜硝酸塩
水溶液、(b)ケイ酸金属塩水溶液、(c)熱水でこの
順に処理した後、感光性組成物を塗布することを特徴と
する感光性平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34065792A JPH06183167A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34065792A JPH06183167A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06183167A true JPH06183167A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18339074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34065792A Pending JPH06183167A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06183167A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009078366A (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP34065792A patent/JPH06183167A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009078366A (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びその製造方法 |
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