JPH0618080B2 - 磁気記憶体 - Google Patents
磁気記憶体Info
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- JPH0618080B2 JPH0618080B2 JP59219871A JP21987184A JPH0618080B2 JP H0618080 B2 JPH0618080 B2 JP H0618080B2 JP 59219871 A JP59219871 A JP 59219871A JP 21987184 A JP21987184 A JP 21987184A JP H0618080 B2 JPH0618080 B2 JP H0618080B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気的記憶装置（磁気ディスク装置または磁気
ドラム装置など）に用いられる磁気記憶体およびその製
造方法に関する。
ドラム装置など）に用いられる磁気記憶体およびその製
造方法に関する。
（従来技術とその問題点） 一般に記録再生磁気ヘッド（以下ヘッドと呼ぶ）と磁気
記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法に
は次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッド
と磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記憶
体に所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記憶体
面との間に空気層分の空間を作り、この状態で記録再生
をする方法である（コンタクト・スタート・ストップ方
式。以下ＣＳＳ方式と呼ぶ）。この方法では操作終了時
に磁気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶
体面は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法に
は次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッド
と磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記憶
体に所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記憶体
面との間に空気層分の空間を作り、この状態で記録再生
をする方法である（コンタクト・スタート・ストップ方
式。以下ＣＳＳ方式と呼ぶ）。この方法では操作終了時
に磁気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶
体面は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
これらの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体の間
に生じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
に生じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
さらに長時間のヘッドと磁気記憶体とは接触により互い
に吸着し、離れにくくなる。
に吸着し、離れにくくなる。
またディスクの回転により表面に被覆した潤滑剤が飛び
散ることもある。
散ることもある。
この傷の発生及び吸着及び回転による飛び散りを防ぐた
めに特開昭52-49805に代表される様なパーフロロアルキ
ルポリエーテルを始め、種々の潤滑剤が検討されてきた
がいずれもＣＳＳにより除々に潤滑層が除去され多数回
のＣＳＳの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を防
ぐことができなかった。また除去された潤滑剤が接触摺
動面に厚く局在し、ヘッドとの吸着を生じるという欠点
もあった。
めに特開昭52-49805に代表される様なパーフロロアルキ
ルポリエーテルを始め、種々の潤滑剤が検討されてきた
がいずれもＣＳＳにより除々に潤滑層が除去され多数回
のＣＳＳの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を防
ぐことができなかった。また除去された潤滑剤が接触摺
動面に厚く局在し、ヘッドとの吸着を生じるという欠点
もあった。
（発明の目的） 本発明の目的は潤滑特性に優れかつ、ヘッド吸着が少な
くしかも磁気記憶体表面との密着性の良い（すなわちヘ
ッドの浮陽特性を悪化させない）またディスクの回転に
より飛び散りにくい潤滑剤を有する磁気記憶体を提供す
ることにある。
くしかも磁気記憶体表面との密着性の良い（すなわちヘ
ッドの浮陽特性を悪化させない）またディスクの回転に
より飛び散りにくい潤滑剤を有する磁気記憶体を提供す
ることにある。
（発明の構成） すなわち本発明の磁気記憶体は鏡面を有する下地体の上
に磁性媒体が被覆され、該媒体上に直接または保護膜を
介して低粘度と高粘度の潤滑剤の混合物被覆されてなる
構造を有することを特徴としている。
に磁性媒体が被覆され、該媒体上に直接または保護膜を
介して低粘度と高粘度の潤滑剤の混合物被覆されてなる
構造を有することを特徴としている。
（構成の詳細な説明） 次に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の磁気記憶体の部分断面図で、下地体１
はアルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎｉ−Ｐメッ
キ膜、Ｃｒ，ＦｅＮｉ，ＭｏまたはＷ等を被覆のアルミ
合金、又はポリエステル、ポリイミド、ボリアミドイミ
ド、ポリサルフォン、芳香族ポリエーテルなどのプラス
チック、又はＣｒ，ＦｅＮｉ，Ｍｏ、Ｗなどの金属、又
はガラス板である。次にこの下地体１の上に磁性媒体２
としてFe3O4，γ−Fe2O3などの鉄酸化物又はＣｏ−Ｎ
ｉ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍ
ｎ−Ｐ，Ｃｏ−Ｒｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ，Ｃｏ−Ｖ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ，Ｃｏ−
Ｐｔ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｐｔ−Ｖ，Ｃｏ−Ｒｈ，Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｍｏ又はＣｏ−Ｓｍなどの金属又は合金を被覆する。
さらに該磁性媒体２の上に低粘度の液体潤滑剤と高粘度
の液体潤滑剤の混合物からなる潤滑層４が被覆されてい
る。
はアルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎｉ−Ｐメッ
キ膜、Ｃｒ，ＦｅＮｉ，ＭｏまたはＷ等を被覆のアルミ
合金、又はポリエステル、ポリイミド、ボリアミドイミ
ド、ポリサルフォン、芳香族ポリエーテルなどのプラス
チック、又はＣｒ，ＦｅＮｉ，Ｍｏ、Ｗなどの金属、又
はガラス板である。次にこの下地体１の上に磁性媒体２
としてFe3O4，γ−Fe2O3などの鉄酸化物又はＣｏ−Ｎ
ｉ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍ
ｎ−Ｐ，Ｃｏ−Ｒｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ，Ｃｏ−Ｖ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ，Ｃｏ−
Ｐｔ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｐｔ−Ｖ，Ｃｏ−Ｒｈ，Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｍｏ又はＣｏ−Ｓｍなどの金属又は合金を被覆する。
さらに該磁性媒体２の上に低粘度の液体潤滑剤と高粘度
の液体潤滑剤の混合物からなる潤滑層４が被覆されてい
る。
前記ヘッドとディスク間に働く吸着力は第３図に示す様
に液体潤滑剤の粘度の増大と共に上昇しまたディスクの
3600rpmの回転時における潤滑剤の飛び散り量は粘度の
増大と共に減少する。ここで相対飛び散り量Ｒは（3600
rpm，100時間後の膜厚）／（初期膜厚）のように表現さ
れ、相対吸着力Ｆ＝（２４時間放置後の摩擦力）／（初
期摩擦力）と表現される。この場合吸着力と飛び散り量
を共に最小にするには第３図における適当な粘度（この
場合200CSt）の潤滑剤を用いる必要がある。
に液体潤滑剤の粘度の増大と共に上昇しまたディスクの
3600rpmの回転時における潤滑剤の飛び散り量は粘度の
増大と共に減少する。ここで相対飛び散り量Ｒは（3600
rpm，100時間後の膜厚）／（初期膜厚）のように表現さ
れ、相対吸着力Ｆ＝（２４時間放置後の摩擦力）／（初
期摩擦力）と表現される。この場合吸着力と飛び散り量
を共に最小にするには第３図における適当な粘度（この
場合200CSt）の潤滑剤を用いる必要がある。
本発明の低粘度と高粘度の液体潤滑剤の混合物は前記の
吸着力と飛び散り量をさらに小さくすることが出来る。
この理由は低粘度と高粘度の液体潤滑剤の混合液中では
各潤滑剤分子が独立に存在せず互いに相互作用を有して
いる為にこの様な相乗効果が現われたものと思われる。
吸着力と飛び散り量をさらに小さくすることが出来る。
この理由は低粘度と高粘度の液体潤滑剤の混合液中では
各潤滑剤分子が独立に存在せず互いに相互作用を有して
いる為にこの様な相乗効果が現われたものと思われる。
これは後述の発明の効果で述べる様に低粘度と高粘度の
液体潤滑剤を相互作用のない様に積層したものはこの相
乗効果が見られないことからも明らかである。低粘度と
高粘度の液体潤滑剤のそれぞれの粘度は第３図から前者
が200CSt（動粘度（センチストークス））未満が望まし
く、後者で200CSt以上が望ましい。また第４図に示す様
に低粘度液体潤滑剤(A)の平均粘度ａと高粘度液体潤
滑剤(B)の平均粘度ｂの差△ηは低粘度液体潤滑剤(A)
と高粘度液体潤滑剤(B)のそれぞれの粘度分布の標準偏
差値（σａとσｂ）の和以上に離れていることが望まし
い。
液体潤滑剤を相互作用のない様に積層したものはこの相
乗効果が見られないことからも明らかである。低粘度と
高粘度の液体潤滑剤のそれぞれの粘度は第３図から前者
が200CSt（動粘度（センチストークス））未満が望まし
く、後者で200CSt以上が望ましい。また第４図に示す様
に低粘度液体潤滑剤(A)の平均粘度ａと高粘度液体潤
滑剤(B)の平均粘度ｂの差△ηは低粘度液体潤滑剤(A)
と高粘度液体潤滑剤(B)のそれぞれの粘度分布の標準偏
差値（σａとσｂ）の和以上に離れていることが望まし
い。
本発明で用いられる低粘度及び高粘度の液体潤滑剤の１
例としてはパーフロロアルキルポリエーテル、官能基を
有するパーフロロアルキルポリエーテル、シリコーンオ
イル、官能基を有するシリコーンオイル、ポリ３ふっ化
１塩化エチレン、ポリアルキレングリコール、ポリオキ
シエチレン、ネオペンチルポリオールエステル、ポリフ
ェニルエーテル、パーフロロアルキル、フロロシリコー
ンオイルなどがある。
例としてはパーフロロアルキルポリエーテル、官能基を
有するパーフロロアルキルポリエーテル、シリコーンオ
イル、官能基を有するシリコーンオイル、ポリ３ふっ化
１塩化エチレン、ポリアルキレングリコール、ポリオキ
シエチレン、ネオペンチルポリオールエステル、ポリフ
ェニルエーテル、パーフロロアルキル、フロロシリコー
ンオイルなどがある。
第２図は、本発明の別の磁気記憶体の部分断面図であ
る。第２図において、下地体１，および磁性媒体２，お
よび潤滑層４は第１図と同じであるが磁性媒体２と前記
潤滑層４の間に保護膜が被覆されている。該保護膜３は
ＳｉＯ２，Ｓｉ３Ｎ４，ＳｉＣ又はケイ酸重合物などの
ケイ素化合物またはＣｏＯ，Ｃｏ３Ｏ４，Ｃｏ２Ｏ３，
ａ−Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３，ＣｒＯ３，ＴｉＯ２，又
はＺｒＯ２などの金属酸化物またはＴｉＮ，ＺｒＮ，Ｃ
ｒＮ又はＴａＮなどの金属窒化物またはＴｉＣ，Ｚｒ
Ｃ，ＣｒＣ又はＴａＣなどの金属炭化物またはＷ，Ｃ
ｒ，Ｉｒ，ＮｉＰ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｏｓまた
はＴａ又はそれらの合金などの金属又は合金が用いられ
る。いずれも前記潤滑層４と良く反応し、強固に該潤滑
層４を保持することが出来る。特にニッケル酸化物また
はコバルト酸化物またはＳｉＯ２はその効果が著るし
い。
る。第２図において、下地体１，および磁性媒体２，お
よび潤滑層４は第１図と同じであるが磁性媒体２と前記
潤滑層４の間に保護膜が被覆されている。該保護膜３は
ＳｉＯ２，Ｓｉ３Ｎ４，ＳｉＣ又はケイ酸重合物などの
ケイ素化合物またはＣｏＯ，Ｃｏ３Ｏ４，Ｃｏ２Ｏ３，
ａ−Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３，ＣｒＯ３，ＴｉＯ２，又
はＺｒＯ２などの金属酸化物またはＴｉＮ，ＺｒＮ，Ｃ
ｒＮ又はＴａＮなどの金属窒化物またはＴｉＣ，Ｚｒ
Ｃ，ＣｒＣ又はＴａＣなどの金属炭化物またはＷ，Ｃ
ｒ，Ｉｒ，ＮｉＰ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｏｓまた
はＴａ又はそれらの合金などの金属又は合金が用いられ
る。いずれも前記潤滑層４と良く反応し、強固に該潤滑
層４を保持することが出来る。特にニッケル酸化物また
はコバルト酸化物またはＳｉＯ２はその効果が著るし
い。
なお前記潤滑層４を被覆後、100〜300℃で焼成しても良
い。
い。
次に実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例１ ニッケル−燐めっき膜が被覆され表面祖さ0.02μｍに鏡
面仕上げされた下地体１の上に磁性媒体２としてコバル
ト−ニッケル−燐合金を0.05μｍの厚さにめっきした。
次にこの磁性媒体２の上に保護膜３として特開昭52-208
04号公報に示された様なポリ珪酸（珪酸重合物）を回転
塗布法により被覆する。次にこの保護膜３の上に潤滑層
４として粘度２ＣＳｔと5000CStの低粘度と高粘度のポ
リジメチルシロキサン（シリコーンオイル）の１対１混
合物の０．１重量％ベンゼン溶液を回転塗布法により被
覆して、磁気ディスクを作った。
面仕上げされた下地体１の上に磁性媒体２としてコバル
ト−ニッケル−燐合金を0.05μｍの厚さにめっきした。
次にこの磁性媒体２の上に保護膜３として特開昭52-208
04号公報に示された様なポリ珪酸（珪酸重合物）を回転
塗布法により被覆する。次にこの保護膜３の上に潤滑層
４として粘度２ＣＳｔと5000CStの低粘度と高粘度のポ
リジメチルシロキサン（シリコーンオイル）の１対１混
合物の０．１重量％ベンゼン溶液を回転塗布法により被
覆して、磁気ディスクを作った。
この磁気ディスクを後述の評価法により評価したとこ
ろ、優れた特性を有することが確認された。
ろ、優れた特性を有することが確認された。
実施例２ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度50CStと5
00CStの低粘度と高粘度のポリジメチルシロキサン（シ
リコーンオイル）の１対１混合物を用いて磁気ディスク
を作った。
00CStの低粘度と高粘度のポリジメチルシロキサン（シ
リコーンオイル）の１対１混合物を用いて磁気ディスク
を作った。
実施例３ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として下記の構造の
パーフロロアルキルポリエーテルを用いて磁気ディスク
を作った。
パーフロロアルキルポリエーテルを用いて磁気ディスク
を作った。
粘度0.5CStと250万CStの低粘度と高粘度のポリジメチル
シロキサン（シリコーンオイル）の１０対１混合物を用
いて磁気ディスクを作った。
シロキサン（シリコーンオイル）の１０対１混合物を用
いて磁気ディスクを作った。
実施例４ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度50CStと1
0万CStの低粘度と高粘度のポリジメチルシロキサン（シ
リコーンオイル）の１対１混合物を用いて磁気ディスク
を作った。
0万CStの低粘度と高粘度のポリジメチルシロキサン（シ
リコーンオイル）の１対１混合物を用いて磁気ディスク
を作った。
実施例５ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度18CStと4
95CStの低粘度と高粘度のパーフロロアルキルポリエー
テルの１対１混合物の０．１重量％トリクロルトリフル
オロエタン（フレオン）溶液を回転塗布法により被覆し
て、磁気ディスクを作った。
95CStの低粘度と高粘度のパーフロロアルキルポリエー
テルの１対１混合物の０．１重量％トリクロルトリフル
オロエタン（フレオン）溶液を回転塗布法により被覆し
て、磁気ディスクを作った。
実施例６ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度30CStと2
50CStの低粘度と高粘度のパーフロロアルキルポリエー
テルの１対１混合物の０．１重量％トリクロルトリフル
オロエタン（フレオン）溶液を回転塗布法により被覆し
て磁気ディスクを作った。
50CStの低粘度と高粘度のパーフロロアルキルポリエー
テルの１対１混合物の０．１重量％トリクロルトリフル
オロエタン（フレオン）溶液を回転塗布法により被覆し
て磁気ディスクを作った。
実施例７ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度20CStと2
10CStの低粘度と高粘度のネオペンチルポリオール脂肪
酸エステルの１対２混合物の０．１重量％トルエン溶液
を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作った。
10CStの低粘度と高粘度のネオペンチルポリオール脂肪
酸エステルの１対２混合物の０．１重量％トルエン溶液
を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作った。
実施例８ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度5CStと15
00CStの低粘度と高粘度のポリ３ふっ化１塩化エチレン
の１対１混合物の０．１重量％フレオン溶液を回転塗布
法により被覆して磁気ディスクを作った。
00CStの低粘度と高粘度のポリ３ふっ化１塩化エチレン
の１対１混合物の０．１重量％フレオン溶液を回転塗布
法により被覆して磁気ディスクを作った。
実施例９ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度100CStと
10000CStの低粘度と高粘度のフッ素変性ポリシロキサン
（フロロシリコーン）の１対１混合物の０．１重量％ト
ルエン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを
作った。
10000CStの低粘度と高粘度のフッ素変性ポリシロキサン
（フロロシリコーン）の１対１混合物の０．１重量％ト
ルエン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを
作った。
実施例１０ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度15CStの
低粘度のパーフロロアルキルポリエーテルのメチルジェ
ステルと粘度200CStの高粘度のパーフロロアルキルポリ
エーテルの１対１混合物の０．１重量％フレオン溶液を
回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作った。
低粘度のパーフロロアルキルポリエーテルのメチルジェ
ステルと粘度200CStの高粘度のパーフロロアルキルポリ
エーテルの１対１混合物の０．１重量％フレオン溶液を
回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作った。
実施例１１ 実施例１と同様にして但し潤滑層４として粘度10CStの
低粘度のポリオキシエチレンと粘度500CStの高粘度のポ
リフェニルエーテルの１対１混合物の０．１重量％トル
エン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作
った。
低粘度のポリオキシエチレンと粘度500CStの高粘度のポ
リフェニルエーテルの１対１混合物の０．１重量％トル
エン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作
った。
実施例１２ 実施例１と同様にして但し保護膜３としてＮｉＰを500
Åめっきし、後280℃で焼成して表面にＮｉＯを形成さ
せて磁気ディスクを作った。
Åめっきし、後280℃で焼成して表面にＮｉＯを形成さ
せて磁気ディスクを作った。
実施例１３ 実施例１と同様にして但し保護膜３としてＳｉＯ２を20
0Åスパッタリングにより被覆して磁気ディスクを作っ
た。
0Åスパッタリングにより被覆して磁気ディスクを作っ
た。
実施例１４ 実施例１と同様にして但し磁性媒体２としてＣｏＣｒ合
金をスパッタリング法により被覆しその上に保護膜３を
設けずに潤滑層４として実施例１と同様の潤滑層を被覆
して磁気ディスクを作った。
金をスパッタリング法により被覆しその上に保護膜３を
設けずに潤滑層４として実施例１と同様の潤滑層を被覆
して磁気ディスクを作った。
実施例１５ 実施例１４と同様にして但し磁性媒体２としてγ−Fe2O
3をスパッタリング法により被覆して磁気ディスクを作
った。
3をスパッタリング法により被覆して磁気ディスクを作
った。
実施例１６ 実施例１と同様にして但し２ＣＳｔの低粘度のポリジメ
チルシロキサンと400CStの高粘度のポリジメチルシロキ
サンの１対１混合物平均粘度約200CStの０．１重量％ベ
ンゼン溶液を回転塗布法により被覆して、磁気ディスク
を作った。
チルシロキサンと400CStの高粘度のポリジメチルシロキ
サンの１対１混合物平均粘度約200CStの０．１重量％ベ
ンゼン溶液を回転塗布法により被覆して、磁気ディスク
を作った。
比較例１ 実施例１と同様にして但し粘度２ＣＳｔの低粘度ポリジ
メチルシロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量％
ベンゼン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスク
を作った。
メチルシロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量％
ベンゼン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスク
を作った。
比較例２ 実施例１と同様にして但し粘度5000CStの高粘度のポリ
ジメチルシロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量
％ベンゼン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディス
クを作った。
ジメチルシロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量
％ベンゼン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディス
クを作った。
比較例３ 実施例１と同様にして但し、粘度200CStのポリジメチル
シロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量％ベンゼ
ン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作っ
た。
シロキサン（シリコーンオイル）の０．１重量％ベンゼ
ン溶液を回転塗布法により被覆して磁気ディスクを作っ
た。
比較例４ 実施例１と同様にして但し粘度2CStの低粘度のポリジメ
チルシロキサン（シリコーンオイル）の上に400CStの高
粘度ポリジメチルシロキサンを重ねて塗布し磁気ディス
クを作った。
チルシロキサン（シリコーンオイル）の上に400CStの高
粘度ポリジメチルシロキサンを重ねて塗布し磁気ディス
クを作った。
比較例５ 実施例１と同様にして但し粘度400CStの高粘度のポリジ
メチルシロキサンの上に粘度2CStの低粘度のポリジメチ
ルシロキサンを重ねて塗布し磁気ディスクを作った。
メチルシロキサンの上に粘度2CStの低粘度のポリジメチ
ルシロキサンを重ねて塗布し磁気ディスクを作った。
実施例及び比較例で示した磁気ディスクを用いて荷重１
５ｇのＡｌ２Ｏ３・ＴｉＣ製コアを有するヘッドスライ
ダを用いて多数回のコンタクト・スタート・ストップ
（ＣＳＳ）を繰り返し摩耗試験と、ヘッド吸着の始まる
臨界膜厚および初期膜厚に対する3600rpmで100時間回転
させたときの磁気ディスク上の潤滑層厚の比（相対飛び
散り量(%)）および初期摩擦力に対する２４時間ヘッド
とディスクを接触処置した後の摩擦力の比（相対吸着
力）を測定し次表の結果を得た。
５ｇのＡｌ２Ｏ３・ＴｉＣ製コアを有するヘッドスライ
ダを用いて多数回のコンタクト・スタート・ストップ
（ＣＳＳ）を繰り返し摩耗試験と、ヘッド吸着の始まる
臨界膜厚および初期膜厚に対する3600rpmで100時間回転
させたときの磁気ディスク上の潤滑層厚の比（相対飛び
散り量(%)）および初期摩擦力に対する２４時間ヘッド
とディスクを接触処置した後の摩擦力の比（相対吸着
力）を測定し次表の結果を得た。
上表の結果より比較例１，２，３の単一粘度の潤滑剤お
よび比較例４，５の低粘度と高粘度の積層潤滑剤に比べ
実施例１〜１６の高粘度と低粘度の混合潤滑剤の耐久性
及び吸着特性、回転飛び散り率が格段に向上することが
分った。
よび比較例４，５の低粘度と高粘度の積層潤滑剤に比べ
実施例１〜１６の高粘度と低粘度の混合潤滑剤の耐久性
及び吸着特性、回転飛び散り率が格段に向上することが
分った。
実施例１４，１５は保護膜を有しない為、他の実施例よ
り耐久性は悪いが比較例よりは優れた耐久性を有してい
る。また臨界膜厚についても比較例１，２，３の単一粘
度の潤滑剤および比較例４，５の高粘度と低粘度の積層
潤滑剤は極くわずかの膜厚でもヘッド吸着が始まるが、
実施例１〜１６の高粘度と低粘度の混合潤滑剤は１１０
〜３００Åとより厚い膜厚までヘッド吸着を生じず、大
きなマージンを有していることが分った。さらに潤滑層
厚の減少率も比較例の単一粘度の潤滑剤に比べ高粘度と
低粘度の混合潤滑剤は減少率が小さいことが分る。
り耐久性は悪いが比較例よりは優れた耐久性を有してい
る。また臨界膜厚についても比較例１，２，３の単一粘
度の潤滑剤および比較例４，５の高粘度と低粘度の積層
潤滑剤は極くわずかの膜厚でもヘッド吸着が始まるが、
実施例１〜１６の高粘度と低粘度の混合潤滑剤は１１０
〜３００Åとより厚い膜厚までヘッド吸着を生じず、大
きなマージンを有していることが分った。さらに潤滑層
厚の減少率も比較例の単一粘度の潤滑剤に比べ高粘度と
低粘度の混合潤滑剤は減少率が小さいことが分る。
以上の様に低粘度と高粘度の混合潤滑剤は耐久性に優
れ、またヘッド吸着を生じにくく、またディスクの回転
による潤滑層厚の減少が少なく磁気ディスク装置の信頼
性を飛躍的に向上出来ることが分った。
れ、またヘッド吸着を生じにくく、またディスクの回転
による潤滑層厚の減少が少なく磁気ディスク装置の信頼
性を飛躍的に向上出来ることが分った。
なお本発明の実施例では磁気ディスクについて述べたが
フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本発
明が有効であることは明らかである。
フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本発
明が有効であることは明らかである。
第１図及び第２図は本発明を示す部分断面図である。 １…下地体、２…磁性媒体、３…保護膜、４…潤滑層、 第３図は潤滑剤の動粘度に対する相対飛び散り量と相対
吸着力の関係を示す図である。 第４図は低粘度と高粘度の潤滑剤の粘度分布を示す図で
ある。
吸着力の関係を示す図である。 第４図は低粘度と高粘度の潤滑剤の粘度分布を示す図で
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】下地体の上に磁性媒体が被覆され、さらに
該媒体上に直接または保護膜を介して低粘度と高粘度の
潤滑剤の混合物が被覆されてなる構造を有することを特
徴とする磁気記憶体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219871A JPH0618080B2 (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219871A JPH0618080B2 (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199926A JPS6199926A (ja) | 1986-05-19 |
| JPH0618080B2 true JPH0618080B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=16742361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219871A Expired - Lifetime JPH0618080B2 (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0618080B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0334121A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-14 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH04168621A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Hitachi Ltd | 潤滑組成物およびそれを用いた電子部品 |
| JP4943972B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2012-05-30 | 昭和電工株式会社 | 記憶媒体、及び記憶装置 |
| JP5445947B2 (ja) * | 2007-11-19 | 2014-03-19 | 株式会社Ｍｏｒｅｓｃｏ | 潤滑剤並びに磁気ディスク |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593533A (en) * | 1978-12-13 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57150137A (en) * | 1981-03-10 | 1982-09-16 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS58105431A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58220244A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS59107428A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | Seiko Epson Corp | 磁気記録媒体の潤滑層形成法 |
| JPS59116931A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-06 | Seiko Epson Corp | 磁気記録媒体の潤滑層形成法 |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59219871A patent/JPH0618080B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6199926A (ja) | 1986-05-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |