JPH06174329A - 電子冷却装置 - Google Patents
電子冷却装置Info
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- JPH06174329A JPH06174329A JP5105526A JP10552693A JPH06174329A JP H06174329 A JPH06174329 A JP H06174329A JP 5105526 A JP5105526 A JP 5105526A JP 10552693 A JP10552693 A JP 10552693A JP H06174329 A JPH06174329 A JP H06174329A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐衝撃性に優れ、性能的に安定した信頼性の
高い電子冷却装置を提供する。 【構成】 熱良導体からなる吸熱側熱導体4ならびに放
熱側熱導体6と、多数のP型半導体層10とN型半導体
層11とを並設し、各半導体間を電極8、12で接続し
て、前記吸熱側熱導体4と放熱側熱導体6との間に介在
された電子冷却素子群5と、剛性を有し、熱伝導性が悪
く、内部に多数の独立した空気層39を形成し、前記吸
熱側熱導体4と放熱側熱導体6との間に前記電子冷却素
子群5と並列に介在された支持体20とを備え、その支
持体20の一端が前記吸熱側熱導体4に固着され、他端
が前記放熱側熱導体6に固着されたことを特徴とする
高い電子冷却装置を提供する。 【構成】 熱良導体からなる吸熱側熱導体4ならびに放
熱側熱導体6と、多数のP型半導体層10とN型半導体
層11とを並設し、各半導体間を電極8、12で接続し
て、前記吸熱側熱導体4と放熱側熱導体6との間に介在
された電子冷却素子群5と、剛性を有し、熱伝導性が悪
く、内部に多数の独立した空気層39を形成し、前記吸
熱側熱導体4と放熱側熱導体6との間に前記電子冷却素
子群5と並列に介在された支持体20とを備え、その支
持体20の一端が前記吸熱側熱導体4に固着され、他端
が前記放熱側熱導体6に固着されたことを特徴とする
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば保冷庫、エアコ
ン、除湿機、冷水機、材料や部品の冷却装置などの電子
冷却装置に係り、特に電子冷却素子を使用した電子冷却
装置に関する。
ン、除湿機、冷水機、材料や部品の冷却装置などの電子
冷却装置に係り、特に電子冷却素子を使用した電子冷却
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】熱電変換素子のうち、電気エネルギーを
投入して所定のものを冷却する素子は電子冷却素子ある
いはペルチェ素子と称され、例えばコンパクトな保冷庫
などの電子冷却装置に使用されている。
投入して所定のものを冷却する素子は電子冷却素子ある
いはペルチェ素子と称され、例えばコンパクトな保冷庫
などの電子冷却装置に使用されている。
【0003】図23ないし図25はこの種の保冷庫を説
明するためのもので、図23は保冷庫の縦断面図、図2
4はその保冷庫の均熱板上での電子冷却素子群の取付状
態を示す側面図、図25はその電子冷却素子群の拡大断
面図である。
明するためのもので、図23は保冷庫の縦断面図、図2
4はその保冷庫の均熱板上での電子冷却素子群の取付状
態を示す側面図、図25はその電子冷却素子群の拡大断
面図である。
【0004】保冷庫は図23に示すように、ウレタン樹
脂などの断熱材からなる保冷庫本体1と、同じく断熱材
からなり前記保冷庫本体1の上方開口部を開閉する蓋部
材2と、その保冷庫本体1の内側に収容されたアルミニ
ウム製の内箱3とを備えている。
脂などの断熱材からなる保冷庫本体1と、同じく断熱材
からなり前記保冷庫本体1の上方開口部を開閉する蓋部
材2と、その保冷庫本体1の内側に収容されたアルミニ
ウム製の内箱3とを備えている。
【0005】前記保冷庫本体1の側面の一部が切除され
て断面形状がほぼ台形をした吸熱体4が挿入され、その
吸熱体4の一端が前記内箱3の外側面に接触している。
この吸熱体4の外側面に1つにモジュール化された電子
冷却素子群5が取り付けられ、さらにこの電子冷却素子
群5の外側面には放熱用のフィン6が固着されており、
図示していないがこのフィン6の近傍には周囲の空気を
強制的に対流させるためのファンが設けられている。
て断面形状がほぼ台形をした吸熱体4が挿入され、その
吸熱体4の一端が前記内箱3の外側面に接触している。
この吸熱体4の外側面に1つにモジュール化された電子
冷却素子群5が取り付けられ、さらにこの電子冷却素子
群5の外側面には放熱用のフィン6が固着されており、
図示していないがこのフィン6の近傍には周囲の空気を
強制的に対流させるためのファンが設けられている。
【0006】前記電子冷却素子群5は図25に示すよう
に、アルミナなどからなり所定の広さを有する吸熱側絶
縁基板7の上に吸熱側電極8が形成され、その吸熱側電
極8の上に多数のP形半導体層10とN形半導体層11
とがそれぞれ形成されている。このP形半導体層10と
N形半導体層11の上には放熱側電極12が形成され、
さらにその上にアルミナなどからなり所定の広さを有す
る放熱側絶縁基板13が設けられている。P形半導体層
10とN形半導体層11は一対になって吸熱側絶縁基板
7と放熱側絶縁基板13との間に並列に介在されている
とともに、前記電極8,12によって電気的には直列に
接続されて電子冷却素子群5を構成している。
に、アルミナなどからなり所定の広さを有する吸熱側絶
縁基板7の上に吸熱側電極8が形成され、その吸熱側電
極8の上に多数のP形半導体層10とN形半導体層11
とがそれぞれ形成されている。このP形半導体層10と
N形半導体層11の上には放熱側電極12が形成され、
さらにその上にアルミナなどからなり所定の広さを有す
る放熱側絶縁基板13が設けられている。P形半導体層
10とN形半導体層11は一対になって吸熱側絶縁基板
7と放熱側絶縁基板13との間に並列に介在されている
とともに、前記電極8,12によって電気的には直列に
接続されて電子冷却素子群5を構成している。
【0007】この電子冷却素子群5に所定の電流を流す
ことにより、絶縁基板7側の方が吸熱され、それにより
吸熱体4を介して内箱3ならびにその内側が冷却され
る。一方、絶縁基板13側は発熱するから、前記フィン
6ならびにファンによって外部へ放熱することにより熱
移動が起こり、内箱3内が冷却される仕組みになってい
る。
ことにより、絶縁基板7側の方が吸熱され、それにより
吸熱体4を介して内箱3ならびにその内側が冷却され
る。一方、絶縁基板13側は発熱するから、前記フィン
6ならびにファンによって外部へ放熱することにより熱
移動が起こり、内箱3内が冷却される仕組みになってい
る。
【0008】この種の電子冷却装置は図23に示すよう
に、電子冷却素子群5を吸熱体4と放熱フィン6の間に
固定する手段として、 .熱絶縁ブッシュなどと組み合わせた金属製ネジで、
吸熱体4と電子冷却素子群5と放熱フィン6の三者を締
結する方法、 .吸熱体4と電子冷却素子群5の間ならびに電子冷却
素子群5と放熱フィン6の間を、それぞれ熱伝導性を有
する接着剤で接着する方法、 .弾性を有するクリップで、吸熱体4と電子冷却素子
群5と放熱フィン6の三者を挟持する方法(実公昭46
−16001号参照)などがある。
に、電子冷却素子群5を吸熱体4と放熱フィン6の間に
固定する手段として、 .熱絶縁ブッシュなどと組み合わせた金属製ネジで、
吸熱体4と電子冷却素子群5と放熱フィン6の三者を締
結する方法、 .吸熱体4と電子冷却素子群5の間ならびに電子冷却
素子群5と放熱フィン6の間を、それぞれ熱伝導性を有
する接着剤で接着する方法、 .弾性を有するクリップで、吸熱体4と電子冷却素子
群5と放熱フィン6の三者を挟持する方法(実公昭46
−16001号参照)などがある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの種の電子
冷却装置は、前記内箱3からの集熱効率を良くするため
に内箱3との接触面積は広くとられ、一方、電子冷却素
子群5はコストの点などの理由より大きさが限られるこ
とから、吸熱体4の断面形状は台形になっている。しか
もフイン6からの対流、輻射による熱流の戻りを可及的
に少なくするため、吸熱体4の高さHを高くしている。
冷却装置は、前記内箱3からの集熱効率を良くするため
に内箱3との接触面積は広くとられ、一方、電子冷却素
子群5はコストの点などの理由より大きさが限られるこ
とから、吸熱体4の断面形状は台形になっている。しか
もフイン6からの対流、輻射による熱流の戻りを可及的
に少なくするため、吸熱体4の高さHを高くしている。
【0010】そのため、吸熱体4と電子冷却素子群5の
接合面ならびに電子冷却素子群5と放熱フィン6の接合
面を前述のようにネジで締め付けたり、弾性クリップで
押圧する程度では耐衝撃性、耐振動性に乏しいく、電子
冷却素子群5の両側接合面のみを接着剤で接着する方法
では耐衝撃性、耐振動性は期待できない。
接合面ならびに電子冷却素子群5と放熱フィン6の接合
面を前述のようにネジで締め付けたり、弾性クリップで
押圧する程度では耐衝撃性、耐振動性に乏しいく、電子
冷却素子群5の両側接合面のみを接着剤で接着する方法
では耐衝撃性、耐振動性は期待できない。
【0011】周知のように半導体素子10、11は非弾
性で機械的に脆く、電極8、12と半導体素子10、1
1が局部的に半田付けされているだけであるため十分な
機械的強度を有していない。そのため、外部から強い衝
撃や振動を受けると半導体素子10、11に亀裂などの
損傷を生じ、電極8、12との密着が悪くなって、性能
劣化を生じるという欠点を有している。
性で機械的に脆く、電極8、12と半導体素子10、1
1が局部的に半田付けされているだけであるため十分な
機械的強度を有していない。そのため、外部から強い衝
撃や振動を受けると半導体素子10、11に亀裂などの
損傷を生じ、電極8、12との密着が悪くなって、性能
劣化を生じるという欠点を有している。
【0012】また電子冷却素子群5は、水分の侵入によ
る性能劣化を防止するために周囲がシール剤によって閉
塞されているが、前述のように耐衝撃性、耐振動性に弱
いと、吸熱体4とシール剤の接合面ならびにシール剤と
放熱フィン6の接合面に隙間を生じてシール効果が減退
し、水分の侵入を招来して性能劣化をきたす。
る性能劣化を防止するために周囲がシール剤によって閉
塞されているが、前述のように耐衝撃性、耐振動性に弱
いと、吸熱体4とシール剤の接合面ならびにシール剤と
放熱フィン6の接合面に隙間を生じてシール効果が減退
し、水分の侵入を招来して性能劣化をきたす。
【0013】また従来の電子冷却装置では吸熱側から放
熱側への熱の移動を考慮したときに、吸熱体4、吸熱側
絶縁基板7、吸熱側電極8、半導体層10,11、放熱
側電極12、放熱側絶縁基板13ならびに放熱フィン6
の各々の界面で熱抵抗がある。さらにそれに加えて吸熱
側絶縁基板7と放熱側絶縁基板13自体の熱抵抗によ
り、吸熱効率ならびに放熱効率が悪い。
熱側への熱の移動を考慮したときに、吸熱体4、吸熱側
絶縁基板7、吸熱側電極8、半導体層10,11、放熱
側電極12、放熱側絶縁基板13ならびに放熱フィン6
の各々の界面で熱抵抗がある。さらにそれに加えて吸熱
側絶縁基板7と放熱側絶縁基板13自体の熱抵抗によ
り、吸熱効率ならびに放熱効率が悪い。
【0014】さらにまた、アルミナセラミックなどから
なる絶縁基板7,13を使用するから、それ自体に反り
などの変形が生じ、吸熱体4、放熱フィン6、電極8,
12との密着性が悪く、その間の熱抵抗が大となる。
なる絶縁基板7,13を使用するから、それ自体に反り
などの変形が生じ、吸熱体4、放熱フィン6、電極8,
12との密着性が悪く、その間の熱抵抗が大となる。
【0015】またアルミナセラミックなどからなる絶縁
基板7,13は機械的に脆いため、欠けや亀裂を生じ、
耐衝撃性、耐振動性に乏しい。
基板7,13は機械的に脆いため、欠けや亀裂を生じ、
耐衝撃性、耐振動性に乏しい。
【0016】さらに、アルミナセラミックなどからなる
絶縁基板7,13と、吸熱体4や放熱フィン6の熱導
体、および電子冷却素子群5を構成する半導体層10,
11、電極8,12、半田層との熱膨張係数の差によ
り、電子冷却装置の使用を繰り返していると、熱歪みに
よって発生する応力により電極8,12ならびに半田層
などに疲労現象が起こる。そのため接触抵抗が大とな
り、やがては接続不良や断線などを生じて、耐用寿命を
短縮する要因となっていた。
絶縁基板7,13と、吸熱体4や放熱フィン6の熱導
体、および電子冷却素子群5を構成する半導体層10,
11、電極8,12、半田層との熱膨張係数の差によ
り、電子冷却装置の使用を繰り返していると、熱歪みに
よって発生する応力により電極8,12ならびに半田層
などに疲労現象が起こる。そのため接触抵抗が大とな
り、やがては接続不良や断線などを生じて、耐用寿命を
短縮する要因となっていた。
【0017】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、耐衝撃性に優れ、性能的に安定した信頼性
の高い電子冷却装置を提供することにある。
点を解消し、耐衝撃性に優れ、性能的に安定した信頼性
の高い電子冷却装置を提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、例えばアルミニウムや銅などの熱良導体
からなる例えば吸熱体などの吸熱側熱導体ならびに例え
ば放熱用フィンなどの放熱側熱導体と、多数のP型半導
体層とN型半導体層とを並設し、各半導体間を電極で接
続して、前記吸熱側熱導体と放熱側熱導体との間に介在
された電子冷却素子群と、剛性を有し、熱伝導性が悪
く、内部に多数の独立した空気層を形成し、前記吸熱側
熱導体と放熱側熱導体子との間に前記電子冷却素子と並
列に介在された例えばハニカム構造を有する紙、合成樹
脂、セラミックなどからなる支持体とを備え、その支持
体の一端が前記吸熱側熱導体に、他端が前記放熱側熱導
体に、例えば接着や溶着などで一体に固着されたことを
特徴とするものである。
め、本発明は、例えばアルミニウムや銅などの熱良導体
からなる例えば吸熱体などの吸熱側熱導体ならびに例え
ば放熱用フィンなどの放熱側熱導体と、多数のP型半導
体層とN型半導体層とを並設し、各半導体間を電極で接
続して、前記吸熱側熱導体と放熱側熱導体との間に介在
された電子冷却素子群と、剛性を有し、熱伝導性が悪
く、内部に多数の独立した空気層を形成し、前記吸熱側
熱導体と放熱側熱導体子との間に前記電子冷却素子と並
列に介在された例えばハニカム構造を有する紙、合成樹
脂、セラミックなどからなる支持体とを備え、その支持
体の一端が前記吸熱側熱導体に、他端が前記放熱側熱導
体に、例えば接着や溶着などで一体に固着されたことを
特徴とするものである。
【0019】
【作用】本発明は前述のように、剛性を有する支持体が
冷却素子と並列に配置され、その支持体が吸熱側熱導体
と放熱側熱導体との間において両熱導体に固着されて一
体の剛体構造になっている。そのため外部から強い衝撃
や振動が加わっても、前記一体剛体構造でそれを受ける
ことができ、電子冷却素子群の保護が図れるから、耐衝
撃性、耐振動性の向上が図れる。
冷却素子と並列に配置され、その支持体が吸熱側熱導体
と放熱側熱導体との間において両熱導体に固着されて一
体の剛体構造になっている。そのため外部から強い衝撃
や振動が加わっても、前記一体剛体構造でそれを受ける
ことができ、電子冷却素子群の保護が図れるから、耐衝
撃性、耐振動性の向上が図れる。
【0020】また、この支持体は熱伝導性が悪く、内部
に多数の独立した空気層を有しているから、放熱側熱導
体から吸熱側熱導体への熱流の戻りが有効に抑制され、
そのために優れた冷却効率を得ることができる。
に多数の独立した空気層を有しているから、放熱側熱導
体から吸熱側熱導体への熱流の戻りが有効に抑制され、
そのために優れた冷却効率を得ることができる。
【0021】このようなことから、高性能、高効率なら
びに高信頼性の電子冷却装置を提供することができる。
びに高信頼性の電子冷却装置を提供することができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の実施例を図とともに説明す
る。図1は本発明の一実施例に係る電子冷却装置を保冷
庫に装備した状態を示す要部断面図、図2はその電子冷
却装置を吸熱側から見た平面図、図3はその電子冷却素
子群の拡大断面図、図4はその電子冷却素子群の拡大斜
視図、図5は吸熱体の平面図、図6は吸熱体の断面図、
図7はアルマイト表面の状態を示す拡大断面図、図8は
アルマイト表面の封孔処理の状態を示す拡大断面図、図
9は電子冷却素子群の取り付け構造を示す一部断面図、
図10は皿ばねの拡大断面図、図11は支持体の一部斜
視図である。
る。図1は本発明の一実施例に係る電子冷却装置を保冷
庫に装備した状態を示す要部断面図、図2はその電子冷
却装置を吸熱側から見た平面図、図3はその電子冷却素
子群の拡大断面図、図4はその電子冷却素子群の拡大斜
視図、図5は吸熱体の平面図、図6は吸熱体の断面図、
図7はアルマイト表面の状態を示す拡大断面図、図8は
アルマイト表面の封孔処理の状態を示す拡大断面図、図
9は電子冷却素子群の取り付け構造を示す一部断面図、
図10は皿ばねの拡大断面図、図11は支持体の一部斜
視図である。
【0023】従来と同様に保冷庫は、ウレタン樹脂など
の断熱材からなる保冷庫本体と、同じく断熱材からなり
前記保冷庫本体の上方開口部を開閉する蓋部材と、その
保冷庫本体の内側に収容されたアルミニウム製の内箱と
を備えている。
の断熱材からなる保冷庫本体と、同じく断熱材からなり
前記保冷庫本体の上方開口部を開閉する蓋部材と、その
保冷庫本体の内側に収容されたアルミニウム製の内箱と
を備えている。
【0024】前記保冷庫本体の側面の一部が切除され
て、本発明の実施例に係る電子冷却装置が装着されてい
る。この電子冷却装置は図1に示すように、吸熱体4
と、放熱フィン6と、吸熱体4と放熱フィン6の間に介
在された電子冷却素子群5ならびに支持体20と、フア
ン19から主に構成され、同図に示すように前記吸熱体
4が内箱3の外側面にネジ止めにより密着している。
て、本発明の実施例に係る電子冷却装置が装着されてい
る。この電子冷却装置は図1に示すように、吸熱体4
と、放熱フィン6と、吸熱体4と放熱フィン6の間に介
在された電子冷却素子群5ならびに支持体20と、フア
ン19から主に構成され、同図に示すように前記吸熱体
4が内箱3の外側面にネジ止めにより密着している。
【0025】前記吸熱体4はアルミニウムからなり、内
箱3との接触面積を広くとるために両側にフランジ部2
1が設けられ、中央部に電子冷却素子群5を取り付ける
台形部22が形成されている。放熱フィン6からの対
流、輻射による熱流の戻りを可及的に少なくするため、
吸熱体4は所定の高さHを有し、前記フランジ部21と
後述する放熱フィン6のフランジ部27が離れている。
箱3との接触面積を広くとるために両側にフランジ部2
1が設けられ、中央部に電子冷却素子群5を取り付ける
台形部22が形成されている。放熱フィン6からの対
流、輻射による熱流の戻りを可及的に少なくするため、
吸熱体4は所定の高さHを有し、前記フランジ部21と
後述する放熱フィン6のフランジ部27が離れている。
【0026】図5ならびに図6に示すように、前記フラ
ンジ部21の内箱3と接触する側の面とは反対側の面に
はフランジ部21の長手方向に沿って多数のV溝状の小
溝23と、U溝状の接着剤溜め24とが形成されてい
る。
ンジ部21の内箱3と接触する側の面とは反対側の面に
はフランジ部21の長手方向に沿って多数のV溝状の小
溝23と、U溝状の接着剤溜め24とが形成されてい
る。
【0027】台形部22には、それの長手方向に沿って
3対の座ぐり25と素子取付孔26とが所定の間隔をお
いて形成されている。
3対の座ぐり25と素子取付孔26とが所定の間隔をお
いて形成されている。
【0028】図1に示すように、放熱フィン6側も十分
な放熱面積を確保するためにフランジ部27が両側に設
けられ、そのフランジ部27には多数のV溝状の小溝と
U溝状の接着剤溜とが形成されている(ともに図示せ
ず)。フランジ部27のフアン19側には多数の羽根2
9が立設されて、所定の放熱面積を有している。
な放熱面積を確保するためにフランジ部27が両側に設
けられ、そのフランジ部27には多数のV溝状の小溝と
U溝状の接着剤溜とが形成されている(ともに図示せ
ず)。フランジ部27のフアン19側には多数の羽根2
9が立設されて、所定の放熱面積を有している。
【0029】前記電子冷却素子群5は図3ならびに図4
に示すように、所定の間隔をおいて配置された吸熱側電
極8と、その上に形成された例えばバルク状あるいは膜
状(厚膜または薄膜)のP形半導体層10ならびにN形
半導体層11と、このP形半導体層10とN形半導体層
11とを接続する発熱側電極12とから構成されてい
る。多数のP形半導体層10とN形半導体層11とが並
列に配置され、電気的には図4に示すように直列に接続
されている。
に示すように、所定の間隔をおいて配置された吸熱側電
極8と、その上に形成された例えばバルク状あるいは膜
状(厚膜または薄膜)のP形半導体層10ならびにN形
半導体層11と、このP形半導体層10とN形半導体層
11とを接続する発熱側電極12とから構成されてい
る。多数のP形半導体層10とN形半導体層11とが並
列に配置され、電気的には図4に示すように直列に接続
されている。
【0030】このように本実施例では、アルミナセラミ
ック等からなる絶縁基板は使用されておらず、一方の面
に吸熱側電極8が、他方の面に放熱側電極12が露呈し
ている。
ック等からなる絶縁基板は使用されておらず、一方の面
に吸熱側電極8が、他方の面に放熱側電極12が露呈し
ている。
【0031】各電子冷却素子群5と吸熱体4との間、な
らびに各電子冷却素子群5と放熱フィン6との間には図
3に示すように、高熱伝導性のシリコーングリース層1
7が形成されている。
らびに各電子冷却素子群5と放熱フィン6との間には図
3に示すように、高熱伝導性のシリコーングリース層1
7が形成されている。
【0032】このシリコーングリース層17は、ベース
オイルに対して例えばシリカ、アルミナ、酸化亜鉛など
の無機化合物もしくは銀、銅、アルミニウムなどの金属
微粉末からなるの微細状のフイラー(平均粒径10μm
以下のもの)を50重量%以上添加したものが好適であ
る。このようにフイラーを高い含率で分散、保持したシ
リコーングリース層17の熱伝導率は6.0×10-3c
al/cm・sec・℃以上と高く、一般のシリコーン
グリースの3×10-4cal/cm・sec・℃に比較
すると、熱伝導率が1桁以上も高い。またこのシリコー
ングリース層17は、−55〜200℃までの広い温度
範囲にわたって良好な弾性と粘着性を保持している。
オイルに対して例えばシリカ、アルミナ、酸化亜鉛など
の無機化合物もしくは銀、銅、アルミニウムなどの金属
微粉末からなるの微細状のフイラー(平均粒径10μm
以下のもの)を50重量%以上添加したものが好適であ
る。このようにフイラーを高い含率で分散、保持したシ
リコーングリース層17の熱伝導率は6.0×10-3c
al/cm・sec・℃以上と高く、一般のシリコーン
グリースの3×10-4cal/cm・sec・℃に比較
すると、熱伝導率が1桁以上も高い。またこのシリコー
ングリース層17は、−55〜200℃までの広い温度
範囲にわたって良好な弾性と粘着性を保持している。
【0033】前記吸熱体4ならびに放熱フィン6の少な
くとも前記電子冷却素子群5と対向する面には、アルマ
イトからなる電気絶縁層18が形成される。
くとも前記電子冷却素子群5と対向する面には、アルマ
イトからなる電気絶縁層18が形成される。
【0034】アルマイトは通常、陽極酸化法などによっ
て形成されるが、図7に示すように電気絶縁層18(ア
ルマイト層)の表面から深部に向けて微孔30が無数に
形成される。このように微孔30が無数に形成されても
電気絶縁層18の絶縁性はほとんど低下することはない
が、微孔30がそのままの状態で残っていると、吸熱体
4(放熱フィン6)と電子冷却素子群5との間に実質的
に空気層が形成されたことになり、そのために熱抵抗が
極端に高くなり、熱伝導性が悪い。
て形成されるが、図7に示すように電気絶縁層18(ア
ルマイト層)の表面から深部に向けて微孔30が無数に
形成される。このように微孔30が無数に形成されても
電気絶縁層18の絶縁性はほとんど低下することはない
が、微孔30がそのままの状態で残っていると、吸熱体
4(放熱フィン6)と電子冷却素子群5との間に実質的
に空気層が形成されたことになり、そのために熱抵抗が
極端に高くなり、熱伝導性が悪い。
【0035】そのため本実施例では、前記微孔30に例
えば酢酸ニッケルなどの封止剤31を浸透させて熱伝導
性を改善している。この封止剤31によって微孔30の
全体が埋っている方が好ましいが、封止剤31が微孔3
0中にある程度浸透することにより、実質的に空気層が
減少して、熱伝導性の改善効果は認められる。
えば酢酸ニッケルなどの封止剤31を浸透させて熱伝導
性を改善している。この封止剤31によって微孔30の
全体が埋っている方が好ましいが、封止剤31が微孔3
0中にある程度浸透することにより、実質的に空気層が
減少して、熱伝導性の改善効果は認められる。
【0036】図に示すように、電気絶縁層18(アルマ
イト層)の表面に封止剤31の被膜を形成すればシリコ
ーングリース層17とのなじみが良好となり、さらに熱
伝導性が良くなる。
イト層)の表面に封止剤31の被膜を形成すればシリコ
ーングリース層17とのなじみが良好となり、さらに熱
伝導性が良くなる。
【0037】なお、この電気絶縁層18(アルマイト
層)の厚さは、3〜20μm程度あれば電気絶縁性上十
分である。
層)の厚さは、3〜20μm程度あれば電気絶縁性上十
分である。
【0038】前記吸熱板4ならびに放熱フィン6として
銅を使用する場合、それらと電子冷却素子群5との間に
二酸化ケイ素、アルミナまたは酸化クロムなどの無機化
合物の微粒子を含んだ10〜50μm程度の電気絶縁層
18を形成すればよい。
銅を使用する場合、それらと電子冷却素子群5との間に
二酸化ケイ素、アルミナまたは酸化クロムなどの無機化
合物の微粒子を含んだ10〜50μm程度の電気絶縁層
18を形成すればよい。
【0039】図2に示すように本実施例の場合、電子冷
却装置の長手方向に沿って2個の電子冷却素子群5が所
定の間隔をあけて取り付けられている。この電子冷却素
子群5は図9に示すように、吸熱体4と放熱フィン6と
の間に介在され、吸熱体4の座ぐり25側から挿入した
締付けネジ32と皿バネ33とによって挟持されてい
る。本実施例の場合、前記締付けネジ32はガラス繊維
を50重量%含有したポリアミド製のものを、前記皿バ
ネ33はステンレス鋼製のものが使用されている。この
皿バネ33と、前記吸熱体4と電子冷却素子群5との間
ならびに放熱フィン6と電子冷却素子群5との間に介在
されたシリコーングリース層17により、電子冷却素子
群5が吸熱体4と放熱フィン6の間で弾性的に保持され
ている。
却装置の長手方向に沿って2個の電子冷却素子群5が所
定の間隔をあけて取り付けられている。この電子冷却素
子群5は図9に示すように、吸熱体4と放熱フィン6と
の間に介在され、吸熱体4の座ぐり25側から挿入した
締付けネジ32と皿バネ33とによって挟持されてい
る。本実施例の場合、前記締付けネジ32はガラス繊維
を50重量%含有したポリアミド製のものを、前記皿バ
ネ33はステンレス鋼製のものが使用されている。この
皿バネ33と、前記吸熱体4と電子冷却素子群5との間
ならびに放熱フィン6と電子冷却素子群5との間に介在
されたシリコーングリース層17により、電子冷却素子
群5が吸熱体4と放熱フィン6の間で弾性的に保持され
ている。
【0040】本実施例では図9に示すように、前記締付
けネジ32で締め付けた後、座ぐり25の中空部分にシ
リコーングリース層17と同じ高熱伝導性のシリコーン
グリース34が充填されている。
けネジ32で締め付けた後、座ぐり25の中空部分にシ
リコーングリース層17と同じ高熱伝導性のシリコーン
グリース34が充填されている。
【0041】図2に示すように、吸熱体4と放熱フィン
6との間で挟持された電子冷却素子群5の周囲はシール
剤層35で気液密にシールされている。このシール剤に
は例えばエポキシ系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹
脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系などが使
用可能であり、本実施例の場合は中空状のガラス微粒子
を20〜65重量%(好ましくは30〜60重量%)均
一に分散したエポキシ系樹脂が使用される。この中空状
のガラス微粒子は20〜130μmの径を有し、壁厚は
0.5〜2μm、平均粒子比重は0.1〜0.4で、中
空状ガラス微粒子を含有したエポキシ系樹脂は熱伝導率
が1×10-4cal/cm・sec・℃と非常に低い。
6との間で挟持された電子冷却素子群5の周囲はシール
剤層35で気液密にシールされている。このシール剤に
は例えばエポキシ系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹
脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系などが使
用可能であり、本実施例の場合は中空状のガラス微粒子
を20〜65重量%(好ましくは30〜60重量%)均
一に分散したエポキシ系樹脂が使用される。この中空状
のガラス微粒子は20〜130μmの径を有し、壁厚は
0.5〜2μm、平均粒子比重は0.1〜0.4で、中
空状ガラス微粒子を含有したエポキシ系樹脂は熱伝導率
が1×10-4cal/cm・sec・℃と非常に低い。
【0042】図1に示すように吸熱体4のフランジ部2
1と放熱フィン6のフランジ部27との間には図11に
示すようにハニカム構造をした、例えばはっ水処理した
紙、合成樹脂、セラミック、熱伝導率が低く設計された
金属、高強度ウレタンやチェラストなどの硬質ゴム、木
材などからなる実質的に殆ど弾性をもたない剛性で熱伝
導性の悪い支持体20が、その周壁37の長手方向がフ
ランジ部21とフランジ部27の間を向くように介在さ
れている。特にパラフィン、ワックスあるいはフッ素オ
イルなどのはっ水剤ではっ水処理した紙製の支持体20
は、非弾性で十分な剛性を有し、軽量でコストが安いた
め賞用できる。
1と放熱フィン6のフランジ部27との間には図11に
示すようにハニカム構造をした、例えばはっ水処理した
紙、合成樹脂、セラミック、熱伝導率が低く設計された
金属、高強度ウレタンやチェラストなどの硬質ゴム、木
材などからなる実質的に殆ど弾性をもたない剛性で熱伝
導性の悪い支持体20が、その周壁37の長手方向がフ
ランジ部21とフランジ部27の間を向くように介在さ
れている。特にパラフィン、ワックスあるいはフッ素オ
イルなどのはっ水剤ではっ水処理した紙製の支持体20
は、非弾性で十分な剛性を有し、軽量でコストが安いた
め賞用できる。
【0043】そして前記フランジ部21と支持体20と
の間、フランジ部27と支持体20との間は接着剤36
によって一体に連結されている。この接着剤36として
はエポキシ系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ゴム系などが使用可能であり、本実施
例の場合はエポキシ系樹脂が用いられている。
の間、フランジ部27と支持体20との間は接着剤36
によって一体に連結されている。この接着剤36として
はエポキシ系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ゴム系などが使用可能であり、本実施
例の場合はエポキシ系樹脂が用いられている。
【0044】前述のようにフランジ部21、27に多数
の小溝を形成しておけば、接着剤の回り込みが良好で、
接着部に十分な量の接着剤を保持することができ、支持
体20とフランジ部21、27との固着が確実である。
の小溝を形成しておけば、接着剤の回り込みが良好で、
接着部に十分な量の接着剤を保持することができ、支持
体20とフランジ部21、27との固着が確実である。
【0045】この支持体20はハニカム構造のため内部
に独立した多数の空間部38を有し、前述のようにフラ
ンジ部21とフランジ部27の間に介在することにより
図1に示すように、その空間部38により多数の独立し
た空気層39が形成されることになる。
に独立した多数の空間部38を有し、前述のようにフラ
ンジ部21とフランジ部27の間に介在することにより
図1に示すように、その空間部38により多数の独立し
た空気層39が形成されることになる。
【0046】なお、本発明の明細書においてハニカム構
造とは、図11に示すように平面形状が六角形の空間部
38を有するもの以外に、例えば平面形状が三角形、四
角形、五角形などの多角形、あるいは円形や楕円形など
任意な形状の空間部を多数有し、各空間部が周壁によっ
て独立し、その周壁どうしが一体に連結した構造体を意
味している。特にこのハニカム構造により、高い剛性と
多数の独立した空間部38(空気層39)が同時に得ら
れるため賞用できる。
造とは、図11に示すように平面形状が六角形の空間部
38を有するもの以外に、例えば平面形状が三角形、四
角形、五角形などの多角形、あるいは円形や楕円形など
任意な形状の空間部を多数有し、各空間部が周壁によっ
て独立し、その周壁どうしが一体に連結した構造体を意
味している。特にこのハニカム構造により、高い剛性と
多数の独立した空間部38(空気層39)が同時に得ら
れるため賞用できる。
【0047】この支持体20は図2に示すように、電子
冷却素子群5の機械的保護を図るため、電子冷却素子群
5の両側でかつシール剤層35の外側に固着されてい
る。
冷却素子群5の機械的保護を図るため、電子冷却素子群
5の両側でかつシール剤層35の外側に固着されてい
る。
【0048】図12ならびに図13は電子冷却素子群5
の変形例を示す図で、電子冷却素子群5に機械的強度を
付与するとともに、電極間の電気的接触を確実に防止す
るために、図12の場合は吸熱側電極8、8の間、なら
びに放熱側電極12、12の間に電気絶縁性を有する接
着剤層40が形成されている。また図13の場合は、さ
らにP形半導体層10とN形半導体層11の間にも接着
剤層40が介在されている。
の変形例を示す図で、電子冷却素子群5に機械的強度を
付与するとともに、電極間の電気的接触を確実に防止す
るために、図12の場合は吸熱側電極8、8の間、なら
びに放熱側電極12、12の間に電気絶縁性を有する接
着剤層40が形成されている。また図13の場合は、さ
らにP形半導体層10とN形半導体層11の間にも接着
剤層40が介在されている。
【0049】この接着剤層40には、例えばシリコーン
系樹脂やエポキシ系樹脂などの有機化合物単独、あるい
は例えばシリカ、アルミナ、酸化亜鉛などの無機化合物
を適量混入した有機化合物などが使用される。
系樹脂やエポキシ系樹脂などの有機化合物単独、あるい
は例えばシリカ、アルミナ、酸化亜鉛などの無機化合物
を適量混入した有機化合物などが使用される。
【0050】図14ならびに図15は支持体20の配置
の変形例を示す図で、図14の場合は支持体20が吸熱
体4の四隅に分けて設置されており、図15の場合は吸
熱体4が図14のものよりも広くなり、枠状の支持体2
0によって電子冷却素子群5ならびにシール剤層35の
周囲全体が囲まれている。
の変形例を示す図で、図14の場合は支持体20が吸熱
体4の四隅に分けて設置されており、図15の場合は吸
熱体4が図14のものよりも広くなり、枠状の支持体2
0によって電子冷却素子群5ならびにシール剤層35の
周囲全体が囲まれている。
【0051】図16ないし図19は支持体20の変形例
を示す図である。図16の場合はハニカム構造の支持体
20が用いられているが、それの空間部38の中間位置
に遮断層41が形成されて、空気層39が吸熱体4と放
熱フィン6との間において2分されている。このように
空気層39を吸熱体4と放熱フィン6との間において分
割することにより、放熱フィン6からの熱流の戻りがさ
らに減少する。前記遮断層41は、例えば細いノズルを
用いて空間部38にシール剤を所定量注入して、そのシ
ール剤を乾燥、硬化する方法などによって形成される。
なお、この変形例では空間部38の中間位置に遮断層4
1が形成したが、空間部38の一方の開口から中間位置
ぐらいまでに遮断層41を形成して、空気層39の容積
を小さくすることもできる。
を示す図である。図16の場合はハニカム構造の支持体
20が用いられているが、それの空間部38の中間位置
に遮断層41が形成されて、空気層39が吸熱体4と放
熱フィン6との間において2分されている。このように
空気層39を吸熱体4と放熱フィン6との間において分
割することにより、放熱フィン6からの熱流の戻りがさ
らに減少する。前記遮断層41は、例えば細いノズルを
用いて空間部38にシール剤を所定量注入して、そのシ
ール剤を乾燥、硬化する方法などによって形成される。
なお、この変形例では空間部38の中間位置に遮断層4
1が形成したが、空間部38の一方の開口から中間位置
ぐらいまでに遮断層41を形成して、空気層39の容積
を小さくすることもできる。
【0052】図17の変形例の場合、支持体20の周壁
が吸熱体4と放熱フィン6の方向に延びた横型ハニカム
構造の支持体20aと、周壁がそれと直交する方向に延
びた縦型ハニカム構造の支持体20bとが組合せられて
いる。
が吸熱体4と放熱フィン6の方向に延びた横型ハニカム
構造の支持体20aと、周壁がそれと直交する方向に延
びた縦型ハニカム構造の支持体20bとが組合せられて
いる。
【0053】図18の変形例の場合、支持体20と吸熱
体4ならびに電子冷却素子群5との間に、例えば中空状
のガラス微粒子を含有した熱伝導性の低い樹脂層42が
形成されている。
体4ならびに電子冷却素子群5との間に、例えば中空状
のガラス微粒子を含有した熱伝導性の低い樹脂層42が
形成されている。
【0054】図19の変形例の場合、殆どが独立気泡に
なっている焼結体からなる支持体20が使用されてい
る。
なっている焼結体からなる支持体20が使用されてい
る。
【0055】図20は吸熱体4の変形例を示す図で、こ
の例の場合は吸熱体4のフランジ部21が吸熱体4の側
面よりも若干放熱フィン6側に寄っている。
の例の場合は吸熱体4のフランジ部21が吸熱体4の側
面よりも若干放熱フィン6側に寄っている。
【0056】図21は吸熱体4ならびに放熱フィン6の
変形例を示す図で、この例の場合は吸熱体4のフランジ
部21ならびに放熱フィン6のフランジ部27が長く延
びており、そのフランジ部21とフランジ部27の先端
部付近の狭い個所に支持体20が介在されている。
変形例を示す図で、この例の場合は吸熱体4のフランジ
部21ならびに放熱フィン6のフランジ部27が長く延
びており、そのフランジ部21とフランジ部27の先端
部付近の狭い個所に支持体20が介在されている。
【0057】前記実施例では、絶縁基板を使用しない
で、電極が露呈したスケルトンタイプの電子冷却素子群
を使用して、絶縁基板による弊害を除去した例について
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
絶縁基板を付設した電子冷却素子群を使用することもで
きる。この場合、絶縁基板としてアルミナセラミックス
の代わりに窒化アルミニウムを使用することもできる。
アルミナセラミックスの熱伝導率は20W/mK程度で
あるのに対して窒化アルミニウムの熱伝導率は200W
/mK程度で、絶縁基板の熱抵抗が1/10になり有利
である。
で、電極が露呈したスケルトンタイプの電子冷却素子群
を使用して、絶縁基板による弊害を除去した例について
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
絶縁基板を付設した電子冷却素子群を使用することもで
きる。この場合、絶縁基板としてアルミナセラミックス
の代わりに窒化アルミニウムを使用することもできる。
アルミナセラミックスの熱伝導率は20W/mK程度で
あるのに対して窒化アルミニウムの熱伝導率は200W
/mK程度で、絶縁基板の熱抵抗が1/10になり有利
である。
【0058】また前記実施例では、所定の間隔をおいて
電子冷却素子群を直線状に配置したが、例えば所定の間
隔をおいて電子冷却素子群を千鳥状に配置したり、複数
層に積層するなど、他の配置例を採用してもよい。
電子冷却素子群を直線状に配置したが、例えば所定の間
隔をおいて電子冷却素子群を千鳥状に配置したり、複数
層に積層するなど、他の配置例を採用してもよい。
【0059】さらに前記実施例では、内箱の一方の側面
に電子冷却装置を配置したが、内箱の対向する両側面に
それぞれ電子冷却装置を配置することもできる。
に電子冷却装置を配置したが、内箱の対向する両側面に
それぞれ電子冷却装置を配置することもできる。
【0060】次に前記図1ならびに図2に示す本発明の
電子冷却装置の各種の試験結果について説明する。
電子冷却装置の各種の試験結果について説明する。
【0061】(1)剛性試験 剛性試験として、衝撃試験機(AVEX製SM−110
−3)を用いた衝撃試験と、振動試験機(振研製G−0
130)を用いた振動試験を行った。
−3)を用いた衝撃試験と、振動試験機(振研製G−0
130)を用いた振動試験を行った。
【0062】吸熱体を試験機に取り付け、支持体を介し
て接合された放熱フィンが所定の衝撃加速度および正弦
波振動により、いかなる影響を受けるかを剛性の目安と
して試験した。
て接合された放熱フィンが所定の衝撃加速度および正弦
波振動により、いかなる影響を受けるかを剛性の目安と
して試験した。
【0063】剛性の判定は、吸熱体と放熱フィンに挟持
された電子冷却素子の内部抵抗値の変化の有無で判定し
た。すなわち、電子冷却素子に使用される半導体層は衝
撃に対して比較的弱く、外部から衝撃が加わると半導体
層にクラックが入り、そのクラツクの発生は一定の電流
を流すことにより内部抵抗値の変化として検出できるか
ら、剛性の判定方法として採用した。
された電子冷却素子の内部抵抗値の変化の有無で判定し
た。すなわち、電子冷却素子に使用される半導体層は衝
撃に対して比較的弱く、外部から衝撃が加わると半導体
層にクラックが入り、そのクラツクの発生は一定の電流
を流すことにより内部抵抗値の変化として検出できるか
ら、剛性の判定方法として採用した。
【0064】A.衝撃試験 図22に電子冷却装置の落下方向軸X,Y,Zを示す。 (試験条件) MIL規格STD−883Cに準拠 波 形:正弦半波 加速度 :1000G 作用時間:0.5ms 衝撃回数:X,Y,Zの3軸でX1,X2,Y1,Y
2,Zの5方向(図22に示すように、X方向に電子冷
却装置を落下する場合でも、X1の方を下にして落下す
る場合と、X2の方を下にして落下する場合とがある。
Y方向の落下も同様にY1,Y2の2方向がある。Z方
向の落下の場合は、試験機の構造の関係で一方向だけし
か落下できない。) (試験結果) .前記3軸5方向(X1,X2,Y1,Y2,Z)に
1回ずつ合計5回落下しても、いずれも抵抗値は測定誤
差範囲内であった。
2,Zの5方向(図22に示すように、X方向に電子冷
却装置を落下する場合でも、X1の方を下にして落下す
る場合と、X2の方を下にして落下する場合とがある。
Y方向の落下も同様にY1,Y2の2方向がある。Z方
向の落下の場合は、試験機の構造の関係で一方向だけし
か落下できない。) (試験結果) .前記3軸5方向(X1,X2,Y1,Y2,Z)に
1回ずつ合計5回落下しても、いずれも抵抗値は測定誤
差範囲内であった。
【0065】.X方向の連続落下試験では、落下7回
まで抵抗値の変化はなく、8回目で抵抗値の上昇が認め
られた。
まで抵抗値の変化はなく、8回目で抵抗値の上昇が認め
られた。
【0066】.Y方向の連続落下試験では、落下19
回まで抵抗値の変化はなく、20回目で抵抗値の上昇が
認められた。
回まで抵抗値の変化はなく、20回目で抵抗値の上昇が
認められた。
【0067】.Z方向の連続落下試験では、落下40
回まで抵抗値の変化はなかったので、その時点で試験を
終了した。
回まで抵抗値の変化はなかったので、その時点で試験を
終了した。
【0068】B.振動試験 (試験条件) MIL規格STD−883C 方法2007に準拠 振動数 :10〜500Hz 加速度 :±5G,±10G,±25G(但し、全振幅
は1.52mm) 掃引時間:4min 振動時間:各加速度でそれぞれX,Y,Zの3方向で各
16分間(合計48分間)ただし、1掃引毎に抵抗値を
測定 (試験結果) .加速度が±5Gならびに±10Gでは、抵抗値の変
化は認められなかった。
は1.52mm) 掃引時間:4min 振動時間:各加速度でそれぞれX,Y,Zの3方向で各
16分間(合計48分間)ただし、1掃引毎に抵抗値を
測定 (試験結果) .加速度が±5Gならびに±10Gでは、抵抗値の変
化は認められなかった。
【0069】.加速度が±25Gでは抵抗値の変化が
認められた。
認められた。
【0070】以上の衝撃試験および振動試験の結果から
明らかなように、本発明の電子冷却装置は実際に使用さ
れる条件からみて高い剛性を有し、優れた耐衝撃性、耐
振動を有していることが立証できる。
明らかなように、本発明の電子冷却装置は実際に使用さ
れる条件からみて高い剛性を有し、優れた耐衝撃性、耐
振動を有していることが立証できる。
【0071】(2)性能試験 アルミナ基板を使用した従来の電子冷却装置と本発明の
電子冷却装置をそれぞれ内容積10リットルの保冷庫に
取り付けて、外気温度30℃の下で、庫内中央部の底面
から蓋面までを5等分し、電力を投入して180分後の
庫内4点の平均温度を測定した結果を次の表1に示す。
電子冷却装置をそれぞれ内容積10リットルの保冷庫に
取り付けて、外気温度30℃の下で、庫内中央部の底面
から蓋面までを5等分し、電力を投入して180分後の
庫内4点の平均温度を測定した結果を次の表1に示す。
【0072】 表 1 電子冷却装置 半導体個数 電圧(V) 電流(A) 平均温度(℃) 従来品1 254 12 3.3 14.23 従来品2 508 24 3.3 2.71 本発明品 248 12 4.0 2.62 この表から明らかなように、半導体個数が254個の従
来品1では、外気温度30℃で庫内平均温度は14.2
3℃にしかならず、保冷庫の条件である5℃以下に到達
しない。
来品1では、外気温度30℃で庫内平均温度は14.2
3℃にしかならず、保冷庫の条件である5℃以下に到達
しない。
【0073】本発明の電子冷却装置の場合、半導体個数
が248個であるが、半導体個数が2倍以上の従来品2
と同等以上の優れた冷却性能を有している。また、本発
明品は従来品2と同等以上の吸熱量を有しているにもか
かわらず、投入電力は48Wで従来品2の79.2Wに
対して61%にすぎず、従って成績係数はその分改善さ
れた。
が248個であるが、半導体個数が2倍以上の従来品2
と同等以上の優れた冷却性能を有している。また、本発
明品は従来品2と同等以上の吸熱量を有しているにもか
かわらず、投入電力は48Wで従来品2の79.2Wに
対して61%にすぎず、従って成績係数はその分改善さ
れた。
【0074】(3)半導体層の破壊試験 従来の電子冷却装置と本発明の電子冷却装置にそれぞれ
電圧12V、電流5Aの電流を流し、吸熱体の温度が9
0℃になったときに自動的に極性を変更して40℃まで
冷却し、再び極性を変更して90℃まで昇温させる熱サ
イクル試験により、半導体層が破壊するまでのサイクル
数を測定し、その結果次の表2に示した。なお、試験個
数は何れも30個である。
電圧12V、電流5Aの電流を流し、吸熱体の温度が9
0℃になったときに自動的に極性を変更して40℃まで
冷却し、再び極性を変更して90℃まで昇温させる熱サ
イクル試験により、半導体層が破壊するまでのサイクル
数を測定し、その結果次の表2に示した。なお、試験個
数は何れも30個である。
【0075】 表 2 電子冷却装置 サイクル数のレンジ 平均サイクル数 従来品 78〜 1,435 602.6 本発明品 28, 925〜82,217 49072.5 電子冷却素子は吸熱側と放熱側の距離が極めて短いにも
かかわらず、通常の使用方法では吸熱側と放熱側の間に
約40〜60℃の温度差を生じる。その間にP型、N型
半導体層、半導体層両端面のニッケルなどのメッキ層、
銅などの電極、電極と半導体層を接合する半田層などが
あり、各々線膨張係数が異なる材料が前記温度格差によ
る膨張、収縮を繰り返すことになる。
かかわらず、通常の使用方法では吸熱側と放熱側の間に
約40〜60℃の温度差を生じる。その間にP型、N型
半導体層、半導体層両端面のニッケルなどのメッキ層、
銅などの電極、電極と半導体層を接合する半田層などが
あり、各々線膨張係数が異なる材料が前記温度格差によ
る膨張、収縮を繰り返すことになる。
【0076】前述の表2から明らかなように、従来の電
子冷却装置では電極がアルミナからなる絶縁基板に固定
されているため、その基板の線膨張係数との差による接
合面の破壊が起こり、そのため半導体層が局所的に内部
抵抗が高まって高温となったり、接合面で局所的な放電
が生じて、半導体層が比較的早く破壊される(平均サイ
クル数約600サイクル)。
子冷却装置では電極がアルミナからなる絶縁基板に固定
されているため、その基板の線膨張係数との差による接
合面の破壊が起こり、そのため半導体層が局所的に内部
抵抗が高まって高温となったり、接合面で局所的な放電
が生じて、半導体層が比較的早く破壊される(平均サイ
クル数約600サイクル)。
【0077】これに対して本発明の電子冷却装置は、電
極と電気絶縁層の間が変位可能になっているため、従来
のものに比較して平均サイクル数が81.4倍と極めて
長く、優れた耐用寿命を有している。
極と電気絶縁層の間が変位可能になっているため、従来
のものに比較して平均サイクル数が81.4倍と極めて
長く、優れた耐用寿命を有している。
【0078】
【発明の効果】本発明は前述のように、剛性を有する支
持体が冷却素子と並列に配置され、その支持体が吸熱側
熱導体と放熱側熱導体との間において両熱導体に固着さ
れて一体の剛体構造になっている。そのため外部から強
い衝撃や振動が加わっても、前記一体剛体構造でそれを
受けることができ、電子冷却素子群の保護が図れるか
ら、耐衝撃性、耐振動性の向上が図れる。
持体が冷却素子と並列に配置され、その支持体が吸熱側
熱導体と放熱側熱導体との間において両熱導体に固着さ
れて一体の剛体構造になっている。そのため外部から強
い衝撃や振動が加わっても、前記一体剛体構造でそれを
受けることができ、電子冷却素子群の保護が図れるか
ら、耐衝撃性、耐振動性の向上が図れる。
【0079】また、この支持体は熱伝導性が悪く、内部
に多数の独立した空気層を有しているから、放熱側熱導
体から吸熱側熱導体への熱流の戻りが有効に抑制され、
そのために優れた冷却効率を得ることができる。
に多数の独立した空気層を有しているから、放熱側熱導
体から吸熱側熱導体への熱流の戻りが有効に抑制され、
そのために優れた冷却効率を得ることができる。
【0080】このようなことから、高性能、高効率なら
びに高信頼性の電子冷却装置を提供することができる。
びに高信頼性の電子冷却装置を提供することができる。
【図1】本発明の実施例に係る電子冷却装置を保冷庫に
装備した状態を示す要部断面図である。
装備した状態を示す要部断面図である。
【図2】その電子冷却装置を吸熱側から見た平面図であ
る。
る。
【図3】その電子冷却素子群の拡大断面図である。
【図4】その電子冷却素子群の拡大斜視図である。
【図5】吸熱体の平面図である。
【図6】吸熱体の断面図である。
【図7】アルマイト表面の状態を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図8】アルマイト表面の封孔処理の状態を示す拡大断
面図である。
面図である。
【図9】電子冷却素子群の取り付け構造を示す一部断面
図である。
図である。
【図10】皿ばねの拡大断面図である。
【図11】支持体の一部斜視図である。
【図12】電子冷却素子群の変形例を示す拡大断面図で
ある。
ある。
【図13】電子冷却素子群の変形例を示す拡大断面図で
ある。
ある。
【図14】支持体の配置の変形例を示す平面図である。
【図15】支持体の配置の変形例を示す平面図である。
【図16】支持体の変形例を示す拡大断面図である。
【図17】支持体の変形例を示す図である。
【図18】支持体の変形例を示す図である。
【図19】支持体の変形例を示す図である。
【図20】吸熱体の変形例を示す図である。
【図21】吸熱体と放熱フィンの変形例を示す図であ
る。
る。
【図22】落下方向を示す説明図である。
【図23】従来の電子冷却装置を装備した保冷庫の縦断
面図である。
面図である。
【図24】その保冷庫の吸熱体上での電子冷却素子群の
取付状態を示す側面図である。
取付状態を示す側面図である。
【図25】その電子冷却素子群の拡大断面図である。
4 吸熱体 5 電子冷却素子群 6 放熱フィン 8 吸熱側電極 10 P形半導体層 11 N形半導体層 12 放熱側電極 16 接着剤層 17 シリコーングリース層 18 電気絶縁層 20 支持体 21 フランジ部 22 台形部 23 小溝 27 フランジ部 30 微孔 31 封止剤 33 皿バネ 36 接着剤 37 周壁 38 空間部 39 空気層 41 遮断層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大澤 敦 神奈川県川崎市川崎区塩浜1丁目7番地7 株式会社サーモボニック内 (72)発明者 手塚 弘房 神奈川県川崎市川崎区塩浜1丁目7番地7 株式会社サーモボニック内
Claims (5)
- 【請求項1】 熱良導体からなる吸熱側熱導体ならびに
放熱側熱導体と、 多数のP型半導体層とN型半導体層とを並設し、各半導
体間を電極で接続して、前記吸熱側熱導体と放熱側熱導
体との間に介在された電子冷却素子群と、 剛性を有し、熱伝導性が悪く、内部に多数の独立した空
気層を形成し、前記吸熱側熱導体と放熱側熱導体との間
に前記電子冷却素子群と並列に介在された支持体とを備
え、 その支持体の一端が前記吸熱側熱導体に固着され、他端
が前記放熱側熱導体に固着されたことを特徴とする電子
冷却装置。 - 【請求項2】 請求項1記載において、前記支持体がハ
ニカム構造を有していることを特徴とする電子冷却装
置。 - 【請求項3】 請求項1記載において、前記電子冷却素
子群が吸熱側熱導体と放熱側熱導体との間に弾性的に挟
持されていることを特徴とする電子冷却装置。 - 【請求項4】 請求項1記載において、前記電子冷却素
子群は電極が露呈する構造を有し、前記熱導体の電極と
対向する表面に薄い電気絶縁層が形成されて、熱導体に
対して電子冷却素子群が変位可能になっていることを特
徴とする電子冷却装置。 - 【請求項5】 請求項4記載において、前記熱導体の前
記電子冷却素子群と対向する面にアルマイト層が設けら
れ、そのアルマイト層に形成された微孔に封止剤が浸透
していることを特徴とする電子冷却装置。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10552693A JP3451107B2 (ja) | 1992-10-05 | 1993-05-06 | 電子冷却装置 |
US08/128,697 US5409547A (en) | 1992-10-05 | 1993-09-30 | Thermoelectric cooling device for thermoelectric refrigerator, process for the fabrication of semiconductor suitable for use in the thermoelectric cooling device, and thermoelectric refrigerator using the thermoelectric cooling device |
EP93202824A EP0592044B1 (en) | 1992-10-05 | 1993-10-04 | Thermoelectric cooling device for thermoelectric refrigerator and process of fabrication thereof |
EP97203488A EP0838868A3 (en) | 1992-10-05 | 1993-10-04 | Thermoelectric cooling device for thermoelectric refrigerator |
DE69318663T DE69318663T2 (de) | 1992-10-05 | 1993-10-04 | Thermoelektrische Kühlvorrichtung für thermoelektrischen Kühlschrank und Verfahren zu ihrer Herstellung |
AU48821/93A AU667747B2 (en) | 1992-10-05 | 1993-10-05 | Thermoelectric cooling device for thermoelectric refrigerator, process for the fabrication of semiconductor suitable for use in the thermoelectric cooling device, and thermoelectric refrigerator using the thermoelectric cooling device |
CN94105222.2A CN1034252C (zh) | 1993-05-06 | 1994-05-06 | 热电式冷却装置、其所用半导体制备方法及热电式冷冻机 |
CN95119063A CN1074585C (zh) | 1993-05-06 | 1995-12-05 | 热电式冷却装置所用半导体的制备方法 |
AU43356/96A AU676811B2 (en) | 1992-10-05 | 1996-02-05 | Process for fabrication of semiconductor suitable for use inthermoelectric cooling device |
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