JP3369349B2 - 熱電変換装置 - Google Patents

熱電変換装置

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    • F25B2321/025Removal of heat

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば電子冷蔵庫用電
子冷却装置、除湿装置あるいは空気調和装置(エヤーコ
ンディショナー)などに用いる熱電変換装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】熱電変換素子のうち電気エネルギーを投
入して所定のものを冷却する素子は、ペルチェ素子ある
いは電子冷却素子と称され、例えばコンパクトなクール
ボックスなどに使用されており、フロンなどの冷媒を用
いない冷却技術として注目されている。
【0003】従来の電子冷却素子は、図56に示すよう
に、アルミナなどからなる吸熱側絶縁基板100の上に
吸熱側半田層101を介して吸熱側電極102が設けら
れ、その吸熱側電極102の上にP型半導体層103と
N型半導体層104とがそれぞれ配置されている。
【0004】このP型半導体層103とN型半導体層1
04とを接続するように放熱側電極105が設けられ、
さらにその上に放熱側半田層106を介してアルミナな
どからなる放熱側絶縁基板107が配置されている。
【0005】前記P型半導体層103とN型半導体層1
04は吸熱側絶縁基板100と放熱側絶縁基板107の
間に多数並列に介在されて、電気的には直列に接続され
ている。
【0006】この電子冷却素子に所定方向の電流を流す
ことにより、吸熱側絶縁基板100側で吸熱が起こり、
その周囲が冷却される。
【0007】一方、放熱側絶縁基板107側で放熱が起
こるから、放熱フィンなどにより外部へ放熱することに
より熱移動が起こる仕組みになっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
(A)この電子冷却素子の吸熱量は、従来は次のような
式で表わされていた。
【0009】 Qab=nSTc I−(1 /2)I2 R−K・ΔT Qab:吸熱量 〔W〕 n:半導体素子数 〔個〕 S:ゼーベック係数 〔V/K〕 TC :半導体の低温側温度 〔K〕 I:電子冷却素子に流す電流値 〔A〕 R:電子冷却素子の内部抵抗 〔Ω〕 K:電子冷却素子の熱貫流率 〔W/K〕 しかしながら、これは定性的考察から導出された式であ
り、素子内の温度分布が直線的であるという仮定に立脚
した考え方である。しかも、電子冷却素子のみを捕らえ
ての熱計算であって、電子冷却素子を含むシステム全体
(例えば電子冷蔵庫というシステム)としての性能評価
を可能とするものではなかった。
【0010】(B)また電子冷却素子の性能指数Zと冷
却成績係数の最大値φmax との関係は、次式で与えられ
ていた。
【0011】 φmax =〔TC /2−ΔT/(Z・TC )〕/TH (30) φmax :冷却成績係数の最大値 TC :半導体の低温側温度 〔K〕 TH :半導体の高温側温度 〔K〕 Z:半導体の性能指数 Z=S2 σ/k S:ゼーベック係数 σ:電気伝導度 k:熱伝導度 ΔT:半導体の低温側と高温側の温度差 〔K〕 この(30)式に基づき図57に示すように、熱電冷却
とその他冷却方式との成績係数の比較も行われている
〔電気学会技術報告(II部)第43号参照〕。なお、同
図において圧縮式、吸収式ならびにダイレクトドライブ
ヒートポンプ(DDHP)式の成績係数と、それらの凝
縮温度と蒸発温度が電子冷却素子の高低接合部温度と等
価とみなして比較されている。
【0012】しかし同図は電子冷却素子が単体としてと
り得る、即ち無限大の熱交換を前提にした場合の冷却成
績係数の理論値上限を示すにとどまり、電子冷却素子を
含むシステム全体の性能評価を可能とするものではなか
った。
【0013】(C)従来の電子冷却装置は、前述の通り
アルミナなどのセラミック製絶縁基板100,107を
使用しているため、基板自体の熱抵抗が大きい。
【0014】またフィンなどの吸熱側熱導体(図示せ
ず)−吸熱側絶縁基板100,吸熱側絶縁基板100−
吸熱側半田層101,吸熱側半田層101−吸熱側電極
102,吸熱側電極102−P型半導体層103とN型
半導体層104,P型半導体層103とN型半導体層1
04−放熱側電極105,放熱側電極105−放熱側半
田層106,放熱側半田層106−放熱側絶縁基板10
7,放熱側絶縁基板107−フィンなどの放熱側熱導体
(図示せず)などの接触界面の接触熱抵抗や、吸熱側な
らびに放熱側熱導体自体の熱抵抗などが数多く存在する
から、半導体素子内部の温度差は必要以上に大きくな
り、そのために冷却性能、冷却成績係数が大巾に減少し
て、実際には図57の上限理論値の約50%程度または
それ以下である。
【0015】(D)また従来、例えば電子冷蔵庫を設計
する場合、電子冷却素子を製造しているデバイスメーカ
側では各種寸法の電子冷却素子を多種多様に製造してお
り、一方、電子冷蔵庫を設計するユーザ側ではデバイス
メーカ側から適当な寸法の電子冷却素子を購入し、その
既製の電子冷却素子を使用して他の構成部材との関係で
電子冷却素子に流す電流値などを計算していた。
【0016】このように従来の熱計算では、例えば電子
冷蔵庫というシステムにおいて全体を1つの熱の移動
(流れ)としてとらえるという設計思想はなく、前述の
ようにデバイスメーカ側では電子冷却素子単体としての
熱計算をして各種寸法の電子冷却素子を製作し、一方、
ユーザ側では既製の電子冷却素子から適当なものを選択
して別に熱計算をしているから、電子冷蔵庫というシス
テムにおいてそれを最も効率的に稼働させるために必要
な電子冷却素子という設計思想はなく、結局、効率面に
おいてシステム(用途)に合致した熱電変換装置を提供
することができなかった。
【0017】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、高い成績係数(Coefficient of performan
ce:COP)が確実に得られ、しかもシステム設計が容
易な熱電変換装置を提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、同じ厚さで多数並設されて電気的に直列
に接続されたP型半導体層ならびにN型半導体層と、そ
れら半導体層の吸熱側に配置された吸熱側熱導体と、そ
れら半導体層の放熱側に配置された放熱側熱導体と、前
記P型半導体層ならびにN型半導体層に通電する給電手
段とを備えた熱電変換装置を対象とするものである。
【0019】そして前記半導体層の厚さに基づいてその
半導体層に通電する電流密度を設定する、すなわち前記
半導体層の厚さが薄い場合は前記電流密度を高く設定
し、半導体層の厚さが厚い場合は前記電流密度を低く
したことを特徴とするものである。
【0020】
【作用】本発明は、半導体層の厚さとそれに通電する電
流密度とCOPの3者の間に相関関係があることを解明
し、それに基づいて半導体層の厚さが薄い場合はそれに
通電する電流密度を高く設定し、半導体層の厚さが厚い
場合は前記電流密度を低く設定することにより、COP
が0.6以上のものを確実に得ることができ、効率の良
い熱電変換装置の提供が可能となる。
【0021】また本発明は、半導体層の厚さとそれに通
電する電流密度とCOPとの関係を把握することによ
り、熱電変換装置として目標のCOPを得るために必要
な半導体層の厚さと電流密度が簡単に分かるから、シス
テム設計が簡便となり、経済性を考慮した設計が可能と
なる。
【0022】
【実施例】図5は、熱電変換装置の概略構成を示すブロ
ック図である。同図に示すよう熱電変換装置は、電子冷
却素子と、電子冷却素子の両側にそれぞれ接合された吸
熱側熱導体(図面に向かって左側の熱導体)ならびに放
熱側熱導体(図面に向かって右側の熱導体)から構成さ
れており、ペルチェ効果を用いて図面に向かって左側か
ら吸熱され右側で熱が放出される仕組みになっている。
【0023】このような構成において、電子冷却素子の
断面積を単位断面積(1〔cm2 〕)とし、前記熱導体
も半導体の単位断面積に相当する熱コンダクタンス(吸
熱側をΚC ,放熱側をKH )をとる。
【0024】同図において、x軸方向の夫々の位置の温
度を以下とすると、 χ=−LC では TC χ=O では T χ=L では T χ=LH では TH 定常状態の熱伝導方程式は、 κ(d2 Τ/dχ2 )=J・〔d(αT)/dχ〕−J2 /σ−dκ/dχ・ dΤ/dχ (1) 熱流密度JQ (χ)は、 JQ (χ)=αJΤ−κ(dΤ/dχ) (2) ここに κ:熱伝導率〔W/(cm・deg)〕 α:ゼーベック係数〔V/deg〕(n形で負,p形で
正) σ:導電率〔S/cm〕 J:電流密度〔A/cm2 〕(n形で負) (1)式で、 αΤ=−(βT+|ΕF /q|) (3) (β=2kB /|q|,ΕF :フェルミエネルギー,k
B :ボルツマン定数,q:電子の電荷量)とし、κ,σ
を一定とすると次の線形微分方程式になる。
【0025】 κ(d2 T/dχ2 )=βJ0 dΤ/dχ−J0 2 /σ,J0 =−J(4) この一般解は、 Τ=κ/(β2 σ)+J0 χ/(βσ)−C1 κ/(βJ0 )+ C2 exp(βJ0 χ/κ) (5) C1 ,C2 は積分定数、また(2)式は、 JQ (χ)=−αJ0 Τ−κJ0 /(βσ)− C2 βJ0 exp(βJ0 χ/κ) (6) パッシブな熱導体部の方程式は、 κ(d2 Τ/dχ2 )=0 (7) JQ (χ)=−κ(dT/dχ) (8) であり、一般解はC3 およびC4 を積分定数として、 Τ=C3 χ+C4 (9) JQ (χ)=−κC3 (10) 境界条件を代入する。−LC ≦χ≦0ではκ=κC とし
て、 T=(Τ0 −ΤC )χ/LC +Τ0 (11) JQ (0)=κC (ΤC −Τ0 )/LC (12) L≦χ≦LH ではκ=κH として、 Τ={(ΤH −TL )χ−ΤH L+TL H }/(LH −L) (13) JQ (L)=κH (ΤL −TH )/(LH −L) (14) 0≦χ≦Lでは、 Τ0 =κ/(β2 σ)−C1 κ/(βJ0 )+C2 (15) TL =κ/(β2 σ)+J0 L/(βσ)−C1 κ/(βJ0 )+ C2 exp(βJ0 L/κ) (16) JQ (0)=−〔αT0 +κ/(βσ)+C2 β〕×J0 吸熱量 (17) JQ (L)=−J0 {αTL +κ/(βσ)+C2 βexp(βJ0 L/κ)} (18) 前記(15),(16)より、 Β=1/{exp(βJ0 L/κ)−1}とすると、 C2 =Β{ΤL −Τ0 −J0 L/(βσ)} C1 =βJ0 /κ{κ/(β2 σ)+C2 −Τ0 } (19) いま、 F0 =(−α+Ββ)J0 +κC /LC 0 =κC C /LC +J0 〔κ/(βσ)−BJ0 L/σ〕 FL ={−α−β(1+Β)}J0 −κH /(LH −L) GL =−κH H /(LH −L)+J0 {κ/(βσ)− J0 L(1+Β)/σ} (20) とすると、以下のように電子冷却素子両端の温度が求ま
る。
【0026】 D=F0 L +(βJ0 2 Β(1+Β) Τ0 =(FL 0 +ΒβJ0 L )/D TL ={F0 L −(1+Β)βJ0 0 }/D (21) 入力電力密度Pは、 P=J0 2 L/σ+|α|J0 (TL −Τ0 ) (22) COPは、 COP=JQ (0)/P (23) として必要な諸量が求められる。
【0027】前記(5)式より求めた温度が実際の値と
整合するか確認した。半導体のチップは、3×3〔mm
2 〕の断面積を有し、高さが10〔mm〕のものをπ
(パイ)型に組み、電流密度をJ=44.4〔A/cm
2 〕として半導体の側面の温度を赤外線検出方式による
非接触式温度計で測定した。
【0028】使用した半導体の物性などの条件は、下記
の通りである。
【0029】 ゼーベック係数 205〔μV/Κ〕 熱伝導率 0.0115〔W/(cm・K)〕 電気伝導度 600〔S/cm〕 ΚC 0.1〔W/(℃・cm2 )〕 ΚH 1〔W/(℃・cm2 )〕 ΤC 4.18〔℃〕 ΤH 35〔℃〕 この比較結果を図6に示す。図中の実線は前記(5)式
に基づいてシミュレーションした電子冷却素子内の温度
分布、黒丸は実測値であり、本理論は実測値とよく一致
していることが分かる。
【0030】なお、前述のモデルにおいてΚC ならびに
ΚH は、次のように定義される。 ΚC ,ΚH :吸熱側ならびに放熱側の両側に設けられる
熱導体のそれぞれの熱コンダクタンスであり、電子冷却
素子の半導体の単位断面積当たりのコンダクタンスを言
う。例えば、吸熱側半導体の低温側と外気との間でフィ
ン全体としてコンダクタンスが5〔W/℃〕の場合で、
半導体層の総断面積が2〔cm2 〕の時は、ΚC は(5
/2=)2.5〔W/(℃・cm2 )〕となる。
【0031】熱電変換装置のシステムで使用される効率
はCOPであり、このCOPは前記(23)式に示され
ているように入力電力Pに対する冷却部の吸熱量JQ
割合で定義される〔COP=JQ /P〕。
【0032】冷媒としてフロンガスを使用したコンプレ
ッサ式で容積が90〔リットル〕の通常の家庭用電気冷
蔵庫において、冷蔵庫の周囲温度が30〔℃〕の夏場の
過激な条件においては、平均で入力電力は70.5
〔W〕、吸熱量は42.3〔W〕であるから、成績係数
COPは42.3/70.5=0.6となる。なお、冷
蔵庫の周囲温度が15℃の冬場においては平均吸熱量は
19.9〔W〕と低く夏場の半分以下であり、入力電力
も少なくてよいから、過激な条件である夏場のCOP=
0.6以上を目標にすればよい。
【0033】従ってこの電子冷却装置において成績係数
COPが0.6以上あれば、フロンガス使用のコンプレ
ッサ式電気冷蔵庫の代替冷却システムとして使用するこ
とが可能である。またこの代替冷却システムにより、フ
ロンレスが可能になるとともに、冷蔵庫の小型、軽量、
低騒音などが図れるという特長を有している。
【0034】半導体を得る方法として、一方向に冷間圧
縮して焼結する通常の焼結法、プラズマ焼結法、等方等
圧で圧縮した後に焼結する方法、ゾーンメルト法、高温
雰囲気で圧縮しながら焼結する方法などが好適であり、
これらの方法で製造される半導体の性能指数Zは2.5
×10-3〔/K〕以上である。
【0035】半導体の厚さt(平均値)は、後述の実験
例で示しているように約0.03〜0.5〔cm〕のも
のが好適である。この厚さtの下限値ならびに上限値は
厳密なものではないが、約0.03〔cm〕よりも薄い
と半導体の製造時あるいは取扱時等にクラックや欠けな
どが生じ易くなり、一方、約0.5〔cm〕よりも厚く
なるとコスト高になり好ましくない。
【0036】次に本発明の具体例を図とともに説明す
る。図1は本発明の一実施例に係る熱電変換装置を使用
した電子冷蔵庫の概略断面図、図2はその熱電変換装置
の一部拡大断面図、図3はその熱電変換装置に使用する
電子冷却素子群の拡大断面図、図4はその電子冷却素子
群の拡大斜視図である。
【0037】電子冷蔵庫は図1に示すように、発泡ウレ
タン樹脂などの断熱材からなる箱体1と、同じく断熱材
からなり前記箱体1の側部で開閉するドア部2とを備え
ている。その箱体1の上部背面の一部に、本発明の実施
例に係る熱電変換装置3が装着されている。
【0038】この熱電変換装置3は図2に示すように、
吸熱体4と、放熱フィン6と、その吸熱体4と放熱フィ
ン6の間に介在された電子冷却素子群5と、支持体7
と、フアン8から主に構成されている。
【0039】前記吸熱体4はアルミニウムからなり、箱
体1側との接触面積を広くとるために両側にフランジ部
9が設けられ、中央部に電子冷却素子群5を取り付ける
台形部10が形成されている。放熱フィン6からの対
流、輻射による熱流の戻りを可及的に少なくするため、
吸熱体4は所定の高さHを有し、前記フランジ部9と放
熱フィン6のフランジ部11が離れている。
【0040】放熱フィン6側にはフランジ部11が設け
られ、フランジ部11のフアン8側には金属板をジグザ
グ状に折り曲げた羽根12が立設されて、十分な放熱面
積を確保している。
【0041】前記電子冷却素子群5は図3ならびに図4
に示すように、所定の間隔をおいて配置された吸熱側電
極13と、その上に形成された例えばバルク状あるいは
膜状(厚膜または薄膜)のP形半導体層14ならびにN
形半導体層15と、このP形半導体層14とN形半導体
層15とを接続する放熱側電極16とから構成されてい
る。多数のP形半導体層14とN形半導体層15とが
3に示すように同じ厚さで並列に配置され、電気的には
図4に示すように直列に接続されている。
【0042】このように本実施例では、アルミナセラミ
ック等からなる絶縁基板は使用されておらず、一方の面
に吸熱側電極13が、他方の面に放熱側電極16が露呈
している。
【0043】各電子冷却素子群5と吸熱体4との間、な
らびに各電子冷却素子群5と放熱フィン6との間には図
3に示すように、高熱伝導性のシリコーングリース層1
7が形成されている。
【0044】このシリコーングリース層17は、ベース
オイルに対して例えばシリカ、アルミナ、酸化亜鉛など
の無機化合物もしくは銀、銅、アルミニウムなどの金属
微粉末からなるの微細状のフイラー(平均粒径10〔μ
m〕以下のもの)を50〔重量%〕以上添加したものが
好適である。このようにフイラーを高い含率で分散、保
持したシリコーングリース層17の熱伝導率は6.0×
10-3〔cal/(cm・sec・℃)〕以上と高く、
一般のシリコーングリースの3×10-4〔cal/(c
m・sec・℃)〕に比較すると、熱伝導率が1桁以上
も高い。またこのシリコーングリース層17は、−55
〜200〔℃〕までの広い温度範囲にわたって良好な弾
性と粘着性を保持している。
【0045】前記吸熱体4ならびに放熱フィン6の少な
くとも前記電子冷却素子群5と対向する面には、アルマ
イトからなる極薄い(例えば3〜20〔μm〕程度)電
気絶縁層18が形成される。
【0046】アルマイトは通常、陽極酸化法などによっ
て形成されるが、電気絶縁層18(アルマイト層)の表
面から深部に向けて微孔が無数に形成される。このよう
に微孔が無数に形成されても電気絶縁層18の絶縁性は
ほとんど低下することはないが、微孔がそのままの状態
で残っていると、吸熱体4,放熱フィン6と電子冷却素
子群5との間に実質的に空気層が形成されたことにな
り、そのために熱抵抗が極端に高くなり、熱伝導性が悪
い。
【0047】そのため本実施例では、前記微孔に例えば
酢酸ニッケルなどの封止剤を浸透させて熱伝導性を改善
している。この封止剤によって微孔の全体が埋っている
方が好ましいが、封止剤が微孔中にある程度浸透するこ
とにより、実質的に空気層が減少して、熱伝導性の改善
効果は認められる。また、電気絶縁層18(アルマイト
層)の表面に封止剤の被膜を形成すればシリコーングリ
ース層17とのなじみが良好となり、さらに熱伝導性が
良くなる。
【0048】なお、シリコーングリース層17の代わり
に熱伝導性の良い接着剤、例えば東レダウコーニング社
製のシリコーン系伝熱用ゲル{熱伝導率が例えば1.8
×10-3〔cal/(cm・sec・℃)〕}などの熱
伝導用充填物を介在することも可能である。
【0049】図2に示すように、吸熱体4と放熱フィン
6との間で挟持された電子冷却素子群5の周囲はシール
剤層19で気液密にシールされている。このシール剤に
は例えばエポキシ系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹
脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系などが使
用可能であり、本実施例の場合は中空状のガラス微粒子
を20〜65〔重量%〕(好ましくは30〜60〔重量
%〕)均一に分散したエポキシ系樹脂が使用される。こ
の中空状のガラス微粒子は20〜130〔μm〕の径を
有し、壁厚は0.5〜2〔μm〕、平均粒子比重は0.
1〜0.4で、中空状ガラス微粒子を含有したエポキシ
系樹脂は熱伝導率が1×10-4〔cal/(cm・se
c・℃)〕と非常に低い。
【0050】図2に示すように吸熱体4のフランジ部9
と放熱フィン6のフランジ部11との間にはハニカム構
造をした、例えばはっ水処理した紙、合成樹脂、セラミ
ックなどからなる実質的に殆ど弾性をもたない剛性で熱
伝導性の悪い支持体7が介在されている。そして支持体
7とフランジ部9,11との間は接着剤20によって一
体に連結されている。この接着剤20としてはエポキシ
系樹脂、ビニル系樹脂、アミド系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ゴム系などが使用可能であり、本実施例の場合は
エポキシ系樹脂が用いられている。
【0051】図7ないし図33は、図2に示した熱電変
換装置においてKC と半導体層に通電する電流密度を種
々変えて、COPが0.6以上になる領域を実験で求め
た図である。
【0052】なおこれらの実験においては、下記の条件
は全て一定とした。 半導体の材質 Bi−Te系材料 半導体(チップ)1つの大きさ 縦、横とも0.14〔cm〕 半導体(チップ)の使用個数 1016〔個(508対)〕 ゼーベック係数(S) 205〔μV/deg〕 電気伝導度(σ) 1020〔S/cm〕 熱伝導率(κ) 0.0144〔W/(cm・deg)〕 半導体の性能指数(Z) 3.0×10-3〔/K〕 吸熱側温度(庫内温度)(TC ) 5〔℃〕 放熱側温度(外気温度)(TH ) 30〔℃〕 図7ないし図11は、放熱側熱コンダクタンスKH を吸
熱側熱コンダクタンスKC の0.53倍にして吸熱側の
熱交換性能を高めた熱電変換装置(以下、Aタイプと略
称する)において、半導体(チップ)の厚さtを0.0
3〔cm〕(図7)、0.08〔cm〕(図8)、0.
16〔cm〕(図9)、0.3〔cm〕(図10)、
0.5〔cm〕(図11)にして、半導体断面積1〔c
2 〕当たりの吸熱側熱導体の熱コンダクタンス
(KC )と、半導体に通電する電流密度(J)との関係
を実験で求め、そのうちでCOPが0.6以上になる領
域を斜線で示した図である。
【0053】図12ないし図16は、放熱側熱コンダク
タンスKH を吸熱側熱コンダクタンスKC の2.67倍
にした熱電変換装置(以下、Bタイプと略称する)にお
いて、半導体の厚さtを0.03〔cm〕(図12)、
0.08〔cm〕(図13)、0.16〔cm〕(図1
4)、0.3〔cm〕(図15)、0.5〔cm〕(図
16)にして、吸熱側熱導体の熱コンダクタンス
(KC )と、半導体に通電する電流密度(J)との関係
を求め、そのうちでCOPが0.6以上になる領域を斜
線で示した図である。
【0054】図17ないし図21は、放熱側熱コンダク
タンスKH を吸熱側熱コンダクタンスKC の13.4倍
にして放熱側の熱交換性能を高めた熱電変換装置(以
下、Cタイプと略称する)において、半導体の厚さtを
0.03〔cm〕(図17)、0.08〔cm〕(図1
8)、0.16〔cm〕(図19)、0.3〔cm〕
(図20)、0.5〔cm〕(図21)にして、吸熱側
熱導体の熱コンダクタンス(KC )と、半導体に通電す
る電流密度(J)との関係を求め、そのうちでCOPが
0.6以上になる領域を斜線で示した図である。
【0055】例えば図7において明らかなように、半導
体の厚さtが0.03〔cm〕のものを使用し、その熱
電変換装置のKC が6〔W/(℃・cm2 )〕であって
も、電流密度が200〔A/cm2 〕であるとCOPは
0.6未満であるが、電流密度を400〜800〔A/
cm2 〕に高めるとCOPは確実に0.6以上となり、
電流密度をさらに高くするとCOPは0.6未満とな
る。
【0056】また図7と図8とを比較すると、半導体の
厚さtが0.03〔cm〕から0.08〔cm〕に厚く
なると、KC が6〔W/(℃・cm2 )〕のものにおい
ても、電流密度を200〔A/cm2 〕にすることによ
りCOPは確実に0.6以上になる。
【0057】前述のA,B.CのタイプによってCOP
が0.6以上になる領域(斜線部分)の位置は多少異な
るが、半導体の厚さtが厚くなるに従って、COPが
0.6以上になる領域が、電流密度を低くしても得られ
る傾向にあり、半導体の厚さtと電流密度とCOPの間
に相関関係があることが分かる。
【0058】前述の図7ないし図21は、COPが0.
6以上になる領域を求めた特性図であるが、次に説明す
る図22ないし図43は、Bタイプの熱電変換装置にお
いて、COPが0.6以上になる領域を求めた特性図で
ある。
【0059】図22ないし図24は、半導体の厚さtが
0.03〔cm〕のものを使用し、COPが0.7以上
の領域(図22)、COPが0.8以上の領域(図2
3)、COPが0.9以上の領域(図24)を示してい
る。
【0060】図25ないし図28は、半導体の厚さtが
0.08〔cm〕のものを使用し、COPが0.7以上
の領域(図25)、COPが0.8以上の領域(図2
6)、COPが0.9以上の領域(図27)、COPが
1.0以上の領域(図28)を示している。
【0061】図29ないし図33は、半導体の厚さtが
0.16〔cm〕のものを使用し、COPが0.7以上
の領域(図29)、COPが0.8以上の領域(図3
0)、COPが0.9以上の領域(図31)、COPが
1.0以上の領域(図32)、COPが1.1以上の領
域(図33)を示している。
【0062】図34ないし図38は、半導体の厚さtが
0.3〔cm〕のものを使用し、COPが0.7以上の
領域(図34)、COPが0.8以上の領域(図3
5)、COPが0.9以上の領域(図36)、COPが
1.0以上の領域(図37)、COPが1.1以上の領
域(図38)を示している。
【0063】図39ないし図43は、半導体の厚さtが
0.5〔cm〕のものを使用し、COPが0.7以上の
領域(図39)、COPが0.8以上の領域(図4
0)、COPが0.9以上の領域(図41)、COPが
1.0以上の領域(図42)、COPが1.1以上の領
域(図43)を示している。
【0064】これらの各図から明らかなように、COP
の値が徐々に高くなるに従って、斜線部分の領域が狭く
なるとともに、KC の値も制限される。
【0065】図44ないし図48は、半導体の性能指数
(Z)を種々変えた場合における、半導体の厚さtと電
流密度との関係を求め、COPが0.6以上の領域を斜
線で示した特性図であり、図44はZが2.5×10-3
〔/K〕、図45はZが2.7×10-3〔/K〕、図4
6はZが3.0×10-3〔/K〕、図47はZが3.5
×10-3〔/K〕、図48はZが4.0×10-3〔/
K〕の場合の特性図である。
【0066】なお各図中の○印はAタイプ、×印はCタ
イプのものを示し、半導体の厚さtが比較的厚い場合は
タイプの差はほとんどないが、半導体の厚さtが薄くな
ると少しはタイプの差がでる。
【0067】これらの図から明らかなように、半導体の
厚さtとCOPが0.6以上の領域を得るために必要な
電流密度との間には相関関係があり、半導体の厚さtが
例えば0.3〔cm〕,0.5〔cm〕のように比較的
厚い場合には電流密度は低い範囲で規制する必要があ
り、一方、半導体の厚さtが例えば0.03〔cm〕,
0.08〔cm〕,0.16〔cm〕のように比較的薄
い場合には電流密度は高い範囲で規制する必要がある。
【0068】これを具体例を用いて説明すると、例えば
図46に示されているようにZが3.0×10-3〔/
K〕でその半導体の厚さtが0.03〔cm〕の熱電変
換装置では、電流密度を310〜1100〔A/c
2 〕の範囲に規制することによりCOPを0.6以上
にすることができる。また同じZ値を有する半導体でも
半導体の厚さtが0.3〔cm〕になると、電流密度を
31〜120〔A/cm2 〕の範囲に規制することによ
りCOPを0.6以上にすることができる。
【0069】図44ないし図48をそれぞれ比較すると
明らかなように、半導体の厚さtに対する適正な電流密
度の範囲は、Zの値によって多少異なっているから、熱
電変換装置を設計する際に個々にZの値ならびに半導体
の厚さtによって、通電すべき電流密度の値を選択すれ
ばよい。
【0070】図49は本発明の第2実施例に係る熱電変
換装置の概略構成図である。同図に示されているように
電子冷却素子群5の片面(上面)に、ベース板21の上
に無数のピンフィンからなる吸熱側フィン22が接合さ
れ、電子冷却素子群5の他の片面(下面)に、ベース板
21の上に無数のピンフィンからなる放熱側フィン23
が接合されている。電子冷却素子群5は前記第1実施例
と同じ構成になっており、電子冷却素子群5とベース板
21の間には前述と同様のシリコーングリースまたは伝
熱用ゲルが介在されている(図示せず)。
【0071】吸熱側フィン22は吸熱側ダクト24に覆
われ、吸熱側フアン25によって吸熱側フィン22の軸
方向に沿って空気が強制的に送られるようになってい
る。一方、放熱側フィン23は放熱側ダクト26に覆わ
れ、放熱側フアン27によって放熱側フィン23の周囲
空気が強制的に吸引されるようになっている。
【0072】前記ピンフィンのピン径,ピンピッチなら
びにピンの高さを適宜選択することにより所望の伝熱面
積が得られる。
【0073】図50ならびに図51は、本発明の第3実
施例に係る熱電変換装置の断面図ならびに側面図であ
る。図50に示すように電子冷却素子群5はヒートパイ
プの板状受熱部27にシリコーングリースまたは伝熱用
ゲル(図示せず)を介して取り付けられている。受熱部
27にはヒートパイプの蒸発側連絡管28aと凝縮側側
連絡管28bとが接続されており、連絡管28a,28
bの他端は斜めに配置されたヒートパイプのフィン付き
放熱部29に接続されている。内部にウィックを形成し
たヒートパイプ中には例えばアルコールなどの易揮発性
の作動媒体が封入され、作動媒体の蒸発と凝縮を繰り返
すことにより、電子冷却素子群5からの熱を吸収して放
散することができる。
【0074】受熱部27ならびに放熱部29などはダク
ト30に覆われ、ダクト30の下部には冷却ブロワ31
が配置され、空気を矢印X方向に送風している。なお、
32は電子冷却素子群5の吸熱側に向けて送風する庫内
ファンである。
【0075】前記ヒートパイプとしてフレキシブルなも
のを用いれば、電子冷却素子群5に加わる衝撃、振動を
軽減することができる。
【0076】図52は、本発明の第4実施例に係る熱電
変換装置の断面図である。この実施例の場合、多数配列
されたP形半導体層14とN形半導体層15との間に吸
熱側熱導体を兼ねた吸熱電極32と、放熱側熱導体を兼
ねた放熱電極33の基部とが交互にそれぞれ挟持されて
いる。
【0077】同図に示すように吸熱電極32は吸熱側ダ
クト34側に、放熱電極33は放熱側ダクト35側に向
けてそれぞれ突出しており、電極32,33の中間位置
には通気用の開口36が形成されている。
【0078】なおこの第4実施例のような構成で流体
(気体または液体)が紙面に向けて垂直に流れる場合、
前記電極32,33に開口36を設けなくてもよい。
【0079】図53は、本発明の第5実施例に係る熱電
変換装置の断面図である。この実施例は空気調和装置
(エアコン)の例を示しており、隔壁36内には第1電
子冷却素子群37aと第2電子冷却素子群37bとが所
定の間隔をおいて設置されている。
【0080】第1電子冷却素子群37aの室内側には第
1吸熱フィン38aが、第2電子冷却素子群37bの室
内側には第2吸熱フィン38bが、シリコーングリース
層または伝熱用ゲル(図示せず)を介して接続されてい
る。
【0081】また、第1電子冷却素子群37aの室外側
には第1放熱フィン39aが、第2電子冷却素子群37
bの室外側には第2放熱フィン39bが、シリコーング
リース層または伝熱用ゲル(図示せず)を介して接続さ
れている。
【0082】このように第1電子冷却素子群37aと第
1吸熱フィン38aと第1放熱フィン39aとで構成さ
れる第1熱電変換装置40aと、第2電子冷却素子群3
7bと第2吸熱フィン38bと第2放熱フィン39bと
で構成される第2熱電変換装置40bが空気の流れに沿
って2段に配置されている。なお、必要に応じて段数を
増やすことが可能であるが、熱コンダクタンスの高いも
のを使用すれば1段でも可能である。
【0083】前記第1熱電変換装置40aのCOPが
4.7、吸熱量が120〔W〕、投入電力が25.5
〔W〕に、第2熱電変換装置40bのCOPが2.1、
吸熱量が240〔W〕、投入電力が114.3〔W〕
に、それぞれ設計されている。よって空気調和装置(エ
アコン)としての総合COPは、下記の式より2.58
となる。
【0084】総合COP=(120+240)/(2
5.5+114.3)=2.58本実施例において室外
42ならびに第1熱電変換装置40aの第1吸熱フィン
38aに吸引される空気41aの温度が共に30〔℃〕
である場合、第1吸熱フィン38aを通過して排出され
る空気41bの温度は5〔℃〕下がって25〔℃〕とな
り、その空気41bが第2吸熱フィン38bを通過して
排出される空気41cの温度はさらに10〔℃〕下がっ
て15〔℃〕となる。
【0085】図54は、本発明の第6実施例に係る熱電
変換装置の断面図である。この実施例は熱電変換装置を
電子冷蔵庫用冷却装置に適用した例で、吸熱側に吸熱側
フィン50と吸熱側ファン51が配置されている。一
方、放熱側には放熱側熱伝達部52と、その放熱側熱伝
達部52から離れた位置に配置されて伝達された熱を効
率良く大気に放出するラジエータ53と、内部に例えば
水などからなる循環液(図示せず)を充填した循環系5
4と、前記ラジエータ53の付近に配置されたファン5
5とが設けられている。ラジエータ53とファン55と
は大気中に露出しており、前記循環系54の一端は放熱
側熱伝達部52に接続され、他端はラジエータ53に接
続されている。図中の56は電子冷却素子群で、前記吸
熱側フィン50と放熱側熱伝達部52の間に介在されて
いる。
【0086】本実施例では放熱側にラジエータとファン
などを設けたが、吸熱側にラジエータとファンなどを設
けることも可能であり、その場合には循環液として不凍
液やその他の低温で凍結しない液体を用いる必要があ
る。
【0087】このように熱導体が放熱または吸熱を助長
するラジエータを有することにより、さらに高い熱交換
性能を発揮することができる。
【0088】前記第2〜6実施例の場合も前記第1実施
例と同様に、半導体層の厚さが薄いと電流密度を高く
し、半導体層の厚さが厚いと電流密度を低くしている。
【0089】前記実施例では各半導体層を接続する電極
と熱導体との間に熱導性の高いシリコーングリースある
いは伝熱用ゲルを介在して、電極が熱導体に対して変位
可能な構造となっているが、例えばアルミナ、窒化アル
ミニウム、表面に絶縁膜を形成した金属板などの電気絶
縁性を有する基板に前記電極を半田付けなどによって固
定して、その基板と半導体層との間において電極を挟持
することも可能である。
【0090】前記実施例では熱電変換装置の用途として
電子冷蔵庫ならびに空気調和装置(エアコン)の場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、例えば除湿装置など他の熱電変換装置の用途にも
適用可能である。
【0091】
【効果】図55は、本発明の第1実施例に係る電子冷蔵
庫と、従来の圧縮式電気冷蔵庫の冷却性能を比較して示
す図である。
【0092】この性能試験は、容量が60〔リッター〕
の冷蔵庫中に500〔ミリリッター〕のビール瓶を10
〔本〕入れ、庫外(周囲)の温度が30〔℃〕の条件で
ビールの冷え具合をテストしたものである。
【0093】図中の曲線X,Yは本発明の実施例に係る
電子冷蔵庫、曲線Zは従来の圧縮式電気冷蔵庫の冷却曲
線である。なお、曲線Xのものは使用した半導体チップ
の数が512個で、消費電力が106〔W〕、曲線Yの
ものは使用した半導体チップの数が同数で、消費電力が
48〔W〕の電子冷蔵庫である。
【0094】この図から明らかなように、本発明の実施
例に係る電子冷蔵庫は従来の圧縮式電気冷蔵庫に比べて
優れた冷却性能を有していることが立証される。
【0095】本発明は、半導体層の厚さとそれに通電す
る電流密度とCOPの3者の間に相関関係があることを
解明し、それに基づいて半導体層の厚さが薄いとそれに
通電する電流密度を高くし、半導体層の厚さが厚いと前
記電流密度を低く調整することにより、COPが0.6
以上のものを確実に得ることができ、効率の良い熱電変
換装置の提供が可能となる。
【0096】また本発明は、半導体層の厚さとそれに通
電する電流密度とCOPとの関係を把握することによ
り、熱電変換装置として目標のCOPを得るために必要
な半導体層の厚さと電流密度が簡単に分かるから、シス
テム設計が簡便となり、経済性を考慮した設計が可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る熱電変換装置を使用
した電子冷蔵庫の概略断面図である。
【図2】その熱電変換装置の一部拡大断面図である。
【図3】その熱電変換装置に使用する電子冷却素子群の
拡大断面図である。
【図4】その熱電変換装置に使用する電子冷却素子群の
斜視図である。
【図5】その熱電変換装置の概略構成を示すブロック図
である。
【図6】その熱電変換装置におけるシュミレーションと
実測の温度分布を比較して示す特性図である。
【図7】その熱電変換装置におけるKC と電流密度との
関係を示す特性図である。
【図8】その熱電変換装置におけるKC と電流密度との
関係を示す特性図である。
【図9】その熱電変換装置におけるKC と電流密度との
関係を示す特性図である。
【図10】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図11】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図12】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図13】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図14】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図15】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図16】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図17】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図18】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図19】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図20】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図21】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図22】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図23】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図24】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図25】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図26】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図27】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図28】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図29】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図30】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図31】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図32】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図33】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図34】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図35】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図36】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図37】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図38】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図39】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図40】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図41】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図42】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図43】その熱電変換装置におけるKC と電流密度と
の関係を示す特性図である。
【図44】その熱電変換装置における半導体の厚さと電
流密度との関係を示す特性図である。
【図45】その熱電変換装置における半導体の厚さと電
流密度との関係を示す特性図である。
【図46】その熱電変換装置における半導体の厚さと電
流密度との関係を示す特性図である。
【図47】その熱電変換装置における半導体の厚さと電
流密度との関係を示す特性図である。
【図48】その熱電変換装置における半導体の厚さと電
流密度との関係を示す特性図である。
【図49】本発明の第2実施例に係る熱電変換装置の断
面図である。
【図50】本発明の第3実施例に係る熱電変換装置の断
面図である。
【図51】その熱電変換装置の側面図である。
【図52】本発明の第4実施例に係る熱電変換装置の断
面図である。
【図53】本発明の第5実施例に係る熱電変換装置の断
面図である。
【図54】本発明の第6実施例に係る熱電変換装置の断
面図である。
【図55】本発明の熱電変換装置(電子冷蔵庫)と従来
の圧縮式電気冷蔵庫の冷却性能を示す特性図である。
【図56】従来の熱電変換装置の一部拡大断面図であ
る。
【図57】各種冷却装置の温度差と成績係数との関係を
示す特性図である。
【符号の説明】
3 熱電変換装置 4 吸熱体 5 電子冷却素子群 6 放熱フィン 8 ファン 12 羽根 13 吸熱側電極 14 P型半導体層 15 N型半導体層 16 放熱側電極 17 シリコーングリース層 18 電気絶縁層 21 ベース板 22 吸熱側フィン 23 放熱側フィン 25 吸熱側ファン 27 受熱部 29 放熱部 31 冷却ブロワ 32 吸熱電極 33 放熱電極 37a 第1電子冷却素子群 37b 第2電子冷却素子群 38a 第1吸熱フィン 38b 第2吸熱フィン 39a 第1放熱フィン 39b 第2放熱フィン 40a 第1熱電変換装置 40b 第2熱電変換装置 50 吸熱側フィン 51 吸熱側ファン 52 放熱側熱伝達部 53 ラジエータ 54 循環系 55 ファン 56 電子冷却素子群
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久野 文雄 神奈川県川崎市川崎区塩浜1丁目7番地 7号 株式会社サーモボニック内 (72)発明者 手塚 弘房 神奈川県川崎市川崎区塩浜1丁目7番地 7号 株式会社サーモボニック内 (72)発明者 木谷 文一 神奈川県川崎市川崎区塩浜1丁目7番地 7号 株式会社サーモボニック内 (56)参考文献 特開 平8−236820(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 35/32 F25B 21/02 H01L 35/30

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 同じ厚さで多数並設されて電気的に直列
    に接続されたP型半導体層ならびにN型半導体層と、 それら半導体層の吸熱側に配置された吸熱側熱導体と、 それら半導体層の放熱側に配置された放熱側熱導体と、 前記P型半導体層ならびにN型半導体層に通電する給電
    手段とを備えた熱電変換装置において、 前記半導体層の厚さに基づいてその半導体層に通電する
    電流密度を設定したことを特徴とする熱電変換装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載において、前記各半導体層
    を接続する電極と前記熱導体との間に、フィラーを含有
    したシリコーングリース層が介在されていることを特徴
    とする熱電変換装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載において、前記各半導体層
    を接続する電極が電気絶縁性を有する基板に固定され
    て、その基板と半導体層との間において挟持されている
    熱電変換装置。
  4. 【請求項4】 請求項記載において、前記熱導体のシ
    リコングリース層と対向する面に薄い電気絶縁膜が形
    成されていることを特徴とする熱電変換装置。
  5. 【請求項5】 請求項1記載において、前記熱導体がフ
    ィンを有し、そのフィンに対して強制的に送風するファ
    ンが設けられていることを特徴とする熱電変換装置。
  6. 【請求項6】 請求項記載において、前記フィンがヒ
    ートパイプであることを特徴とする熱電変換装置。
  7. 【請求項7】 請求項1記載において、前記熱導体が熱
    の移動を助長するラジエータを有していることを特徴と
    する熱電変換装置。
  8. 【請求項8】 請求項1記載において、前記熱電変換装
    置が電子冷蔵庫用電子冷却装置であって、その電子冷蔵
    庫の外気温度が30〔℃〕で、電子冷蔵庫の庫内温度が
    5〔℃〕のときの成績係数(COP)が0.6以上であ
    ることを特徴とする熱電変換装置。
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